Примесный состав тетрафторидов кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.01, кандидат химических наук Сорочкина, Татьяна Геннадьевна

• Сорочкина, Татьяна Геннадьевна
• кандидат химических наук
• 2009

Оглавление диссертации кандидат химических наук Сорочкина, Татьяна Геннадьевна

ИЗОТОПНО-ОБОГАЩЕННЫХ.

Специальность 02.00.01 — неорганическая химия

ДИССЕРТАЦИЯ на соискание ученой степени кандидата химических наук

Научный руководитель: д.х.н. профессор Крылов В.А.

Нижний Новгород

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ОСНОВНЫЕ СВОЙСТВА, МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ, ОЧИСТКИ И АНАЛИЗА 81Р4 и ОеР4. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.

1.1. Свойства тетрафторида кремния.

1.1.1. Физико-химические свойства тетрафторида кремния

1.1.2. Химические свойства тетрафторида кремния.

1.2. Свойства тетрафторида германия

1.2.1. Физико-химические свойства тетрафторида германия.

1.2.2. Химические свойства тетрафторида германия.

1.3. Методы синтеза тетрафторида кремния.

1.4. Методы синтеза тетрафторида германия.

1.5. Методы очистки тетрафторида кремния.

1.6. Методы очистки тетрафторида германия.

1.7. Получение изотопно-обогащенных образцов тетрафторидов кремния и германия.

1.8. Методы анализа тетрафторида кремния.

1.8.1. Масс-спектрометрия

1.8.2. ИК-спектроскопия

1.8.3. Газовая хроматография

1.9. Методы анализа тетрафторида германия.

1.9.1. Масс-спектрометрия

1.9.2. ИК-спектроскопия

1.9.3. Газовая хроматография

1.10. Задачи исследования.

ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ.

ГЛАВА 2. РАЗРАБОТКА МЕТОДИК КАЧЕСТВЕННОГО И КОЛИЧЕСТВЕННОГО ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРИМЕСЕЙ В 81Р4 и СеР4.

2.1. Термодинамическая оценка вероятных форм нахождения примесей серо- и углеродсодержащих веществ при синтезе тетрафторида германия методом прямого фторирования

2.2. Создание установки для газохроматографического анализа тетрафторидов кремния и германия.

2.3. Разработка методики газохроматографического определения примеси гексафтордисилоксана в тетрафториде кремния.

2.4. Газохроматографическое определение примесей углеводородов С1-С4 и гексафгорида серы в тетрафторидах кремния и германия. 59 2.4.1. Разработка методики анализа.

2.4.1.1. Выбор сорбента для удаления основы.

2.4.1.2. Выбор хроматографических колонок.

2.4.1.3. Использование метода криофокусирования примесей.

2.4.1.4. Качественный анализ.

2.4.1.5. Количественный анализ

2.4.1.6. Пределы обнаружения примесей

2.4.2. Метрологическое обеспечение анализа

2.4.2.1. Погрешности определения.

2.4.2.2. Обработка результатов измерений.

2.4.2.3. Правильность определения примесей

ГЛАВА 3. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРИМЕСНОГО СОСТАВА SiF4 и GeF4.

3.1. Исследование образцов тетрафторида кремния на содержание примесей углеводородов.

3.2. Происхождение примесей углеводородов в тетрафториде кремния.

3.3. Исследование образцов тетрафторида кремния на содержание примеси гексафтордисилоксана.

3.4. Исследование образцов тетрафторида германия на содержание примесей углеводородов.

3.5. Исследование образцов тетрафторидов кремния и германия на содержание примеси гексафторида серы.

3.6. Поведение примесей при глубокой очистке тетрафторида кремния

ГЛАВА 4. ОБСУЖДЕНИЕ РЕЗУЛЬТАТОВ

4.1. Особенности определения примесного состава 112 тетрафторидов кремния и германия методом газовой хроматографии.

4.2. Степень чистоты исследованных образцов тетрафторидов 114 кремния и германия.

ВЫВОДЫ.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Примесный состав тетрафторидов кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных»

Актуальность работы.

Высокочистые тетрафториды кремния (81Р4) и германия (ОеР4) находят широкое применение в важнейших отраслях науки и техники. Так, с использованием тетрафторида кремния, получают легированный фтором аморфный гидрогенизированный кремний [1-6], сплавы на основе кремния и германия [7,8], высокочистый диоксид кремния [9], производят имплантацию ионов кремния и фтора в поверхностный слой арсенида галлия [10]. Тетрафторид кремния, как легирующая добавка, эффективно понижает показатель преломления кварцевого стекла, не внося дополнительных полос поглощения в рабочей спектральной области, что весьма важно при производстве кварцевых волоконных световодов [11].

Тетрафторид германия находит применение в современных нанотехнологиях: в процессах получения тонких аморфных поликристаллических пленок 811.хСех методом химического осаждения из паровой фазы [8], в производстве жидкокристаллических дисплеев, при изготовлении высокотемпературных приемников ИК-излучения.

Тетрафториды кремния и германия являются исходными соединениями для разделения изотопов кремния и германия, и получения в конечном итоге изотопно и химически чистых кремния и германия, потенциально перспективных для создания новых функциональных устройств материалов. Использование изотопно-чистых веществ в микроэлектронике может способствовать решению проблемы теплоотвода с микросхем. Экспериментально подтверждено, что образцы германия 70Ое с обогащением 99.99% (при низких температурах) [12], а также кремний 81 с обогащением 99.85% [12] обладают более высокой теплопроводностью, чем германий и кремний с естественным изотопным составом.

