Создание методов и устройств автоматического контроля технологического процесса термовакуумного нанесения защитных покрытий и тонких пленок в авиационном моторостроении и приборостроении тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.07.05, доктор технических наук Семенов, Эрнст Иванович

• Семенов, Эрнст Иванович
• доктор технических наук
• 1999

Оглавление диссертации доктор технических наук Семенов, Эрнст Иванович

ВВЕДЕНИЕ.

1. СОСТОЯНИЕ ПРОБЛЕМЫ АВТОМАТИЗАЦИИ КОНТРОЛЯ ПАРАМЕТРОВ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ТЕРМОВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ

ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ И ТОНКИХ ПЛЕНОК.

1.1 .Краткая характеристика жаростойких и теплозащитных покрытий.

1.2. Краткая характеристика тонких пленок, применяемых в приборостроении и электронике.

1.3. Технологический процесс электронно-лучевого нанесения жаростойких и теплозащитных покрытий на лопатки ГТД.

1.3.1. Схема процесса получения покрытия в вакууме.

1.3.2. Теоретические основы получения пленок методом термовакуумного испарения.

1.3.3. Тепловые процессы на подложке.

1.4. Влияние технологических факторов на свойства защитных покрытий и тонких пленок.

1.5. Системный анализ ТП термовакуумного нанесения покрытий как сложного объекта.

1.6. Методы и устройства контроля параметров покрытий и технологического процесса их нанесения.

1.6.1. Общие сведения.

1.6.2. Весовой метод.

1.6.3. Метод кварцевого резонатора.

1.6.4. Фотометрический метод.

1.6.5. Эллипсометрический метод.

1.6.6. Резистивный метод.

1.6.7. Ионизационный метод.

1.6.8. Метод эмиссионной спектроскопии при возбуждении электронным ударом.

1.6.9. Комбинированные методы.

1.6.10. Контроль уровня поверхности испарения.

1.6.11. Контроль положения электронного луча в тигле.

1.7. Уровень автоматизации процесса получения покрытий и тонких пленок в промышленности.

1.8. Выводы по первой главе и постановка задач исследования.

2. ВИБРАЦИОННЫЙ МЕТОД КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ ЖАРОСТОЙКИХ И ТЕПЛОЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ ДЛЯ АВИАЦИОННОЙ ТЕХНОЛОГИИ.

2.1. Теоретический анализ вибрационного метода.

2.2. Разработка вибрационного датчика толщины.

2.3. Семейство измерителей толщины покрытий "Слой".

2.3.1. Микропроцессорный измеритель толщины многослойных теплозащитных и жаростойких покрытий "Слой-1".

2.3.2. Измеритель толщины покрытий "Слой-3".

2.3.3. Микропроцессорный измеритель толщины жаростойких покрытий "Слой-4".

2.3.4. Измеритель толщины покрытий с камертонным датчиком.

Выводы по второй главе.

3. ОПТИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ КОНТРОЛЯ ТОЛЩИНЫ И СКОРОСТИ НАНЕСЕНИЯ КЕРАМИЧЕСКИХ

ПОКРЫТИЙ И ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ЛЕНОК.

3.1. Теория фотометрического метода контроля толщины и скорости нанесения однослойных и многослойных диэлектрических пленок.

3.1.1. Отражение прозрачной подложки с прозрачной пленкой

3.1.2. Отражение поглощающей подложки с прозрачной пленкой.

3.1.3. Отражение поглощающей подложки с поглощающей пленкой.

3.1.4. Отражение подложки с многослойным покрытием.

3.1.5 Математическая модель контроля скорости осаждения диэлектрических пленок.

3.2 Измеритель толщины и скорости осаждения диэлектрических пленок.

3.3. Лазерный измеритель толщины диэлектрических и полупроводниковых пленок на неподвижных и вращающихся подложках.

Выводы по третьей главе.

4. КОНТРОЛЬ ПАРАМЕТРОВ РЕЗИСТИВНЫХ СЛОЕВ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ИХ НАНЕСЕНИЯ.

4.1. Исследование воспроизводимости контроля поверхностного сопротивления тонких пленок методом резистивного свидетеля.

4.2. Контроль сопротивлении свидетеля. Основные соотношения.

4.3. Контроль скорости нанесения резистивных слоев. Основные соотношения.

4.4. Прибор для автоматического управления процессом нанесения резистивных слоев.

Выводы по четвертой главе.

5. КОНТРОЛЬ ПОЛОЖЕНИЯ

ЭЛЕКТРОННОГО ЛУЧА В ЗОНЕ ТИГЛЯ УСТАНОВОК ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО НАНЕСЕНИЯ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ И ТОНКИХ ПЛЕНОК.

5.1. Обеспечение безопасности установок электронно-лучевого нанесения покрытий.

5.1.1. Защита УВН от выхода электронного луча за пределы тигля с помощью электронных зондов (коллекторов электронов).

5.1.2. Контроль наличия воды в системе охлаждения установок для вакуумного нанесения покрытий.

5.2. Определение положения электронного луча на тигле методом вторичной электронной эмиссии.

5.2.1. Математическая модель формирования позиционного сигнала.

5.2.2. Параметры вторично-эмиссионного датчика положения электронного луча.

5.2.3. Методика расчета основных размеров чувствительного элемента датчика положения электронного луча.

5.2.4. Расчет позиционного сигнала, формируемого датчиком положения электронного луча.

5.2.5. Система автоматической стабилизации и визуализации положения электронного луча в установках для нанесения покрытий.

Выводы по пятой главе.

6. МЕТРОЛОГИЧЕСКОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ И ИСПЫТАНИЯ СРЕДСТВ АВТОМАТИЗАЦИИ КОНТРОЛЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК И ПОКРЫТИЙ.

6.1. Испытания, калибровка и поверка вибрационных измерителей толщины жаростойких и теплозащитных покрытий.

6.2. Измеритель показателя преломления и толщины диэлектрических пленок.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Создание методов и устройств автоматического контроля технологического процесса термовакуумного нанесения защитных покрытий и тонких пленок в авиационном моторостроении и приборостроении»

Термическое испарение материалов в вакууме является одной из эффективных технологий получения тонкопленочных покрытий, применяемых в авиационной технологии, машиностроении, приборостроении и электронике. Разновидность термического испарения - электроннолучевая технология - находит все большее применение для нанесения жаростойких, теплозащитных и антикоррозионных покрытий на лопатки ГТД и энергетических ГТУ, а также в отмеченных выше отраслях промышленности.

Механические и физико-химические свойства покрытий и тонких пленок зависят от множества параметров технологического процесса их нанесения и комплекса технологических мероприятий. Однако выбранные оптимальные режимы и условия технологического процесса не остаются постоянными в течение времени осаждения покрытия из-за действия различных возмущений. Воспроизводимость свойств покрытий может быть обеспечена стабилизацией этих параметров в течение всего времени нанесения покрытия, а также своевременным прекращением процесса нанесения при достижении покрытием заданной толщины или иного существенного параметра, изменяющегося в процессе нанесения покрытия и определяющего его основное эксплуатационное назначение. Многие параметры покрытий и технологического процесса их получения контролируются операторами установок визуально, а также по большому количеству разрозненных измерительных приборов. Операторы не в состоянии следить одновременно за всеми параметрами и своевременно корректировать их в случаях изменения параметров от влияния различных возмущений или изменять параметры по заданной программе получения покрытия.

Следовательно, стабильность качественных характеристик покрытий при термовакуумном, в том числе электронно-лучевом, нанесении может быть обеспечена только при наличии средств автоматического контроля и регулирования параметров покрытий и технологического процесса. Поэтому актуальной является задача непрерывного автоматического контроля этих параметров в процессе нанесения покрытия.

Другая важная задача автоматизации процесса нанесения пленок -стабилизация скоростей испарения и конденсации. В случае электроннолучевого испарения для этого недостаточно стабилизировать только ускоряющее напряжение и ток луча электронной пушки. Необходима стабилизация положения электронного луча на тигле, так как положение луча влияет на скорость испарения материала при постоянной мощности электронного луча. Кроме того, необходимо обеспечить безаварийную и безопасную работу электронно-лучевого испарителя.

В данной работе предпринята попытка совершенствования методов контроля параметров защитных покрытий и тонких пленок, а также параметров технологического процесса их осаждения в вакууме путем создания и исследования средств автоматического контроля некоторых параметров покрытий и технологического процесса их получения.

Цель настоящей работы - создание и совершенствование методов контроля параметров технологического процесса получения защитных покрытий и тонких пленок путем проведения комплекса исследований, направленных на повышение степени автоматизации технологического процесса для улучшения воспроизводимости свойств покрытий, т. е. повышения их стабильности качества.

Методы исследований

В работе использованы теоретические и экспериментальные методы исследований на основе теории испарения и конденсации веществ в вакууме, системного анализа технологического процесса получения покрытий в вакууме, теории колебаний, физики тонких пленок, в том числе оптикй тонких пленок, теории электронно-лучевых процессов.

Экспериментальная часть работы выполнялась в лабораториях Московского авиационного технологического института (ныне МГАТУ) им. К. Э. Циолковского, Рыбинской государственной авиационной технологической академии, Института электросварки им. Е. О. Патона, Рыбинского КБ приборостроения (ныне КБ "Луч"), СКТБ НПО "Интеграл", в цехах Рыбинского КБ моторостроения (ныне опытный завод АО "Рыбинские моторы"), Лыткаринского машиностроительного завода "Сатурн".

Научная новизна

1. Разработана математическая модель электромеханической колебательной системы датчика толщины покрытий. Предложен и исследован метод контроля толщины защитных покрытий и тонких пленок из различных материалов на базе электромеханической колебательной системы (вибрационный метод).

2. Разработана математическая модель отражающей поверхности поглощающего свет материала, в которой комплексный показатель преломления заменен эффективным показателем преломления, выраженным действительным числом, обеспечивающим поверхности такой же коэффициент отражения, как и фактический комплексный показатель преломления.

