Технология и физико-химические свойства тонкопленочных материалов на основе двойных оксидов Ta2O5La2O3 тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.17.11, кандидат технических наук Лисеенко, Ольга Владимировна

• Лисеенко, Ольга Владимировна
• кандидат технических наук
• 2006

Оглавление диссертации кандидат технических наук Лисеенко, Ольга Владимировна

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ЗАКОНОМЕРНОСТИ ПОЛУЧЕНИЯ И СВОЙСТВА ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ МАТЕРИАЛОВ НА ОСНОВЕ ОКСИДОВ Та205 И Ьа203.

1.1. Наносистемы, содержащие тонкие пленки.

1.2. Особенности тонкопленочного состояния вещества.

1.2.1. Термодинамический аспект.

1.2.2. Кинетический аспект.

1.2.3. Структурный аспект.

1.3. Методы получения тонких пленок оксидов тантала и лантана.

1.3.1. Золь-гель метод получения тонких пленок.

1.4. Тонкопленочные материалы на основе Ta2Os и Ьа20з.

1.4.1. Физико-химические свойства Та205 и алкоголятов тантала.

1.4.2. Физико-химические свойства Ьа2Оз.

1.4.3. Система Та205 - Ьа203.

ГЛАВА 2. ИСХОДНЫЕ ВЕЩЕСТВА. МЕТОДИКА СИНТЕЗА И ИССЛЕДОВАНИЯ СВОЙСТВ МАТЕРИАЛОВ.

2.1. Характеристика исходных веществ.

2.2. Методика синтеза тонкопленочных материалов.

2.2.1. Подготовка подложек.

2.2.2. Методика синтеза тонких пленок.

2.3. Физико-химические исследования пленкообразующих растворов.

2.3.1. Исследования изменения вязкости пленкообразующих растворов.

2.3.2. Электрофоретические исследования ПОР.

2.4. Физико-химические исследования процессов формирования оксидных пленок.

2.4.1. Рентгенофазовый анализ.

2.4.2. Дифференциально-термический анализ и термогравиметрия.

2.4.3. ИК-спектроскопия.

2.5. Физико-химические исследования тонкопленочных материалов.

2.5.1. Изучение оптических свойств тонких пленок. Эллипсометрия.

2.5.2. Электрофизические исследования.

2.5.3. Адгезия.

2.5.4. Растровая электронная микроскопия.

2.5.5. Трехмерная бесконтактная профилометрия.

2.5.6. Исследование химической устойчивости.

2.5.7. Исследования кислотно-основных свойств поверхности.

ГЛАВА 3. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ, ПРОТЕКАЮЩИЕ В ПЛЕНКООБРАЗУЮЩИХ РАСТВОРАХ.

3.1. Пленкообразующие растворы на основе ТаС^.

3.2. Пленкообразующие растворы на основе ТаСЬ с добавками семиводного хлорида лантана.

ГЛАВА 4. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ИССЛЕДОВАНИЯ ПРОЦЕССОВ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК.

4.1. Процесс формирования Та205 из ПОР на основе ТаС15.

4.2. Термическое исследование разложения исходной соли ЬаС1з-7Н20 и высушенного спиртового раствора соли семиводного хлорида лантана.

4.3. Процесс формирования пленок системы Та2Оз - Ьа2Оз.

4.3.1. Формирование химических соединений.

4.3.2. Формирование двойных оксидов Та205 и Ьа2Оэ в точках эвтектиках.

ГЛАВА 5. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА И СТРУКТУРА ПЛЕНОК ДВОЙНЫХ ОКСИДОВ ТАНТАЛА (V) И ЛАНТАНА (III).

5.1. Фазовый состав, структура и свойства пленок системы Та205 — Ьа2Оз.

5.2.Исследование кислотно-основных свойств чистых оксидов и двойных соединений Та205 и Ьа2Оз.

5.2.1. Кислотно-основные свойства порошков системы Та205 - Ьа2Оз.

5.2.2. Диаграмма состав - кислотность для системы Та205 ~~ Ьа203.

5.3. Основные стадии формирования тонких пленок системы Ta205-La203.

ГЛАВА 6. ТЕХНОЛОГИЯ ПОЛУЧЕНИЯ И РЕКОМЕНДАЦИИ ПО ПРАКТИЧЕСКОМУ ПРИМЕНЕНИЮ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ МАТЕРИАЛОВ

НА ОСНОВЕ СИСТЕМЫ Та205 - La203.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Технология и физико-химические свойства тонкопленочных материалов на основе двойных оксидов Ta2O5La2O3»

Актуальность работы. Разработка и создание новых материалов с заданными свойствами и новыми функциональными возможностями является важным фактором в решении задач, определяемых наукой и техникой. Использование тонкопленочных материалов в разных областях промышленности в качестве интерференционных, светоперераспределяющих фильтров, диэлектрических слоев в изготовлении конденсаторов, защитных пленок определяет для них ряд требований, которые возрастают по мере усиления ограничений, накладываемых на материал, размеры пленок и технологию их получения. В соответствии с этими требованиями тонкие пленки при жестких условиях эксплуатации должны обладать стабильными свойствами. В настоящее время среди тонкопленочных систем материалы, полученные на основе простых и сложных оксидов тантала и лантана, являются перспективными, поскольку находят практическое применение в электронной и светотехнической отраслях промышленности. Такие материалы сочетают в себе как свойства основного компонента, так и вводимого соединения.

Актуальность создания тонкопленочных систем на основе ТагОз и ЬагОз обусловлена комплексом ценных для практического использования физико-химических и функциональных свойств: высокое значение адгезии, показателя преломления и термоустойчивости, химическая инертность. В качестве технологической базы получения таких материалов перспективен получивший широкое развитие в течение последних десятилетий золь-гель метод, который позволяет синтезировать качественные покрытия, отвечающие высоким требованиям современной техники. По отношению к твердофазному классическому синтезу (образование двойных оксидов тантала и лантана протекает при высоких температурах), золь-гель метод позволяет снизить температуру формирования тонкопленочных материалов на сотни градусов.