Использование изотопно-чистого кремния позволит улучшить характеристики монохроматоров синхронного излучения [13] и детекторов элементарных частиц [14]. Важнейшей областью применения изотопно-чистого кремния является создание эталонов массы на базе совершенного кристалла 81 и уточнение числа Авогадро [15]. Германий с увеличенным содержанием германия-74 находит применение в технологии нейтронного легирования [16]. Высокочистый германий, обогащенный по 76-изотопу, содержится в германиевых детекторах для изучения двойного бета распада ядер, которые обладают высокой эффективностью измерений [17,18].

Такое применение тетрафторидов кремния и германия может быть ограничено присутствием ряда примесей. Так, содержание водородсодержащих примесей в тетрафториде кремния для легирования кварцевых заготовок волоконных световодов не должно превышать 10" мол.%. Для разделения изотопов кремния центробежным методом необходимо использовать тетрафторид кремния с содержанием силоксанов различного строения не более 10"1 мол.%, тле. при изотопном обогащении происходит их концентрирование, полимеризация до жидких и твердых полифторсилоксанов, и как следствие, нарушение технологического процесса. Для создания физически обоснованного

28 эталона массы на базе высокообогащенного изотопа 81 необходим высокочистый кремний с содержанием примесей углерода и кислорода

6 7 6 менее 4-10" ат. %., бора менее 1-10" ат. %., других элементов менее 2-10"' ат. %. Содержание примесей в моноизотопном германии не должно превышать 10"5 -10"6 ат. %.

Основными методами анализа тетрафторидов кремния и германия являются масс-спектрометрия и ИК-спектроскопия. Они позволяют контролировать примеси в тетрафторидах кремния и германия на уровне 10"2-10"4 мол.%. Наиболее перспективным методом анализа, позволяющим определять примеси с более низкими пределами обнаружения на уровне

6 8 масс.% является метод газовой хроматографии. Но пока данный метод не нашел широкого распространения для анализа тетрафторидов кремния и германия из-за высокой реакционной способности веществ.

По литературным данным число примесей, определяемых в тетрафторидах кремния и германия, невелико. В тетрафториде кремния с природным изотопным составом методами ИК-спектроскопии и масс-спектрометрии определялись примеси: 81хОуР2, 81хНуР2, НБ, СОг, СО, СН4, БРб- Данные по примесному составу тетрафторида германия с естественным содержанием изотопов в литературе отсутствовали. Также отсутствовали данные по исследованию примесного состава изотопно-обогащенных тетрафторидов кремния и германия.

Поэтому изучение примесного состава тетрафторидов кремния и германия, особенно изотопно-обогащенных, в области концентраций 10"6о

10" об.% является актуальной задачей. Цель работы.

Целью настоящей работы было:

- исследовать примесный состав тетрафторидов кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных с использованием метода газовой хроматографии.

Для этого было необходимо решить следующие задачи:

1. Определить классы наиболее важных примесей.

2. Установить условия определения примесей разных классов в тетрафторидах кремния и германия.

3. Провести идентификацию примесей в тетрафторидах кремния и германия и разработать методики количественного определения примесей

6 8 с пределами обнаружения 10" -10" об. %.

4. Установить наиболее вероятные источники примесей в тетрафторидах кремния и германия.

Решение данных задач позволит определить содержание примесей в тетрафторидах кремния и германия после синтеза и очистки, изучить поведение примесей в процессах очистки и изотопного обогащения тетрафторидов кремния и германия, оценить вклад примесного состава тетрафторида кремния в содержание примесей в получаемом из него силане.

Научная новизна.

1. Впервые идентифицированы и определены количественно примеси углеводородов С2 - С4 в тетрафториде кремния с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном методом газовой хроматографии. Изучено поведение этих примесей в процессах изотопного обогащения и очистки тетрафторида кремния.

2. Впервые методом газовой хроматографии проведено определение примеси гексафтордисилоксана в тетрафториде кремния с природным изотопным составом.

3. Установлено, что источником примесей углеводородов С] - С4 в тетрафториде кремния является используемый для его получения гексафторсиликат натрия. Изучена зависимость степени выделения углеводородов от температуры при терморазложении гексафторсиликата натрия в процессе получения тетрафторида кремния.

4. Впервые идентифицированы и определены количественно примеси углеводородов С] - С4 в тетрафториде германия с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном методом газовой хроматографии, изучено их поведение в процессах изотопного обогащения.

5. Впервые идентифицирована и определена количественно примесь гексафторида серы в тетрафторидах кремния и германия с природным изотопным составом и изотопно-обогащенных методом газовой хроматографии.

Практическая ценность работы и реализация результатов.

1. Впервые проведено газохромато графическое определение примесей углеводородов С2 - С4 в тетрафториде кремния с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном с пределами обнаружения (2-4) • 10~6 об. %. Разработанная методика анализа применялась для контроля чистоты тетрафторида' кремния с природным изотопным (■ составом, используемого для изотопного обогащения в центрифугах (ОКБ ОАО «ГАЗ») и для легирования кварцевого стекла фтором и получения кварцевых волоконных световодов. Методика анализа применялась для

ЛО контроля чистоты изотопно-обогащенного 81Р4, использованного для

28 получения монокристалла 81 для уточнения числа Авогадро и создания физически обоснованного эталона массы. С применением разработанной ло пд методики исследованы образцы изотопно-обогащенных 81Р4, 81Р4 и 3081Р4, использованных для получения образцов высокочистого

28 29 30 поликристаллического 81, 81, 81, из которых выращивались монокристаллы. Результаты исследования примесного состава различных фракций, полученных при очистке 81Р4, применяются для изучения поведения примесей в процессе ректификации.

