Самоорганизация в наноразмерных пленках блок-сополимеров тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.04, кандидат физико-математических наук Нератова, Ирина Владиславовна

  • Нератова, Ирина Владиславовна
  • кандидат физико-математических науккандидат физико-математических наук
  • 2010, Тверь
  • Специальность ВАК РФ02.00.04
  • Количество страниц 119
Нератова, Ирина Владиславовна. Самоорганизация в наноразмерных пленках блок-сополимеров: дис. кандидат физико-математических наук: 02.00.04 - Физическая химия. Тверь. 2010. 119 с.

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Нератова, Ирина Владиславовна

Введение.

Глава 1. Морфология блок-сополимеров и блок-сополимерных пленок: методы исследования.

1.1. Фазовое поведение блок-сополимеров: теория и эксперимент.

1.2. Процессы самоорганизации блок-сополимеров в пленках: теория и эксперимент.

1.2.1. Поведение композиционно симметричных сополимеров в пленках с симметричными и несимметричными граничными условиями.

1.2.2. Поведение композиционно асимметричных сополимеров в пленках с симметричными и несимметричными граничными условиями.

1.2.3. Влияние свободной поверхности на морфологию в пленке блок-сополимера.

1.3. Контроль ориентации структуры в пленках блок-сополимеров: существующие технологические подходы.

1.4. Компьютерное моделирование пленок блок-сополимеров: модели полимерных цепей и методы моделирования.

1.4.1. Модели полимерных цепей.

1.4.2. Методы компьютерного моделирования пленок блок-сополимеров.

1.4.2.1. Динамическая теория функционала плотности.

1.4.2.2 Метод диссипативной динамики частиц.

Глава 2. Фазовое поведение в пленках асимметричных АВ-сополимеров.

2.1. Формулировка проблемы.

2.2. Модель и метод моделирования.

2.3. Результаты и обсуждение.

2.3.1. Фазовая диаграмма.

2.3.1.1. Эффекты, наблюдаемые в пленке.

2.3.2. Влияние патгернированной поверхности.

2.4. Выводы.

Глава 3. Самоорганизация бинарной смеси блок-сополимеров.

3.1. Формулировка проблемы.

3.2. Модель и метод моделирования.

3.3. Результаты и обсуждение.

3.3.1. Процессы самоорганизации в расплаве АВ-сополимера и в системе Агомополимер/СО-сополимер. Определение естественного периода структу

3.3.2. Самоорганизация бикомпонентной смеси АВ- и СО-сополимеров.

3.3.3. Примеры блок-сополимерных систем, исследуемых в физических экспериментах.

3.4. Выводы.

Глава 4. Самоорганизация в пленках АВ-сополимеров под действием растворителя

4.1. Формулировка проблемы.

4.2. Модель и метод моделирования.

4.2.1. Связь компьютерного времени моделирования с реальным временем.

4.3. Результаты и обсуждение.

4.3.1. Моделирование процесса испарения растворителя.

4.3.1.1. Формирование ламеллярной фазы.

4.3.1.2. Формирование гексагональной цилиндрической фазы.

4.3.2. Моделирование процесса абсорбции растворителя.

4.4. Выводы.

Рекомендованный список диссертаций по специальности «Физическая химия», 02.00.04 шифр ВАК

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Самоорганизация в наноразмерных пленках блок-сополимеров»

Самоорганизация блочных сополимеров (БС) представляет собой простой и относительно дешевый метод получения структурированных функциональных наноматериа-лов. В зависимости от структуры, химического состава, гибкости полимерных цепей и взаимодействия различных полимерных сегментов, БС могут спонтанно упорядочиваться в процессе фазового разделения при изменении температуры. При этом образуются структуры с различной равновесной морфологией и размером, такие как центрированная кубическая (сферическая), гексагональная (цилиндрическая), ламелярная и биконтину-альная (гироидная) мезофазы [1,2,3,4]. Такие "слабо кристаллические" структуры, сосуществование которых закодировано в определенных последовательностях звеньев отдельных макромолекул, являются перспективными кандидатами для получения наност-руктрированных материалов.

Самоорганизующиеся тонкие пленки БС вызывают повышенный интерес из-за своей способности к созданию высокоупорядоченных функциональных структур. Структура таких материалов, возникающая в результате микрофазного разделения в нанодиапа-зоне, представляет собой двумерные периодические слои нанодоменов. Такие системы могут служить в качестве основы для конструирования разного рода микроэлектронных устройств, таких как наноконденсаторы, ячейки памяти, полевые транзисторы [5,6,7], при создании структурированных подложек для производства нановолокон, катализаторов для производства углеродных нанотрубок, топливных элементов [8,9,10,11]. В частности, пленки, построенные из цилиндрически организованных микродоменов композиционно-асимметричных диблочных сополимеров, могут быть использованы как шаблоны для создания массивов квантовых наноточек, фотонных кристаллов и нанопроводников [12,13,14].

Самоорганизация макромолекул также широко используется в технологии передачи рисунка поверхности в объем тонких полимерных пленок — технология "снизу-вверх" (bottom-up technique). Способность БС формировать регулярные нанометровые 2D-паттерны с высоким откликом на основе структур, образуемых в ультратонких (нанораз-мерных) пленках, позволяет рассматривать эти паттерны как нанолитографические маски. Паттерны БС используются в традиционной технологии создания полупроводников методом "сверху-вниз" (top-down technique). Однако практическая реализация данных подходов в большой степени зависит от способности контролировать как ориентацию, так и пространственное расположение микродоменов. Отсутствие структурных дефектов, наличие периодичности в распределении доменов и их направленность относительно поверхности твердого субстрата определяют функциональность пленок БС. Сама по себе самоорганизация БС не приводит к структурам с дальним порядком и желаемой направленностью. Существующие литографические технологии создания патгернированных шаблонов и литографических масок подходят к естественной границе своей применимости, вызванной тенденцией к миниатюризации, в частности, микроэлектронных элементов. Поэтому в последнее время интерес исследователей лежит в области поиска новых подходов и технологических способов воздействия на структуру пленок. Предложенные технологические решения, основанные на действии электрических и механических полей, варьировании толщины пленки или регулировании температурного градиента, не всегда однозначно воспроизводят периодичность и направленность структуры. В этой связи необходима разработка новых стратегий, позволяющих осуществлять контроль ориентации и упорядоченности микродоменов в пленках БС.

Целью диссертационной работы является изучение процессов направленной самоорганизации в пленках блок-сополимеров мезоскопическими методами моделирования.