3. Предложен и исследован метод непрерывного контроля скорости нанесения керамических покрытий и диэлектрических пленок. Разработана математическая модель контроля скорости нанесения пленок.

4. Научно обоснована методика измерения показателя преломления и толщины диэлектрических пленок с использованием оригинального отсчетного устройства.

5. Теоретически и экспериментально исследовано влияние различных факторов (технологических, физических, конструктивных) на воспроизводимость поверхностного сопротивления резистивных слоев, на основании этого выработаны рекомендации по устранению или уменьшению нежелательного влияния этих факторов.

6. Предложен и исследован метод определения положения электронного луча на тигле с использованием отраженных и вторичных электронов. Разработана математическая модель формирования позиционного сигнала датчика положения электронного луча, на основе которой составлена методика расчета конструктивных параметров чувствительного элемента.

Практическая ценность работы

1. Создано семейство вибрационных измерителей толщины жаростойких и теплозащитных покрытий для авиационной технологии.

2. Созданы фотометрические измерители толщины и скорости осаждения керамических покрытий и диэлектрических пленок.

3. Создан измеритель сопротивления (проводимости) и скорости нанесения резистивных пленок.

4. Созданы измерители показателя преломления диэлектрических пленок.

5. Создано устройство для защиты УВН от повреждения электронным лучом.

6. Созданы устройство для определения положения электронного луча на тигле с испаряемым материалом, а также система стабилизации положения электронного луча.

7. Разработанные устройства внедрены в авиационной, электронной, радиопромышленности, судостроении и промышленности средств связи.

Созданные приборы содержат в себе преобразователи информации (датчики толщины покрытий, положения электронного луча), элементы вычислительной техники и могут быть использованы как самостоятельные устройства или как элементы и устройства систем автоматического управления процессом получения защитных покрытий и тонких пленок.

Достоверность результатов

Достоверность теоретических результатов подтверждена экспериментальными исследованиями и испытаниями разработанных средств автоматического контроля параметров покрытий и технологического процесса их нанесения.

Апробация

Результаты работы докладывались и обсуждались на 27 международных, всесоюзных, всероссийских, республиканских, межрегиональных научно-технических конгрессах, симпозиумах, конференциях и семинарах: на Всесоюзной конференции НТОРЭС им. А.С.Попова (Ленинград, 1972); Всесоюзном научно-техническом семинаре по внедрению микроэлектроники в приборостроение (Москва, 1973); 6 конгрессе Международной конфедерации по измерительной технике и приборостроению (Дрезден, 1973); Всесоюзном научно-техническом семинаре "Надежность и стабильность качества производства аппаратуры на интегральных схемах" (Нальчик, 1974); Всесоюзной научно-технической конференции "Автоматизированные средства контроля" (Саратов, 1974); Научно-техническом семинаре "Новые методы технологии производства гибридно-интегральных схем" (Севастополь, 1978); Всесоюзной конференции АПМ-81 "Интеграция и нетермическая стимуляция технологических процессов микроэлектроники" [Москва (Зеленоград), 1981]; Всесоюзном семинаре "Прогрессивные технологические процессы в производстве РЭА" (Ленинград, 1982); Всесоюзной научно-технической конференции

Теория и практика конструирования и обеспечения надежности и качества электронной аппаратуры и приборов" (Воронеж, 1984); 10-й научно-технической конференции НТОРЭС им. А. С. Попова, посвященной дню Радио (Москва, 1984); Научно-технической конференции "Применение вычислительной техники и микропроцессоров в автоматизации производства предприятий энергетики, машиностроительной, приборостроительной и радиоэлектронной промышленности" (Владимир, 1985); Всесоюзном научно-техническом семинаре "Автоматизация проектирования и производства радиоэлектронных устройств и средств управления" (Одесса, 1988); 2-й Всесоюзной научно-практической конференции "Проблемы и перспективы автоматизации производства и управления на предприятиях приборо- и машиностроения" (Пермь, 1990); Международном симпозиуме "Конверсия военно-промышленного комплекса" (Пермь, 1993); Российской научно-технической конференции "Наукоёмкие технологии в машиностроении и приборостроении" (Рыбинск, 1994); 5-й международной научно-технической конференции, 6, 7, 8 и 9 международных симпозиумах "Тонкие пленки в электронике" [Йошкар-Ола, 1994, 1996; Херсон (Лазурное), 1995; Харьков, 1997; Иваново, 1998]; Российской научно-технической конференции "Новые материалы и технологии" (Москва, 1996); Межотраслевом научно-практическом семинаре с участием зарубежных специалистов "Вакуумная металлизация" (Харьков, 1996); II Всероссийской научно-технической конференции "Методы и средства измерений физических величин" (Нижний Новгород, 1997); 2 и 4 российских конференциях с участием зарубежных специалистов "Высокие технологии в промышленности России" (Москва, 1997 и 1998); 2 научно-практическом симпозиуме "Вакуумные технологии и оборудование" (Харьков, 1998); Выездной сессии Проблемного совета "Машиностроение" Министерства общего и профессионального образования РФ "Развитие теории и методов исследования эффективности технологических систем" (Рыбинск, 1999).

Одна из разработок (измеритель толщины покрытий "Слой-4") экспонировалась на Всероссийской выставке ВОИР, международных выставках "Авиадвигатель-92", "Экспофорум-92", "Конверсия-92".

Результаты апробации работы отмечены почетной грамотой Центрального правления НТО РЭС им. А. С. Попова, серебряной медалью ВДНХ (ВВЦ), включением одной из разработок в первый выпуск каталогов научно-технических достижений высшей школы России по отраслям производства, признанием Головным советом "Машиностроение" Министерства общего и профессионального образования РФ представленной работы в качестве основы для докторской диссертации.

Публикации

По результатам диссертации опубликовано 67 печатных работ, в том числе 6 авторских свидетельств и патентов и одна заявка на патент.

Вклад автора

Диссертационная работа представляет собой обобщение результатов исследований, полученных автором лично и совместно с сотрудниками Цибановым А. В., Тучиным В. А. (МАТИ), Сидоркиным В. П., Бу-диловым В. К., Тусовым А. С., Козкой В. К., Латышевым В. Ф., Микульским А. Н., Морозовым И. В., Шигиным Н. С., Собениным О. М., Гусаровым А. В., студентами Горбуновым В. А., Горшковым А. Е., Власовым М. А., Солтыком А. В., Ларионовым Д. А., Красавиным А. В. (РГАТА) и другими.

На разных этапах отдельные проблемы и результаты работы обсуждались с Черняевым В. Н., Обичкиным Ю. Г., Блохиным В. Г., Тянгин-ским А. Е., Густовым А. Е., Черниенко А. В., Газеевым Н. И. (МАТИ, г. Москва), Лагуткиным Г. В., Гавриловым Р. А., Воскобойниковым И. И., Глушковым Н. П., Наконечным В. Г., Ключником Н. Т., Устиновым Ю. А., Беляниным А. Ф. (ЦНИТИ, г. Москва), Мищенко В. П., Осечковым

П. П. (Институт электросварки им. Е. О. Патона, г. Киев)., Соколовым Б. Г., Заборонком Г. Ф. (ВИАМ, г. Москва), Гусариным О. Г., Якобсоном В. Е., Смирновым И. В. (РКБМ, г. Рыбинск), Лигским Ю. Д. (РМЗ, г. Рыбинск), Бирюковым И. М. (ЛМЗ "Сатурн"), Шавкуновым А. В. (НПО "Труд", г. Самара), Рабиновичем А. А., Корсунем А. И. (СПБ "Машпро-ект, г. Николаев), Кофановым Ю. Н., (МГИЭМ, г. Москва), Самойлови-чем М. И. (ВНИИСМС, г. Александров), Зайцевым В. В. (ИвГУ, г. Иваново), Безъязычным В. Ф. (РГАТА, г. Рыбинск).

При проведении испытаний и внедрении разработанных приборов оказывали помощь Гришечкин М. И. (НИЦЭВТ, г. Москва), Грошиков В. А. (Рыбинское КБ приборостроения), Куксо В. В., Румак Н. В., Кос-тенко Е. М., Пухов В. И. (НПО "Интеграл", г. Минск), Зеленин В. А. (Институт физики АН Белоруссии, г. Минск), Малашенко И. С., академик АН Украины Мовчан Б. А. (Институт электросварки им. Е.О. Патона), Поппель В. И., Гусарин О. Г., Ерочкин М. П., Якобсон В. Е., Смирнов А. Г., Калинин Н. Л. (Рыбинское КБ моторостроения), Павленко В. Н., Руднев Ю. Т., Бирюков И. М., Трофименко А. А. (ЛМЗ "Сатурн", г. Лыткарино Московской обл.)

Автор благодарит всех отмеченных выше за советы и помощь в работе, выражает особую благодарность доценту Сидоркину В.П. за ценные идеи и советы, помощь и многолетнее сотрудничество.

В первой главе диссертации проведен анализ состояния проблемы автоматизации контроля параметров технологического процесса термовакуумного нанесения защитных покрытий и тонких пленок. Рассмотрены технологический процесс нанесения покрытий и его математическая модель, проведен системный анализ технологического процесса как сложного объекта. Проанализировано влияние основных параметров технологического процесса на свойства защитных покрытий и тонких пленок по литературным источникам и на основе собственных исследований. Рассмотрены существующие методы контроля параметров защитных покрытий и тонких пленок и параметров технологического процесса их получения. Проведен анализ состояния автоматизации технологического процесса нанесения покрытий в России и за рубежом и показано место предлагаемых исследований и разработок в этой проблеме. Сформулированы цели и задачи исследований.

Во второй главе проведен теоретический анализ вибрационного метода контроля толщины покрытий для авиационной технологии, представлены конструкция вибрационного датчика толщины и семейство измерителей толщины покрытий "Слой".