2. Изучено влияние температуры на состав и количество углеводородов, выделяющихся при терморазложении гексафторсиликата натрия, используемого для получения 81Р4. Удаление углеводородов в процессе термообработки позволило в технологическом процессе повысить чистоту получаемого тетрафторида кремния.

3. Впервые проведено газохроматографическое определение примесей углеводородов в тетрафториде германия с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном с пределами обнаружения (2-4) -10"6 об.%. Разработанная методика применялась для контроля чистоты образцов, полученных для исследования из ФГУП ПО «Электрохимический завод» г.Зеленогорск.

4. Впервые проведено газохроматографическое определение о гексафторида серы с пределом обнаружения 8-10" об. %. в тетрафторидах кремния и германия с природным изотопным составом и изотопно-обогащенных. Разработанная методика применялась для контроля чистоты образцов, полученных для исследования из ФГУП ПО «Электрохимический завод» г.Зеленогорск и НТЦ «Центротех-Эхз» г.С.-Петербург.

Исследования проводились в рамках программы ОХНМ РАН «Создание эффективных методов химического анализа и исследования структуры веществ и материалов» (проект: «Разработка и совершенствование газохроматографического и хромато-масс-спектрометрического анализа высокочистых фторидов, гидридов и фреонов», в рамках проектов МНТЦ № 1354 «Разработка методов получения и изучение свойств изотопно-чистых полупроводниковых материалов для использования в современных технологиях», № 2980 «Разработка технологии производства высокообогащенного изотопа кремний-28, удовлетворяющего требованиям к материалу для международного проекта уточнения числа Авогадро», № 2630 «Оптимизация опытной технологии получения высокообогащенных изотопов кремния для выращивания кристаллов полупроводникового качества».

Положения, выносимые на защиту:

1. Результаты идентификации примесей углеводородов в тетрафторидах кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных.

2. Результаты идентификации гексафторида серы в тетрафторидах кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных.

3. Методики газохромато графического определения примесей углеводородов С[ -С4 и гексафторида серы в тетрафториде кремния и германия с естественным содержанием изотопов и изотопно-обогащенных.

4. Методика газохромато графического определения примеси гексафтордисилоксана в тетрафториде кремния.

5. Результаты исследования происхождения примесей углеводородов в тетрафториде кремния и изучения их выделения в зависимости от температуры при терморазложении гексафторсиликата натрия в процессе получения тетрафторида кремния.

Апробация работы. Результаты работы докладывались на XI, XII и XIII Конференциях по химии высокочистых веществ (г.Нижний Новгород; 2000, 2004, 2007 г.г.), на I, II и III Всероссийском совещаниях «Высокочистый моноизотопный кремний. Получение, анализ, свойства и применение» (г.Нижний Новгород; 2001, 2003, 2006г.г.), па 1УШ Международном симпозиуме по химии фтора (г.Бремен, Германия, 2006г.), на Всероссийском симпозиуме «Хроматография и хромато-масс-спектрометрия» (г. Москва, 2008), на Всероссийская конференциия «Химический анализ» (г. Москва, 2008), на Симпозиуме «Новые высокочистые материалы» (г.Нижний Новгород; 2008г.)

Публикация результатов.

Основное содержание работы опубликовано в 4 статьях в научных журналах и 11 тезисах международных и отечественных научных конференций, перечисленных выше.

Структура и объем диссертации. Диссетрация состоит из введения, 4 глав, выводов и списка цитируемой литературы. Работа изложена на 134 страницах машинописного текста, включая 21 рисунок, 35 таблиц и библиографию из 144 наименований.

Заключение диссертации по теме «Неорганическая химия», Сорочкина, Татьяна Геннадьевна

ВЫВОДЫ.

1. Проведено исследование примесного состава углеродсодержащих веществ в тетрафториде кремния различного происхождения и изотопного состава. Впервые установлено присутствие примесей углеводородов С2-С4 в тетрафториде кремния с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном. Их содержание находится на уровне 10"3 - 10"5 об.% и ниже пределов обнаружения, и зависит от условий синтеза тетрафторида кремния и способа его дальнейшей очистки.

2. Расширены данные о примесном составе тетрафторида германия. Впервые установлено присутствие примесей углеводородов С1 - С4 и гексафторида серы в тетрафториде германия с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном. Содержание углеводородов находится т г на уровне 1(Г - 10"" об.% и ниже пределов обнаружения, гексафторида серы - на уровне 10"4 - 10"5 об.%. В тетрафториде германия, полученном прямым взаимодействием элементов, гексафторид серы является «генетической» примесью, а присутствие углеводородов обусловлено вторичными процессами.

3. Разработаны методики газохроматографического определения углеводородов и гексафторида серы в тетрафториде кремния с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном с пределами обнаружения О углеводородов С]-С4 - (2-6) • 10" об.%, гексафторида серы - 8 • 10" об.%. Достигнутые пределы обнаружения на 2-3 порядка ниже приведенных в литературе. Впервые разработана методика газохроматографического определения гексафтордисилоксана в тетрафториде кремния с пределом обнаружения 2

4. Разработаны методики газохроматографического определения углеводородов и гексафторида серы в тетрафториде германия с природным изотопным составом и изотопно-обогащенном с пределами обнаружения О углеводородов С]-С4- (2-6) • 10" об.%, гексафторида серы

8 • 10 об.%.