Синтез новых тонкопленочных покрытий на основе сложных оксидов Та205 и Ьа20з и усовершенствование технологии получения этих материалов, прежде всего, опираются на фундаментальные исследования закономерностей в ряду состав — структура — свойства. Установление влияния технологических параметров синтеза на физико-химические свойства пленок позволит управлять процессом синтеза и получать материалы определенного состава и с заданными свойствами.

В настоящее время в отечественной и зарубежной литературе еще недостаточно изучены вопросы, касающиеся процессов образования пленок из пленкообразующих растворов, на основе спиртовых растворов хлоридов тантала и лантана, не установлено влияние условий формирования на физико-химические свойства и структуру пленок. Кроме того, отсутствуют данные по изучению диаграмм состав - свойство системы Таг05 - ЬагОз в тонкопленочном состоянии.

Диссертационная работа выполнялась в соответствии с научным направлением работ кафедры неорганической химии и отдела «Новые материалы» Томского государственного университета «Химия полифункциональных материалов, объектов окружающей среды и химические технологии»; по госбюджетной теме Министерства образования РФ «Изучение физико-химических закономерностей целенаправленного синтеза и модифицирования полифункциональных материалов»; по программе Министерства образования РФ и Министерства науки и технологий «Разработка нанокомпозитных материалов» и «Физико-химические основы синтеза и модифицирования новых наноструктурных материалов со специальными функциями».

Цель диссертационной работы заключалась в разработке составов и технологии получения тонкопленочных материалов системы Та2<Э5 - Ьа20з, из пленкообразующих растворов (ПОР), установление взаимосвязи между их составом, структурой, физико-химическими и эксплуатационными свойствами и применение их в качестве защитных и светоперераспределяющих материалов.

Для достижения поставленной цели решались следующие задачи:

1. определить пленкообразующую способность спиртовых растворов на основе хлоридов тантала и лантана, а также временной интервал, в течение которого возможно получение пленок с заданными свойствами;

2. установить взаимосвязь между свойствами пленкообразующих растворов (ПОР) и оптическими характеристиками пленок, определить оптимальные условия их получения;

3. изучить физико-химические процессы, протекающие при формировании тонких пленок на основе оксидов тантала и лантана из ПОР, разработать режимы термообработки;

4. установить влияние состава ПОР и условий получения на фазовый состав, структуру и свойства пленок Та205 - Ьа20з;

5. разработать рекомендации по технологии получения и практическому применению тонкопленочных систем на основе Ta20s — Ьа20з.

Научная новизна работы.

1. Установлено, что спиртовые растворы пентахлорида тантала приобретают пленкообразующие свойства в течение нескольких минут после приготовления. Спиртовые растворы хлорида лантана не являются пленкообразующими. Введение LaCl3 в пленкообразующие растворы (ПОР) на основе хлорида тантала обеспечивает расширение области существования ПОР со стабильными свойствами от 30 до 73 суток, что определяет сроки получения качественных оксидных покрытий.

2. Определена последовательность основных стадий формирования пленок системы Та205 - Ьа20з из ПОР, включающая в себя алкоголиз, гидролиз и конденсацию компонентов раствора, и последующее формирование оксидных фаз при термической обработке. При получении тонкопленочных оксидных покрытий оптимальным является двухступенчатый нагрев: 1) термостатирование тонких пленок при температуре 333 - 425 К для удаления адсорбированных молекул воды и спирта и осуществления гидролиза в тонком слое; 2) дальнейший отжиг пленок при 873 К для эвтектических составов, простого оксида Та205 и двойного соединения при соотношении Та205: Ьа2Оз равном 1:1 и при 923 К для соединений с содержанием оксида тантала и лантана в соотношении 5:1 и 3:1.

3. Установлено, что формирование кристаллических фаз тонких пленок Та205 — Ьа203 начинается при 860 К. Показано при отжиге выше 873 К образование в тонких пленках танталатов лантана различного состава в зависимости от содержания оксида лантана в пленке. Выявлено образование танталатов лантана состава LaTa5Oi4, LaTa3Oc>, ЬаТа04 (при нагреве до 873 К и выше). Образование ортотанталата происходит, минуя стадию образования свободных оксидов. Формирование танталатов состава LaTa50i4 и ЬаТа30д протекает через стадии образования Та205, ЬаТа309 и Та205, ЬаТаОд соответственно. Установлено, что оптимальным временем отжига для получения качественных пленок является 1 час. Полученные покрытия термоустойчивы в интервале температур 873 - 1023 К.

4. Установлено, что золь-гель методом могут быть получены беспористые, равномерные по структуре пленки системы Та205 - Ьа20з в интервале концентраций Ьа20з в пленке от 0 до 82 мол.%. Синтезированные пленки обладают высоким коэффициентом пропускания света (около 88 %) и прозрачны до 275 нм; значение оптической ширины запрещенной зоны у них равно 4,3 — 4,6 эВ; поверхностное сопротивление пленок составляет 1012 — 1014 Ом-см; диэлектрическая проницаемость 20. Полученные пленки обладают хорошей адгезией к подложкам из стекла и кремния, устойчивы к действию агрессивных сред. Впервые построены диаграммы «состав - свойство» системы Та205 — Ьа20з в тонкопленочном состоянии.

Практическая значимость работы.

1. Разработаны составы и технология получения тонкопленочных материалов на основе двойных оксидов тантала и лантана из пленкообразующих растворов, в качестве перераспределяющих излучение покрытий для УФ-облучателей на основе разрядных ламп.

2. Предложена технологическая схема получения тонких пленок Та205 - Ьа2Оз для производства защитных покрытий. Определены оптимальные режимы выполнения технологических операций: приготовления пленкообразующего раствора, его нанесения на подложку, термообработки покрытий.