В третьей главе излагаются результаты исследования фотометрического метода контроля толщины и скорости нанесения керамических покрытий, применяемых в авиационной технологии, и диэлектрических пленок для микроэлектроники. Здесь представлена теория фотометрического метода, в рамках которой проведен анализ отражения подложки с растущей пленкой при различных оптических характеристиках подложек и пленок, предложена математическая модель отражающей поверхности и дано ее сравнение с существующими моделями. Представлены разработанные автором измерители толщины и скорости осаждения и травления диэлектрических пленок.

Четвертая глава посвящена автоматизации контроля параметров ре-зистивных слоев и технологического процесса их нанесения. Вскрыты причины недостаточной воспроизводимости поверхностного сопротивления резистивных слоев в производстве микросборок и даны рекомендации по их устранению. Исследован метод контроля скорости нанесения резистивных слоев и представлен разработанный автором прибор для автоматического управления процессом нанесения резистивных слоев.

В пятой главе освещаются вопросы автоматизации контроля положения электронного луча в зоне тигля установок для электроннолучевого нанесения покрытий. Описан предложенный автором метод определения положения электронного луча с использованием вторичной электронной эмиссии, представлена математическая модель формирования позиционного сигнала. Рассмотрены вопросы безопасной эксплуатации установок и защиты их от аварий при выходе электронного луча за пределы тигля и при недостаточном его охлаждении. Представлена разработанная с участием автора система стабилизации и визуализации положения электронного луча в установке для нанесения покрытий.

В шестой главе решены вопросы метрологического обеспечения средств автоматизации контроля параметров технологического процесса нанесения тонкопленочных покрытий, представлены результаты испытаний разработанных приборов как элементов систем автоматического управления процессом нанесения покрытий.

В седьмой главе приводятся сведения о внедрении на предприятиях и в организациях России, Украины и Белоруссии созданных автором и с его участием средств автоматизации контроля параметров покрытий и технологического процесса их нанесения.

В заключении анализируются полученные результаты и приводятся общие выводы по работе.

Автор защищает:

1. Методологию контроля параметров и автоматизации технологического процесса получения покрытий различного назначения.

2. Качественный и количественный анализ зависимости свойств жаростойких и теплозащитных покрытий и тонких пленок от параметров технологического процесса их нанесения.

3. Теорию вибрационного метода контроля толщины защитных покрытий и относительно толстых пленок, а также результаты разработки, исследования и испытаний семейства вибрационных измерителей толщины

17 жаростойких и теплозащитных покрытий лопаток ГТД.

4. Теорию фотометрического метода контроля толщины и скорости осаждения керамических покрытий и диэлектрических пленок, включающую исследование коэффициента отражения подложки с диэлектрическими и полупроводниковыми слоями и предложенные математические модели отражающей поверхности и системы контроля скорости нанесения пленок, а также результаты разработки, исследования и испытаний фотометрических измерителей толщины и скорости осаждения диэлектрических и полупроводниковых пленок.

7. Результаты исследования метода резистивного свидетеля и прибор для автоматического управления процессом нанесения резистивных слоев.

8. Метод определения момента ухода электронного луча из тигля установки для нанесения покрытий и меры по обеспечению безопасности эксплуатации установок электронно-лучевого нанесения покрытий, результаты разработки и испытаний приборов для защиты установок вакуумного нанесения покрытий от аварийных ситуаций.

9. Теорию вторично-эмиссионного метода определения положения электронного луча в зоне тигля установки для нанесения покрытий, результаты разработки и исследования системы визуализации и стабилизации положения электронного луча в тигле.

Заключение диссертации по теме «Тепловые, электроракетные двигатели и энергоустановки летательных аппаратов», Семенов, Эрнст Иванович

ВЫВОДЫ ПО РАБОТЕ

В работе решены следующие проблемы автоматизации процесса нанесения и повышения качества защитных покрытий и тонких пленок:

1. Представлена методология автоматизации технологического процесса получения тонких пленок различного назначения и сделан вывод, что для повышения качества покрытий и тонких пленок необходимо повысить степень автоматизации контроля параметров покрытий и технологического процесса их получения.

2. Проведен анализ зависимости свойств тонких пленок от параметров технологического процесса их нанесения в вакууме.

3. Предложен метод контроля толщины пленок из различных материалов на базе электромеханической колебательной системы, разработана математическая модель и проведено экспериментальное исследование механотронного и вибрационного датчиков толщины слоев.

4. На базе вибрационного датчика толщины разработано, исследовано и испытано семейство измерителей толщины жаростойких и теплозащитных покрытий для авиационной технологии и турбинного машиностроения.

5. Предложена математическая модель отражающей поверхности поглощающего свет материала, в которой комплексный показатель преломления подложки заменен эффективным действительным показателем преломления, обеспечивающим поверхности такой же коэффициент отражения, как и фактический комплексный показатель преломления. Теоретически и экспериментально показана применимость этой модели в исследованиях и производстве.

6. Разработана методика анализа поведения коэффициента отражения подложек при нанесении на них однослойных и многослойных диэлектрических и полупроводниковых пленок.

7. Предложен фотометрический метод непрерывного контроля скорости нанесения диэлектрических слоев на базе системы фазовой автоподстройки частоты, разработана его теория и проведено экспериментальное исследование.

8. Предложен фотометрический метод автоматического регулирования скорости нанесения диэлектрических слоев.

9. Разработан и исследован прибор для автоматического управления процессом нанесения диэлектрических слоев, в функции которого входит стабилизация скорости нанесения и остановка процесса нанесения диэлектрического слоя при достижении им заданной толщины в технологии микроэлектронных устройств.

10. Разработан, исследован и испытан автоматический лазерный измеритель толщины диэлектрических и полупроводниковых пленок на неподвижных и вращающихся подложках в технологии полупроводниковых интегральных схем.

11. Предложены фотометрические методы непрерывного контроля толщины и скорости нанесения сильно поглощающих (металлических) слоев и метод автоматического регулирования скорости нанесения этих слоев, заключающиеся в выдвижении контрольного образца в область парового потока из-за экрана и измерении отражения или пропускания клинообразного профиля пленки.

12. Проведен анализ дестабилизирующих факторов при нанесении резистивных слоев для микросборок и предложены пути их устранения.

13. Разработан прибор для автоматического управления процессом нанесения резистивных слоев, позволяющий измерять и стабилизировать с помощью встроенного ПИД-регулятора скорость нанесения слоя и останавливать процесс нанесения слоя при достижении им заданного поверхностного сопротивления.

14. Предложен метод определения факта выхода электронного луча за пределы тигля с использованием электронных зондов (коллекторов) и проведено его исследование. Обоснована необходимость применения метода.

15. Разработано и испытано устройство для защиты установок вакуумного нанесения пленок от повреждения электронным лучом в случае выхода его за пределы тигля.

16. Предложен метод определения положения электронного луча в тигле с использованием вторичных и отраженных электронов и коллектора электронов, помещенного в камеру-обскуру, разработана математическая модель формирования позиционного сигнала датчика положения электронного луча.

17. Разработано и испытано компьютерное устройство для определения положения электронного луча в тигле, на базе этого устройства разработана система стабилизации положения луча в тигле.

18. Разработано метрологическое обеспечение предложенных методов и средств автоматизации процесса нанесения тонких пленок и защитных покрытий, включающее в себя:

- методику поверки вибрационных измерителей толщины покрытий;

- методику и прибор для измерения оптических характеристик подложек и диэлектрических пленок, имеющего оригинальное отсчетное устройство;

- методику поверки, калибровки и предварительной настройки фотометрических измерителей толщины и скорости нанесения диэлектрических пленок;

- методику поверки средств определения положения электронного луча.

231

19. Разработанные автором и при его участии средства автоматизации процесса нанесения защитных покрытий и тонких пленок внедрены на различных предприятиях машиностроения, приборостроения и электроники, что подтверждает достоверность полученных теоретических и экспериментальных результатов.

232

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Решение сформулированной в данной работе проблемы обеспечено ее комплексным рассмотрением. Для этого был проведен анализ зависимости свойств вакуумных защитных покрытий и тонких пленок от параметров технологического процесса их получения. Установлено, что контроль не всех параметров технологического процесса получения покрытий и тонких пленок автоматизирован. Повышение стабильности качества покрытий достигнуто увеличением степени автоматизации процесса получения покрытий путем совершенствования существующих и создания новых методов контроля параметров покрытий и технологического процесса [295, 296].

Предложенные научно обоснованные меры позволяют повысить надежность и ресурс ГТД и ГТУ, а также микроэлектронных изделий, и сократить затраты на их изготовление, повысить безопасность эксплуатации оборудования для электронно-лучевого нанесения защитных покрытий и тонких пленок.

Список литературы диссертационного исследования доктор технических наук Семенов, Эрнст Иванович, 1999 год

1. Мовчан Б. А., Малашенко И. С. Жаростойкие покрытия, осаждаемые в вакууме. Киев: Наукова думка, 1983. - 232 с.

2. Будилов В. В., Сырескин В. А., Тулупов В. П. Проблемы и перспективы технологии вакуумной ионно-плазменной обработки деталей ГТД // Авиационная промышленность. 1994. - № 9-10. - С. 19-24.

3. Братухин А. Г., Карасев, Логунов А. В. Перспективные технологии для газотурбинных двигателей новых поколений // Авиационная промышленность. 1995. - № 1-2. - С. 3 - 12.

4. Evaluation of coated combustion turbine components // Turbomach. Int., 1982. 23. - № 2. - P. 23 - 25.

5. Мовчан Б. А., Малашенко И. С., Никитин В. И. и др. Влияние покрытий Co-Cr-Al-Y на физико-механические свойства сплава ЭИ-893 на рабочих лопатках турбины установки ГТ-100 // Проблемы специальной электрометаллургии. 1985. - № 1. - С. 34 - 41.

6. Малашенко И. С., Мяльница Г. Ф., Жирицкий О. Г., Рабинович А. А., Пап П. А., Ващило Н. П. Повышение долговечности лопаток транспортных ГТУ путем применения защитных покрытий // Проблемы специальной электрометаллургии. 1981. - Вып. 15. - С. 52 - 59.