5. Установлено, что источником примесей углеводородов в тетрафториде кремния является гексафторсиликат натрия, используемый для получения 81Р4 термическим разложением соли. Показано, что доля выделившихся углеводородов в процессе термообработки возрастает с уменьшением их молекулярного веса. Содержание метана, этана и этилена в получаемом тетрафториде кремния было снижено на 1-2 порядка, что позволило повысить чистоту получаемого продукта.

Список литературы диссертационного исследования кандидат химических наук Сорочкина, Татьяна Геннадьевна, 2009 год

1. Medan, F. Properties of amorphous Si:F:H alloys / A.Medan, S.R.Ovshinsky //J.Non-Cryst. Solids.-1980.-V.35/36.-P.171-181

2. Zischang,D. Preparation of amorphous Si-F alloys by RF glow-discharge / D. Zischang, W.Xinfang, J.Zhongbua, D.Yuguan // J .Non-Cry st.Solids.-1982.-V.52.-N 1-3. P. 497-502

3. Заявка 59-227710 Япония. Получение тонкой пленки фторида кремния / Ф.Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.

4. Заявка 59-227711 Япония. Получение тонкой пленки фторидаокремния / Ф.Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.

5. Заявка 59-227712 Япония. Получение тонкой пленки фторида кремния / Ф.Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.

6. Заявка 59-227713 Япония. Получение тонкой пленки фторида кремния / Ф.Нобухиро, Й.Юкихиро. 1984.

7. Shimizu,I. Properties of a-Si based alloys prepared from fluorides and hydrogen / I. Shimizu, S.Oda, S.Ishihara, N.Shibata // J.Non-Cryst.Solids.-1985.-V.77-78.-N 2. P. 877-880.

8. Aulich,h.a. New methods to prepare high-purity silica / H.A. Aulich, K.H.Eisenrith, H.P.Urbach // J.Mater.Sci.-1984. V.19. - P.1710-1717.

9. Tamura,A. SiFx and SFX molecular ion implantations into GaAs / A. Tamura, k.Inoue, T.Onuma // Appl.Phys.Lett.-1987. -V.51. N 9.-P.1503-1505.

10. KupperJD. Deposition of fluorine-doped silica layers a SiCl4/ SiF4/02 gas mixture by the plasma-CVD method / D.Kupper, J.Koening, H.Wilson // J.Electrochem.Soc.-1978.-V.125.-N 8. -P.1298-1302.

11. Кварацхели,Ю.К. О развитии работ по солнечной энергетике в Минатоме России . Ю.К.Кварацхели, М.Ф.Свидерский. Конверсия в машиностроении. 1999.- № 3-4. - С.44-47.

12. Chumakov,A.I. High-energy-resolution x-ray optics with refractive collimators / A.I. Chumakov, R.Ruffer, O.Leupold, A.Barla, H.Thiess, T.Asthalter, B.P.Doyle // Appl.Phys.Lett. 2000. -V.77.- N 1. - P.31-33.

13. H.Rogers, C.S. / C.S. Rogers, A.T.Macrander // Nucl. Instr. Meth. Phys. Res.A. 1993. -V.335. -N 3. - P.561.

14. Волков. Н.Ф. О решении некоторых проблем, связанных с уточнением числа Авогадро / Н.Ф.Волков, Ю.И.Трубняков // Тр. Метрол. Ин-тов СССР. -1979. № 234/294. С. 10-13.

15. Пат. 6234523 Япония. Production of germanium tetrafluoride / Harada Isao, Aritsuka Makoto, Mitsumoto Atsuhisa, Hashimoto Takashi. 1994.

16. Пат. 2000072438 Япония. Purifying method of germanium tetrafluoride / Kohara Sadaichi, Yasutake Takeshi, Harada Isao. 2000.

17. Гельмбольд,В.О. Тетрафторид кремния. Реакционная способность и практическое применение / В.О.Гельмбольд, А.А.Эннан // Деп. В ОНРШТЭхим, г.Черкассы, 22 нояб.-1983. № 1151хп-Д83. -20с.

18. Основные свойства неорганических фторидов / гл.ред. Н.П.Галкин. М.: Атомиздат, 1976. - 400 с.

19. Фтор и его соединения / Под ред. Дж.Саймонса. М.: Иностранная литература, 1953. - 97 с.

20. Рид.Р. , Праусниц Дж., Шервуд Т. Свойства газов и жидкостей. JL: Химия, 1982. - 592 с.

21. Справочник химика. Изд. 3-е испр.: в 6 т. / Гл. ред. Б.П.Никольский. — Л.:Химия, 1971.-Т.1.- 1072 с.

22. Ebsworth, E.A.V. / E.A.V. Ebsworth, J.R.Hall, M.J.Mackillop // Spectrochim.Acta. 1958. - V.13. - P.202.

23. Patnode,W./ W. Patnode, J.Papish // J.Chem.Phys.-1930. V.34.- N 7.-P.1494-1496.

24. Свойства неорганических соединений: справочник / Ф.Н.Ефимов, Л.П.Белорукова, И.В.Василькова и др. Д.: Химия, 1983. - 392 с.

25. Брауэр, Г. Руководство по неорганическому синтезу: пер. с нем. / Георг Брауэр.-М.: Мир, 1985. Т.1. - 320 с.