3. Рекомендованы области применения разработанных покрытий: для просветления оптических деталей, при изготовлении пленочных конденсаторов, в качестве защитных покрытий оптических фильтров, для ограничения вредного ультрафиолетового излучения.

Реализация работы.

Полученные материалы предложены для использования в качестве покрытий, защищающих стекло оконных блоков, и покрытий, перераспределяющих излучение в разрядных лампах УФ-облучателей. Материалы апробированы на опытном производстве ОАО «Томскводпроект».

Апробация работы.

Материалы диссертации докладывались на международных, всероссийских и региональных конференциях, семинарах, в том числе: на Российской молодежной научно-практической конференции «Получение и свойства веществ и полифункциональных материалов, диагностика, технологический менеджмент» (Томск 2004 г.); на IX Международной конференции «Физико-химические процессы в неорганических материалах» (Кемерово 2004 г.); на Международной конференции студентов и молодых ученых «Международный форум молодых ученых и студентов» (Турция 2004 г.); на Всероссийской научно-практической конференции «Образование для новой России: опыт, проблемы, перспективы» (Юрга 2005 г.); на Всероссийской научно-практической конференции «Прогрессивные технологии и экономика в машиностроении» (Юрга 2005 г.); на Международной конференции «Физико-химические основы новейших технологий XXI века» (Москва 2005 г.); международной научной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Ломоносов - 2006» (Москва 2006 г.), а также на заседании кафедры неорганической химии ТГУ.

Публикации.

По результатам выполненных исследований опубликовано 14 работ, в том числе три в рекомендованных ВАК изданиях.

Заключение диссертации по теме «Технология силикатных и тугоплавких неметаллических материалов», Лисеенко, Ольга Владимировна

ОБЩИЕ ВЫВОДЫ

1. Комплексное физико-химическое исследование процессов, протекающих при получении тонких пленок на основе оксидов тантала и лантана из пленкообразующих растворов, позволило предложить и обосновать схематическую последовательность основных стадий получения пленок: гидролиз и поликонденсация в ПОР; поликонденсация на подложке и удаление с ее поверхности низкомолекулярных продуктов; дегидратация гидроксидов и формирование оксидной пленки при термообработке.

2. Установлено, что спиртовые растворы на основе хлоридов тантала и лантана обладают пленкообразующими свойствами с момента приготовления. Пленкообразующая способность растворов обусловлена образованием двухядерных частиц тантала. Пленки с необходимыми характеристиками получаются в течение 30 - 73 суток со дня приготовления ПОР в зависимости от концентрации хлорида лантана в растворе.

3. Пленки на основе двойных оксидов тантала и лантана с требуемыми характеристиками могут быть получены из ПОР с суммарной концентрацией, в пересчете на оксиды, 0,05 - 0,1 моль/л. Максимальный показатель преломления имеют пленки, полученные из ПОР с Т=291 — 295 К при скорости вращения 1 центрифуги 2000 — 3000 мин" и вязкости раствора (1,5-2,0)* 10 Па-с.

4. Методами ИК-спектроскопии, термогравиметрии определена последовательность основных стадий процесса формирования Та205, а также двойных оксидов Та205 и Ьа20з из ПОР. Установлено, что процессы формирования простых и сложных оксидов протекают через ряд последовательных стадий, которые включают в себя испарение физически адсорбированной воды и спирта, сгорание этоксигрупп, разложение с образованием оксидов продуктов гидролиза ПОР. В результате предложены оптимальные режимы термической обработки тонких пленок: термостатирование при Т=333 К (20 мин) и дальнейший отжиг при температурах 873 - 923 К в течение 60 мин.

5. Комплексное изучение физико-химических свойств синтезированных материалов показало, что, в зависимости от условий получения (режима термообработки, природы подложки), структура пленок может быть аморфной или поликристаллической. Увеличение температуры отжига приводит к уплотнению пленки и способствует образованию поликристаллической структуры. В зависимости от концентрации оксида лантана и природы подложки, показатель преломления меняется от 1,69 до 2,20. Представленная в работе взаимосвязь между условиями получения, составом и структурой, позволяет управлять морфологией и физико-химическими свойствами пленок.

6. В пленках, с содержанием оксида лантана в количестве 16,7; 25; 50 мол.%, обнаружено образование танталатов состава LaTa50i4; ЬаТа3Од и ЬаТаС>4. Увеличение содержания оксида лантана в пленке выше 50 мол.% приводит к значительному снижению показателя преломления, повышению рассеяния света. Это связано с формированием многофазной системы в результате выделения La203 в отдельную фазу рентгеноаморфной форме.

7. Определены составы тонкопленочных материалов Ta2Os - La203, обладающие стабильными оптическими и физико-химическим свойствами в широком интервале температур, имеющие хорошую адгезию к подложкам, характеризующиеся поверхностным сопротивлением по всей поверхности пленки 1012 - 1014 Ом •см. Установлено, что пленки всех составов являются диэлектриками с высокими значениями ширины запрещенной зоны (4,3 - 4,6 эВ), способны поглощать вредное УФ-излучение и остаются прозрачными до 275 нм.

8. Показано влияние соотношения компонентов Ta2Os и La203 в пленке на ее структуру и оптические свойства. Пленки, полученные при соотношениях оксидов, отвечающих формированию танталатов, обладают высокими значениями показателя преломления 2,13; 2,05; 2,03; 1,99 и однородной, сплошной поверхностью со средним размером кристаллитов 10±5 нм.

9. Исследования кислотно-основных свойств поверхности порошкообразных материалов, полученных из ПОР, показали, что при вхождении в оксид тантала (V) оксида лантана (III), обладающего более выраженными основными свойствами, происходит понижение кислотности поверхности образцов от 6,7 до 9,1 ед. рН. Установлено резкое понижение кислотности при соотношениях оксидов в образцах, соответствующих образованию химических соединений на диаграмме состояния системы.