7. Коломыцев П. Т. Высокотемпературные защитные покрытия для никелевых сплавов. М.: Металлургия, 1991. - 237 с.

8. Ляшенко Б. А., Сорока Е. Б., Акинин К. Г. О связи адгезионной прочности и температурных перепадов в теплозащитных покрытиях // Проблемы прочности. 1998. - № 4. - С. 126 - 130.

9. Сулима А. М., Шулов В. А., Ягодкин Ю. Д. Поверхностный слой и эксплуатационные свойства деталей машин. М.: Машиностроение, 1988. - 240 с.

10. П.Мовчан Б. А., Топал В. И., Гречанюк Н. И, Корж А. В. Конструкционные покрытия на лопатках авиационных ГТД II Электроннолучевые и газотермические покрытия: Сб. научных трудов. Киев: ИЭС им. Е. О. Патона, 1988,- С. 77 - 82.

11. Корж А. В., Топал В. И., Данилков А. Н. Некоторые особенности структуры и усталостной прочности лопаток с конструкционными покрытиями П Электронно-лучевые и газотермические покрытия: Сб. научных трудов. Киев: ИЭС им. Е. О. Патона, 1988 - С. 82 - 87.

12. Клокова Н. П. и др. Тензодатчики для экспериментальных исследований. М.: Машиностроение, 1972. - 152 с.

13. Новиков Л. В., Смирнова Р. С. Полупроводниковые пленочные тензодатчики из германия // Полупроводниковые тензодатчики. М.: ОНТИПРИБОР, 1967. - С. 26 - 32.

14. Пучкин Б. И. Приклеиваемые тензодатчики сопротивления. М.: Энергия, 1966.-88 с.

15. Углов А. А., Анищенко Л. М., Кузнецов С. Е. Адгезионная способность пленок. М.: Радио и связь, 1987. - 104 с.

16. Rinshofer H. W. Observations on the measurement of the actual surface temperature II Vacuum. 1980. - № 2. - P. 77 - 79.

17. Берри P., Холл П., Гаррис M. Тонкопленочная технология: Пер. с англ. М.: Энергия, 1972. - 336 с.

18. Технология тонких пленок: Справочник / Под ред. JI. Майссела, Р. Глэнга. Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. М.: Сов. радио, 1977. - Т. 1.-664 с.-Т. 2.-718 с.

19. Коледов J1. А. Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок: Учебник для вузов. М.: Радио и связь, 1989.-400 с.

20. Технология СБИС: В 2-х кн.: Пер. с англ. / Под ред. С. Зи. Кн. 1.-М.: Мир, 1986. - 404 с. - Кн. 2. -М.: Мир, 1986. - 453 с.

21. Труды 1 международного семинара по алмазным пленкам "Алмаз. Алмазные пленки" 30 июня-6 июля 1991 г. // Техника средств связи: Научно-технический сборник Серия Технология производства и оборудование. - М., 1991 - Вып. 4.-216 с.

22. Труды Украинского вакуумного общества: Т. 3. Харьков, 1997.-550 с.

23. Малиновский Б. Н., Подола Н. В., Мищенко В. П. и др. АСУТП электроннолучевого напыления II Управляющие системы и машины. -1979.- № 3. С. 102-106.

24. Глэнг Р. Вакуумное испарение // Технология тонких пленок: Справочник / Под ред. JI. Майссела, Р. Глэнга. Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. М.: Сов. радио, 1977. - Т. 1. - С. 9 - 174.

25. Слуцкая В. В. Тонкие пленки в технике сверхвысоких частот. -М.: Советское радио, 1967. 456 с.

26. Дэшман С. Научные основы вакуумной техники. М.: Изд-во иностр. лит., 1964. - 715 с.

27. Коваленко В. Ф. Теплофизические процессы и электровакуумные приборы. М.: Советское радио, 1975. - 216 с.

28. Иванов-Есипович Н. К. Инженерные основы пленочной микроэлектроники. JL: Энергия, 1968. - 176 с.

29. Анищенко J1. М., Лавренюк С. Ю. Математические основы проектирования высокотемпературных технологических процессов. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1986. - Проблемы науки и технического прогресса. - 80 с.

30. Chopra К. L. Thin film phenomena. N.Y.: McGraw-Hill, 1969.848 p.

31. Хирс Дж., Паунд Г. Испарение и конденсация. М.: Металлургия, 1966.

32. Хирс Дж. П., Хруска С. Дж., Паунд Г. М. Теория образования зародышей при осаждении на подложках // Монокристаллические пленки / Пер. с англ. под ред. 3. Г. Пинскера. М.: Мир, 1966. - С. 16-43.

33. Стрикленд-Констэбл Р. Ф. Кинетика и механизм кристаллизации. JL: Недра, 1971. - 412 с.

34. Родин Т. Н. Уолтон Д. Образование зародышей в ориентированных пленках // Монокристаллические пленки / Пер. с англ. под ред. 3. Г. Пинскера. М.: Мир, 1966. - С. 44 - 57.

35. Палатник JI. С., Папиров И.И. Эпитаксиальные пленки. М.: Наука, 1971.-480 с.

36. Нейгебауэр К. А. Конденсация, образование зародышей и рост тонких пленок // Технология тонких пленок: Справочник / Под ред. JI. Майссела, Р. Глэнга. Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко.- М.: Сов. радио, 1977.-Т. 2.- С. 9-56.

37. Шиллер 3., Гайзиг У., Панцер 3. Электронно-лучевая технология: Пер. с нем. М.: Энергия, 1980. - 528 с.

38. Штеккельмахер В. Методы контролируемого нанесения тонких пленок // Пленочная микроэлектроника / Под общ. ред. JI. Холлэнда: Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона. М.: Мир, 1968. - С. 258 - 329.

39. Никитин M. М. Технология и оборудование вакуумного напыления. М.: Металлургия, 1992. - 112 с.

40. Блох А. Г. Основы теплообмена излучением. M.-JL: Госэнер-гоиздат, 1962. - 332 с.

41. Демченко В. Ф., Щербицкий В. В., Зельниченко А. Т. и др. Энергетический баланс установки для электронно-лучевого испарения материалов // Проблемы специальной электрометаллургии. -1988. № 2. - С. 55 - 58.

42. Ройх И. J1., Колтунова JI. Н., Федосов С. Н., Нанесение защитных покрытий в вакууме. М.: Машиностроение, 1976. - 368 с.

43. Иевлев В. М., Трусов J1. И., Холянский В. А. Структурные превращения в тонких пленках. М.: Металлургия, 1982. - 248 с.

44. Пентекост Дж. Л. Материалы и системы покрытий // Высокотемпературные неорганические покрытия / Под ред. Дж. Гуменика, мл.: Пер. с англ. М.: Металлургия, 1968. - с. 20 - 143.

45. Thnni W. Нанесение оптических покрытий: контроль и автоматизация процессов (Déposition of Optical Coatings: Process Control and Automation). Liechtenstein: Balzers Aktiengesellschaft, 1981. - 24 c.

46. Мовчан Б. A., Демчишин A. В. Исследование структуры и свойств толстых вакуумных конденсатов никеля, титана, вольфрама, окиси алюминия и двуокиси циркония // Физика металлов и металловедение. 1969. - 28. - Вып. 4. - С. 653 - 660.

47. Hoffman D., Leibowitz D. АЬОз Films Prepared by Electron-Beam Evaporation of Hot-Pressed АЬОз in Oxygen Ambient // J. Vac. Sci. and Technol. 8. - № 1. - P. 107-111.

48. Костржицкий A. И., Лебединский О. В. Многокомпонентные вакуумные покрытия. М.: Машиностроение, 1987. - 208 с.

49. Мовчан Б. А., Ушакова С. Е., Ляхов В. И. Исследование процессов реиспарения при вакуумной конденсации меди, никеля, железа и титана // Проблемы спец. электрометаллургии. 1980. - Вып. 13. - С. 66 - 69.

50. Гурский Л. И., Зеленин В. А., Жебин А. П., Вахрин Г. Л. Структура, топология и свойства пленочных резисторов / Под ред. В. А. Лабунова. Минск: Наука и техника, 1987. - 264 с.

51. Черняев В. H., Глудкин О. П., Шишкина Т. И. Структура тонких пленок и ее влияние на эксплуатационные характеристики высокотемпературных тонкопленочных резисторов // Электронная техника. -Серия 2. 1984. - вып. 3(169). - С. 39-45.

52. Popova L. I. Refractive Index of Evaporated SiO Layers // Comptes rendus de l'Academie bulgare des Sciences. 1972. - 25. - № 3. - P. 305 - 308.

53. Мартиросян A. M., Грабин В. В., Гречанюк H. И., Трофименко А. А. и др. Влияние скорости конденсации на структуру покрытий из стабилизированного диоксида циркония // Проблемы спец. электрометаллургии. 1987. - № 2. - С. 47 - 51.

54. Lewis В. The Deposition of Alumina, Silica and Magnesia Films by Electron Bombardment Evaporation // Microelectronics and Reliability. -1964. 3. - № 2. - P. 109 - 120.

55. Метфессель С. Тонкие пленки, их изготовление и измерение. -M.-JI. Госэнергоиздат, 1963. - 272 с.

56. Данилин Б. С. Получение тонкопленочных элементов микросхем. М.: Энергия, 1977. - 136 с.

57. Черняев В. Н., Обичкин Ю. Г., Семенов Э. И. Прибор для измерения показателя преломления тонких диэлектрических пленок // Оптико-механическая промышленность. 1975. - № 12. - С. 38 - 40.

58. Мартынов Г. К., Печенкин А. Н. Надежность технологических процессов // Обзоры по электронной технике. Серия 8 "Управление качеством, метрология, стандартизация". - М.: ЦНИИ Электроника, 1979. - Вып. 3(656), - 88 с.

59. Честнат Г. Техника больших систем (средства системотехники): Пер. с англ. М.: Энергия, 1969. - 656 с.

60. Бусленко Н. П. Моделирование сложных систем. М.: Наука, 1978.-400 с.

