Повышение равномерности нанесения покрытий на пленочные материалы в электронно-лучевых установках тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.09.10, кандидат технических наук Савалык, Николай Антонович

• Савалык, Николай Антонович
• кандидат технических наук
• 2002

Оглавление диссертации кандидат технических наук Савалык, Николай Антонович

Введение.

1. Анализ состояния, оборудования и уровня технологии нанесения покрытий.

1.1. Анализ уровня развития технологии вакуумного нанесения покрытий.

1.2. Анализ технологического оборудования для нанесения покрытий в вакууме.

Выводы по главе

2. Исследование процессов испарения при формировании покрытий в электронно-лучевых установках.

2.1. Выбор типа и компановки установки для нанесения покрытия на рулонные материалы.

2.2. Исследование процесса и разработка модели массо-переноса при нанесении покрытия.

2.3. Исследование влияния конструктивных факторов испарительных систем.

2.4. Исследование влияния параметров испарительной системы на равномерность толщины покрытия в поперечном направлении.

2.5. Влияние перемещения подложки на равномерность покрытия.

Выводы по главе

3. Исследование нанесения покрытия на движущуюся поверхность.

3.1. Разработка динамической модели системы формирования покрытия на движущейся поверхности.

3.2. Разработка цифровой модели системы формирования покрытия на движущейся поверхности.

3.3. Синтез корректирующего звена привода перемотки пленки.

3.4. Исследование системы с нереверсивным приводом

3.5. Исследование системы с реверсивным приводом.

Выводы по главе

4. Реализация процессов нанесения покрытий на рулонные материалы в электронно-лучевых установках.

4.1. Разработка методики и экспериментальное исследование процессов испарения и конденсации материалов.

4.2. Экспериментальное определение динамических характеристик элементов установки для нанесения покрытий.

4.3. Определение толщины покрытия при пробоях электронной пушки.

4.4. Реализация и экспериментальное исследование системы стабилизации толщины покрытия.

Выводы по главе

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Повышение равномерности нанесения покрытий на пленочные материалы в электронно-лучевых установках»

Успехи научно-технической революции последних десятилетий, обеспечившие быстрый рост эффективности промышленного производства, обусловлены, прежде всего, разработкой новых технологических процессов и созданием на их основе материалов и изделий с качественно новыми или существенно улучшенными свойствами. Наиболее значительные успехи достигнуты в области электротехнологии, что, в частности, привело к интенсивному развитию полупроводниковой и преобразовательной техники.

К числу процессов, определивших наиболее передовые направления развития техники и технологии, следует отнести технологические процессы формирования покрытий в вакууме. При большом разнообразии способов реализации этих процессов все они сводятся к тому, что материал покрытия в условиях достаточно высокого вакуума переводится в газовую фазу и в виде направленного потока атомов или молекул поступает к подложке, где и конденсируется, образуя покрытие. Вместе с тем способы нанесения покрытий, состав оборудования и приоритеты их развития претерпели в последнее время значительные изменения. В частности, замедлилось развитие технологических процессов, обеспечивающих нанесение упрочняющих покрытий на детали машин и механизмов, на поверхности инструмента, электротехнических покрытий в электронной технике и микроэлектронике. В то же время возрос интерес к таким направлениям как декоративные покрытия, покрытия на архитектурное стекло. Изменилось содержание этого направления нанесения покрытий. Например, в декоративных покрытиях широкое применение получило новое направление - нанесение нитрида титана на листы из нержавеющей стали «под золото», которые используются в качестве кровельно-отделочного материала.

Заметно расширяется направление, связанное с нанесением низкоэмиссионных покрытий: защитных покрытий от излучений, электропроводящих покрытий, покрытий типа «Security» и др. Вновь возник интерес к развитию технологии нанесения «толстых» слоев меди на полимерные пленки для печатных плат и других электротехнических изделий.

В последнее время наметилась тенденция развития технологии нанесения покрытий специального назначения. К таким покрытиям прежде всего следует отнести процессы нанесения защитного слоя диоксида кремния на рулонную полиимидную пленку, которая используется для наружных слоев экранно-вакуумной теплоизоляции космических аппаратов. Задачи, связанные с разработкой технологии и оборудования для нанесения защитного слоя диоксида кремния, диктуются потребностями развития космической отрасли.