26. Pase,E. Thermodynamics properties of silicon tetrafluoride from 15 К to its triple point. The entropy from molecular and spectroscopic data / E/.Pase, J.Mosser // J.Chem.Phys. 1963.-V.39. - N 1. - P.154-158.

27. Michael, J.S.Dewar. AMI calculation for compounds containing silicon / Dewar J.S Michael, Jie Caoxian // Organometallics. 1987.-N 6. -P.1486-1490.

28. Wise,S.S. The heat of formation of silica and silicon tetrafluoride / S.S.Wise, J.L.Margrave, H.M.Feder, W.H.Hubbard // J.Phys.Chem.-1962.-V.66.-N2.- P.381

29. Bousguet,J. Mise au point d' une installation de calorimetrigue de combustion dans le fluor / J. Bousguet, J.Carre, P.Claudy, J.Etienm, P.Provencal, J.Thourey, P.Bareeri // J.Chim.Phys.et Phys.-Chim.Biol.-1972.-V.69.-N 6.-P.1065-1068.

30. Ruff,0. / O.Ruff, E.Ascher // Z.Anorg.Allgem.Chem. 1931.- V.196. -N 4. - P.431-420.

31. Booth,H. / H.Booth, C.Swinehart // J.Amer.Chem.Soc.-1935. -V.57. -P.1337-1342.

32. Сладков, И.Б. Соотношение между параметрами состояния неорганических соединений в критической точке и точке кипения / И.Б.Сладков // Деп.в ВИНИТИ, № 1209-76 Деп.: -М. 1976. - 11 с.

33. Морачевский, А.Г. Физико-химические свойства молекулярных неорганических соединений: справочник / А.Г.Морачевский, И.Б.Сладков. Л.: Химия, 1987. - 187 с.

34. Рысс, И.Г. Химия фтора и его неорганических соединений / И.Г.Рысс. — М.: Госхимиздат, 1956. С.297-299.

35. Janai, М. The deposition of silicon films by pyrolytic decomposition of SiF2 gas / MJanai, S.Aftergood, R.B.Weil, B.Pratt // J.Electrochem.Soc.-1981. V.128.-N 12. -P.2660-2665.

36. Печковский, В.В. Исследование взаимодействия SiF4 и HF с оксидом и фосфатами кальция / В.В.Печковский, Е.Д.Дзюба, Л.П.Валюкевич, М.Т.Соколов // Журнал прикладной химии. 1980.-Т.53. - № 5. - С.961-965.

37. Kolditz L., Bentrup U., // Z.anorg. und allg. Chem.- 1982.- B.491.- N 8.-P.184.

38. Surech B.S., Padma D.K. // J.fluor.Chem.-1982.-V.24.- N 4.- P.399.

39. Исикаве, Н. Фтор. Химия и применение: пер. с яп. / Нобуо исикаве, Есиро Кобаяси. М.: Мир, 1987. - 280с.

40. Пат. 0052808 Европа. Способ синтеза силана / P.A.Lefrancois. 1984.

41. Пат.4847061 США. Process for preparation of silan / J.A. Bossier, D.M.Richards, L.T.Crasto. 1989.

42. Пат.4632816 США. Процесс получения силана / M.M.Everet. 1986.

43. De Pare,R. Reduction of silicon tetrafluoride and boron trifluoride by calcium hydride / R.De Pare // Ann.Chim. 1963.-V.8.-N 3-4.-P.185-196.

44. Некрасов, Б.В. Основы общей химии / Б.В.Некрасов.-М.: Химия, 1969. Т.2.- С.90.

45. Margrave,I.L. Silicon-fluorine chemistry. IX. The reactions of silicon difluoride and silicon tetrafluoride with water and some reactions of tetrafluorodisiloxane / I.L. Margrave, K.G.Sharp, P.W.Wilson // J.Amer.Chem.Soc.-1970.-V.92.-N 6-P. 1530-1532.

46. Логинов,А.В. Тетрафторид кремния, свойства, получение и применение /А.В.Логинов, А.М.Гарбар // Высокочистые вещества. -1989.-№ 5.-С.27-34.

47. Гельмбольд, В.О. Фторокомплексы кремния (IV) с кислородсодержащими донорными лигандами / В.О.Гельмбольд, А.А.Эннан // Координационная химия. 1983. - Т.9. - Вып.5. -С.579-588.

48. Зотов, Б.Г. Получение фтористого водорода методом направленного гидролиза четырехфтористого кремния / Б.Г.Зотов, В.А.Зайцев,

49. Б.В.Громов // Химическая промышленность. 1973. - № 6. - С.445-447.

50. Guertin, J.P. / J.P. Guertin, M.Onyszchuk// Cañad.J.Chem.- 1968.-V.46.-N6.-P.987.

51. Топчиев, A.B. Каталитические свойства черырехфтористого кремния. Присоединение метилового спирта к олефинам /А.В.Топчиев, Н.Ф.Богомолова // Доклады АН СССР. 1953. - Т. 88.- № 3. - С.487-489.

52. Guertin,J.P. The interaction of silicon tetrafluoride with methanol / J.P. Guertin, M.Onyszchuk // Cañad. J. Chem.- 1963.-V.4L- N 6. P. 1477.

53. Рупчева, B.A. Исследование термических превращений продуктов взаимодействия тетрафторида кремния с аммиаком / В.А.Рупчева, С.В.Островский, О.Б.Карпенко // Термический анализ и фазовые равновесия. 1984. - С.48.