61. Будилов В. В., Мухин В. С., Минаева О. Б. Математическое моделирование процессов осаждения вакуумных ионно-плазменных покрытий // Известия вузов: Авиационная техника. 1995. - № 1. - С. 92 -95.

62. Спичак Г. Р., Калашников А. С. Математическое моделирование технологических процессов изготовления тонкопленочных микросборок // Авиационная промышленность. 1990. - № 1. - С. 25 - 27.

63. Глудкин О. П., Обичкин Ю. Г., Блохин В. Г. Статистические методы в технологии производства радиоэлектронной аппаратуры. Под ред. В. Н. Черняева. М.: Энергия, 1977. - 296 с.

64. Доморацкий И. А., Лапин М. С., Меткин Н. П. Унификация инженерных решений технологической подготовки производства микросборок (В условиях автоматизированного производства). М.: Изд-во стандартов, 1989.-248 с.

65. Демидов Ф. П., Аммосова Л. М. Датчики оперативного контроля процессов нанесения и травления пленок /У Электронная промышленность. 1991. - № 7. - С. 20 - 26.

66. Семенов Э. И. Разработка и исследование фотометрических методов контроля и регулирования скорости осаждения диэлектрических слоев в технологии интегральных схем: Дисс. . канд. техн. наук. М.: 1974.- 132 с.

67. Greaves С. Film thickness measurement by monitoring methods // Vacuum. 1970. - 20. - № 8. - P. 332 - 340.

68. Мищенко В. П., Осечков П. П., Новиченко JI. Ф. Весовой измеритель толщины и скорости роста покрытий // Проблемы спец. электрометаллургии. 1985. - № 4. - С. 51 - 55.

69. Мищенко В. П., Подола Н. В., Воробьев В. Н., Тарасов С. С. Автоматизированная система управления процессом электроннолучевого нанесения покрытий II Проблемы спец. электрометаллургии. -1985.-№3.-С. 45-50.

70. Берлин Г. С., Хаськович В. JI. Вакуумное устройство на основе механотрона для контроля параметров тонкопленочных покрытий // Машины и приборы для испытания материалов. М.: Металлургия, 1971.-С. 203-206.

71. Берлин Г. С., Розентул С. А. Механотронные преобразователи и их применение. М.: Энергия, 1974. - 240 с.

72. Берлин Г. С. Механотроны. М.: Радио и связь, 1984. - 248 с.

73. Власов В. Е., Скачко Ю. В., Карцев Е. А. Метод и средства активного контроля толщины пленки в процессе напыления // Электронная техника. Серия 8 Управление качеством и стандартизация. - 1974. -Вып. 2(20).-С. 88-96.

74. Карцев Е. А., Коротков В. П. Унифицированные струнные измерительные преобразователи. М.: Машиностроение, 1982. - 145 с.

75. Steckelmacher W. Instrumentation for monitoring and control of vacuum deposition // Vac.-Techn. 1971. - 20. - № 5. - P. 139 - 150.

76. Данилин Б. С. Вакуумная техника в производстве интегральных схем. М.: Энергия, 1972. - 256 с.

77. Pulker Н. К. et al. Progress in monitoring thin film thickness with quartz crystal resonators // Thin Solid Films. 1976. - vol. 32. - P. 27 - 33.

78. Демидов Ф. П., Лоскутов А. И., Ершов В. К. Применение пье-зокварцевого микровзвешивания при изготовлении тонкопленочных структур // Электронная промышленность. 1989. - № 11. - С. 20 -21.

79. Wehking F., Hartig К., Niedermayer R. Precision measurements of film thickness with a quartz crystal oscillator thermally stabilized by variable heating// Progr. Vacuum Microbalance Techn. -V. 1. London, 1972. - P. 25 -40.

80. A. c. 182340 СССР, МКИ GOlb 7/06. Способ измерения толщины и скорости нанесения пленок / В. В. Устинов, Н. М. Григорьева, А. А. Гришин и др. (СССР). № 1002173/25-28; заявл. 03.04.65; опубл. 25.05.66, бюл. № 11. - 2 с.

81. А. с. 372755 СССР, МКИ GOlb 7/06. Устройство для контроля толщины тонких пленок / В. М. Гудков, В. И. Геращенко (СССР). № 1614384/26-9; заявл. 30.12.70; опубл. 01.03.73, бюл. № 13. - 2 с.

82. А. с. 348856 СССР, МКИ GOlb 7/06. Измеритель толщины напыляемых пленок / В. М. Гудков, Б. В. Гончаренко, Г. А. Шумаков (СССР). Опубл. 23.08.72, бюл. № 25. - 2 с.

83. Пат. 2135776 Великобрит., МКИ3 GOlb 17/02. Измерение толщины пленки. № 8304594; заявл. 18.02.83; опубл. 05.09.84, № 4984.

84. Николаев В. Т. Микровесы с кварцевым резонатором в технологии микроэлектроники. М.: ЦНИИ "Электроника", 1973. - Вып. 1(74).-31 с.

85. Ляпахин А. Б., Пьянков Б. Л., Горбачев Д. Б. Прибор для контроля толщины и скорости осаждения пленок при вакуумном испарении // Оптико-механическая промышленность, 1988. № 1. - С. 29 - 30.

86. Плискин В. А., Занин С. Ж. Толщина и химический состав пленок // Технология тонких пленок: Справочник / Под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга. Пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. Смолко. М.: Сов. радио, 1977. - Т. 2. - С. 176 - 245.

87. Холлэнд Л. Нанесение тонких пленок в вакууме. М.: Госэнер-гоиздат, 1963.

88. Розенберг Г. В. Оптика тонкослойных покрытий. М.: Физмат-гиз, 1958.-570 с.

89. Фурман Ш. А. Тонкослойные оптические покрытия (конструирование и изготовление). Л.: Машиностроение, 1977. - 264 с.

90. Кацнельсон Л. Б. Методы контроля оптической толщины интерференционных пленок, наносимых в вакууме // Оптико-механическая промышленность. 1969. - № 4. - С. 50 - 58.

91. Быстров Ю. А., Колгин Е. А., Котлецов Б. Н. Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве. М.: Радио и связь, 1988.-168 с.

92. Забежинский А. Д., Кацнельсон Л. Б., Староверов Г. И., Фурман Ш. А. Автомат для контроля толщин пленок в процессе изготовления многослойных покрытий // Оптико-механическая промышленность. 1973 . -№ 5. -С. 36-39.

93. А. с. 216961 СССР, МКИС01Ь 7/06. Способ измерения толщины тонких пленок в процессе их изготовления / Л. Б. Кацнельсон, Ш. А. Фурман (СССР). Опубл. 26.04.68, бюл. № 15.

94. Патент 845804 СССР, МКИ3 С01Ъ 11/06. Устройство для измерения толщины оптически тонких слоев / X. Швиккер, Г. Торн, Х.-П. Эрль (ФРГ). Опубл. 07.07.81, бюл. № 25.

95. А. с. 1026004 СССР, MK№ GOlb 11/06. Устройство для контроля толщины тонких пленок, наносимых на подложку / P. X. Фазылзянов, И. X. Исхаков, И. С. Гайнутдинов (СССР). Опубл. 30.06.83, бюл. № 24.

96. Глудкин О. П., Густов А. Е. Устройства и методы фотометрического контроля в технологии производства ИС. М.: Радио и связь, 1981 .-112с.

97. Зеркаль Н. М. Устройство контроля толщины и показателя преломления прозрачных пленок в процессе выращивания // Электронная промышленность. 1989. - № 1. - С. 50.

98. Буйко Л. Д., Дудич В. М., Калошкин Э. П., Колешко В. М., Лашицкий Э. К. Интерференционный метод измерения скорости травления диэлектрических пленок // Приборы и техника эксперимента. 1973. -№ 2.-С. 240-241.

99. Busta Н. Н., Lajos R. Е., Kiewit D. A. Plasma etch monitoring with laser interferometry // Solid State Technology. -1979. 22. - № 2. - P. 61 - 64.

100. Сокол В. А., Сухоруков С. С., Тельнов В. М. и др. Система лазерного контроля процессов плазмохимического травления // Электронная промышленность. 1989. - № 1. - С. 57.

101. А. с. 358613 СССР, МКИ GOlb 11/06. Устройство для контроля толщины напыляемых пленок / А. Е. Лихтман, А. П. Толдов (СССР). -Опубл. 03.11.72, бюл. № 34.

102. А. с. 359509 СССР, МКИ GOlb 11/06. Устройство для контроля толщины пленки в процессе напыления / Л. Н. Высочин, В. В. Концур (СССР). Опубл. 21. 11. 72, бюл. 35.

103. А. с. 890760 СССР, МКИ С23С 13/08. Устройство для контроля скорости осаждения и толщины пленок / В. А. Тучин, Н. Т. Ключник, А. И. Гуров (СССР). 13.05.80.

104. Комраков Б. М., Шапочкин Б. А. Измерение параметров оптических покрытий. М.: Машиностроение, 1986. - 132 с.

105. Гимпельсон В. Д., Радионов Ю. А. Тонкопленочные микросхемы для приборостроения и вычислительной техники. М.: Машиностроение, 1976. 328 с.

106. Прибор ионизационный контроля скорости роста и толщины пленок: Модель КСТ-1 / Справочный лист. М., 1971. - 6 с.

107. Pat. 4036157 USA, Int. CI2 C23C 13/08. Apparatus for monitoring vacuum deposition processes / Chin-shun Lu (USA). Filed 30.01.76; publ. 19.07.77.

108. Зигмунд Х.-Й. Новые измерительные приборы и микропроцессорное управление для напылительных и распылительных установок. -Ганау: Лейбольд-Хереус ГМБХ, 1980. 33 с.

109. Устройства для контроля толщины тонких пленок и покрытий в процессе термовакуумного нанесения и ионного распыления: Отчет о патентных исследованиях / Горьковский филиал Всесоюз. Центра Патент. Услуг. -№ 236. Горький, 1988. - 410 с.