В то же время темпы развития новых технологий и оборудования сдерживаются из-за отсутствия разработок современного отечественного оборудования и средств для закупок дорогостоящего оборудования за рубежом. Поэтому весьма актуальными для решения поставленных задач следует признать исследования, направленные на совершенствование технологии и оборудования для нанесения покрытий в вакууме.

Среди различных типов устройств, используемых в настоящее время для нанесения покрытий в вакууме, особое место занимают электронно-лучевые испарительные системы. В таких устройствах материал покрытия переводится в газовую фазу путем термического испарения, осуществляемого мощными пучками электронов. Благодаря своим преимуществам по сравнению с другими способами нанесения покрытий, процесс формирования покрытий путем электронно-лучевого испарения и конденсации материалов в вакууме был несколько десятилетий назад основным методом получения высококачественных покрытий в электронике, оптике и других отраслях промышленности. Однако создание достаточно мощных систем катодного распыления магнетронного типа привело к тому, что последние заменили электронно-лучевые испарительные устройства в ряде технологических процессов, связанных с нанесением тонких (толщиной 1-2 мкм) пленок. Тем не менее, процесс электроннолучевого испарения и конденсации материалов в вакууме по-прежнему остается наиболее эффективным способом, позволяющим с высокой производительностью получать толстые (до нескольких десятков мкм) конденсаты высокого качества практически любых металлов, окислов и других соединений. При этом следует отметить, что в ряде случаев процесс электронно-лучевого испарения является единственно возможным способом формирования покрытий.

Частое применение технологического процесса электроннолучевого испарения и конденсации материала в вакууме потребовало создания специальных конструкций электронно-лучевых испарительных устройств, различных по техническим данным и схемным решениям. В настоящее время накоплен большой опыт создания испарительных устройств данного типа. Разработаны методы расчета и проектирования систем формирования электронных пучков мощностью до нескольких сотен киловатт, учитывающие специфические условия работы оптических систем в установках различного технологического назначения. Создано много конструкций систем транспортировки электронного пучка, обеспечивающих его проведение от электронно-оптической системы до поверхности нагрева. Решены задачи обеспечения магнитного разворота электронного пучка, его отклонения и фокусировки; разработаны методики расчета такого типа устройств, позволяющие проектировать и реализовывать различные схемы транспортировки пучка и создавать испарительные устройства с самыми разнообразными вариантами компоновки элементов.

В то же время мало изучены вопросы формирования толстых, до нескольких микрон, покрытий из металлов, окислов и других соединений на рулонные полимерные материалы и крупногабаритные подложки. Нельзя считать полностью решенными и вопросы создания оборудования для реализации такого процесса. Не нашли должного отражения в литературе вопросы обеспечения равномерности наносимых на движущуюся пленку покрытий. Практически отсутствуют установки, которые могут обеспечивать проведение данного технологического процесса. Однако задачи обеспечения равномерности толщины покрытий, наносимых на движущуюся с высокими скоростями полимерную пленку, являются первоочередными при выпуске готовой продукции, поскольку определяют производительность оборудования и качество готовой продукции.

Данная работа посвящена решению задач повышения равномерности покрытий, наносимых в электронно-лучевых установках на движущиеся подложки. Исследования в работе ограничены рассмотрением вопросов, связанных с нанесением покрытий диоксида кремния на движущуюся полиимидную пленку.

Целью работы является разработка способов повышения равномерности толщины покрытий, наносимых на движущиеся полимерные пленки путем испарения и конденсации материала в вакууме на электроннолучевых установках.

Для достижения поставленной цели в работе были поставлены и решены следующие задачи:

- анализ состояния и уровня развития технологии, оборудования и методов исследования нанесения покрытий в вакууме;

- определение состава оборудования для нанесения покрытий на рулонные материалы в вакууме;

- разработка математической модели процесса нанесения покрытий из диоксида кремния в вакууме;

- исследование влияния физико-технологических параметров процесса формирования покрытий в вакууме на равномерность толщины покрытия в поперечном относительно движения пленки направлении;

- разработка системы регулирования скорости движения пленки, стабилизирующей толщину формируемого покрытия в продольном относительно движения пленки направлении;

- разработка математической модели системы стабилизации толщины покрытия в продольном относительно движения пленки направлении;

- исследование системы стабилизации толщины покрытия в продольном относительно движения пленки направлении;

- разработка электронно-лучевой установки и методов экспериментального исследования процесса формирования покрытия в вакууме.