54. Сахаров, A.B. Система тетрафторид кремния-аммиак / А.В.Сахаров, В.Ф.Суховерхов, А.А.Эннан // VIII Всес. симп. по химии неорг. фторидов: Тезисы докладов. г.Полевской. - 1987. - С.340.

55. Тананаев, И.В. Химия германия / И.В.Тананаев, М.Я.Шпирт. М: Химия, 1967. - С.43-56.

56. Booth, Н. / H.Booth, W.Morris// J.Amer.Chem.Soc.-1936.- V.58.- Р 90.

57. Fischer, W./ W. Fischer, W.Weideman // Z.anorg.Chem. 1933. - V.213. -N 1-2.-P.210

58. Гороновский, И.Т. Краткий справочник по химии / И.Т.Гороновский, Ю.П.Назаренко, Е.Ф.Некряч,- Киев.: Наукова думка, 1973.-984 с.

59. Clifford A./ A.Clifford, H.Beachell, WJack // J.Inorg. a. Nucl. Chem.-1957.- V.5.-P57.

60. Schumb W./ W.Schumb, D.Breek // J.Amer.Chem.Soc.- 1952. V.74.-P.1754.67.0ppegard, A./ A.Oppegard, W.Smyth, E.Muetterties, V.Engelhardt // J.Amer.Chem.Soc.-1960.- V.82.- P 3835.

61. Cotton,J./ J.Cotton, T.Waddington // J,Amer.Chem.Soc.-1966.- A.- N 6,-P.793.

62. Назаренко, B.A. Аналитическая химия германия / В.А.Назаренко. — М.: Наука, 1973,С.24 .

63. Аналитическая химия фтора / Н.С.Николаев, С.Н.Суворова, Е.И.Гурович и др. -М.: Наука, 1970. 196 с.

64. Rai-Choudhury, P. Sulfur hexafluoride as an etchant for silicon / P. Rai-Choudhury// J.Electrochem.Soc.-1971 .-V. 118.-N2.-P.266-269.

65. Tu Yung-Yi. Chemical sputtering of fluorinated silicon / Yung-Yi Tu, T.J.Chuang, H.F.Winters // Phys.Rev.B: Condens.Motter.-1981.-V.23.-N2.-P.823-835.

66. Пат.4382071 США. Process of preparing silicon tetrafluoride by using hydrogen fluoride das / T.Otsuka, N.Kitsugi, T.Fujinaga.-1983.

67. Пат.З674431 США. Generation of silicon tetrafluoride / R.E.Driscol, G.L.De Cuir.-1972

68. Lieser,K.H. Darstellung von siliciumtetrafluorid aus siliciumdioxid und bleifluorid / K.H. Lieser, I.Rosenbaum // Z.anorg. und allg. Chem. 1967. -B.351. -N 5-6. - S.306-308.

69. Padma,D.K. A new method for the preparation of silicon tetrafluoride / D.K.Padma, A.R.Vasudeva Murthy // J.Fluor.Chem.- 1974.-V.4.-N2.-P.241-242.

70. Пономаренко, B.A. Химия фторкремний-органических соединений / В.А.Пономаренко, М.А.Игнатенко. -М.: Наука, 1979.-С.38.

71. Заявка 1322843 Великобритания. Generation of silicon tetrafluoride / Cities Servic Company. — 1973.

72. Chiotti,P. Dissociation pressure and thermodynamic properties of Na2SiF6 / P.Chiotti // J.Less Com.Met.-1981.-V.80.-Nl.-P.97-104.

73. Чернов,Р.В. Термическая диссоциация фторсиликата натрия в присутствии минеральных добавок / Р.В.Чернов, И.Г.Ковзун // Украинский химический журнал. 1972.-Т.38. - № 4. - С.318-323.

74. Пат.4446120 США. Method of preparing silicon from sodium fluosilicate / F.A.Schmidt, D.Rehbein, P.Chiotti. 1984.

75. Пат. 2004131370 Япония. Method of manufacturing high purity germanium tetrafluoride / Bhagat Sudhir S., Meshri Dayal T., Meshri Sanjay D., Petty Michale S.-2004.

76. Bartlett,N./N. Bartlett, Y u К// Canad.J.Chem.-1961.-V.39.Nl.-P.80

77. Emeleus,H./ H. Emeleus, A.Woolf // J.Chem.Soc.- 1950.- P. 164.

78. Пат. 3841212 Германия. Process for preparing germanium tetrafluoride /Doetzer R. 1990.

79. Anderson,H. / H. Anderson // J.Amer.Chem.Soc.- 1950. V.72.- P. 193.

80. Graham,R. / R.Graham, J.Macnamara, S.Crocker, R.MacFarlane // Canad.J.Chem.-1951.-V.29.-P.89.

81. Пат.2046095 Россия. Способ получения тетрафторида кремния / В.И.Волк, Б.С.Захаркин, А.И.Карелин, С.Н.Веселов, Л.И.Шкляр, Л.Б.Шпунт, А.В.Беляев, В.А.Карелин. 1995.

82. Заявка 64-52604 Япония. Способ очистки газообразного тетрафторида кремния / К.Нобухико, М.Хироюки, Х.Исао, Т.Юкихиро. 1989.

83. Mills, T.R. Silicon isotope separation by distillation of silicon tetrafluoride/T.R.Mills//Separ.Sci. and Technol.-1990.-V.25.-N3.-P.335.