Научная новизна диссертационной работы состоит в разработке новой стратегии конструирования тонких структурированных пленок с цилиндрическими микродоменами, ориентированными преимущественно перпендикулярно поверхности твердого субстрата, исследовании самоорганизации в пленке асимметричного сополимера на паттернирован-ной поверхности с различным рисунком при моделировании в ансамбле МРАТ. Найдено увеличение плотности цилиндрического массива вдвое и вчетверо в присутствии разреженных паттернов - прямоугольного и треугольного, соответственно. Установлено, что эффект паттерна носит глобальный характер. Показано, что только при наличии поверхностного химического паттерна возможна стабилизация цилиндрических микродоменов, ориентированных перпендикулярно подложке. Геометрическая соразмерность параметров поверхностного паттерна и объемной мезофазы является одним из главных факторов, определяющим ориентацию микродоменов. Показано, что возникновение потоков растворителя вдоль нормали к поверхности твердого субстрата оказывают ориентирующее действие на формирование доменной структуры, стабилизируя перпендикулярную ориентацию как цилиндрических так и ламеллярных доменов в пленках, толщина которых достигает шести характерных периодов микроструктуры в объемной фазе.

Научная и практическая значимость работы. Результаты моделирования носят фундаментальный характер, представляя интерес для понимания фазового поведения в пленках блок-сополимеров. Прикладной характер работы заключается в разработке альтернативного подхода для конструирования пленок с перпендикулярно ориентированной относительно поверхности гексагональной цилиндрической структурой, основанного на микрофазном разделении и селективной адсорбции бинарной смеси блок-сополимеров. Данный подход может быть реализован в физических экспериментах, например, dip coating - нанесение покрытия методом погружения подложки в раствор полимера, который осаждается на ней.

На защиту выносятся:

1. Результаты создания упорядоченных полимерных слоев высокой плотности комбинированным методом темплатной самоорганизации с использованием диссипативной динамики частиц в NPAT (число частиц N, давление Р, площадь поверхности ячейки в латеральных направлениях А и температура Т оставались постоянными) ансамбле.

2. Изучение самоорганизации бинарной смеси блок-сополимеров, основанной на так называемом двойном фазовом разделении.

3. Исследование процессов высушивания и набухания сополимерных пленок в присутствии селективного и неселективного растворителей.

Основные результаты работы докладывались и обсуждались на 8 конференциях. По результатам диссертации опубликовано 4 статьи в ведущих российских и международных журналах. Полный список конференций и публикаций приведен в конце диссертации в приложении.

Диссертация состоит из введения, 4 глав, заключения и списка цитируемой литературы, включающего 211 наименований, изложена на 119 страницах печатного текста и включает 45 рисунков.

Похожие диссертационные работы по специальности «Физическая химия», 02.00.04 шифр ВАК

Заключение диссертации по теме «Физическая химия», Нератова, Ирина Владиславовна

Основные результаты и выводы работы формулируются следующим образом:

1. Впервые предложена новая стратегия конструирования наноразмерных структурированных пленок с цилиндрическими микродоменами, ориентированными преимущественно перпендикулярно поверхности твердого субстрата. Подход основан на фазовом разделении бинарной смеси несовместимых композиционно-асимметричных блочных сополимеров, микрофазном разделении их блоков и селективной адсорбции одного из сополимеров на поверхности.

2. Впервые исследована самоорганизация в пленке асимметричного сополимера на пат-тернированной поверхности с различным рисунком в условиях ансамбля КРАТ. Найдено увеличение плотности цилиндрического массива вдвое и вчетверо в присутствии разреженных паттернов — прямоугольного и треугольного — соответственно. Установлено, что эффект паттерна носит глобальный характер, т.е. распространяется вглубь полимерной пленки.

3. Показано, что только при наличии поверхностного химического паттерна возможна стабилизация цилиндрических микродоменов, ориентированных перпендикулярно подложке. Геометрическая соразмерность параметров поверхностного паттерна и объемной мезофазы является одним из главных факторов, определяющим ориентацию микродоменов.

4. Изучены процессы высушивания и набухания сополимерных пленок в присутствии селективного и неселективного растворителей. Выполнено моделирование процесса абсорбции растворителя в пленку бинарного сополимера. Показано, что возникновение потоков растворителя вдоль нормали к поверхности твердого субстрата оказывают ориентирующее действие на формирование доменной структуры, стабилизируя перпендикулярную ориентацию как цилиндрических так и ламеллярных доменов в пленках, толщина которых достигает шести характерных периодов микроструктуры в объемной фазе.

Автор признателен к.х.н. Павлову A.C. и д.ф.-м.н. Криксину Ю.А. за научные консультации и ценные советы.

Заключение

В настоящей работе мезоскопическими методами моделирования исследована самоорганизация в пленках блок-сополимеров вблизи патгернированных поверхностей разного типа, а также в присутствии растворителя. На стабилизацию структур с перпендикулярным поверхности массивом доменов блок-сополимеров оказывает влияние несколько ключевых факторов: толщина пленки, поверхностное поле, соразмерность периода поверхностного паттерна и морфологии в объеме, селективность растворителя. Показано, что при правильном выборе метода контроля ориентации структуры возможно формирование структур Сх и ¿х (т.е. гексагональной цилиндрической и ламеллярной фаз, ориентированных перпендикулярно поверхности).

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Нератова, Ирина Владиславовна, 2010 год

1. Bates F.S. Block Copolymer Thermodynamics Theory and Experiment / Fredrickson G. H. // Annu. Rev. Phys. Chem. 1990. - V. 41. P. 525-557.

2. Leibler. L. Theory of Microphase Separation in Block Copolymers // Macromolecules. 1980.- V. 13. -№ 6.-P. 1602-1617.

3. Helfand E. Block Copolymer Theory. 6. Cylindrical Domains / Wasserman Z.R. // Macromolecules 1980. -V. 13. -№ 4. - P. 994-998.

4. Matsen M. W. Stable and Unstable Phases of a Diblock Copolymer Melt / M. Schick. // Phys. Rev. Lett. 1994. - V. 72. - № 16. P. 2660-2663.

5. Black С. T. Integration of self-assembled diblock copolymers for semiconductor capacitor fabrication / Guarini K. W., Russell T. P., Tuominen M. T. // Appl. Phys. Lett. — 2001. V. 79. -№ 3. - P. 409-411.

6. Black C.T. Self-aligned self assembly of multi-nanowire silicon field effect transistors // Appl. Phys.Lett.-2005.-V. 87.-P. 163116/1-163116/3.

7. Lammertink R.G.H. Poly(ferrocenyldimethylsilanes) for Reactive Ion Etch Barrier Applications / Hempenius M.A., Chan V.Z.H., Thomas E.L., Vancso G.J. // Chem. Mater. -2001.-V. 13.-P. 429.

8. Black C.T. Polymer Self-Assembly as a Novel Extension to Optical Lithography // ACS Nano. 2007. - V. 1. -№ 3. - P. 147-150.

9. Olson D.A. Templating Nanoporous Polymers with Ordered Block Copolymers / Chen L., Hillmeyer M. A. // Chem. Mater. 2008. - V. 20. - № 3. - P. 869-890.

10. Shin K. A Simple Route to Metal Nanodots and Nanoporous Metal Films / Leach K.A., Goldbach J.T., Kim D.H., Jho J.Y., Tuominen M., Hawker C.J., Russell T.P. // Nano Lett. 2002. - V. 2. - P. 933 - 936.

11. Ilrbas A. One-Dimensionally Periodic Dielectric Reflectors from Self-Assembled Block Copolymer-Homopolymer Blends / Fink Y., Thomas E.L. // Macromolecules. 1999. -V. 32.-P. 4748-4750.