Структура работы. Диссертация состоит из введения, четырех глав,

Заключение диссертации по теме «Электротехнология», Савалык, Николай Антонович

Выводы по главе

1. Доказано, что разработанная методика экспериментального определения толщины наносимого покрытия пригодна для исследования процессов испарения и конденсации материала в вакууме, обеспечивает точность измерения не ниже 4% и позволяет с требуемой для практики точностью рассчитывать параметры элементов испарительной системы и режимы работы установки.

2. Разработанные методики экспериментального определения динамических характеристик элементов электронно-лучевой установки для нанесения покрытий на рулонные материалы позволяют с точностью не ниже 5% определять параметры системы для выбора близких к оптимальным режимов работы, что позволяет рекомендовать их как на этапах проектирования установок, так и их эксплуатации.

137

3. Показано, что предложенная методика определения качественных и количественных показателей уменьшения толщины наносимого на движущуюся пленку покрытия при пробоях электронной пушки, основанная на расчете участков пленки, пройденных за время пробоя, пригодна как для сравнения различных систем управления установками, так и для выбора режимов работы, обеспечивающих требуемое качество пленки с нанесенным покрытием.

4. На опытно-промышленной электронно-лучевой установке для нанесения покрытия на рулонные материалы экспериментально доказана реализуемость предложенной системы регулирования толщины покрытия на основе использования как аналоговых, так и микропроцессорных средств управления, и ее функционирование, подтверждающее повышение равномерности толщины покрытия и результаты теоретических исследований.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

1. На основе анализа уровня развития науки, технологии и оборудования для нанесения покрытий в вакууме установлена возможность решения разработанными на современном этапе методами и средствами задачи нанесения покрытий из тугоплавких материалов на движущиеся полимерные пленки с использованием электронно-лучевых установок с плоскосимметричными системами формирования и разворотом электронного пучка на угол 270

2. Доказана возможность и целесообразность использования разработанной и экспериментально подтвержденной модели тепло- и массопереноса при нанесении покрытий из тугоплавких материалов на движущуюся полимерную пленку для расчета технологических параметров процесса при проектировании установок и решения задачи повышения равномерности толщины наносимого покрытия как в поперечном относительно движения направлении, так и в направлении движения пленки.

3. На основании теоретических и экспериментальных исследований с использованием разработанной уточненной модели массопереноса при нанесении покрытия на движущуюся полимерную пленку получены зависимости, связывающие толщину покрытия с параметрами испарительной системы, механизма перемещения подложки и свойствами испаряемого материала, позволяющие выбирать профиль отверстия экрана, устанавливаемого между испарительной системой и движущейся пленкой для получения требуемой равномерности толщины покрытия в поперечном относительно движения пленки направлении.

4. На основании проведенных теоретических исследований, результаты которых подтверждены экспериментальной проверкой функционирования на опытно-промышленной установке, доказана возможность и целесообразность применения разработанной системы стабилизации толщины наносимого в направлении движения пленки покрытия с использованием датчика мощности электронной пушки. Показано, что использование в электронно-лучевых установках для нанесения покрытий на рулонные пленочные материалы систем управления, воздействующих на скорость перемотки пленки, обеспечивает не менее, чем в три раза снижение неравномерности толщины покрытия или такое же повышение производительности установки.

5. Показано, что процесс нанесения покрытия из тугоплавких материалов на движущуюся полимерную пленку в электронно-лучевых установках адекватно определяется разработанной динамической моделью, представляющих собой систему существенно нелинейных дифференциальных уравнений, не имеющих аналитического решения. Обоснована целесообразность применения для решения задач анализа и синтеза систем управления процессом нанесения покрытий в установках рассматриваемого класса разработанной цифровой модели, использующей пакет прикладных программ «SIMUKINK».