84. Калиш, M.А. Давление насыщенных паров тетрафторида кремния / М.А.Калиш, А.Г.Табачников // Деп. В ОНИИТЭхим. Г.Черкассы. № 1022ХП-Д82.: - Одесса. 1982. -17с.28

85. Буланов, А.Д. Получение и глубокая очистка SiF4 и SiH* / А.Д.Буланов, В.В.Балабанов, Д.А.Пряхин, О.Ю.Трошин // Неорганические материалы. -2002.- том 38.-№ 3.- С.356-361.

86. Пат. 63147825 Япония. Refining method for germanium tetrafluoride / Harada Isao, Momotake Hiroyuki, Koto Nobuhiko. 1988.

87. Сиборг,Г. Таблица изотопов: пер. с англ. / Гленн Сиборг, И.Перлман. -М.: Иностранная литература, 1951. С.8.

88. Селинов И.П. Изотопы: справочник / Селинов И.П. М.: Наука, 1970.-254 с.

89. Шемля, М. Разделение изотопов / М.Шемля, Ж.Перье. М.: Атомиздат, 1980, 360 с.

90. Sergeev, V.I. Production of the high enriched silicon isotopes / V.I.Sergeev, A.K.Kaliteyevsky, O.N.Godisov, R.D.Smirnov // Proc. Of the 5th Int.Symp. on the Synthesis and Application of Isotopes and Isotopically Labeled Compounds: London. - 1995.

91. Буланов, А. Д. Получение высокочистого тетрафторида кремния термическим разложением Na2SiF6. / А.Д.Буланов, Д.А. Пряхин, В.В.Балабанов // Журнал прикладной химии. -2003.- Т. 76.-№ 9.- С.1433-1435.

92. Пат. 2280616 Россия. Способ получения изотопно-обогащенного германия / О.С.Ушаков, А.Л.Калашников, В.А. Матюха, А.А.Смагин, Е.Н.Малый, В.Г.Афанасьев. 2006.

93. Пат. 2270715 Россия. Способ получения германия для полупроводниковых материалов / А.А.Артюхов, Г.Ю.Григорьев, Я.М.Кравец, А.В.Курочкин, А.В.Тихомиров. 2006.

94. Reents,W.D. Impurities in silicon tetrafluoride determined by infrared spectrometry and Fourier transform mass spectrometry / W.D. Reents, D,L,Wood, A.M.Mujsce // J.Anal.Chem.-1985.-V.57.-Nl.-P.104-109.

95. Catrett,F.D. A new fluorsiloxane synthesis / F.D.Catrett, J.L.Margrave // Synth.Inorg.Metal-Org.Chem.- 1972.-V.2. N 4.-P.329-333.

96. Reents,W.D. Ion/molecular reaction of silicon tetrafluoride / W.D.Reents, A.m.Mujsce // Inter.J.Mass-Spectr.Ion Process. 1984. -V.59.-N1 -P.65-75

97. Herron,J.T. Mass spectrum and appearance potentials of tetrafluorohydrazin / J.T. Herron, V.H.Dibeler // J.Chem/Phys/- 1960.-V.33.-P.1595-1596.

98. Mitchel,J.W. Chemical analysis of electronic gases and volatile reagents for device processing / J.W.Mitchel // Solid State Technology.-1984.-V.28.-N3.-P.131-137.

99. Sharp,K.G. Silicon-flurine Chemistry. XV.Reaction of silicon difluoride with thionyl fluoride. Some new fluorosiloxanes / K.G.Sharp, J.L.Margrave // J.Inorg.Nucl.Chem.-1971.-V.33.-N9.-P.2813-2818.

100. McDowell,R.S. Infrared spectrum and potential constants of silicon tetrafluoride / R.S.McDowell, M.J.Reisfeld, C.W.Patterson // J.Chem.Phys.-1982.-V.77.-N9.-P.4337-4343.

101. Свидерский,М.Ф. Исследование молекулярного состояния примесей в тетрафториде кремния / М.Ф.Свидерский, О.Д.Хорозова, Г.И.Довганич, В.А.Иванова // Высокочистые вещества.-1994.-№1.-С.130-133.

102. Чупров, Jl.А. Примеси в тетрафториде кремния и получаемом из него силане по данным ИКфурье-спектроскопии высокого разрешения. / Л.А.Чупров, П.Г.Сенников, К.Г.Тохадзе, С.К.Игнатов, О.Шремс //Неорганические материалы. -2006.- том 42.-№ 8.- С. 10171024.

103. Другов, Ю.С./ Ю.С.Другов // Заводская лаборатория.-1990.-том 56.-№10.-С.10-19.

104. Другов, Ю.С. Газохроматографический анализ газов/ Ю.С.Другов, Конопелько Л.А. -М.: Моимпекс,1995.-456 с.

105. Пат. 3877894 США / L.G.Swape, E.A.Smith.-1975.

106. Исаков,В.П. Сборник научных трудов по газовой хроматографии / В.П.Исаков, К.И.Сакодынский, В.И.Столяров. М.: НИИТЭХИМ, Вып.20.- 1973.-С.85-86.

107. Пат. 2849033 BRD / P.Schlau.-1980.

108. Виноградова,Р.Г. Газовый хроматограф для анализа агрессивных и легкогидролизующихся веществ / Р.Г.Виноградова, Ф.И.Романов, В.С.Первов, Л.Г.Подзолко // Химическая промышленность,-1990.-№8.-С.623-625.