12. Xiao S. Graphoepitaxy of cylinder-forming block copolymers for use as templates to pattern magnetic metal dot arrays / Yang X.M., Edwards E.W., La Y.-H., Nealey P.F. // Nanotechnology. 2005. - V. 16. - P. S324. 1

13. Flory P.J. Statistical mechanics of chain molecules. California: Stanford University Press, 1969.-432 p.

14. Cohen R.E. Properties of Block Copolymers and Homopolymer Blends Comprised of 1,2-Polybutadiene and 1,4-Polybutadiene / Wilfong D.E. // Macromolecules. 1982. -V. 15,-№2.-P. 370.

15. Owens J.N. Investigation of the Microphase Separation Transition in Low Molecular Weight Diblock Copolymers / Gancarz I.S., Koberstein J.T., Russell T.P. // Macromolecules. 1989. - V. 22. - № 8. - P. 33 80.

16. Bates F.S. Synthesis and Characterization of a Model Saturated Hydrocarbon Diblock Copolymer / Rosedale J.H., Bair H.E., Russell T.P. // Macromolecules. 1989 - V. 22. -№6.-P. 2557.

17. Anastasiadis S.H. Neutron reflectivity studies of the surface-induced ordering of diblock copolymer films / Russell T.P., Satija S.K., Majkrzak C.F. // Phys. Rev. Lett. -1989.-V. 62.-№ 16.-P. 1852.

18. Roe R.J. Small-Angle X-ray Diffraction Study of Thermal Transition in Styrene-Butadiene Block Copolymers / Fishkis M., Chang J.C. // Macromolecules. 1981. - V. 14.-№4.-P. 1091.

19. Bates F.S. Block Copolymers near the Microphase Separation Transition. 3. Small-Angle Neutron Scattering Study of the Homogeneous Melt State / Hartney M.A. // Macromolecules. 1985. - V. 18. - № 12. - P. 2478-2486.

20. Mori K. Small-Angle X-Ray Scattering from Bulk Block Polymers in Disordered State. Estimation of Values from Accidental Thermal Fluctuations / Hasewaga H., Hashimoto T. // Polym. J. 1985. - V. 17. - № 6. - P. 799-806.

21. Bates F.S. Fluctuation effects in a symmetric diblock copolymer near the order-disorder transition / Rosedale J.H., Fredrickson G. H. // J. Chem. Phys. 1990. - V. 92. - № 10. -P. 6255.

22. Rosedale J.H. Rheology of Ordered and Disordered Symmetrici

23. Poly(ethylenepropylene)-Poly(ethylethyIene) Diblock Copolymers / Bates F.S. // Macromolecules.- 1990.-V. 23.-№ 8.-P. 2329-2338.

24. Fredrickson G.H. Fluctuation effects in the theory of microphase separation in block copolymers / Helfand E. // J. Chem. Phys. 1987. - V. 87. - № 1. - P. 697-716.

25. Helfand E. Block Copolymer Theory. 4. Narrow- Interphase Approximation / Wasserman Z. R. // Macromolecules. 1976. - V. 9. - № 6. - P. 879-888.

26. Semenov A. N. Theory of Block-Copolymer Interfaces in the Strong Segregation Limit // Macromolecules. 1993. - V. 26. - № 24. - P. 6617-6621.

27. Семенов A.H. К теории микрофазного расслоения в расплавах блок-сополимеров // Журнал эксперим. теор. физики. 1985. - Т. 88. - № 4. - С. 1242-1256.

28. Matsen M.W. Unifying Weak- and Strong-Segregation Block Copolymer Theories / F. S. Bates // Macromolecules. 1996. - V. 29. - №. 4. - P. 1091 - 1098.

29. Matsen M. W. Block copolymer microstructures in the intermediate-segregation regime / F. S. Bates // J. Chem. Phys. 1997. -V. 106. - № 6. P. 2436-2448.

30. Khandpur A.K. Polyisoprene-Polystyrene Diblock Copolymer Phase Diagram near the Order-Disorder Transition / S. Forster, F.S. Bates, I.W. Hamley, A.J. Ryan, W. Bras, K. Almdal, K. Mortensen // Macromolecules. 1995. - V. 28. - № 26. - P. 8796 - 8806.

31. Matsen M.YV. Conformationally asymmetric block copolymers / F. S. Bates. // J. Polym. Sci. Pol. Phys. 1997. - V. 35. - № 6. - P. 945-952.

32. Groot R.D. On the role of hydrodynamic interactions in block copolymer microphase separation / Madden T.J., Tildesley D.J. // J. Chem. Phys. 1999. -V. 110. - № 19. P. 9739-9749.

33. Khokhlov A.R. Microphase separation in diblock copolymers with amphiphilic blockrLocal chemical structure can dictate global morphology / Khalatur P.G. // Chem. Phys. Lett. 2008. - V. 461. - № 1-3. - P. 58-^63.

34. Pakula T. Computer Simulation of Static and Dynamic Behavior of Diblock Copolymer Melts / K. Karatasos, S. H. Anastasiadis, G. Fytas // Macromolecules. 1997. - V. 30. -№26.-P. 8463-8472.

35. Schwab M. Asymmetric diblock copolymers phase behaviour and kinetics of structure formation / B. Stiihn // Colloid Polym. Sci. - 1997. - V. 275. - P. 341-351.

36. Hamley I.W. Introduction to Block Copolymers in Developments. In: Block Copolymer Science and Technology / Ed. Hamley I.W. London: John Wiley & Sons, 2004. P. 10 -38.

37. Bates F.S. Block copolymers — designer soft materials / Fredrickson G.H. // Physics Today. 1999. - V. 52. -№ 2. - P. 32-38.

38. Thomas E.L. / Alward D.B., Rinning DJ., Martin D.C. // Macromolecules. -1986. V. 19.-№ 8.-P. 2197-2202.

39. Hasegawa H. Bicontinuous Microdomain Morphology of Block Copolymers. 1. Tetrapod-Network Structure of Polystyrene-Polyisoprene Diblock Polymers / Tanaka H., Yamasaki K. // Macromolecules. 1987. - V. 20. - № 7. - P. 1651 - 1662.

40. Horvat A. Specific Features of Defect Structure and Dynamics in the Cylinder Phase of Block Copolymers / G. J. A. Sevink, A. V. Zvelindovsky, A. Krekhov, L. Tsarkova // ACS Nano 2008. - V. 2. - № 6. - P. 1143-1152.

41. Segalman R.A. Patterning with block-copolymer thin films // Mat. Sei. Eng. R. 2005. -V.48.-P. 191 -226.

42. Hajduk D.A. Stability of the Perforated Layer .(PL) Phase in Diblock Copolymer Melts / H. Takenouchi, M.A. Hillmyer, F.S. Bates, M.E. Vigild, K. Almdal // Macromolecules. 1997. - V. 30. - № 13. p. 3788-3795.