110. Обичкин Ю. Г., Волков В. Н., Цибанов А. В. Измерение толщины и скорости конденсации диэлектрика тонкопленочных конденсаторов в процессе напыления // Электронная техника: Серия 9 Радиокомпоненты. 1971.-№7.-С. 103.

111. Putner Т. I. The vacuum deposition of metal oxide films by automatic control// Optics and Laser Technology. 1972. - Vol. 4. - № 2. - P. 79-86.

112. Зибер JI. H., Кельнер Н. А., Шабельник М. А. Контроль толщины тонких пленок при вакуумном напылении // Изв. Ленингр. электротехн. ин-та. 1980. - № 279. - С. 59-60.

113. Мищенко И. Н., Сокол В. А., Чукаев С. В. Прибор для контроля параметров пленок при их напылении в вакууме // ПТЭ, 1984. № 3. -С. 243-244.

114. Афанасьев И. Б., Тимашов В. А., Щербицкий В. В. Диаграмма направленности парового потока при электронно-лучевом испарении арм-ко-железа // Проблемы спец. электрометаллургии. 1985. -№ 1. - С. 41-45.

115. Марченко А. М., Богаченко А. Г., Бондаренко О. П. Методы контроля уровня жидкого металла для процессов электрошлаковой технологии // Проблемы спец. электрометаллургии. 1985. -№ 4. - С. 14-23.

116. Pat. 3667421 USA, Int. CI2 B05C 11/00, C23C 13/08. Mechanism for controlling the thickness of a coating in a vapor deposition apparatus / Bala M. J., Blecherman S. S. (USA) Filed 17.09.70; publ. 6.06.72.

117. Мищенко В. П. Измерение уровня металлической ванны в установках для электронно-лучевого испарения и плавки // Проблемы спец. электрометаллургии. 1988. - № 2. - С. 50-54.

118. Молоковский С.И., Сушков А.Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. -2-е изд., перераб. и доп. М.: Энергоатомгодат, 1991. - 304 с.

119. Гусаров А. В. Автоматическая стабилизация положения электронного луча в испарителе с целью обеспечения качества защитных покрытий лопаток ГТД: Дисс. . канд. техн. наук. Рыбинск, 1998. - 243 с.

120. Алямовский И. В. Электронные пучки и электронные пушки. М: Советское радио, 1966. 456 с.

121. Силадьи М. Электронная и ионная оптика: Пер. с англ.

122. M.: Мир, 1990.-639 е., ил.

123. Винокуров В.А., Введенская Е.А. Метод расчета характеристик пучка заряженных частиц в электрическом поле // Лучевая технология электронной техники: Моделирование и эксперимент. Межвузовский сборник. М. - 1989. - С. 69 - 74.

124. Антонов C.B. Разработка численных методов и исследование влияния парогазовой среды на формирование электронного пучка в электронно-лучевых технологических установках: Дис. . канд. техн. наук.-Л., 1987.-229 с.

125. Ланкин Ю.Н. Точность экспериментальной оценки распределения плотности тока по сечению электронного пучка // Автоматическая сварка. 1984. - № 4. - С. 69 - 70.

126. Овчинников A.B. Метод анализа потоков заряженных частиц // Зарубежная радиоэлектроника. 1979. - № 5. - С. 26 - 41.

127. Звягин В.Б., Зуев И. В., Подольский В. П., Углов А. А. Расчет и экспериментальное распределение плотности тока по сечению электронного пучка // Физика и химия обработки материалов. 1979. -№3. -С. 35-38.

128. Никифоров Д. Д., Лифшиц М. Л. Телевизионные автоматы в сварке атомной техники.-М: Энергоатомиздат, 1985. 128 с.

129. Сергеев А.И., Стрелецкий Ю.И. Телевизионный датчик для адаптивных сварочных автоматов // Автоматическая сварка. 1990. - № 6.-С. 71-72.

130. А. с. 529444 СССР, mkw G 05 D 3/04. Устройство для автоматического регулирования положения объекта / Лифшиц М. Л., Камалин Ю. П., Георгиевский Л. М. и др. (СССР), опубл. в бюл. № 35.-1976 г.

131. Sensor for the detection of the incident point of an electron beam / GroeschlM., BenesE., Schmidt E. SiegmundH., Thorn G., Thomas F. W. //

132. Thin Solid Films. -1989. Vol. 174. - № 7. - P. 323-329.

133. Баня E. H., Киселевский Ф. H., Мельник И. M. и др. Об использовании рентгеновских датчиков в системах автоматического направления электронного луча по стыку // V Всесоюзная конференция по электроннолучевой сварке. Киев: Наукова думка - 1977. - С. 126.

134. Рубинович И. М., Дмитриев А. А, Кисс П. Э. и др. Использование рентгеновского излучения сварочной ванны для контроля ЭЛС // X Всесоюзная конференция " Электронно-лучевая сварка": Тезисы докладов. Ленинград. 22 - 24 ноября 1988 г. - Л. - 1988. - С. 61.

135. Fuchs H.F., Wu D.Q., Chu В. An area X-ray detector system based on a commercially CCD-unit // Review of Scientific Instruments. -1990. Vol. 61. - № 2. - P. 712 - 716.

136. Варварица В. П., Викулов И. В., Ивашов В. В. и др. Пропор-ционально-сцинтилляционные детекторы (обзор) // Приборы и техника эксперимента. 1992. - № 5. - С. 11 - 31.

137. Корж В. И., Кусков В. Е., Стенин В. Я. Детекторы рентгеновского излучения на приборах с зарядовой связью (обзор) // Приборы и техника эксперимента. 1982. - № 3. - С. 7-19.

138. Коннов В. В., Добромыслов В. А., Соснин Ф. Р. и др. Типовыеметодики радиационно-дефектоскопического контроля (Россия, Германия, США) // Контроль. Диагностика. 1999. - № 1. - С. 31-41.

139. Михайличенко М. А. Датчик координат и тока интенсивного электронного пучка со сверхвысокочастотной модуляцией И Приборы и техника эксперимента. 1984. - № 2. - С. 149 - 150.

140. Панин В. В., Степанов Б. М. Практическая магнитометрия.-М.: Машиностроение, 1978. 112 с.

141. Бабенко Н. С. Методы измерения переменных и импульсных магнитных полей (обзор) // Приборы и техника эксперимента. 1970. -№4.-С. 7-15.

142. Розенблант М. А. Гальваномагнитные датчики. Состояние и перспективы развития // Автоматика и телемеханика. -1997. № 1. - С. 3 - 46.

143. Гринберг И. П., Шуляковский Е. А. Измерители индукции переменных магнитных полей. Киев: Техшка, 1982. - 168 с.

144. Durr W., Oppelt R. Novel electromagnetic field probes with ultrasonic transmission lines for field measurements with minimum interaction // Review of Scientific Instruments. Vol. 61. - 1990. - № 2. - P. 859 - 864.

145. Кобус А., Тушинский Я. Датчики Холла и магниторезисторы: Пер. с польск. М.: Энергия, 1971. - 352 с.

146. Ростами X. Р. Чувствительный холловский магнитометр на переменном токе // Приборы и техника эксперимента. 1993. - № 6. - С. 182- 183.

147. Ананьев И. П. Кольцевые гальваномагнитные преобразователи малых магнитных индукций // Приборы и техника эксперимента. -1982. № 1. - С. 190- 192.

148. Васильева Н. П., Касаткин С. И., Муравьев А. М. Магниторе-зистивные датчики на тонких ферромагнитных пленках (обзор) У/ Приборы и системы управления. 1994. - № 8. - С. 20 - 23.

149. Федотов С. И., Залкинд В. М. Устройство для измерения напряженности магнитного поля с помощью магнитодиода // Приборы и техника эксперимента. 1987. - № 4. - С. 157 - 159.

150. Викулин И. М., Глауберман М. А., Викулина J1. Ф. Датчик магнитного поля на основе двухколлекторного магнитотранзистора // Приборы и техника эксперимента. -1974. -№ 5. С. 181 -182.

151. Алексеев В. В., Викулин И. М. Датчики магнитного поля на основе полевых транзисторов // Приборы и техника эксперимента. -1984.-№2.-С. 185- 186.

152. Быстров Ю. А., Иванов С. А. Ускорительная техника и рентгеновские приборы: Учебник для вузов по специальности "Электронные приборы". М.: Высшая школа, 1985. - 288 с.

153. Быстров Ю. А. Измерение тока и пространственной ориентации мощных электронных пучков // Материалы международной конференции по электронно-лучевым технологиям. Болгария, Варна. 26 мая 2 июня 1985 г. - София, 1985. - С. 85 - 90.

154. Никонов О. К., Савельев Ю. М., Энгелько В. И. Датчик для измерения плотности тока сильноточного микросекундного пучка // Приборы и техника эксперимента. 1984. - № 1. - С. 37 - 39.

155. Маркин А. П., Пустынский Jl. Н. Измерение распределения плотности тока осесимметричных пучков заряженных частиц // Приборы и техника эксперимента. 1989. - № 2. - С. 50 - 53.

156. Strehl P. Beam diagnostics ( invited ) // Review of Scientific Instruments. 1992. - Vol. 63. -№ 4 (Part II). - P. 2652 - 2659.

157. Алексеев Г. И., Блинов А. М. Измерение параметров электронного потока проволочными коллекторами // Сильноточные электронные пучки и новые методы ускорения: АН СССР. Радиотехнический институт (Сборник научных трудов). М., - 1985. - С. 21 - 32.

158. Fiorito R. В., Raleigh M., Seltzer S. M. Current density monitor for intense relativistic electron beams // Review of Scientific Instruments. -1986. -Vol. 57.-№ 10. -P. 2462-2470.

159. Меркер Э. А. Устройство дня прецизионного измерения координат и формы выведенного пучка протонов // Приборы и техника эксперимента. 1975. - №6. - С. 25 - 27.

160. Laflamme G. R., Powers D. Е. Diagnostic Device Quantifies, defines geometric characteristics of electron beams // Welding journal. 1991. - № 10.-P. 33-40.