109. Ивесон,Г. Газовая хроматография. Труды III Международного симпозиума по газовой хроматографии в Эдинбурге. / Г.Ивесон,

110. A.Хамлин,- М.: Мир.-1964.-427 с.

111. Первов,В.С. Газоадсорбционный анализ агрессивных неорганических фторидов на фторопласте-4 / В.С.Первов,

112. B.Ф.Суховерхов, Л.Г.Подзолко // Журнал аналитической химии.-1979.-том 34.-№12.- С.2369-2373.

113. Новиков,В .Г. Изучение состава тетрафторида кремния методом ИК-спектроскопии / В.Г.Новиков, Н.В.Кривошеев, О.Г.Алексеев, Н.А.Керимбекова, А.В.Губарев // Сб.научных трудов ВНИИ люминафоров и особочистых веществ.-1987.-№33.-С.164-168.

114. Суховерхов,В.Ф. Газохроматографический анализ некоторых агрессивных газов / В.Ф. Суховерхов, Л.Г.Подзолко, В.Ф.Гаранин// Журнал аналитической химии.-1975.-том 30.-№2.- С.330-334.

115. Engelbrecht, А. / A.Engelbrecht, E.Nachbaur, E.Mayer// J.Chromatogr.-1964.-N 15.-P.228.

116. Lysyj,I. Evaluation of gas chromatographic columns for the separation of fluorinated materials / I.Lysyj, P.R.Newton // Analitical Chemistry.-1963.-V.35.- N1.-P.90-92.

117. Анваер Б.И. Газовая хроматография неорганических веществ/Б.И.Анваер, Ю.С.Другов.-1976.-М.:Химия.-240с.

118. Ferreiro,A. Analysis of GePLt and GeF4 as gaseous feed materials for germanium implantation / A. Ferreiro, E.Lora-Tamayo // Vacuum.-1989.-V.39.-N7/8.-P.775-779.

119. Сертификат качества № 16/802-804. Производитель: ФГУП «Производственное объединение «Электрохимический завод».

120. Авторское свидетельство 1053345. Способ осушки инертных газов азота и кислорода / Г.Г.Девятых, В.А.Крылов, Б.А.Андреев, С.Г.Красотский, А.Н.Гурьянов.- 1980.

121. Крылов, В.А. высокочувствительное газохроматографическое определение метана в гелии, неоне, водороде, кислороде и азоте / В.А.Крылов, Д.И.Погудалов, А.В.Саркисов // Высокочистые вещества.-1990.- № 3.- С.172-178.

122. Th. Noy, С. Cramers. The Effect of Column Characteristics of the Minimum Analyte Concentration and the Minimum Detectable Amount in Capillary Gas Chromatography //Journal of High Resolution Chromatography Communications. 1988. V. 11. P. 264-270.

123. Ежелева, A.E. Газохроматографический анализ высокочистых летучих неорганических гидридов III-VI групп периодической системы / А.Е.Ежелева, Л.С.Малыгина, Г.Е.Снопатин// Успехи газовой хроматографии.- 1987.- Вып. VI.- С.284-295.

124. Основы аналитической химии / Ю.А.Золотов.- М: Высшая школа.- 2000. т.1. с.351.

125. Количественный анализ хроматографическими методами / Э.Кэц.-М: Мир.-1990.-318с.

126. Белов, Г.В. Термодинамическое моделирование: методы, алгоритмы, программы / Г.В.Белов.- М: Научный мир.-2002.- 84 .

127. Циглер Г. Экстремальные принципы термодинамики необратимых процессов и механика сплошной среды. / Г.Циглер.-М: Мир.- 1966.-135с.

128. Синярев, Г.В. Применение ЭВМ для термодинамических расчетов металлургических процессов/ Г.В.Синярев, Н.А.Ватолин, Б.Г.Трусов, Г.К.Моисеев.-М: Наука.-1982.-263с.

129. Иориш,В.С. Программный комплекс ИВТАНТЕРМО для Windows и его использование в прикладном термодинамическом анализе / В.С.Иориш, Г.В.Белов, В.С.Юнгман.- Препринт ОИВТАН № 8-415.-M.-1998.-56c.

130. РМГ 29-99. Рекомендация по межгосударственной стандартизации ГСИ. Метрология. Основные термины и определения. Минск. : Изд-во стандартов, 2000. — 91 с.

131. ГОСТ Р ИСО 5725-1-2002. Точность (правильность и прецизионность) методов и результатов измерений. Ч. 1.Основные положения и определения. М. : Изд-во стандартов, 2002. - 29 с.

132. Девятых, Г.Г. Высокочистый монокристаллический моноизотопный кремний-28 для уточнения числа Авогадро / Г.Г.Девятых, А.Д.Буланов, А.В.Гусев, И.Д.Ковалев, В.А.Крылов, А.М.Потапов, П.Г.Сенников // Доклады Академии наук.-2008.-Т.421.-№1.-С.61-64.

133. Крылов, В. А. Применение капиллярной газовой хроматографии для анализа высокочистого силана на содержание углеводородов / В.А.Крылов, В.Г.Березкин, О.Ю.Чернова // Журнал аналитической химии. 2005.- Т.60.- № 9.- С. 958-962.

134. Спектральные методы определения следов элементов / под. ред. В.Вайнфорднера.- М.: Мир.- 1979.- 494 с.

135. USA. A Report to the Avogadro Working Group of the ССМ/ Determination of the molar volume of silicon crystals at the NRLM. Present state and the future / Kenichi Fujii // Washington D.C., 1998.

136. Гиошон Ж. Количественная газовая хроматография для лабораторных анализов и промышленного контроля. / Ж.Гиошон, К.Гийемен М: Мир.- 1991.- часть I.- 576с.