43. Horvat A. Time Evolution of Surface Relief Structures in Thin Block Copolymer Films / A. Knoll, G. Krausch, L. Tsarkova, K. S. Lyakhova, G. J. A. Sevink, A. V. Zvelindovsky, R. Magerle // Macromolecules. 2007. - V. 40. - № 19. - P. 6930 - 6939.

44. Tsarkova L. Substrate-Induced Phase Transitions in Thin Films of Cylinder-Forming Diblock Copolymer Melts / A. Knoll, G. Krausch, R. Magerle // Macromolecules. -2006. V. 39. - № 10. - P. 3608-3615.

45. Horvat A. Phase behavior in thin films of cylinder-forming ABA block copolymers: Mesoscale modeling / Lyakhova K.S., Sevink G.J.A., Zvelindovsky A.V., Magerle R. // J. Chem. Phys. 2004. - V. 120. - № 2. - P. 1117-1126.

46. Huinink H.P. Surface-Induced Transitions in Thin Films of Asymmetric Diblock Copolymers / M. A. van Dijk, J. C. M. Brokken-Zijp, G. J. A. Sevink // Macromolecules. -2001.- V. 34. -№ 15. P. 5325-5330.

47. Traiphol R. Surface Ordering in Thin Films of Liquid-Crystalline Polymers Containing Fluorinated and Protonated Segments: Neutron-Reflectometry Study / Smith D.W., Pera-hia D. // J. Polym. Sei.: Part B:,Polym. Phys. 2002. - Vol. 40. - P. 2817-2824.

48. Knoll A. Phase behavior in thin films of cylinder-forming ABA block«copolymers: Experiments / Magerle R., Krausch G. // J. Chem. Phys. 2004. - V. 120. - № 2. - P. 1105-1116.

49. Matsen M.W. Thin films of block copolymer // J. Chem. Phys. 1997. - V. 106. - № 18.-P. 7781-7791.

50. Walton D. G. A Free Energy Model for Confined Diblock Copolymers/ Kellogg G. J., Mayes A. M. // Macromolecules. 1994. - V. 27. - № 21. - P. 6225-6228.

51. Turner M. S. Equilibrium properties of a diblock copolymer lamellar phase confined between fiat plates / // Phys. Rev. Lett. 1992. - V. 69. -№ 12. - P. 1788-1791.

52. Fasolka M.J. Block copolymer thin films: physics and applications / Mayes A.M. // Annu. Rev. Mater. Res. 2001. - V. 31. - P. 323.

53. Geisinger T. Symmetric diblock copolymers in thin films. I. Phase stability in self-consistent field calculations and Monte Carlo simulations / Müller M., Binder K. // J. Chem. Phys.-1999.-V. 111. -№ 11.-P. 5241-5250.

54. Pickett G.T. Equilibrium Orientation of Confined Diblock Copolymer Films / Balazs A.C. //Macromolecules. 1997.- V. 30.-№ 10.-P. 3097-3103.

55. Huang E. Neutrality conditions for block copolymer systems on random copolymer brush surfaces / Pruzinsky S., Russell T.P., Mays J., Hawker C.J. // Macromolecules.1999.-V. 32.-№ 16.-P. 5299-5303.

56. Huang E. Nanodomain control in copolymer thin films / Rockford, L., Russell, T.P., Hawker, C.J. //Nature. 1998. - V. 395. - № 6704. - P. 757-758.

57. Potemkin I.I. Microphase Separation in Ultrathin Films of Diblock Copolymers with

58. Variable Stickiness of One of the Blocks to the Surface / Möller M. // Macromolecules.i2005. V. 38. - P. 2999-3006.

59. Tang W.H. Confinement of symmetric diblock copolymer thin films // Macromolecules. -2000.-V. 33.-№4.-P. 1370-1384.

60. Fasolka M.J. Morphology of ultrathin supported diblock copolymer films: Theory and experiment / Banerjee, P., Mayes, A.M., Pickett, G., Balazs, A.C. // Macromolecules.2000. V. 33. — № 15. P. 5702-5712.

61. Matsen M. W. Electric Field Alignment in Thin Films of Cylinder-Forming Diblock Copolymer // Macromolecules. 2006. - V. 39. - P. 5512-5520.

62. Matsen M. W. Converting the nanodomains of a diblock-copolymer thin film from spheres to cylinders with an external electric field // J. Chem. Phys. — 2006. V. 124. -P. 074906.

63. Lin C-Y. Structural Changes of Diblock Copolymer Melts Due to an External Electric Field: A Self-Consistent-Field Theory Study / M. Schick // Macromolecules. 2005. -V. 38. - P. 5766-5773.

64. Pinna M. Cubic phases of block copolymers under shear and electric fields by cell dynamics simulation. I. Spherical phase / A. V. Zvelindovsky, S. Todd, G. Goldbeck-Wood // J. Chem. Phys. 2006. - V. 125. - P. 154905/1-154905/10.

65. Thurn-Albrecht T. Nanoscopic Templates from Oriented Block Copolymer Films / Steiner R., DeRouchey J., Stafford C.M., Huang E., Bai M., Tuominen M., Hawker C J., Russell T.P. // Adv. Mater. 2000. - V. 12. - №. 11. - p. 787-791.

66. Harrison C. Mechanisms of Ordering in Striped Patterns / Adamson D.H., Cheng Z., Sebastian J.M., Sethuraman S., Huse D.A.,Register R.A., Chaikin P. M. // Science -2000. V. 290. - P. 1558-1560.

67. Park M. Large area dense nanoscale patterning of arbitrary surfaces / P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson // Appl. Phys. Lett. 2001. - V. 79. - № 2. - P. 257-259.

68. Lin Z.Q. A rapid route to arrays of nanostructures in thin films / Kim D.H., Wu X.D., Boosahda L., Stone D., LaRose L., Russell T.P. // Adv. Mater. 2002. - V. 14. - № 19. -P. 1373-1376.

69. Bosse A.W. Defects and Their Removal in Block Copolymer Thin Film Simulations I Sides S.W., Katsov K., Garcia-Cervera C.J.,Fredrickson G.H. I I J. Polym. Sei.: Part B: Polym. Phys. 2006. - V. 44. - P. 2495-2511.

70. Huinink H. P. Asymmetric block copolymers confined in a thin film / J. C. M. Brokken-Zijp, M. A. van Dijk // J. Chem. Phys. 2000. -V. 112. - № 5. - P. 2452-2462.

71. Harrison C. Depth profiling block copolymer microdomains / Park M., Chaikin P., Register R.A., Adamson D.H., Yao N. // Macromolecules. 1998. - V. 31. - № 7. - P. 2185-2189.

72. Lyakhova K.S. Dynamics of Terrace Formation in a Nanostructured Thin Block Copolymer Film / A. Horvat, A. V. Zvelindovsky, G. J. A. Sevink // Langmuir 2006. - V. 22.-P. 5848-5855.

73. Zhang Q. Observation of inverted phases in poly(styrene-b-butadiene-b-styrene) triblock copolymer by solvent-induced order-disorder phase transition / Tsui O.K.C., Du B„ Zhang F., Tang T., He T. // Macromolecules. 2000. - V. 33. - № 26. - P. 95619567.