161. Рыкалин H. H, Зуев И. В., Углов А. А. Основы электроннолучевой обработки материалов. М.: Машиностроение, 1978. -239 с.

162. Назаренко O.K., Локшин В.Е., Акопьянц И.С. Измерение параметров мощных электронных пучков методом вращающегося зонда // Электронная обработка материалов. 1970. -№1.- С. 87-90.

163. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов / Дж. Р. Брюэр, Д. С. Гринич, Д. Р. Херриот и др.; Под ред. Дж. Р. Брюэра: Пер. с англ. М.: Радио и связь, 1984. - 336 с.

164. Патент А 2201288 Великобр. МКИ4 H01J 37/252,37/05, 37/14, 37/244. Electron beam apparatus / Simon С. J. Garth, JohnN. Sacket, Denis Frank Spiser. Электронно-лучевая установка. - 28 с.

165. Патент 5278406 США МКИ5 H01J 37/252. Apparatus for detecting information contained in electrons emitted from sample surface /Katsuyuki К. Устройство для выделения информации из потока испускаемых поверхностью образца электронов. 12 с.

166. Назаренко О. К., Горбунов В. М., Шаповал В. И. Режимы работы системы "Прицел-4" слежения за стыком при электронно-лучевой сварке Н Автоматическая сварка. 1985. - № 8. - С. 65 - 67.

167. Электронно-лучевая сварка / Назаренко О. К., Кайдулов А. А., Ковбасенко С. Н. и др.; Под ред. Б. Е. Патона. Киев: Наукова думка, 1987.-256 с.

168. А. с. 315542 МПК В 23k 15/00. Устройство для автоматического слежения за стыком / Баня E.H., Киселевский Ф.Н., Пантелеенко Г.А.- опубл. в бюл. №29 . 1971 г.

169. Спыну Г. А., Пастушенко Ю. И., Назаренко О. К. и др. Система для автоматического ведения пучка электронов по стыку // Автоматическая сварка. 1974. - № 1. - С. 72 - 73.

170. Куцан Ю. Г., Лесков Г. И., Червинский Н. В. Наведение луча пушки на стык при электроннолучевой сварке // Автоматическая сварка.- 1973.-№10.-С. 71 -72.

171. Чайка Н. К. Растровое телевизионное устройство сварочных электронно-лучевых установок // Материалы XI Всесоюзной научно-технической конференции по электронно-лучевой сварке. Николаев. 13 октября 1991 г. JL: Судостроение, 1991. - С. 133 - 136.

172. Оптический контроль в производстве тонких пленок в вакууме: Проспект фирмы Leybold-Heraeus. Hanau, 1977. - 6 с.

173. Process-Photometer OMS-2000. Leybold-Heraeus: Hanau, 1979.- 8 с. (Проспект фирмы Leybold-Heraeus).

174. Information neue Produkte: UNIVEX 450 Universelle Experimentieranlage. - Köln, 1981. - 4 s. (Проспект фирмы Leybold-Heraeus).

175. Вакуумное напыление в электронике: Проспект фирмы Ley-bold-Heraeus. Hanau, 1984. - 6 с.

176. ЛЕЙБОЛЬД АГ. Спектр производства / Проспект фирмы к международной выставке "Электротехнология" в г. Москве. Ханау. -Лейбольд АГ, 1990. - 130 с.

177. Exhibition Information: Balzers at the Electronmash '86 from 13th to 23rd October 1986 in Moscow. Liechtenstein: Balzers, 1986. -4 s. (Проспект фирмы Balzers к выставке "Электронмаш '86" в Москве).

178. High-Vacuum Process System ВАК 600 for Production of Thin Films in the Optical and Electronics Industries. Liechtenstein: Balzers, 1982. -8 s. (Проспект фирмы Balzers).

179. Hochvakuum-Prozess-System ВАК 760 zur Herstellung Dünner Schichten für die Optik und Elektronik. Liechtenstein: Balzers, 1986. - 12 s. (Проспект фирмы Balzers).

180. Проспект фирмы АЛЬКАТЕЛЬ для выставки "ЭЛЕКТРОН-МАШ-82". Париж: АЛЬКАТЕЛЬ, 1982. - 8 с.

181. Thin film equipment: Multi process deposition systems SCM series.- Paris: CIT ALCATEL, 1982. 16 p. (Проспект фирмы CIT ALCATEL).

182. Multi process sputtering deposition system SCM451 SCM601. -Paris: CIT ALCATEL, 1982. - 18 p. (Проспект фирмы CIT ALCATEL).

183. Industrial box coaters EVA600. Paris: CIT ALCATEL, 1982. -12 p. (Проспект фирмы CIT ALCATEL).

184. Вакуумная техника: Каталог компонентов / СИТ-Алкатель. -Париж: 1988.-246 с.

185. Large capacity: High vacuum coater EBX series. Tokyo: ULYAC, 1980. - 8 p. (Проспект фирмы ULVAC).

186. Two chamber type: High vacuum coater SYSTEM-1200IIS. Tokyo: ULVAC, 1980. - 4 p. (Проспект фирмы ULVAC).

187. Автоматическая вакуумная установка осаждения полунепрерывного действия модель CES-3. Токио: СИНКУ КИКАЙ КОГИО КО., ЛТД, 1982. - 4 с. (Проспект фирмы SHINKU KIKAIKOGIO КО., LTD).

188. Компьютерная система для осаждения MDS-2001. Токио: СИНКУ КИКАЙ КОГИО КО., ЛТД, 1982. - 2 с. (Проспект фирмы SHINKU KIKAI KOGIO КО., LTD).

189. Фотоэлектрический контрольный измеритель толщины пленки серии ОРМ-6. Токио: СИНКУ КИКАЙ КОГИО КО., ЛТД, 1982. - 4 с. (Проспект фирмы SHINKU KIKAI KOGIO КО., LTD).

190. Вакуумное напылительное оборудование в производстве тонкопленочных ГИС (Обзор) // Радиоэлектроника за рубежом. 1980. -Вып. 5 (899).-С. 1-34.

191. Некрасов Л. Т., Громов Ю. К., Лопарев С. Ф. Микропроцессорные блоки управления "Орион" // Электронная промышленность. -1990. -№12. -С. 55-58.

192. Данилин А. Б., Кузнецов M. Н., Майоров А. А. и др. Адаптивное управление термическим испарением в вакууме // Автоматика и телемеханика. 1985. - № 4. - С. 81-86.

193. Беденко В. В., Беляков А. И., Майоров А. А. и др. Электроннолучевая вакуумная установка "Электроника ТМ-1205" // Электронная промышленность. 1991. - № 5. - С. 5-6.

194. Панфилов Ю. В., Одиноков В. В., Панфилов А. Ю. Автоматизированная система создания, редактирования и анализа циклограмм работы сложного технологического оборудования // Электронная промышленность. 1993. - № 8. - С. 76-77.

195. Тихоновский А. Д., Тур А. А., Кравец А. Н. и др. Электроннолучевая установка УЭ-208 // Проблемы спец. электрометаллургии. 1992. -№1.-С. 71-74.

196. Мищенко В. П., Бурьянов В. П., Новиченко Л. Ф. Совершенствование устройств управления электронным лучом в установках для плавки и испарения материалов // Проблемы спец. электрометаллургии. 1982.-Вып. 16.-С. 57-60.

197. Мищенко В. П., Осечков П. П. Анализ параметров и основные задачи автоматического регулирования процесса электроннолучевого испарения и конденсации // Проблемы спец. электрометаллургии. 1976. -Вып. 5.-С. 75-79.

198. Патон Б. Е., Подола Н. В., Мищенко В. П. Функции и основные алгоритмы АСУ технологическим процессом электроннолучевого испарения // Проблемы спец. электрометаллургии. 1979. - Вып. 10. - С. 50-55.

199. Воробьев В. Н., Мищенко В. П., Панкин Ю. Н., Тарасов С. С. Система автоматического управления установками для электроннолучевого нанесения покрытий Н Проблемы спец. электрометаллургии. -1988.-№4.-С. 57-62.

200. Деулин Е. А. Развитие автоматизированного вакуумного технологического оборудования // Труды МВТУ им. Н. Э. Баумана. 1978. -№267.-С. 39-51.

201. Боков Ю. С., Шевченко А. И. Интегрированные процессы и кластерное оборудование в субмикронной технологии П Электронная промышленность. 1993. -№ 5. -С. 21-24.

202. Мелехин Ю. Я., Минайчев В. Е., Одиноков В. В. и др. Развитие вакуумного оборудования для нанесения пленочных структур ИС // Электронная техника: Серия 3 Микроэлектроника. 1987. - Вып. 4 (124). -С. 151-161.

203. Семенов Э.И., Микульский А.Н. Датчик контроля толщины покрытий и его экспериментальные исследования // Датчики для систем контроля и управления технологическими процессами: Межвуз. сб. науч. тр. Ярославль, 1984. - С. 21 - -23.

204. Беляев Н.М. Сопротивление материалов. М.: Наука, 1976.599 с.

205. Пановко Я. Г. Основы прикладной теории упругих колебаний. 2-е изд. перераб. - М.: Машиностроение, 1967.

206. Семенов Э.И., Сидоркин В.П., Микульский А.Н. Непрерывный контроль толщины и скорости нанесения слоев // Тезисы докладов 10 научно-технической конференции, посвященной дню Радио. Москва, НТОРЭС им. A.C. Попова, 1984.

207. A.c. 1127913 СССР, МКИ3 С 23 С 13/00. Устройство для контроля толщины покрытия / Семенов Э. И., Сидоркин В. П., Латышев В. Ф. (СССР). № 3570472/24-21; заявл. 30.03.83; опубл. 07.12.84, бюл. № 45. - 4 с.

208. Семенов Э. И., Сидоркин В. П., Латышев В. Ф. Устройство для непрерывного контроля толщины наносимых покрытий // Датчики в измерительно-информационных системах. Материалы комплексной целевой программы "Датчики". Ижевск, 1984.