10. На основании полученных результатов, предложены рекомендации по выбору оптимальных технологических режимов, с целью управления процессами получения пленок системы Ta2Os - La203 с заданным комплексом свойств, в зависимости от практической задачи. Разработанные тонкопленочные материалы могут быть использованы при производстве безозоновых медицинских и бытовых приборов, а также в качестве диэлектрических покрытий, имеющих высокую термическую и химическую стойкость.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Лисеенко, Ольга Владимировна, 2006 год

1. Мелихов В.И. Физикохимия наносистем: Успехи и проблемы // Вестник Российской Академии наук. 2002. - Т. 72, № 10. - С. 900 - 909.

2. Петрунин В.Ф., Ильин А.П. Проблемы терминологии в области малых частиц и порошков // Физикохимия ультрадисперсных (нано-) систем: Материалы VI Всероссийской (международной) конференции. М.: МИФИ, 2002. - С. 29.

3. Губин С.П. Что такое наночастица? Тенденции развития нанохимии и нанотехнологии // Журнал Российского химического общества им. Д.И. Менделеева. 2000. - Т. 44, № 6. - С.23 -31.

4. Мелихов В.И. Тенденции развития нанохимии // Журнал Российского химического общества им. Д.И. Менделеева. 2002. — Т. 46„ № 5. - С. 7 -14.

5. Сергеев Г.Б. Нанохимия . М.: Изд-во МГУ, 2003. - 288 с.

6. Сергеев Г.Б. Размерные эффекты в нанохимии // Журнал Российского химического общества им. Д.И. Менделеева. — 2002. — Т. 46, № 5. — С. 22 -29.

7. Сергеев Г.Б. Нанохимия металлов // Успехи химии. — 2001. Т.70, № 10. - С. 915-933.

8. Андриевский Р.А. Наноматериалы: концепция и современные проблемы // Журнал Российского химического общества им. Д.И. Менделеева. 2002. — Т. 46,№5.-С. 50-56.

9. Ролдугин В.И. Квантово-размерные металлические системы // Успехи химии. 2000. - Т. 69, № 10. - С. 899 - 923.

10. Уваров Н.Ф., Болдарев В.В. Размерные эффекты в химии гетерогенных систем // Успехи химии. 2001. - Т. 70, № 4. - С. 307 - 329.

11. Третьяков Ю.Д., Лукашин А.В., Елисеев А.А. Синтез функциональных нанокомпозитов на основе твердофазных нанореакторов // Успехи химии. — 2004. Т. 73, № 9. - С. 974 - 998.

12. Алесковский В.Б. Курс химии надмолекулярных соединений. JL: Изд-во ЛГУ, 1990.-280 с.

13. Алесковский В.Б. Химия надмолекулярных соединений. СПб.: Изд-во С. — Петербургского ун-та, 1996. - 256 с.

14. Борило Л.П. Тонкопленочные неорганические наносистемы. Томск: Изд-во Томск, ун-та, 2003. - 134 с.

15. Губин С.П., Кокшаров Ю.А., Хомутов Г.Б., Юрков Г.Ю. Магнитные наночастицы: методы получения, строение и свойства // Успехи химии. 2005. -Т. 74,№6.-С. 539-575.

16. Бучаченко A JI. Нанохимия прямой путь к высоким технологиям нового века // Успехи химии. - 2003. - Т. 72, № 5. с. 419 - 438.

17. Захарова Г.С., Волков В.Л., Ивановская В.В., Ивановский А.Л. Нанотрубки и родственные наноструктуры оксидов d-металлов: синтез и моделирование // Успехи химии. 2005. - Т. 74, № 7. - С. 651 - 686.

18. Воюцкий С.С. Курс коллоидной химии. -М.: Химия, 1975. 512 с.

19. Фролов Ю.Г. Курс коллоидной химии. Поверхностные явления и дисперсные системы. — М.: Химия, 1988. — 464 с.

20. Полифункциональные неорганические материалы на основе природных и искусственных соединений. / Верещагин В.И., Козик В.В., Сырямкин В.И., Погребенков В.М., Борило Л.П. Томск: Изд-во Томск, ун-та, 2002. - 359 с.

21. Pashley D.W., Stowell М. J., Jacobs М. Н., Law Т. J. The growth and structure of gold and silver deposits formed by evaporation inside an electron microscope // The philosophical magazine. 1964. - v. 10, № 103. - p. 127 - 158.

22. Иевлев B.M., Трусов Л.И., Холмянский B.A. Структурные превращения в тонких пленках. М.: Металлургия, 1988. - 326 с.

23. Robins I.L. Кинетика зарождения и роста тонких пленок // Apply Surface Sci. 1988. - v. 33 - 34. - p. 379 - 394.

24. Чопра К., Дас С. Тонкопленочные солнечные элементы. — М.: Мир, 1986. -435 с.

25. Кузнецова С.А. Физико-химические закономерности синтеза пленок оксида олова из пленкообразующих комплексных соединений: Автореф. дис. на соискание уч. степени канд. хим. наук. Томск, 1998. - 22 с.

26. Точицкий Э.И. Кристаллизация и термообработка тонких пленок. Минск: Наука и техника, 1976. - 376 с.

27. Моррисон С. Химическая физика поверхности твердого тела. — М.: Мир, 1980.-488 с.

28. Третьяков Ю.Д. Процессы самоорганизации в химии материалов // Успехи химии.-2003.-Т. 72, № 8. С. 731 - 763.

29. Кирсанова Т.С. Формирование тонких пленок. JL: ЛПИ, 1983. - 73 с.

30. Тонкие поликристаллические и аморфные пленки. Физика и применение. / Под ред. Казмерски JT. М.: Мир, 1983. - 304 с.

31. Палатник JI.C., Косевич В.М., Антонов В.А. К вопросу образования метастабильных модификаций в конденсированных пленках // Журнал физической химии. 1966. - Т. 40, № 10. - С. 2458 - 2463.