74. Wu N. Morphology of Poly(styrene-block-dimethylsiloxane) Copolymer Films / Zheng A., Huang Y., LiuH.// J. Appl. Polym. Sei.-2007.- V. 104.-P. 1010-1018.

75. Podariu I. Morphology of asymmetric diblock copolymer thin films / Chakrabarti A. //

76. J. Chem. Phys. 2003. - V. 118. - № 24. - P. 11249-11257.i

77. Chen J. T. Zigzag Morphology of a Poly(styrene-6-hexyl isocyanate) Rod-Coil Block Copolymer / E. L. Thomas // Macromolecules. 1995. - V. 28. - № 5. - P. 1688-1697.

78. Halperin A. Rod Coil Copolymers Their Aggregation Behavior // Macromolecules. -1990.-V. 23.-№ 10.-P. 2724-2731.

79. Wang H. Perpendicular domains in poly(styrene-b-methyl methacrylate) / A.B. Djurisic, M.H. Xie, W.K. Chan, O. Kutsay // Thin Solid Films. 2005. - V. 488. - P. 329-336.

80. Suh K.Y. Molecular-Weight Dependence of Cylindrical Microdomains / Lee Hong H. // Macromolecules. 1998. - V. 31. - № 9. - P. 3136-3138.

81. Chen J.Y. Templated Self-assembly of Block Copolymers Effect of Substrate Topography / Ross C.A., Thomas E.L., Smith C.I., Vancso G.J. // Adv. Mater. 2003. - V. 15. -№ 19.-P. 1599-1602.

82. Kim H.C. Ordering in thin films of asymmetric diblock copolymers / T.P. Russell // J. Polym. Sei. Part B: Polym. Phys. 2001. - V. 39. - № 6. - P. 663-668.

83. Lyakhova K.S. Role of dissimilar interfaces in thin films of cylinder-forming block copolymers/ Sevink, GJ.A., Zvelindovsky, A.V., Horvat, A., Magerle, R. // J. Chem. Phys. -V. 120.-№2. P. 1127-1137.

84. Tsarkova L. Defect Evolution in Block Copolymer Thin Films viaTemporal Phase Transitions / Horvat A., Krausch G., Zvelindovsky A.V. // Langmuir. 2006. - V. 22. -P. 8089-8095.

85. Tsarkova L. Rapid transitions between defect configurations in a block copolymer melt / Knoll A., Magerle R. // Nano Lett. 2006. - V. 6. - № 7. - P. 1574-1577.

86. Hammond M.R. Temperature Dependence of Order, Disorder, and Defects in Laterally Confined Diblock Copolymer Cylinder Monolayers / Cochran E., Fredrickson G.H., Kramer E.J. // Macromolecules. 2005. - V. 38. - P. 6575-6585.

87. Anastasiadis S. H. The morphology of symmetric diblock copolymers as revealed by neutron reflectivity / Russell T. P., Satija S. K., Majkrzak C. F. // J. Chem. Phys. 1990. -V. 92.-P. 5677-5691.

88. Chen F. Alignment of Cylindrical Microdomains on a Grating Substrate by Binary Blends of Polystyrene-Poly(methyl methacrylate) / Akasaka S., Inoue T., Takenaka M., Hasegawa H., Yoshida H. // J. Photopolym. Sei. Tech. 2007. - V. 20. - № 4. - P. 505510.

89. Kim G. Morphological development in solvent-cast polystyrene-polybutadiene-polystyrene (SBS) triblock copolymer thin films / Libera M. // Macromolecules 1998. - V. 31. - № 8. - P. 2569-2577.

90. Coutandin J. Morphology of block polymers near a free surface / D. Ehlich, H. Sillescu // Macromolecules. 1985. - V. 18. - № 3. p. 589-590.

91. Potemkin I.I. Lamellar Orientation in Thin, Supported Diblock Copolymer Films: Strong Segregation Theory // Macromolecules. 2004. - V. 37. - № 9. - P. 3505-3509.

92. Angelescu D.A. Macroscopic Orientation of Block Copolymer Cylinders in Single-Layer Films by Shearing / Waller J.H., Adamson D.H., Deshpande P., Chou S.Y., Register R.A., Chaikin P.M. // Adv. Matter. 2004. - V. 16. - № 19. - P. 1736.

93. Boudouris B.W. Nanoporous Poly(3-alkylthiophene) Thin Films Generated from Block Copolymer Templates / Frisbie C.D.,Hillmyer M.A. // Macromolecules. 2008. - V. 41. -P. 67-75.

94. Asawapirom U. Semiconducting block copolymers—synthesis and nanostructure formation / Güntner R., Forster M., Scherf U. // Thin Solid Films. 2005. - V. 477. - P. 48-52.

95. Ludwigs S. Self-assembly of functional nanostructures from ABC triblock copolymers / Böker A., Voronov A., Rehse N., Magerle R., Krausch G. // Nature Mat. 2003. - V. 2. -P. 744—747.

96. Maas J.H. Thin block copolymers films: film formation and corrugation under an AFM tip / M.A. C. Stuart, G.J. Fleer // Thin Solid Films. 2000. - V. 358. - P. 234-240.

97. Botiz I. Self-Assembly of Poly(3-hexylthiophene)-block-poIylactide Block Copolymer and Subsequent Incorporation of Electron Acceptor Material / Darling S.B. // Macro-molecules. 2009. - V. 42. - № 21. - P. 8211-8217.

98. Rider D.A. Orientationally Controlled Nanoporous Cylindrical Domains in Polystyrene-b-poly(ferrocenylethylmethylsilane) Block Copolymer Films / K. A. Cavicchi, L. Van-derark, T. P. Russell, I. Manners // Macromolecules. 2007. - V. 40. - P. 3790-3796.

99. Tsarkova L. Nanopattern Evolution in Block Copolymer Films: Experiment, Simulations and Challenges / Sevink G.J.A., Krausch G. // Adv. Polym. Sei. 2010. - V. 227. -P. 33-74.

100. Morkved T.L. Local Control of Microdomain Orientation in Diblock Copolymer Thin Films with Electric Fields / Lu M., Urbas A.M., Ehrichs E.E., Jaeger H.M., Mansky P., Russell T.P. // Science. 1996. - V. 273. - P. 931.

101. Mansky P. Large-Area Domain Alignment in Block Copolymer Thin Films Using Electric Fields / DeRouchey J., Russell T.P., Mays J., Pitsikalis M., Morkved T., Jaeger H. // Macromolecules. 1998.-V. 31.-P. 4399.

102. Ly D.Q. Hexagonally Perforated Lamella-to-Cylinder Transition in a Diblock Copolymer Thin Film under an Electric Field / Honda T., Kawakatsu T.,Zvelindovsky A.V. // Macromolecules. -2008. -V. 41. P. 4501^1505.

103. Lin C-Y. Self-consistent field study of the alignment by an electric field of a cylindrical phase of block copolymer / Schick M. // J. Chem. Phys. 2006. - V. 125. - P. 034902.