209. A.c. 1415041 СССР, МКИ4 G 01 В 7/06, С 23 С 14/56. Способ непрерывного контроля толщины покрытий при их напылении и устройство для его осуществления / Семенов Э.И., Сидоркин В.П. (СССР). -Опубл. 07.08.88. Бюл. №29.

210. Семенов Э.И., Сидоркин В.П. Измеритель толщины покрытий "Слой-4" // Информационный листок № 362-90. Ярославский ЦНТИ, 1990.

211. Coating thickness meter // Higher School of Russia: Catalog of scientific and technological advances. Machine building. Issue 1, Moscow, The State committee of the Russian Federation on higher education, 1994, p.31.

212. Измеритель толщины покрытий // Высшая школа России: Каталог научно-технических достижений. Машиностроение. Выпуск 1. Москва, Госкомитет Российской Федерации по высшему образованию, 1994, с. 34.

213. Алгазин Ю.Г. и др. Оптические постоянные атомарно-чистой поверхности германия и кремния и их температурные зависимости // Оптика и спектроскопия. 1978. - 45. - вып. 2. - С. 330-339.

214. MurmannН. //Zeits. f. Phys. 1933.-80. - P. 161

215. ПГкляревский И. Н., Шкляревский О. Н. // Оптика и спектроскопия. 1969. - 27. - вып. 4. - С. 65^660.

216. Ruis-Urbieta М., Sparrow Е. М., Eckert Е. R. G. // J. Opt. Soc. of America. 1971.-61.-P. 351-359.

217. Крылова T. H. Интерференционные покрытия. Л.: Машиностроение, 1973.

218. Семенов Э. И. Контроль толщины многослойных покрытий в технологии интегральных схем // Высокие технологии в промышленности России: Материалы 2 Российской конференции с участие зарубежных специалистов 22-23 мая 1997 г. Москва, 1997. - СЛ17-124.

219. Семенов Э. И. Фотометрические методы непрерывного контроля и регулирования скорости осаждения диэлектрических пленок // Вопросы автоматизации технологических и производственных процессов: Меж-вуз. сб. науч. тр. Ярославль, 1976. - Вып. 1. - С. 58 - 61.

220. Семенов Э. И. О методической погрешности фотометрического измерителя скорости осаждения диэлектрических пленок // Там же. -С. 62-68.

221. Черняев В. Н., Обичкин Ю. Г., Семенов Э. И. Непрерывный контроль толщины и скорости осаждения и травления диэлектрических и полупроводниковых пленок // Приборы и техника эксперимента. 1974. -№ 6.- С. 191-192.

222. А. с. 448756 СССР, МКИ С23С 15/00. Устройство для регулирования скорости осаждения прозрачных пленок / Семенов Э. И., Черняев В. Н., Обичкин Ю. Г., Цибанов А. В. (СССР). № 1797156/26-9; заявл. 12.06.72.-5 с.

223. A.c. 482100 СССР, МКИ С23С 13/00, G01N 15/02. Устройство для регулирования скорости осаждения тонких пленок / Семенов Э. И., Тучин В. А., Черняев В. Н. (СССР). № 1930724/26-21; заявл. 04.06.73; 4 с.

224. A.c. 483895 СССР, МКИ G01N 15/02, С23С 13/00. Устройство для контроля скорости осаждения и толщины пленок / Тучин В. А., Семенов Э. И., Черняев В. Н. (СССР). -№ 1930727/26-21; заявл. 04.06.73; 4 с.

225. Turner J.A., Birtwistle J.K., Hoffman R.G.II J. Sei. Instr. 1963.40.

226. Семенов Э. И. Автоматическое управление процессом нанесения резистивных пленок // Труды Укр. вакуум, общ-ва. Харьков, 1997. -Т. 3. - С. 348 - 350.

227. Кузнецов М. Н., Привалов Е. С. Стабилизация параметров испарения при вакуумном осаждении тонких пленок // Электронная техника. Серия 6 Микроэлектроника. - 1967. - вып. 8. - С. 63-70.

228. Бутузов В. С., Данилин Б. С., Кузнецов М. Н. Комплект аппаратуры для управления процессом термического осаждения тонких пленок // Автоматика и телемеханика. 1969. - № 8. - С. 190-194.

229. Иванов Е. А., Кузнецов М. Н. Качество системы автоматического регулирования технологических процессов в зависимости от алгоритма управления и параметров объекта // Электронная техника. Серия

230. Технология и организация производства. 1969. - Вып. 3(28). - С. 101-110.

231. Данилин Б. С., Кузнецов М. Н. Статические и динамические характеристики термических испарителей // Электронная техника. Серия 6 Микроэлектроника. - 1971. - вып. 2. - С. 70-74.

232. Пат. 2014364 РФ, МКИ5 С 23 С 14/00. Вакуумная установка для электронно-лучевого напыления покрытий / Семенов Э.И., Сидоркин В.П. (Россия). № 4876307/21; заявл. 02.10.90; опубл. 15.06.94, бюл. № 11. - 4 с.

233. Семенов Э. И., Сидоркин В. П., Гусаров А. В., Ларионов Д. А. Установка вакуумного напыления УВН-75Р-1 с защитой от повреждения электронным лучом: Информ. листок № 140-94. Ярославль: ЦНТИ, 1994.-4 с.

234. Семенов Э. И., Сидоркин В. П., Гусаров А. В., Ларионов Д. А. Блок защиты установки вакуумного напыления от повреждения электронным лучом // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. 1997. - № 2. - С. 42-44.

235. Thorngate G. Н. A method to prevent catastrophic failure in a vacuum system // Vacuum. 1976. - V. 26. - № 6. - P. 245-246.

236. Самбурский Э. А., Басманов Л. И. Электронно-лучевой испаритель тугоплавких металлов для сверхвысокого вакуума // Электронная промышленность, 1990, № 10, С. 70.

237. Семенов Э. И., Старков А. Н., Ильин С. Ю. Сигнализатор отсутствия воды или ее недостаточного потока: Информ. листок № 49-97. -Ярославль: ЦНТИ, 1997. 4 с.

238. Заявка № 95116946/02 от 03.10.95 (РФ), МПК6 С23С 14/00. Электронно-лучевая установка для нанесения покрытий / Семенов Э. И., Гусаров А. В. (Россия). Опубл. в бюл. № 29(1 ч.). - 1977. - С. 88.

239. Гусаров А. В., Семенов Э. И. Выбор способа определения положения электронного луча в установках для вакуумного нанесения покрытий // Материалы 6-го междунар. симп. "Тонкие пленки в электронике". Москва Киев - Херсон, 1995. -Т.1. - С. 38 - 41.

240. Семенов Э.И. Гусаров A.B. Определение положения электронного луча методом вторичной электронной эмиссии в процессе нанесения покрытий // Материалы 7-го междунар. симп. "Тонкие пленки в электронике". Москва - Йошкар-Ола, 1996. - С. 256 -257.

241. Семенов Э.И., Гусаров A.B., Сидоркин В.П. Вакуумная установка УВН-75Р-1 с устройством определения положения электронного луча: Информ. листок № 145-95. Ярославль: ЦНТИ, 1995. - 4 с.

242. Семенов Э. И., Гусаров А. В., Сидоркин В. П. Методы определения положения электронного луча для АСУТП электронно-лучевого нанесения покрытий // Труды Украинского вакуумного общества. -Харьков, 1996. Т. 2. - С. 272 - 275.

243. Чайка Н. К. Видеотракт растрового телевизионного устройства сварочной электроннолучевой установки // Автоматическая сварка.-1994,-№5.-С. 44-47.

244. Бронштейн И. М., Фрайман Б. С. Вторичная электронная эмиссия. М.: Наука, 1969. - 408 с.

245. Растровая электронная микроскопия и рентгеновский микроанализ / Д. Гоулдстейн, Д. Ньюберн, П. Эчлин, Д. Джой и др.: В 2-х кн. Книга 1. Пер. с англ. М.: Мир, 1984. - 303 с.

246. Бронштейн И. Н., Семендяев К. А. Справочник по математике для инженеров и учащихся втузов. 13-е изд., исправленное. - М.: Наука, Главная редакция физ.-мат. литературы, 1986. - 544 с.

247. Семенов Э. И., Гусаров А. В. Вакуумная установка УВН-75Р-1 с системой стабилизации положения электронного луча: Информационный листок №154- 96. Ярославль: ЦНТИ, 1996. - 4 с.

248. Семенов Э. И., Гусаров А. В. Система стабилизации положения электронного луча в установках для нанесения тонких пленок // Труды Украинского Вакуумного Общества. Харьков - 1997. - Т. 3, с. 351 - 352.

249. Семенов Э. И., Гусаров А. В. Система стабилизации и визуализации положения электронного луча в испарителе установки вакуумного нанесения тонких пленок / Материалы 9-го междунар. симп. "Тонкие пленки в электронике". Иваново: ИвГУ, 1998. - С. 99 -102.

250. Разработка измерителя толщины жаростойких и теплозащитных покрытий, наносимых в вакууме: Отчет о НИР (заключительный) / Рыбинский авиац. технол. ин-т (РАТИ); Руководитель Семенов Э. И. -№ ГР 01870036770. Рыбинск, 1987. - 30 с.

251. Pero К. Г. Метрологическая обработка результатов технических измерений: Справочное пособие. К.: Техшка, 1987.

252. Дьяконов В. П. Справочник по алгоритмам и программам на языке бейсик для персональных ЭВМ. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1987.-240 с.

253. Abelés F. // Comptes Rendus des Seances de l'Academie des Sciences.- Paris, 1949. V. 228. - P. 553.

254. Pliskin W. A., Esch R. P. Il J. of Appl. Phys. 1968. - V. 36. - № 6. -P. 2011.

255. Автоматизация процесса напыления резистивных слоев: Отчет о НИР (заключит.) / Рыбинский авиац. технол. ин-т. (РАТИ). Руководитель Семенов Э. И. - Тема № 201-77; №ГР 77026547; Инв. № Б 948709. -Рыбинск, 1979.-60 с.