32. Комник Ю.Ф. О причинах возникновения неравновесных фаз в тонких пленках // Физика твердого тела. -1968.-Т. 10, № 1.-С.312-314.

33. Болдырев В.В., Ляхов Н.З., Чупахин А.П. Химия твердого тела. — М.: Знание, 1982.-64 с.

34. Третьяков Ю.Д., Лепис X. Химия и технология твердофазных материалов. — М.: Наука, 1985.-198 с.

35. Бубулик А.И., Пинес Б.Я. Фазовы переход при изменении толщины в тонких металлических пленках // Доклады АН СССР. 1952. - Т. 87, № 2. — С. 215-218.

36. Ролдугин В.И. Самоорганизация наночастиц на межфазных поверхностях // Успехи химии. 2004. - Т. 73, № 2. - С. 123 - 156.

37. Мелихов И.В. Закономерности кристаллизации с образованием нанодисперсных твердых фаз // Неорганические материалы. 2000. - Т. 36, № 3.-С. 350-359.

38. Третьяков Ю.Д. Развитие неорганической химии как фундаментальной основы создания новых поколений функциональных материалов // Успехи химии. 2004. - Т. 73, №9.-С. 891 -931.

39. Локшин Э.П., Иваненко В.И., Громов О.Г., Калинников В.Т. Синтез сложных оксидов редких элементов IV и V групп // Стекло и керамика. — 2005. -№ 8. С. 14-18.

40. Кэмпбелл Д.С. Осаждение тонких пленок химическими методами. Технология тонких пленок. / Под ред. Майссела JL, Глэнга Р. Пер. с англ. Под ред. Елинсона М.И., Смолко Г.Г. Т. 1. М.: Советское радио, 1977. - 664 с.

41. Суйковская Н.В. Химические методы получения тонких прозрачных пленок. JL: Химия, 1971. - 200 с.

42. Ту К., Jlay С. Методы получения и исследования тонких пленок. Тонкие пленки: Взаимная диффузия и реакции. / Под ред. Поута Дж., Ту К., Мейера Дж. Пер с англ. Под ред. Киселева В. Ф., Поспелова В. В. М.: Мир, 1982.-576 с.

43. Борисенко А.И. Тонкие неорганические пленки в микроэлектронике — Л.: Наука, 1972.- 114 с.

44. Г.Шефер Химические транспортные реакции. / Пер. с нем. Медведевой 3. С., Ярембаша Е. И. Под ред. Лужной Н. П. М.: Мир, 1964. — 189 с.

45. Смирнова Т.П., Бадалян A.M., Борисов В.О., Каичев В.В., Бухтурова Л.Ф., Кичай В.Н., Рахлин В.И., Шаинян Б.А. Плазмохимический синтез и свойства пленок карбонитрида кремния // Неорганические материалы. — 2005. Т. 41, № 7. - С.808-815.

46. Пат. 21764 РФ, МПК7 H01L 21/316. Способы получения защитных пленок / Шахмаев А.Р., Исмаилов Т.А., Саркаров Т.Э., Гаджиев Х.М. -№ 99115735/28; Заявлено 15.07.99; Опубл. 20.06.01.

47. Пат. 6231993 США, МПК7 В32В 15/04. Anodized tantalum pellet for an electolylic capacitor / Wilcon Greatbatch Ltd, Stephenson D. H., Cymerman M.,

48. Muffoletto В. С. № 09/408219; Заявлено 29.09.99; Опубл. 15.01.01; НПК 428/472.1

49. Алесковский В.Б. О химии и технологии твердого вещества // Журнал прикладной химии. 1974. - Т. 47, № 10. - С. 2145 - 2157.

50. Кольцов С.И. Получение и исследование продуктов взаимодействия четырех хлористого титана с силикагелем // Журнал прикладной химии. — 1969. Т. 42, № 15. - С. 1023-1028.

51. Толстой В.П. Синтез тонкослойных структур методом ионного наслаивания // Успехи химии. 1993. - Т. 62, № 3. - С. 260 - 265.

52. Толстой В.П. Синтез методом ионного наслаивания на поверхности кремния сверхтонких слоев Sn02-H20 // Журнал неорганической химии. — 1993. — Т. 38, № 7. С. 1146- 1148.

53. Ежовский Ю.К., Клусевич А. И. Диэлектрические многослойные наноструктуры оксидов тантала и алюминия // Физика твердого тела. 2003. — Т. 45, № 11.-С. 2099-2104.

54. Васильев Ю.В., Репинский С.М. Осаждение диэлектрических слоев из газовой фазы // Успехи химии. 2005. - Т. 74, № 5. - С.452—483.

55. Вертопрахов В.Н., Никулина Л.Д., Игуменов И.К. Синтез оксидных сегнетоэлектрических пленок из металлоорганических соединений и их свойства // Успехи химии. 2005. - Т.74, № 8. - С.797 - 848.

56. Разуваев Г.А., Грибов Б.Г. Металлоорганические соединения в электронике. -М.: Наука, 1972,-479 с.

57. Мальчик А. Г. Получение, физико-химические свойства и применение силикатных тонкопленочных систем Si02 В1гОз и Si02 - ТагОз: Автореф. дис. на соискание уч. степени канд.тех.наук. - Томск, 1997. - 19 с.

58. Лисеенко О.В., Мишенина JI.H., Борило Л.П. Свойства тонких пленок на основе оксида тантала (V). // Конденсированные среды и межфазные границы — 2004.-Т. 6.- №2.-С. 162- 165.

59. Химич Н.Н., Столяр С.В. Влияние среды на процесс образования монолитного кремниевого геля из тетраметоксисилана золь-гель методом // Журнал прикладной химии. 1998.-Т. 71, № 10.-С. 1590- 1594.