6. Показано, что разработанная цифровая модель системы позволяет в диалоговом режиме определять параметры установки на этапе проектирования и выбирать близкие к оптимальным настройки на требуемый режим.

7. Установлено, что при исследовании процессов в системе наиболее целесообразно рассчитывать и выводить на печать временные диаграммы изменения возмущающего воздействия, удельной толщины покрытия и скоростей конденсации материала и движения подложки, позволяющие качественно и количественно определять основные показатели системы и выбирать близкий к оптимальному режим работы. Показано, что в качестве критерия оптимальности целесообразно использовать величину интегральной ошибки толщины покрытия, определяемую по фа

140 зовым траекториям, представляющим собой зависимости удельной толщины покрытия от пройденного пленкой пути.

8. Установлено, что нереверсивный привод перемотки пленки при близких к оптимальным структуре и параметрах блока, связывающего привод с испарительной системой, обеспечивает требуемую для практики точность поддержания толщины покрытия при отработке наиболее тяжелого возмущающего воздействия, соответствующего технологическому пробою электронной пушки.

9. Показано, что для систем рассматриваемого класса более сложный в сравнении с нереверсивным реверсивный привод перемотки пленки, с одной стороны, является избыточным и более дорогим, а с другой -не обеспечивает существенного повышения равномерности нанесения покрытия на движущуюся пленку.

10. Экспериментально на опытно-промышленной установке для нанесения покрытий на рулонные материалы подтверждена реализуемость разработанной системы стабилизации толщины наносимого покрытия как по элементной базе, так и по предложенным алгоритмам управления.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Савалык, Николай Антонович, 2002 год

1. Пленочная микроэлектроника. Под общ, ред. Л.Холлэнда. М.: "Мир", 1968. 366 с.

2. Технология тонких пленок. Справочник, Т. 1. Под ред. Л. Майсе-ла, Р. Глэнга. М.: Сов. Радио, 1977.

3. Э. Шиллер, У. Гайзиг, 3. Панцер. Электронно-лучевая технология. М.: Энергия, 1980. 528 с.

4. Электротехнический справочник. В 3 т. Т.З: В 2 кн. Кн. 2. Использование электрической энергии / Под общ. ред. профессоров МЭИ: И. Н. Орлова (гл. ред.) и др. 7- е изд., испр. и доп. М.: Энегргоатомиздат, 1988.- 616 с.

5. В.А. Бессекерский, Е.П. Попов, Теория систем автоматического регулирования, М., "Наука", 1978.

6. Минайчев В.Е. Вакуумное оборудование для нанесения пленок. -М.: Машиностроение, 1978. 59 с.

7. Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радио и связь, 1982. - 72 с.

8. Катодное распыление. Материалы фирмы "Leybold-Heraeus",1982.

9. Лехтман Ф.А., Тругман М.И. Экономическая эффективность применения в народном хозяйстве металлизированных в вакууме изделий и материалов. Рига: ЛатИНТИ, 1970. - 74 с.

10. Мовчан Б.А., Малашенко И.С. Жаростойкие покрытия, осаждаемые в вакууме / Под. ред. Акад. Б.Е. Патона. Киев: Наукова думка,1983,- 231 с.

11. Андронова Т.М., Гриките В.К., Липин Ю.В. Защитно-декоративные вакуумные покрытия. Обзор. Рига: ЛатНИИНТИ, 1984,61 с.

12. Использование процесса испарения и конденсации в вакууме для формирования пленочных алюминиевых омических контактов фотопреобразователей / Бецков А.А., Емельянов A.JI. и др. Электротехника, № 5, 1984,-с. 27-29.

13. Электротермическое оборудование для нанесения покрытия в вакууме / Веретин М.И., Емельянов A.JL, Емельянов B.JI. и др. Электротехника, № 7, 1981, - с. 37 - 40.

14. Дженкинс Г., Ватте Д. Спектральный анализ и его приложения.-М.: Мир, 1971, т. 1, с. 92,103.

15. Вершинин О.Е. Применение микропроцессоров для автоматизации технологических процессов. JL: Энергоатомиздат, Ленинградское отд., 1986, - 76 с.

16. Хофманн X., Хегнер Ф. Измерение толщины пленок и контроль процессов в технике тонких пленок Материалы фирмы "Leybold-Heraeus", 1978.