104. Crossland E.J.W. Freestanding nanowire arrays from soft-etch block copolymer templates / Ludwigs S., Hillmyer M.A., Steiner U. // Soft Matter. 2007. - V. 3. - № 1. - P. 94-98.

105. Darling S.B. Directing the self-assembly of block copolymers // Prog. Polym. Sei. — 2007. V. 32. - № 10. - P. 1152-1204.

106. Sundrani D. Guiding Polymers to Perfection: Macroscopic Alignment of Nanoscale Domains / S. B. Darling, S. J. Sibener // Nano Lett. 2004. - V. 4. - № 2. - P. 273-276.

107. Hashimoto T. The Effect of Temperature Gradient on the Microdomain Orientation of Diblock Copolymers Undergoing an Order-Disorder Transition / Bodycomb J., Funaki Y., Kimishima K. // Macromolecules. 1999. - V. 32. - № 3. - P. 952-954.

108. Bodycomb J. Single-Grain Lamellar Microdomain from a Diblock Copolymer / Funaki Y., Kimishima K., Hashimoto T. // Macromolecules. 1999. - V. 32. - P. 2075-2077.

109. Kim S.H. Highly Oriented and Ordered Arrays from Block Copolymers via Solvent Evaporation / Misner M.J., Xu T., Kimura M„ Russell T.P. // Adv. Mater. 2004. - V. 15. —№ 3. - P. 226-231.

110. Harant A.W. Solvent vapor annealed block copolymer films on organosilane self-assembled monolayers / Bowman C.N. // J. Vac. Sei. Technol. B. — 2005. — V. 23. — № 4.-P. 1615-1621.

111. Lodge T. P. Failure of the dilution approximation in block copolymer solutions / C. Pan, X. Jin, Z. Liu, J. Zhao, W. W. Maurer, F. S. Bates // J. Polym. Sei. Part B: Polym. Phys. 1995. -V. 33.-№ 16.-P. 2289-2293.

112. Huang H. Effects of Casting Solvents on the Formation of Inverted Phase in Block Copolymer Thin Films / Hu Z., Chen Y., Zhang F., Gong Y. // Macromolecules. 2004. -V.37.-P. 6523-6530.

113. Kim S.H. Solvent induced ordering in thin film diblock copolymer homopolymer mixture / Misner M.J., Russell T.P. // Adv. Mater. 2004. - V. 16. - № 23-24. - P. 21192123.

114. Wanka G. Phase Diagrams and Aggregation Behavior of Poly(oxyethylene)-Poly (oxypropylene)-Poly(oxyethylene) Triblock Copolymers in Aqueous Solutions / H. Hoffmann, W. Ulbricht // Macromolecules. 1994. - V. 27. - P. 4145-4159.

115. Shibayama M. Ordered structure in block polymer solutions. 3. Concentration dependence of microdomains in nonselective solvents / Hashimoto T., Hasegawa H., Kawai H. // Macromolecules. V. 16. - № 9. - P. 1427-1433.

116. Mori K. Ordered structure in block polymer solutions: 6. Possible non-equilibrium effects on growth of self-assembling structures / Hasegawa H., Hashimoto T. // Polymer. — 1990. — V. 31. — № 12. P. 2368-2376.

117. Segalman R.A. Graphoepitaxy of Spherical Domain Block Copolymer Films / Yoko-yama H., Kramer E J. // Adv. Mater. 2001. - V. 13. - P. 1152.

118. Kim S.O. Epitaxial self-assembly of block copolymers on lithographically defined nanopatterned substrates / Solak H. H., Stoykovich M. P., Ferrier N. J., de Pablo J.J., Nealey P. F. // Nature. 2003. - V. 424. - P. 411.

119. Cheng J.Y. Nanostructure engineering by templated self-assembly of block copolymers / Mayes A.M., Ross C.A. II Nature Materials. 2004. - V. 31. - № 11. p. 823-828.

120. Stoykovich M. P. Directed assembly of block copolymer blends into nonregular device-oriented structures / Müller M., Kim S.O., Solak H. H., Edwards E.W., de Pablo J.J., Nealey P. F. // Science. 2005. - V. 308. - № 5727. - P. 1442-1446.

121. Segalman R.A. Topographic templating of islands and holes in highly asymmetric block copolymer films / Schaefer K.E., Fredrickson G.H., Kramer E.J., Magonov S. // Macro-molecules. 2003. - V. 36. - № 12. - P. 4498-4506.

122. Rockford L. Polymers on Nanoperiodic, Heterogeneous Surfaces / Liu Y., Mansky P., Russell T.P., Yoon M., Mochrie S.G.J. // Phys. Rev. Lett. 1999. - V. 82. - № 12. - P. 2602-2605.

123. Wang J.-Y. Patterning with block copolymers. / Chen W., Russell T.P. In: Unconventional Nanopatterning Techniques and Applications / Ed. J.A. Rogers, H.H. Lee. Hobo-ken: Wiley, 2009. P. 233-289.

124. Müller M. Biological and synthetic membranes: what can be learned from a coarsegrained description / Katsov K., Schick M. // Phys. Reports 2006. - V. 434. - P. 113176.

125. Allen M.P. Computer simulation of liquids / Tildesley DJ. New York: Oxford university press, 1987.-385 p.

126. Matsen M.W. The standard Gaussian model for block copolymer melts. // J. Phys.: Condens. Matter. 2002. - №14. - P. R21-R47.

127. Doi M. The Theory of Polymer Dynamics / Edwards S.F. Oxford: Clarendon press, 1988,-391 p.

128. Fredrickson G.H. Field-Theoretic Computer Simulation Methods for Polymers and Complex Fluids / Ganesan V., Drolet F. // Macromolecules. — 2002. — V. 35. — № 1. P. 16-39.

129. Fredrickson G.H. The Equilibrium Theory of Inhomogeneous Polymers. Oxford: Clarendon Press, 2006. 437 p.

130. Гросберг А.Ю. Статистическая физика макромолекул / Хохлов А.Р. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1989. - 344 с.

131. Abrams C.F. The effect of bond length on the structure of dense bead-spring polymer melts / Kremer K. // J. Chem. Phys. 2001. - V. 115. -№ 6. - P. 2776-2785.

132. Hooper J.B. Density functional theory of simple polymers in a slit pore. II. The role of compressibility and field type / Pileggi M.T., McCoy J.D, Curro J.G, Weinhold J.D. // J. Chem. Phys. 2000. - V. 112. -№ 6. - P. 3094-3104.

133. Maurits N.M. Mesoscopic phase separation dynamics of compressible copolymer melts / van Vlimmeren B.A.C., Fraaije J.G.E.M. // Phys. Rev. E. 1997. - V. 56. - P. 816825.

134. Groot R.D. On the role of hydrodynamic interactions in block copolymer microphase seperation / Madden T. J., Tildesley D J. //J. Chem. Phys. 1999. - V. 110. - № 19. - P. 9739-9749.

135. Español P. Hydrodynamics from dissipative particle dynamics // Phys. Rev. E. 1995. -V. 52. - № 2. - P. 1734-1742.

136. Hoogerbrugge P. J. Simulating microscopic hydrodynamic phenomena with dissipative particle dynamics / J. M. V. A. Koelman // Europhys. Lett. 1992. - V. 19. - № 3. P. 155-160.

137. Groot R.D. Dynamic simulation of diblock copolymer microphase separation / Madden T.J// J. Chem. Phys.- 1998.-V. 108.-№20.-P. 8713-8724.149. de Gennes P.-G. Scaling Concepts in Polymer Physics Ithaca: Cornell University Press, 1979.-324 c.

138. Español P. Dissipative Particle Dynamics with energy conservation // Europhys. Lett. — 1997. V. 40. - № 6. -P. 631-636.

139. Español P. Statistical Mechanics of Dissipative Particle Dynamics / Warren P. // Europhys. Lett. 1995. - V. 30. -№ 4. - P. 191-196.

140. Groot R.D. Dissipative Particle Dynamics: Bridging the gap between atomistic and mesoscopic simulation/ Warren P.B. // J. Chem. Phys. 1997. - V. 107. - № 11. - P. 4423-4335.

141. Cheng J.Y. Dense Self-Assembly on Sparse Chemical Patterns: Rectifying and Multiplying Lithographic Patterns Using Block Copolymers / Rettner C.T., Sanders D.P., Kim H.-C., Hinsberg W.D. //Adv. Mater. 2008. - V. 20. - № 17. - P. 3155-3158.

142. Ruiz R. Density multiplication and improved lithography by directed block copolymer assembly / Kang H., Detcheveny F.A., Dobisz E., Kercher D.S., Albrecht T. R., de Pablo J.J., Nealey P. F. // Science. 2008. - V. 321. - P. 936-939.

143. Bita I. Graphoepitaxy of Self-Assembled Block Copolymers on Two-Dimensional Periodic Patterned Templates / Yang J.K.W., Jung Y.S., Ross C.A., Thomas E.L., Berggren K.K. // Science. 2008. - V. 321. - P. 939-943.

144. Xiao S. A Novel Approach to Addressable 4 Teradot/in.2 Patterned Media / Yang X., Park S., Weller D., Russell T.P. // Adv. Mater. 2009. - V. 21. - P. 2516-2519.

145. Detcheverry F.A. Theoretically informed coarse grain simulations of block copolymer melts: method and applications / Pike D.Q., Nagpal U., Nealey P.F., de Pablo J.J. // Soft Matt. 2009. - V. 5. - P. 4858^1865.

146. Detcheverry F.A. Interpolation in the Directed Assembly of Block Copolymers on Nanopatterned Substrates: Simulation and Experiments / Liu G., Nealey P.F., de Pablo J.J. // Macromolecules. 2010. - V. 43. - № 7. - P. 3446-3454.

147. Detcheverry F.A. Simulations of theoretically informed coarse grain models of polymeric systems / Pike D.Q., Nealey P.F., Miiller M., de Pablo J.J. // Faraday Discuss. — 2010. V.-144. P. 111-125.

148. Tada Y. Nine-fold density multiplication of hep lattice pattern by directed self-assembly of block copolymer / Akasaka S., Takenaka M., Yoshida H., Ruiz R., Dobisz E., Hase-gawa H. // Polymer. 2009. - V. 50. - № 17. - P. 4250-4256.

149. Liu G. Integration of Density Multiplication in the Formation of Device-Oriented Structures by Directed Assembly of Block Copolymer-Homopolymer Blends / Thomas C.S., Craig G.S.W., Nealey P.F. // Adv. Funct. Mater. 2010. - V. 20. - P. 1251-1257.

150. Park S. Macroscopic 10-Terabit-per-Square-Inch Arrays from Block Copolymers with Lateral Order / Lee D. H., Xu J., Kim B., Hong S. W., Jeong U., Xu T., Russell T. P. // Science. 2009. - V. 323. - P. 1030-1033.

151. Quigley D. Langevin dynamics in constant pressure extended systems / Probert M. // J. Chem. Phys. 2004. -V. 120. - P. 11432.

152. Jakobsen A.F. Constant-pressure and constant-surface tension simulations in dissipative particle dynamics // J. Chem. Phys. 2005. - V. 122. - P. 124901.

153. Mayes A.M. Block copolymer mixtures as revealed by neutron reflectivity / Russell T.P. Deline V.R., Satija S.K., Majkrzak C.F. // Macromolecules. 1994. - V. 27. - № 25. P. 7447-7453.

154. Neratova I.V. A novel strategy for controlling the orientation of cylindrical domains in thin blend copolymer films via 'double phase separation' / Khalatur P.G., Khokhlov A.R. // Chem. Phys. Lett. 2010. - V. 487. - P. 297 - 302.

155. Yang X.-M. Directed Block Copolymer Assembly versus Electron Beam LithographyfSfor Bit-Patterned Media with Areal Density of 1 Terabit/inch and Beyond / Wan L., Xiao S.,XuY., WellerD.K.//ACS Nano.-2009.-V. 3.-P. 1844-1858.

156. Park S.O. Ordering of PS-b-P4VP on Patterned Silicon Surfaces / Kim B., Yavuzcetin 0.,Tuominen M.T., Russell T.P. // ACS Nano. 2008. - V. 2. - № 7. - P. 1363-1370.

157. Orso K.A. Phase Behavior of Thin Film Blends of Block Copolymers and Homopolymers: Changes in Domain Dimensions / Green P.F. // Macromolecules: — 1999. — V. 32. № 4. — P. 1087-1092.

158. Kim S.H. Solvent-Induced Ordering in Thin Film Diblock Copolymer/Homopolymer Mixtures / Misner M.J., Russell T.P. // Adv. Mater. 2004. - V. 16. - P. 23-24.

159. Kim S.H. Salt Complexation in Block Copolymer Thin Films / Misner M.J., Yang L., Gang O., Ocko B. M., Russell T.P. // Macromolecules 2006. V. 39. - № 24. - P. 84738479.

160. He J. On the Influence of Ion Incorporation in Thin Films of Block Copolymers / Wang J.-Y., Xu J., Tangirala R., Shin D., Russell T. P., Li X., Wang J. // Adv. Mater. 2007. -V. 19. - № 24. - P. 4370-4374.

161. Wang J-Y. Lamellae Orientation in Block Copolymer Films with Ionic Complexes / Chen W., Sievert J.D., Russell T.P. // Langmuir. 2008. - V. 24. - № 7. - P. 35453550.

162. Mingqi Li. Block copolymer pattern and templates / Ober Christopher K. // Materials Today. 2006. - V. 9. - №. 9. - P. 30-39.

163. Krishnamoorthy S. Nanoscale patterning with block copolymers / Hinderling C., Heinzelmann H. // Materials Today. 2006. - V. 9. - №. 9. - P. 40-47.

164. Nagarajan S. Simple Fabrication of Micropatterned Mesoporous Silica Films Using Photoacid Generators in Block Copolymers / Bosworth J.K., Ober C.K., Russell T.P., Watkins J.J. // Chem. Mater. 2008. - V. 20. - P. 604-606.

165. Cheng J.Y. Fabrication of nanostructures with long-range order using block copolymer lithography / Ross C.A., Thomas E.L., Smith H.I., Vancso GJ. // Apll. Phys. Lett. -2002.-V. 81.-№ 19.-P. 3657-3659.

166. Cheng J.Y. Templated Self-Assembly of Block Copolymers: Effect of Substrate Topography / Ross C.A., Thomas E.L., Smith H.I., Vancso G.J. // Adv. Mater. 2003. - V. 15. — № 19. — P. 1599-1602.

167. Glass R. Block copolymer micelle nanolithography / Arnold M., Cavalcanti-Adam E.A. // Nanotechnology. 2003. - V. 14. - P. 1153-1160.

168. Glass R. Block copolymer micelle nanolithography on non-conductive substrates / Arnold M., Cavalcanti-Adam E.A., Blummel J., Haferkemper C., Dodd C., Spatz J.P. // New J. Phys. 2004. - V. 6. - P. 1-17.

169. Maurits N.M. Mesoscopic phase separation dynamics of compressible copolymer melts / B. A. C. van Vlimmeren, Fraaije J.G.E.M. // Phys. Rev. E. 1997. - V. 56. - № 1. - P. 816-825.

170. Mansky P. Monolayer films of diblock copolymer microdomains for nanolithographic applications / Chaikin P., Thomas E.L. // J. Materials Science. 1995. - V. 30. -№ 8. -P. 1987-1992.

171. Karim A. Ordering in asymmetric poly (ethylene-propylene)-poly (ethylethylene) diblock copolymer thin films / Singh N., Sikka M., Bates F.S., Dozier W.D., Felcher G.P.//J. Chem. Phys.-1994.-V. 100.-№2.-P. 1620-1629.

172. Ho R-M. Solvent-induced microdomain orientation in polystyrene-b-poly(L-lactide) diblock copolymer thin films for nanopatterning / Tsenga W-H., Fane H-W., Chianga Y-W., Lin C-C. // Polymer. 2005. - V. 46. - P. 9362-9377.

173. Yin Y. Simulated annealing study of asymmetric diblock copolymer thin films / Sun P., Jiang R., Li В., Chen Т., Jin Q., Ding D., Shi A-C. // J. Chem. Phys. 2006. - V. 124. -№ 18.-P. 184708/1-184708/7.

174. Knoll A. Nanoscaling of Microdomain Spacings in Thin Films of Cylinder-Forming Block Copolymers / Tsarkova L.,Krausch G. // Nano Letters. 2007. - V. 7. - № 3. - P. 843-846.

175. Нератова И.В. Мезоскопическое моделирование самоорганизации бинарной смеси сополимеров селективно адсорбирующихся на поверхности. / А.С. Павлов, П.Г. Халатур // Высокомолекулярные соединения: Серия А. 2010. - Т. 52. - №1. - С. 89-106.

176. Chen J. Solvent effects on polymer surface structure / Zhuang H., Zhao J., Gardella J.A. // Surf. Interface Anal. -2001. -V. 31. -P. 713-720.

177. Ishibashi N. Electrodeposition of Aluminium from the NBS Type Bath Using Tetrahy-drofuran-benzene Mixed Solvent / Yosmo M. // Electrochimica Acta. 1972. - V. 17. -P. 1343-1352.

178. Takaki M. Reaction of Living Polystyrene with Poly(pfluoromethylstyrene) and Its Styrene Copolymer / Asami R., Inukai H., Inenaga T. // Macromolecules. 1979. — V. 12.-№3.-P. 383-386.

179. Ко J.H. Poly(4-vinyl pyridine) in Polymer Data Handbook. Oxford University Press, 1999.-P. 961.

180. Andrady A.L. Poly(vinyl chloride) in Polymer Data Handbook. Oxford University Press, 1999.-P. 928-934.

181. Lodge T.P. Solvent Distribution in Weakly-Ordered Block Copolymer Solutions / Ham-ersky M.W., Hanley K.J. // Macromolecules. 1997. - V. 30. - P. 6139-6149.

182. Yamomoto S. Mesoscopic Simulation of the Drying Process of Polymer Films // J. Soc. Rheol. 2004. - V. 32. - № 5. - P. 295-301.

183. Morita H. Dissipative Particle Dynamics Study for the Phase Separate Structures of Polymer Film Caused by Solvent Evaporation / Ozawa Т., Kobayashi N., Fukunaga H., Doi M. //J. Soc. Rheol. 2008. - V. 36. - № 2. - P. 93-98.

184. Tsige M. Solvent evaporation and interdiffusion in polymer films / Grest G.S. // J. Phys.: Condens. Matter. 2005. - V. 17. - № 49. - P. S4119-S4132.

185. Tsige M. Morphology of Evaporated Multiblock Copolymer Membranes Studied by Molecular Dynamics Simulations / Mattsson T.R., Grest G.S. // Macromolecules. -2004. V. 37. - № 34. - P. 9132-9138.

186. Shibayama M. Ordered structure in block polymer solutions. 3. Concentration dependence of microdomains in nonselective solvents / Hashimoto Т., Hasegawa H., Kawai H. // Macromolecules. 1983. - V.16. - № 9. - P. 1427-1433.

187. Huang W. Formation of ordered microphase-separated pattern during spin coatingof ABC triblock copolymer / Luo C., Zhang J., and Han Y. // J. Chem. Phys. 2007. - V. 126.-P. 104901/1-104901/9.

188. McCoy J.D. The interfacial thickness of symmetric diblock copolymers: Theory and Experiment / Nath S.K. // J. Chem. Phys. 1998. - V. 108. - № 7. - P. 3023-3027.

189. Lacher R.C. On the amorphous structure of ethylene- 1-alkene copolymers / J. L. Bryant //Macromolecules. 1988,-V. 21.-№4.p. 1183-1184.

190. Tsori Y. Diblock copolymer thin films: Parallel and perpendicular lamellar phases in the weak segregation limit / Andelmana D. // Eur. Phys. J. E. 2001. - V. 5. — № 5. - P. 605-614.

191. Jung Y. Film Formation Kinetics in the Drying Process of Polymer Solution Enclosed by Bank / Kajiya Т., Yamaue Т., Doi M. // Jpn. Appl. Phys. 2009. - V. 48. - P. 031502-031508.

192. Нератова И.В. Влияние растворителя на самоорганизацию в наноразмерных пленках: моделирование методом диссипативной динамики частиц / А.С. Павлов, П.Г. Халатур // Высокомолекулярные соединения: Серия А. — 2010. — Т. 52. №9. - С. 1-12.

193. Tata J. Control of morphology orientation in thin films of PS-b-PEO diblock copolymers and PS-b-PEO/resorcinol molecular complexes / Scalarone D., Lazzari M., Chian-tore O. // Europ. Polymer J. 2009. - V. - 45. - № 9. - P. 2520-2528.

194. Li X. Morphology change of asymmetric diblock copolymer micellar films during solvent annealing / Peng J., Wen Y., Kim D. H., Knoll W. // Polymer. 2007. - V. 48. - № 8.-P. 2434—2443.

Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.