60. Мальчик А.Г., Борило Л.П., Козик В.В. Физико-химическое исследование процессов формирования порошков и пленок Si02 из пленкообразующих растворов // Журнал прикладной химии. 1996. - Т. 69, № 2. - С. 224-227.

61. Грязнов Р.В., Борило Л.П., Козик В.В., Шульпёков A.M. Тонкие пленки на основе Si02 и Zr02 из растворов // Неорганические материалы. 2001. - Т. 37, № 7. - С. 828-831.

62. Brinker T.J. Sol-gel science: the physics and chemistry of sol-gel processing. — Academic. Press, INC, 1990. 146 p.

63. Аткарская А.Б., Киян В.И. Причины, влияющие на свойства золь-гель пленок // Стекло и керамика. 1999. - № 10. -С. 26 - 29.

64. Семченко Г. Д. Золь-гель процесс в керамической технологии. Харьков, 1997.-143 с.

65. Стрижков Б.В., Пелипас В.П., Нишанов Д.Н., Григорович С.М., Русаков В.В. Физико-химическое исследование пленок, полученных гидролизом тетраэтоксисилана // Известия АН СССР. Неорганические материалы. — 1974. — Т. 10,№9.-С. 1641- 1644.

66. Калинин С.В., Лукашин А.В., Никифоров М.П., Елисеев А.А., Вертегел А.А., Третьяков Ю.Д. Использование гидролитической поликонденсации для получения супермагнитных нанокомпозитов // Доклады Российской Академии Наук. 1998. - Т. 363, № 6. - С. 777 - 779.

67. Сычев А.Е., Мержанов А.Г. Самораспространяющийся высокотемпературный синтез наноматериалов // Успехи химии. — 2004. — Т. 73, №2.-С. 156- 170.

68. Сумм Б. Д., Иванова Н. И. Объекты и методы коллоидной химии в нанохимии. //Успехи химии. 2000. Т. 69. № 11. С. 995 1008.

69. Химия и технология редких и рассеянных элементов / Под ред. К.А.Большакова — М.:Высшая школа, 1976. Ч. III. —-320 с.

70. Филоненко В.П., Зибров И.П. Фазовые переходы в оксидах M2Os (М V, Nb, Та) при высоких давлениях и термическая стабильность новых модификаций // Неорганические материалы. — 2001. - Т. 37, № 9. - С. 1120-1126.

71. Зибров И.П., Филоненко В.П., Дробот Д.В., Никишина Е.Е. Структура гидрата высокого давления Та205-2/ЗН20 и производного от него метастабильного оксида Ta2Os Н Журнал неорганической химии. 2003. — Т. 48, №4.-С. 543-550.

72. Сахаров В.В., Иванова Н.Е., Коровин С.С., Захаров М.А. Топохимическое получение гидроокисей ниобия и тантала из различных соединений // Журнал неорганической химии. 1974. - Т. 19, № 3. - С. 579 - 584.

73. Stephenson N.C., Roth R.S. Structural Systematics in the Binary System Ta205 -WO3. V. The Structure of the Low-Temperature Form of Tantalum Oxide L- Ta2Os // Acta Crystallographica. 1971. -V. B27, № 5. - p. 1037- 1044.

74. Сергеев A.H., Серебренников B.B. Материаловедение пленок тугоплавких оксидов. — Томск: Изд-во Томского ун-та, 1981. — 144 с.

75. Хитров В.И., Клечковская В.В., Пинскер З.Г. Исследование атомной структуры ромбического оксида тантала в тонких пленках методом электронной дифракции. // Кристаллография. — 1972. — Т. 17, № 3. -С. 506-512.

76. Lehovec К. Crystal structure of P-Ta205 // Bulletin of American Physical Society.- 1964.- v. 9,№ l.-p. 12-13.

77. Никишина E.E., Дробот Д.В., Филоненко В.П., Зибров И.П., Лебедева Е.Н. Особенности кристаллизации аморфного пентаоксида тантала при атмосферном и высоком давлениях // Журнал неорганической химии. — 2002. — Т. 47, № 1.-С. 14-17.

78. Хитров В.И., Клечковская В.В., Пинскер З.Г. Исследование структуры моноклинного оксида тантала методом электронной дифракции // Кристаллография. 1976. - Т. 26, № 5. - С. 937 - 942.

79. Шрейдер В.А., Туревская Е.П., Козлова Н.И., Турова Н.Я. Прямой электрохимический синтез алкоголятов металлов // Известия АН СССР. Серия химическая. 1981. - № 8. - С. 1687 - 1692.

80. Туревская Е.П., Турова Н.Я., Белоконь А.И., Чебуков Д.Е. Об оксоэтилате тантала. Полиядерные оксоалкоксотанталаты // Журнал неорганической химии.- 1998. Т. 43, № 7. - С. 1065 - 1068.

81. Старикова З.А., Турова Н.Я., Чебуков Д.Е., Яновский А.И. Синтез и структурное исследование многоядерных оксоэтоксотанталатов лития // Журнал неорганической химии. 2003. - Т. 48, № 7. - С. 12755 - 1281.

82. Кучейко С.И., Кесслер В.Г., Турова Н.Я. Алкоголяты висмута // Координационная химия. 1987. - Т. 13, № 8. - С. 1043 - 1044.

83. Козлова Н.И., Турова Н.Я., Некрасов Ю.С. О молекулярном состоянии алкоголятов металлов в газовой фазе и конденсированном состоянии // Координационная химия. 1980. - Т. 6, № 2. - С. 221 - 230.

84. Турова Н.Я. Оксоалкоксиды металлов. Синтез, свойства, структура // Успехи химии. 2004. - Т. 73, № П. - С. 1131-1154.

85. Туревская Е.П., Яновская М.И., Турова Н.Я. Использование алкоголятов металлов для получения оксидных материалов // Неорганические материалы. — 2000. Т. 36, № 3. - С. 300 - 341.