17. Фолкенберри JL Применение операционных усилителей и линейных интегральных схем. М.: Мир, 1985, с. 388 - 399.

18. Труды постоянно действующего научно-технического семинара «Электровакуумная техника и технология» (за 1997/98 г.г.)/Под ред. А.В. Горина. -М.: 1999,- 168 с.

19. Агрегат полунепрерывного действия для нанесения методом испарения и конденсации в вакууме металлических покрытий на ленту/ Г.Е. Баринов, Р.Е. Гольденберг, В.И. Кравцов и др., Труды ВНИИметмаш, 1977, №51,-с. 3-6.

20. Улановский Я.Б. Применение в металлургии процесса испарения и конденсации в вакууме. Аналитический обзор по отечественным и иностранным источникам. / Под ред. Академика А.Ф. Белова, М.: ООНТИ ВИЛС, 1975.

21. Конструктивные особенности вакуумных установок для нанесения покрытий электронно-лучевым способом: Обзор./ А.Н. Жунда, Э.В. Ядин, А.Л. Емельянов и др. ЛатНИИНТИ, Рига.: 1987, 69 с.

22. Автоматическое управление электротермическими установками: Учебник для вузов / A.M. Кручинин, К.М. Махмудов, Ю.М. Миронов и др. Под ред. А.Д. Свенчанского М.: Энергоатомиздат, 1990.

23. Юревич Е.И. Теория автоматического управления. Учебник для студентов высш. техн. учебн. заведений. Изд. 2-е, перераб. и доп. Л.: Энергия, 1975. 416 с.

24. Электрооборудование и автоматика электротермических установок: (Справочник) / Альтгаузен А.П., Бершицкий И.М., Бершицкий М.Д. и др.; Под ред. А.П. Альтгаузена, М.Д. Бершицкого, М.Я. Смелян-ского, В.М. Эдемского. М.: Энергия, 1978. - 304 с.

25. Крылова Т.Н. Интерференционные покрытия. Ленинград, Машиностроение, 1973.

26. Система оптического контроля для вакуумных установок барабанного типа. Труды постоянно действующего научно-технического семинара «Электровакуумная техника и технология», М.: 1999.

27. Емельянов А.Л., Рубцов В.П., Савалык Н.А. Обеспечение равномерности толщины при электронно-лучевом нанесении покрытий на рулонные материалы. Вестник МЭИ, № 3, 2002, с. 66-70.

28. Устройство для управления электронно-лучевой напылительной установкой. Рубцов В.П., Емельянов А.Л., Юдин Д.Г., Свидетельство на полезную модель № 21001, 10.12.2001, Бюл. № 34.

29. Дьяконов В. Simulink 4. Специальный справочник. СПб: Питер, 2002 г.

30. Савалык Н. А. Обеспечение равномерности нанесения покрытия на движущуюся полимерную пленку. Электротехника, № 7, 2002 г.

31. Структурное моделирование электромеханических систем и их элементов./В.А. Иванушкин, Ф.Н. Сарапулов, П. Шымчак. Щецин: 2000 г.

32. Теория автоматического управления. 4.II. Под ред. А.В. Нетушила. Учебник для вузов. М.: «Высш. школа», 1972 г.

33. Фарнасов Г.А. Электротехника, электроника, электрооборудование: Учебник для вузов. М.: «ИНТЕРМЕТ ИНЖИНИРИНГ», 2000 г.

34. Савалык Н.А., Ершов В.А. Система автоматизированного управления электрическим режимом ДСП-100И6 на базе УВК-2, Сборник научных трудов «Дуговые сталеплавильные печи», Энергоатомиздат, 1991.

35. Ершов В.А., Савалык Н.А., Ермолаева С.А. Экспериментальное исследование с применением УВК-2 на печи ДСП-100И6, Сборник научных трудов «Дуговые сталеплавильные печи», Энергоатомиздат, 1991.

36. Рубцов В.П. Исполнительные элементы систем автоматического управления электротехнологическими установками: Учебное пособие по курсу «Автоматическое управление электротехнологическими установками». -М.: Издательство МЭИ, 2001.

37. Ключев В.И. Теория электропривода. М.: Энергоатомиздат,1985.