86. Wang С.С., Zaininger К.Н., Duffy М.Т. Vapor deposition and characterization of metal oxide thin films for electronic applications // Radio Corporation of America Review. 1970 - v. 31, № 4. - p. 728 - 741.

87. Ниобий и тантала. / Зеликман А.Н., Коршунов Б.Г., Елютин А.В. — М.: Металлургия, 1990. 296 с.

88. Wardlaw W. Alkoxides old and new // Journal of the chemical society. — 1956. — № 10.-p. 4004-4014.

89. Bradley D.C., Chakravarti B.N., Wardlaw W. Structural chemistry of the alkoxides. Part8. Isomeric butoxides and pentyloxides of niobium // Journal of the chemical Society. 1958. - № 1. - p. 99 - 101.

90. Козик B.B., Скорик H.A., Борило Л.П., Дюков В.В. Синтез и свойства пленок оксидов циркония, ниобия и тантала // Журнал неорганической химии. — 1995-Т. 40, № Ю.-С. 1596-1598.

91. Son К.А., Мао A.Y., Hess D.A., Brown L.A, White I.M. Deposition and annealing of ultra thin Ta205 Films on nitrogen passivated Si (100). // Electrochemistry and solid state lett. 1998 - v. 1, № 4. - p. 178 - 180.

92. Kofstad P. On The Defect Structure of Ta205 // The Journal of Electrochemistry Society .- 1962 v. 109, № 9. - p. 776 - 781.

93. Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Материалы / Под ред. Курносов А.И. М.: Высшая школа, 1986. - 96 с.

94. Jun-Ying Zhang, Ian W Boyd. Structural and electrical properties of tantalum oxide films grown by photo-assisted pulsed laser deposition // Applied Surface Science. 2002. - V. 186, № 1. - p. 40 - 44.

95. H. Ono, Y. Hosokawa, K. Shinoda, K. Koyanagi and H. Yamaguchi. Та — О phonon peaks in tantalum oxide films on Si // Thin Solid Films. 2001. - V. 381, № l.-p. 57-61.

96. Kaupo Kukli, Mikko Ritala, Raija Matero and Markku Leskela. Influence of atomic layer deposition parameters on the phase content of Ta2Os films // Journal of Crystal Growth. 2000. - V. 212, № 5. - p. 459 - 468.

97. Never Kaliwoh, Jun-Ying Zhang and Ian W Boyd. Photo-induced preparation of (Ta205)ix(Ti02)x dielectric thin films using sol-gel processing with xenon exciter lamps//Applied Surface Science.-2000.-V. 168, № 12.-p. 13 16.

98. Pavlovic A.S. Some dielectric properties of tantalum pentoxide J J The Journal of Chemical Physics. V. 40, № 4. p. 951 956.

99. Горощенко Я.Г. Химия ниобия и тантала. — Киев: Наукова думка, 1965.-482 с.

100. Colon D.C., Doyle W.P. Absorption Spectra of Vanadium, niobium and tantalum pentoxides // The Journal of Chemical physics. 1961 - v. 35, № 2. - p. 752-753.

101. Физико-химические свойства окислов. Справочник. / Под ред. Самсонова Г.В. М.: Металлургия, 1978.-471 с.

102. Ормонт Б.Ф. Структуры неорганических веществ. М.: Изд-во технико-теоритеческая лит-ра, 1950. - 968 с.

103. Серебренников В.В. Химия редкоземельных элементов. Томск: Изд-во Томского ун-та, 1959. - 516 с.

104. Андреева А.Ф., Гильман И.Я. Полиморфные превращения в окислах редкоземельных элементов, полученных реакционным испарением // Известия АН СССР. Неорганические материалы. 1978. - Т. 14, № 3. - С. 502 - 508.

105. Серебренников В.В., Якунина Г.М., Козик В.В., Сергеев А.Н. Редкоземельные элементы и их соединения в электронной технике. — Томск: Изд-во Томского ун-та, 1979. 142 с.

106. Самсонов Г.В., Андреева А.Ф., Гильман И.Я. Структура пленок окислов РЗЭ. В кн. Получение и свойства тонких пленок. Вып. 2. — Киев, 1974. — 178 с.

107. Серебренников В.В., Козик В.В., Сергеев А.Н, Якунина Г.М. Получение, свойства и применение пленок на основе окислов редкоземельных элементов // Тугоплавкие соединения редкоземельных металлов. Новосибирск: Наука, 1979. С. 117- 120.-264 с.

108. Самсонов Г.В., Гильман И.Я., Андреева А.Ф. Получение и исследование физических свойств тонких пленок окислов редкоземельных металлов // Известия АН СССР. Неорганические материалы. — 1974. Т. 10, № 9. - С. 1645-1648.

109. Источники света и редкоземельные элементы. / Серебренников В.В., Главацкий Ю.Ф., Козик В.В., Абакумов Е.П. Томск: Изд-во Томск, ун-та, 1981.-176 с.

110. Титов Ю.А., Сыч A.M., Капшук А.А. Область температурной стабилизации ромбической модификации LaTaC>4 // Неорганические материалы. 1998. - Т. 34, №7.-С. 608-610.

111. Портной К.И., Тимофеева Н.И. Кислородные соединения редкоземельных элементов. М.: Металлургия, 1986. - 479 с.

112. Архипова Е.В., Зуев М.Г., Беккер С.А. Фазовые соотношения в системе La203 Nb205 — Та205 в субсолидусной области // Журнал неорганической химии. - 1999. - Т. 44, № 9. - С. 1561 - 1562.

113. Соединения редкоземельных элементов. Цирконаты, гафнаты, ниобаты, танталаты, антимонаты. / Арсеньев П. А., Глушкова В. Б., Евдокимова А. А. и др. -М: Наука, 1985.-261 с.

114. Рождественнский Ф. А. Танталаты трехвалентных металлов. М.: Наука, 1986.-167 с.

115. Бандуркин Г. А., Дружинский Б. Ф., Танаев И. В. Особенности кристаллохимии соединений редкоземельных элементов. М.: Наука, 1984. -232 с.