38. Копылов И.П. Математическое моделирование электрических машин. М.: Высшая школа, 1987.

39. Численные методы и программирование на Фортране для персонального компьютера. М.: Радио и связь, 1996.

40. Дьяконов В. MATLAB 6: Учебный курс. СПб: Питер, 2002.

41. Говорухин В., Цибулин В. Компьютер в математическом исследовании. Учебный курс. СПб: Питер, 2002.

42. Ильинский Н.Ф. Электроприводы постоянного тока с управляемым моментом. М.: Энергоиздат, 1981.

43. Holland L. Thin Film Microelectronics. New York, 1965.

44. Honig R.E. RCA Rev., 23, 1962.

45. Holland L. Vacuum Deposition of Thin Film, New York, 1961.

46. Caswell H.I. Physics of Thin Film, vol. 1, p. 1. Academic Press Inc., New York, 1963.

47. Hirth I.R. Condensation and Evaporation, The Macmillan Company, New York, 1963.

48. Cox I.T. Jor. Phis. (Paris), 25, 250. 1964.

49. LaffR.A. Appl. Opt., 10, 968. 1971.

50. Wectwood W.D. Jor. Vac. Sci, Technol., 11, 381. 1974.

51. Boelens S. Surf. And Coatings Technol. 33, 63. 1987.

52. Полиимидная пленка с защитным слоем: ее изготовление и применение в изделиях космической техники. / Водолажский А.В., Горин

53. А.В., Емельянов A.JI. и др. Труды VI Международной конференции «Пленки и покрытия», 2001.

54. Савалык Н.А. Исследование процессов испарения при формировании покрытий с помощью электронно-лучевых установок. «Актуальные проблемы современной науки», № 3 (6), 2000 г., с. 335 341.

55. Савалык Н.А.Основные проблемы нанесения покрытий из тугоплавких материалов на рулонную полимерную пленку. «Актуальные проблемы современной науки», № 3 (6), 2000 г., с. 341 343.

56. Цифровые и аналоговые интегральные микросхемы: Справоч-ник/С.В. Якубовский, Л.И. Ниссельсон, В.И. Кулешова и др.; Под ред. С.В. Якубовского. -М.: Радио и связь, 1990.ж

57. ПРОГРАММА РАСЧЕТА ПРОФИЛЯ ОТВЕРСТИЯ В ЭКРАНЕ ЭЛЕКТРОННО ЛУЧЕВОГО ИСПАРИТЕЛЬНОГО УСТРОЙСТВА

58. REM " ИСХОДНЫЕ ДАННЫЕ ДЛЯ РАСЧЕТА "

59. REM " ГЕОМЕТРИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ИСПАРИТЕЛНОГО УСТРОЙСТВА и L=640 : D=400 : Н=б20 : Некг=280

60. REM и ПАРАМЕТР МОДЕЛИ ПАРОВОГО ПОТОКА " п=7.1

61. REM " ШАГ И ТОЧНОСТЬ РАСЧЕТА КООРДИНАТ ОТВЕРСТИЯ " dY=20 i dX=0.1

62. REM " РАСЧЕТ ПРИВЕДЕННОЙ ТОЛЩИНЫ ПОКРЫТИЯ И Кисп, МАТЕРИАЛА " Y=L/2 Z=GndZ=2/ (1+ (Y/H) "2)л С (п+З) /2)1. FOR X=dK ТО D/2 STEP dXkdZ=2/ (1+ (X/H) "'"2+ (Y/H) л2)л С (п+3) /2)1. Z=Z+ (ndZ-t-kdZ) /2*dXndZ=kdz1. NEXT X1. X-X-dX

63. Kisp=L*Z*(n+1)/(2*3.14*НЛ2)

64. RINT " РАСЧЕТА ПРОФИЛЯ ОТВЕРСТИЯ В ЭКРАНЕ1.RINT

65. RINT и ГЕОМЕТРИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ ИСПАРИТЕЛНОГО УСТРОЙСТВА "

66. RINT " Ширина ленты подложки,.

67. RINT " Длина зоны конденсации. .= D=";D

68. RINT " Расстояние тигель подложка. .H=";H

69. RINT " Расстояние тигель экран. Нзкра=";Некг

70. RINT " Показатель степени Функции распределения . n=i! .1.RINT USING "##.ttn:nч11.RINT1.RINT РЕЗУЛЬТАТЫ РАСЧЕТА1.RINT