116. Молчанов В.В, Зуев М.Г., Плясова Л.М., Богданов С.В. Механохимический синтез танталатов иттрия и лантана // Неорганические материалы. 2004. — Т.40, №1. — С.83 — 89.

117. Артеменко А.И., Малеванный В.А., Тикунова И.В. Справочное руководство по химии: Справочное пособие. — М.: Высшая школа, 1990.-303 с.

118. Справочник химика-М.: Химия, 1964, Т. II. 1168 с.

119. Практикум по химии и технологии полупроводников. / Под ред. Угая Я.А. -М.: Высшая школа, 1978. 191 с.

120. Попович Н.В., Федоров В.В. Особенности кинетики процесса синтеза люминесцентных материалов золь-гель методом // Стекло и керамика. — 2000. — № 3. С. 8 - 10.

121. Практикум по коллоидной химии. / Под ред. Лаврова И.С. М.: Высшая школа, 1983.-216 с.

122. Ковба Л.М., Трунов В.К. Рентгенофазовый анализ. М.: Изд-во МГУ, 1976.-232 с.

123. Пакет прикладных программ для РФА. Версия 1 для IBM PC. Программа Ident. Л., 1990.

124. American Society for Testing Materials Inorganic Plain Cords. Philadelfia. 1946 1969.

125. Фиалко М.Б. Неизотермическая кинетика в термическом анализе. — Томск: Изд-во Томск, ун-та, 1981. 108 с.

126. Накамото К. Инфракрасные спектры неорганических и координационных соединений. М.: Мир, 1966. - 410 с.

127. Козицына JI.A., Куплетская Н.Б. Применение УФ-, ИК- и ЯМР-спектроскопии в органической химии. М.: Высшая школа, 1971. - 264 с.

128. Зуев М.Г. Фазовые соотношения в тройных оксидных системах элементов III и VB групп в субсолидусной области. Тройные оксидные соединения // Успехи химии. 2000. - Т. 69, № 7. - С. 605 - 623.

129. Белами JI. Инфракрасные спектры сложных молекул. — М.: Изд-во иностр. лит-ры, 1963.-590 с.

130. Основы эллипсометрии. / Под ред. Ржанова А.В. — Новосибирск: Изд-во Наука сибирское отделение, 1979. 424 с.

131. Аззам Р., Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет. — М.: Мир, 1981.-583 с.

132. Алканов А. В. Алгоритмы и программы для численного решения некоторых задач эллипсометрии. Новосибирск: Наука, 1980. — 192 с.

133. Киреев П.С. Физика полупроводников. — М.: Высшая школа, 1975. — 584 с.

134. Зимон А.Д. Адгезия пленок и покрытий. — М.: Химия, 1977. — 352 с.

135. Практическая растровая электронная микроскопия. / Под ред. Гоулстейна Дж., Яковица Х:-М.: Мир, 1978. 656 с.

136. Растровая электронная микроскопия и рентгеновский микроанализ. Кн. 1. — М.: Мир, 1984.-303 с.

137. Иконникова Л.Ф., Минакова Т.С., Нечипоренко А.П. Применение индикаторного метода для исследования поверхности кислотности сульфида цинка марки «для оптической керамики» // Журнал прикладной химии. — 1990. -Т. 60, № 8. С. 1708- 1714.

138. Иконникова Л. Ф. Взаимосвязь поверхностных и структурных свойств ZnS с оптическими характеристиками. Томск: Изд-во Томск, ун-та, 2002. - 138 с.

139. Иконникова К.В., Иконникова Л.Ф., Саркисов Ю.С., Минакова Т.С. Методические материалы к практическим работам по определению кислотно-основных поверхности. Томск: Изд-во Томск, ун-та, 2003.- 28с.

140. Файрбротер Ф. Химия ниобия и тантала. М.: Химия, 1972. - 280 с.

141. Рипан Р., Четяну И. Неорганическая химия. — М.: Мир, 1972. Т. 2. 872 с.

142. Сыч A.M., Новик Т.В., Еременко Л.А. Механизм образования ортониобатов р.з.э. цериевой группы из совместно осажденных гидроксидов // Известия АН СССР. Неорганические материалы. 1977. — Т. 13, № 11. - С. 2046-2050.

143. Сыч A.M., Новик Т.В., Еременко Л.А., Кушков В.Д. Механизм образования метаниобатов р.з.э. из совместно осажденных гидроксидов // Украинский химический журнал. 1978. - Т.44, № 8. - С. 794 - 798.

144. Афонский Н.С., Нейман М. Исследование фазового состава системы Ьа20з Та205 // Известия АН СССР. Неорганические материалы. - 1967. - Т.З, № 7. -С. 1280- 1282.

145. Лисеенко О.В., Мишенина Л.Н. Тонкопленочный оксид тантала (V). // Тезисы Всероссийской науч.-практ. конф. «Образование для новой России: опыт, проблемы, перспективы». Томск: STT, 2005. - С. 210.

146. Лисеенко О.В., Мишенина Л.Н., Борило Л.П. Тонкопленочные наноматериалы системы Та205 Ьа2Оз. // Тезисы междунар. конф. «Физико-химические основы новейших технологий XXI века». - М.: ИФХ, 2005. - С. 67.

147. Лисенко О.В., Мишенина Л.Н., Борило Л.П. Свойства тонких пленок системы Та2С>5 — Ьа20з полученных золь гель методом. // Известия Томского политехнического университета.-2005.-Т. 308.-№1 - С. 107-109.

148. Козик В.В., Лисеенко О.В., Борило Л.П. Получение и изучение свойств тонких пленок системы Та205 — La203 // Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология. 2006. — Т. 49. — № 8 - С. 106 — 108.

149. Стромберг А.Г., Семченко Д.П. Физическая химия. — М.: Высшая школа, 1988.-496 с.