71. RINT " Приведенная толщина покрытия,.Нприв=";1.RINT USING "###.#";Z

72. RINT " Коэффициент использования пара.Киспо=";1.RINT USING ;Kisp1.RINT

73. REM " РАСЧЕТ И РАСПЕЧАТКА КООРДИНАТ ПРОЖЛЯ ОТВЕРСТИЯ В ЭКРАНЕ

74. RINT "----------------------------------------

75. RINT "------------------------"

76. RINT »Ч КООРДИНАТЫ ПРОФИЛЯ ОТВЕРСТИЯ В ЭКРАНЕ I"; LPRINT " ПРИВЕДЕННАЯ ТОЛЩИНА Iй

77. RINT"----------------------------------------

78. RINT i!-----------:-------------"1. FOR Y=0 TO L/2 STEP dYzt=ondZ=2/С1+ СY/H)~2)лСCn+3)/2)1. FOR X=dX TO D/2 STEP dXkd.Z=2/ (1+ (X/H) л2+ (Y/H) л2)л( (n+3) /2)1. Zt=Zt+(ndZ+kdZ)/2*dX1. Zt>=Z THEN GOTO PECHAT:ndZ=kdZ1. NEXT X

79. PECHAT: Yekr=Y*Hekr/H Xekr=X*Hekr/H

80. RINT "I Yaкрана = LPRINT USING "###.#H;Yekr; LPRINT " i Хзкрана = LPRINT USING "###. #M;Xekr;

81. RINT " i Нприв= .-LPRINT USING #M;,Zt; LPRINT " Iм1. NEXT Y

82. RINT M----------------------------------------

83. RINT i!------------------------"1. STOP END

84. ПРОГРАММА ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ МОДЕМ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ПОТОКА ПАРА

85. REM " ИСХОДНЫЕ ДАННЫЕ ДЛЯ РАСЧЕТА "

86. REM " НАЧАЛЬНЫЕ ПАРАМЕТРЫ МОДЕМ " DO =1,90 : Xs = 0,0 : Ys = 0,0 : NO « 9,0 : Hp = 810

87. REM " ТОЧНОСТЬ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ " dD = 0.001 : dx = 0.1 : dY =0.1 : dN = 0.1

88. REM " ПОДГОТОВКА РАСЧЕТНЫХ ДАННЫХ " REM " ЗАПИСЬ МАССИВА ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫХ ДАННЫХ " DIM De(10,10) FOR Nx = О TO 9 STEP 1 FOR Ny = 0 TO 9 STEP 1 READ De(NXjNy) NEXT Ny NEXT Nx

89. REM " ЗАПИСЬ МАССИВА МАРКЕРОВ !! DIM DrnflO ДО) FOR Nx = 1 TO 9 STEP 1 FOR Ny 0 TO 9 STEP 1 READ Dm(Nx,Ny) NEXT Ny NEXT Nx

90. REM " ОБЪЯВЛЕНИЕ МАССИВА РАСЧЕТНЫХ ДАННЫХ И МАССИВА ПОГРЕШНОСТЕЙ DIM Dr(10,10) i DIM Dp(10,10)1. REM " НАЧАЛО РАСЧЕТА "1. CLS

91. REM " РАСЧЕТ НАЧАЛЬНОЙ ТОЧКИ " D = DO i Xp = Xs i Yp = Ys : N NO GOSUB RASCHETQt Cm = Qt

92. REM " ПОДБОР ПАРАМЕТРОВ МОДЕМ СООТВЕТСТВУЮЩИХ МИНИМУМУ От " SH = 0 : М = 0 i SHV = 201. МЕТКАХ:

93. SH > SHV THEN GOSUB PROSMOTR SH = SH + 1 Xp = Xp + dX GOSUB RASCHETQt

94. Qt < Qn THEN Qm = Qt : M = 0 : GOTO METKAY Xp = Xp dX dX = - dX M = M + 1

95. M > 8-THEN GOTO VIVODREZALT: