Поляризационно-оптические методы исследования и контроля физико-технических характеристик поверхностных слоев элементов оптотехники тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.11.07, кандидат технических наук Иванов, Владимир Юрьевич

• Иванов, Владимир Юрьевич
• кандидат технических наук
• 2010

Оглавление диссертации кандидат технических наук Иванов, Владимир Юрьевич

ВВЕДЕНИЕ

ГЛАВА I. АППАРАТУРА И МЕТОДЫ ИЗМЕРЕНИЯ ОСНОВНЫХ ПОЛЯРИЗАЦИОННО-ОПТИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ В ЭЛЛИПСОМЕТРИИ ОТРАЖАЮЩИХ СИСТЕМ

1.1. Методы компенсационной (нулевой) эллипсометрии

1.2. Метрологическое обеспечение эллипсометрического метода . 26 Выводы

ГЛАВА И. ТЕОРИЯ ЭЛЛИПСОМЕТРИИ НЕОДНОРОДНЫХ СЛОЕВ И ШЕРОХОВАТОЙ ПОВЕРХНОСТИ ЭЛЕМЕНТОВ ОПТОТЕХНИКИ

2.1 Методы определения оптических характеристик неоднородных и анизотропных отражающих систем

2.1.1 Эффективная диэлектрическая проницаемость и толщина поверхностного слоя

2.2 Поляризационно-оптические свойства неоднородных и анизотропных поверхностных*слоев

2.2.1 Отражение поляризованного света от неоднородного анизотропного поверхностного слоя

2.2.2 Анализ области применимости точных и приближенных теорий отражения поляризованного света от неоднородных слоев

2.2.3 Основные закономерности изменения состояния поляризации светового пучка отраженного от неоднородного слоя

2.3 Поляризационно-оптические свойства шероховатой поверхности диэлектриков и полупроводников . 73 Выводы

ГЛАВА III. МЕТОДЫ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК ЭЛЕМЕНТОВ ЛАЗЕРНОЙ ТЕХНИКИ

3.1 Влияние неоднородности физико-химической структуры плавленого и кристаллического кварца на потери излучения в оптических элементах ионных и эксимерных лазеров

3.2 Определение оптических характеристик элементов лазерной техники методом внутрирезонаторных потерь излучения

3.3 Методы эллипсометрического анализа неоднородных поверхностных слоев элементов лазерной техники

3.4 Определение потерь излучения в оптических элементах методами эллипсометрии и спектрофотометрии

Выводы

ГЛАВА IV. МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ И КОНТРОЛЯ ФИЗИКО-ТЕХНИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК ЭЛЕМЕНТОВ ОПТОТЕХНИКИ

4.1 Кинетика и физико-химические механизмы формирования неоднородной структуры поверхностного слоя элементов оптотехники

4.2 Методы определения оптических характеристик волноводных поверхностных слоев

Выводы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Поляризационно-оптические методы исследования и контроля физико-технических характеристик поверхностных слоев элементов оптотехники»

В настоящее время для создания новых управляемых технологий изготовления элементов лазерной и оптотехники- необходимо не только детальное изучение физико-химических процессов, приводящих при различных внешних воздействиях (механических, химических, тепловых, радиационных и т.п.) к образованию модифицированной структуры поверхностного слоя (ПС) оптического элемента, выполненного из силикатного стекла или кристалла, но также требуется разработка прецизионных методов контроля поляризационно-оп-тических и спектрофотометрических характеристик элементов лазерной и оптотехники на всех этапах технологического цикла изготовления оптико-электронных узлов элементов оптотехники.

Для формирования научных представлений о природе, кинетике и физико-химических механизмах, приводящих к образованию на оптических элементах неоднородных и анизотропных ПС с измененной структурой и микрогеометрией поверхности детали при различной технологической, обработке-оптических деталей, необходимо выяснить, основные закономерности изменения состава, структуры и оптических свойств,ПС элементов1, на'различных этапах получения изделий- оптотехники с заданными! физико-техническими характеристиками и установить истинные корреляционные связи», между оптическими свойствами ПС и технологическими параметрами процесса изготовления1 детали.

Потребности практики в технической реализации, принципиально новых технологий изготовления элементов оптотехники заставляют при спектрофотометрических и поляризационно-оптических исследованиях модифицированной структуры ПС применять широкий класс ранее не используемых физико-математических моделей отражающих неоднородных анизотропных оптических систем и ужесточать требования к принимаемым решениям о соответствии той или иной модели ПС объекту исследования. Для достаточно обоснованного прогноза в изменении оптических свойств поверхности детали при различных внешних воздействиях необходимо знать оптический профиль слоя - его вид и градиентные характеристики, а также определять геометрические параметры шероховатой поверхности и микроскопические характеристики энергетического поверхности элемента оптотехники.

В этом случае анализ и синтез поляризационно-оптических и спектро-фотометрических систем технологического контроля неоднородных анизотропных элементов должен проводиться в единой совокупности «объект-прибор-методика», где объект контроля рассматривается как структурный элемент самого прибора, поскольку его наличие в измерительной системе поляризационного прибора может принципиально изменить функциональные возможности используемой аппаратуры.

Цель настоящей работы состояла в усовершенствовании известных и разработке новых поляризационно-оптических и спектрофотометрических методов исследования и контроля физико-технических характеристик элементов лазерной и оптотехники.

Для достижения указанной* цели в диссертации решались следующие основные задачи:

- разработка методов физико-математического моделирования структуры неоднородных поверхностных слоев элементов оптотехники в рамках феноменологического подхода к. описанию их макро- и микроскопических характеристик;

- разработка методов решения прямой и обратной задачи эллипсометрии для неоднородных анизотропных оптических систем и шероховатой поверхности неоднородной подложки;

- изучение основных закономерностей изменения состояния поляризации отраженного светового пучка от неоднородных поверхностных слоев и шероховатых поверхностей элементов оптотехники в эллипсометрическом и спектрофотометрическом эксперименте;

- разработка методов анализа поляризационно-оптических свойств отражающих систем «неоднородный слой - неоднородная подложка» и «шероховатая поверхность — неоднородная подложка» и расчета их поляризационно-оптических характеристик;

- изучение кинетики и физико-химических механизмов формирования неоднородной структуры и состава поверхностных слоев элементов- оптотех-ники при различных внешних воздействиях окружающей среды и технологической обработке поверхности детали.

Методы и объекты исследования

В работе использованы преимущественно разработанные поляризацион-но-оптические и спектрофотометрические методы исследования и контроля физико-технических характеристик элементов оптотехники и параметров шероховатой поверхности неоднородной подложки.

Достоверность результатов исследования и контроля параметров шероховатой поверхности оптических деталей подтверждалась данными полученными методами спекл-интерферометрии, профилометрии и результатами' спектро-фотометрических измерений диффузной'составляющей рассеянного света.

Анализ потерь излучения в оптических материалах и поверхностном слое (ПС) элементов лазерной и оптотехники проводился по экспериментальным данным полученных методом внутрирезонаторных потерь излучения в трехзеркальном оптическом резонаторе лазера, методами эллипсометрии, оптической спектрофотометрии в ВУФ, УФ и ИК областях спектра излучения и импульсной фотометрии.

Поляризационные методы исследования физико-технических характеристик элементов оптотехники дополнялись данными численного эксперимента, проводимого по разработанным методикам и программам, а также экспериментальными результатами полученных методами спектроскопии, рефрактометрии, рефлексометрии и другими методами технологического контроля оптических изделий лазерной и оптотехники. В качестве объектов исследования использовались элементы лазерной и оптотехники, выполненные из кристаллического и плавленого кварца, полученного различными технологическими способами; фторсодержащих силикатных стекл, отличающихся различным содержанием в стекле фтора и многокомпонентных силикатных материалов с различной структурой и химическим составом.

Научная новизна работы определяется тем, что в ней впервые разработаны теоретические и методические основы поляризационно-оптических методов анализа и контроля оптических характеристик неоднородных анизотропных и физико-математические модели неоднородных оптических систем и шероховатых поверхностей элементов оптотехники, выполненных из силикатных стекол и кристаллов.

В ходе работы впервые получены следующие результаты:

1. Обобщены теоретические рассмотрения задачи отражения поляризованного света от неоднородного анизотропного слоя при произвольном законе изменения главных значений тензора диэлектрической-* проницаемости по его глубине в приближении теорий Друде-Борна и осесимметричных анизотропных отражающих систем в приближении теорий Сивухина - Пикуса .

2. Изучены основные закономерности изменения поляризационных параметров отраженного светового пучка от неоднородного поверхностного слоя диэлектриков, полупроводников с различным распределением диэлектрической-проницаемости по глубине слоя и шероховатой поверхности неоднородной подложки с различным видом корреляционной функции микрорельефа поверхности.

3. Изучены методологические основы определения потерь излучения на внутрирезонаторных элементах ионных и эксимерных лазеров по двум различным методам: методу с регулируемой зеркальной отражательной способностью и методу калиброванных потерь излучения, в лазерной установке с трехзеркальной схемой оптического резонатора.

4. Исследовано и дано научное обоснование влияния неоднородности структуры кремнекислородной сетки кварцевого стекла и кристаллического кварца на потери излучения в ВУФ, УФ и ИК областях спектра оптического излучения для оптических элементов лазерной техники.

5. Методом импульсной фотометрии и эллипсометрии дано научное обоснование влияния окружающей среды на изменение потерь излучения, в образцовых средствах, предназначенных для аттестации оптических характеристик лазерного излучения в УФ, видимой и ИК областях спектра.

Практическая значимость работы состоит в том, что

- разработанные методы эллипсометрического и спектрофотометричес-кого контроля оптических характеристик неоднородных отражающих систем и шероховатых поверхностей элементов оптотехники являются достаточно универсальными и были использованы при решении широкого круга научных и технологических задач на ряде оптических производств элементов лазерной и оптотехники;

- установленные корреляционные связи между оптическими параметрами поверхностного слоя и- технологическими^ режимами механической, химической, ионной обработке элементов лазерной и оптотехники техники, выполненных из кристаллического и плавленого кварца, позволили разработать критерии качества внутрирезонаторных элементов для ионных и эксимерных лазеров и определить оптимальные технологические режимы изготовления элементов с минимальными потерями излучения в.ВУФ и УФюбласти спектра;

Полученные результаты научно-исследовательской работы использованы для технологического контроля кинетики физико-химических процессов формирования неоднородных структур поверхностных слоев элементов лазерной и оптотехники на предприятиях ООО «Кварцевое стекло», НИИ «Феррит -Домен». Результаты работы, затрагивающие теоретические и методические основы поляриметрии неоднородных анизотропных оптических систем и шероховатых поверхностей, использованы также в учебном процессе в СПб ГУ ИТМО. Технические акты внедрения результатов научно-технических достижений настоящей работы представлены в приложении.

Основные положения и результаты, выносимые на защиту, состоят в следующем:

1. Метод решения задачи отражения поляризованного света от анизотропных неоднородных поверхностных слоев двухосных кристаллов ромбической системы, основанный на применении теории возмущений к дифференци-' альным уравнениям Максвелла относительно адмиттанса и(р'5)(г) неоднородной среды анизотропной оптической системы, позволяет получить уравнение эл-липсометрии для неоднородного поверхностного слоя оптического анизотропного элемента с произвольным законом изменения главных значений тензора диэлектрической проницаемости г(г) по глубине поверхностного слоя.

2. Метод решения задачи отражения поляризованного света от тонких анизотропных неоднородных поверхностных слоев, оптические свойства которых описываются квазимикроскопическими параметрами - высокочастотной проводимостью /? и поляризуемостью а слоя, позволяет обобщить основные закономерности изменения состояния поляризации отраженного светового пучка в рамках теорий- отражения поляризованного света Друде - Борна и Сиву-хина - Пикуса.

3. Тип поляризации отраженного светового пучка, величина отклонения-угла поляризации фп от угла Брюстера (рв и зависимости поляризационных параметров - азимута линейной'восстановленной поляризации ¥(ф) и разность фаз Д(ф) между ортогональными-компонентами1 поляризованного отраженного света - от угла падения светового пучка ф определяются структурой неоднородной отражающей системы, что позволяет в рамках метода эллипсоме^рии различать эффекты в изменении состояния поляризации светового пучка вызванные наличием на поверхности оптических элементов шероховатости, поглощающих и неоднородных слоев с различным видом оптического профиля показателя преломления поверхностного слоя.

4. Метод измерения внутрирезонаторных потерь оптического излучения в оптических элементах лазерной техники, основанный на сопоставлении потерь излучения на образцовых плоскопараллельных пластинках, предварительно аттестованных методами импульсной фотометрии и эллипсометрии, в установке с трехзеркальным оптическим резонатором лазера, позволяет определить по методу калиброванных потерь в широкой области измеряемых значений с погрешностью Su <0,02.

5. Метод локального зондирования поверхности оптического элемента линейно-поляризованным световым пучком позволяет, при наличии модифицированного поверхностного слоя, перейти к измерениям зависимости инкремента показателя преломления п(г) к величине разности фаз Д(г) между ортогональными компонентами в отраженном эллиптически поляризованном световом пучке и определить распределение угловой пространственной частоты передачи изображения по аксиальному сечению градана.

Личный вклад автора. Все результаты, представленные в диссертации, получены лично автором, либо по его инициативе и при его непосредственном участии. Соавторство относится к проведению части расчетов, совместному проведению ряда экспериментов, обсуждению результатов исследований.

Апробация результатов работы и публикации. Основные результаты диссертационной работы докладывались, обсуждались и были изложены в научных трудах следующих конференций: XXXVIII научной и учебно-методической конференции СПб ГУ ИТМО, посвященной 100-летию со дня рождения М.М.Русинова. «Информационно-измерительные приборы и системы в оптическом приборостроении» (СПб, 2009.); VI Всеросийской межвузовской конференции молодых ученых. «Сессии научных школ» (СПб, 2009.); XXX международной конференции Санкт-Петербугского отделения национального комитета по истории и философии науки и техники РАН (СПб, 2009.); XXXIX научной и учебно-методической конференции СПб ГУ ИТМО, посвященной 110-й годовщине со дня основания Санкт-Петербургского государственного университета информационных технологий, механики и оптики. «Информационно-измерительные приборы и системы в оптическом приборостроении» (СПб, 2010.); VII

Всеросийской межвузовской конференции молодых ученых. «Оптотехника и оптические материалы» (СПб, 2010.).

Основные результаты диссертационной работы опубликованы в 7 научных трудах, в; том числе 1 научных статьях опубликованных в изданиях, рекомендованных ВАК для докторских и кандидатских диссертаций (перечень ВАК от 01.01.2007).

Структура и объем диссертации. Диссертационная работа состоит из введения, четырех глав, списка литературы включающего 154 наименований, приложения; содержит 151 страницы машинописного текста, 39 рисунков и 14 таблиц.

Заключение диссертации по теме «Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы», Иванов, Владимир Юрьевич

Выводы?

По .результатам, экспериментально-теоретических исследований поляри-зационно-оптических характеристик элементов- оптотехники можно- сделать следующие выводы:

1. Получены, уравнения для многоугловой эллипсометрии,. на основании которых разработана методика определения- оптических постоянных сред при наличии на поверхности элемента неоднородного поверхностного слоя.

2. Показано, что не учет влияния поверхностного- слоя на поляризационные параметры, отраженного светового пучка-приводит при определении оптических постоянных неоднородных сред по методу традиционной эллипсо-метрии к результатам не соответствующим физическому содержанию понятия - «показатель преломления среды».

3. Разработаны поляризационно-оптические методы метрологической аттестации образцовых элементов оптотехники для эллипсометрической и спек-трофотометрической аппаратуры с учетом влияния физико-химического состояния поверхности элементов.

4. Методами эллипсометрии, импульсной фотометрии и ИК спектроскопии установлено, что при химической, ионно-плазменной и ионно-химической обработке силикатного стекла в приповерхностной области образуется слой с микропористой структурой близкой к структуре кремнекислородного каркаса силикатного стекла, а в глубине ПС формируется неоднородная структура с показателем преломления больше значения показателя преломления в объеме материала стеклообразующей системы.

149

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

На основании проведенных в диссертационной работе исследований можно сделать следующие выводы:

1. Разработан методический подход к решению задачи отражения поляризованного света от неоднородных анизотропных слоев, основанный на применении теории малых возмущений к дифференциальным уравнениям Максвелла. Метод позволил, с одной стороны, обобщить ранее существующие теории отражения поляризованного света Друде-Борна, с другой - получить в аналитическом виде уравнение эллипсометрии для поверхностных слоев с произвольным законом изменения главных значений тензора диэлектрической проницаемости по глубине поверхностного слоя осесимметричной анизотропной' отражающей системы. Определены границы области применимости макро- и микроскопических моделей неоднородного поверхностного, слоя- с учетом метрологических возможностей используемой измерительной аппаратуры.

2. В рамках теорий отражения света' Друде-Борна и» Релея-Райса разработана методика определения среднеквадратической высоты шероховатой поверхности оптических, элементов в диапазоне 11ОА и длины пространственной корреляции шероховатости в диапазоне у=0,03-1 мкм. Достоверность результатов эллипсометрических измерений параметров шероховатой поверхности оптических элементов подтверждена данными полученными методами профилометрии, спекл-интерферометрии и по анализу спектрофотометрических измерений значений диффузной составляющей отраженного излучения.

3. В рамках широкого круга физико-математических моделей отражающих систем изучены основные закономерности изменения состояния поляризации отраженного светового пучка от неоднородных поверхностных слоев и шероховатых поверхностей оптических элементов*. Установлено, что состояние поляризации отраженного светового пучка и величина отклонения угла наибольшей поляризации излучения относительно угла Брюстера определяется структурой неоднородной- отражающей системы. Это позволяет при многоугловых или спектральных поляризационных измерениях различать эффекты в изменении состояния поляризации отраженного светового пучкач вызванные наличием на оптических элементах неоднородных слоев с различным видом оптического профиля и различным видом корреляционной функции шероховатой поверхности.

4. Разработан эллипсометрический метод диагностики физико-химического состояния поверхности оптических элементов, позволяющий определять экспериментальные условия, при которых имеется принципиальная возможность сравнивать различные по своему физическому содержанию модели поверхностного слоя при наименьшей вероятности ошибки в оценке их адекватности объекту исследования, и проводить высокоточные измерения оптических параметров поверхностных слоев элементов* оптотехники при эксперимент тальных условиях наилучшим образом обеспечивающих метрологические возможности используемой аппаратуры.

5. Методами1 эллипсометрии, оптической' ИК-спектроскопйи, показано, что физико-химические процессы нестационарного выщелачивания поверхностного слоя- силикатных стекол, протекающие при жидкостной химической, ионно-плазменной и> ионно-химической обработке, характерной особенностью которого является удаление щелочных катионов из приповерхностной области, приводят к образованию двухслойной'структуры поверхностного слоя: образованию в приповерхностной области выщелоченного слоя' с показателем преломления меньше объемного значения и сегрегации в глубине поверхностного слоя щелочных компонентов приводящей к образованию области ПС с показателем преломления больше объемного значения.

6. Разработаны.методики определения показателя ослабления излучения в стекле и потерь излучения в поверхностном слое детали, основанные на совместном использовании методов эллипсометрии и спектрофотометрии, методе внутрирезонаторных потерь излучения и импульсной фотометрии, которые позволяют по оптическим характеристикам поверхностного слоя и показателю ослабления излучения в оптической детали судить о качестве изготовления элементов ионных лазеров и оптотехники.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Иванов, Владимир Юрьевич, 2010 год

1. Борн М.,Вольф Э. Основы оптики, М., "Наука". 1970 . 650 с.

2. Azzam R.M.A. A perspective on ellipsometry // Surface Sei., 1976. v.56, p.6-17

3. Современные проблемы эллипсометрии // Под ред. А.В.Ржанова, Новосибирск :"Наука". 1980 . 192 с.

4. Эллипсометрия метод исследования поверхности // Под ред. A.B. Ржанова , Новосибирск, "Наука", 1983 . 180 с.

5. Эллипсометрия: теория, методы, приложение // Под ред. А.В.Ржанова и

6. Л.А.Ильина, Новосибирск, "Наука", 19.87 . 192 с.

7. Эллипсометрия в науке и технике // Под ред. К.К.Свиташева и A.C.

8. Мардежева, Новосибирск: ИФП СО АН СССР, 1987 . 205 с.

9. Эллипсометрия в науке и технике // Под ред. К.К.Свиташева и A.C.

10. Мардежева, вып.2, Новосибирск, ИФП СО АН СССР, 1990. 190 с.

11. Эллипсометрия: теория, методы, приложение //Под ред. К.К.Свиташева,

12. Новосибирск: "Наука", 1991., 200 с.

13. Пшеницын В.И., Абаев М.И., Лызлов Н.Ю. Эллипсометрия в физико-химических исследованиях, Л.: «Химия». 1986 . 152 с.

14. Аззам Р.,Башара Н. Эллипсометрия и поляризованный свет: Пер. с анг.

15. Под ред. А.В.Ржанова, М.:"Мир", 1981 . 583 с.

16. Основы эллипсометрии // Под ред.А.В.Ржанова, Новосибирск: "Наука",1979.424 с.

17. Горшков М.М. Эллипсометрия, М.: "Сов.радио", 1974. 200 с.

18. Кизель В.А. Отражение света, М.:"Наука", 1973. 351 с.14. .Лейкин М.В., Молочников Б.И., Морозов В.Н., Шакарян Э.С.Оражатель-ная рефрактометрия,Л.:"Машиностроение", 1983 . 223 с.

19. Федоров Ф.И., Филиппов В.В. Отражение и преломление света прозрачными кристаллами, Минск::"Наука и техника ".1976 .224 с.

20. Azzam R.M.A. Two detector ellipsometer // Rev.Sci.Instrum., 1985. vol.56 №9 p. 1746-1748.

21. Azzam R.M.A. Binary polarization modulator // Optics Letters, 1988. vol.3 №9 p.701-703

22. Федоров Ф.И.Оптика анизотропных сред . Минск: Изд-во АН БССР, 1958.

23. Филиппов В.В., Тронин А.Ю., Константинов А.Ф. Эллипсометрия анизотропных сред // Физическая кристаллография, М. 1992. С.254-289.

24. Holmes D. A., Feucht D. L. Formulas for using plates in ellipsometry // Opt. Soc. Amer., 1967. v.57. p.466-468.

25. Рыхлитский C.B., Свиташев K.K., Соколов B.K. , Хасанов Т.Х. О влиянии многократного отражения на работу фазовой пластинки// Опт. и спектр. 1987. Т.63. вып.5. С. 1092-1094

26. Семененко А.И. К теории метода эллипсометрии // Опт. и спектр. 1975.1. Т.39 .С.587-592

27. Кизель В.А., Красилов Ю.И., Щамраев В.Н. Ахроматическое приспособление «четверть волны» // Опт. и спектр. ,1964. №3 С.461-463

28. King R.J., Downs M.J: Ellipsometry applied to films on dielectric subsrates // Surf .Sci., 1969. v .16. p.288-302

29. Федоринин. В.Н. Исследование и разработка спектральных эллипсометров

30. Авт. реф. канд. дисс. Новосибирск: ИИГА и К, 1992. 23 с.

31. Шерклиф У. Поляризованный свет.М.: Мир, 1965. 264 с.

32. Алгазин Ю.Б. , Иощенко Н.Н. , Леоненко А.Ф. , Панькин В.Г. , Рыхлитский С.В. , Свиташев К.К. Лазерный фотоэлектрический эллипсометр ЛЭФ-ЗМ-1 //Приборы и техника эксперимента. 1987. №6 С.204

33. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Новый подход к эллипсометрии реальной поверхности оптических материалов // В сб. «Эллипсометрия: теория, методы, приложение» / Под ред. А.В.Ржанова и Л.А. Ильина. Новосибирск: «Наука». 1987. С.8-14.1 I

34. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Методы эллипсометрического анализанеоднородных поверхностных слоев и шероховатых поверхностей // В сб. «Эллипсометрия: теория, методы, приложение» / Под ред. К.К.Свиташе-ва. Новосибирск: «Наука», 1991. С.20-33.

35. Алексеев С.А., Колосов A.M., Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Определение глубины трещиноватого слоя полированной поверхности кварцевого стекла методом ИК-эллипсометрии // Стекло и керамика .1992. №8. С.6-8.

36. Аммас М.М.,Лисицын Ю.В.,ПодсекаевА.В.,ТуркбоевА.,Храмцовский И.А Исследование поверхностных слоев фторсодержащих материалов// Вопросы материаловедения, 2000. №1 (21), С.58-63.

37. Алексеев С. А.,Крылова HI А.,Миронов А.О.,Туркбоев А.,Храмцовский И.А Применение метода секционирования при'контроле окисных покрытий на ферритах // Вопросы материаловедения, 2000. №1 (21) , С.63-65

38. Акользин П.Г,Колосов С.В,Голоднов Д.В.,Туркбоев А.,Храмцовский И.А

39. Особенности измерения параметров шероховатой поверхности диэлектриков и полупроводниковых материалов // Вопросы материаловедения .2000. №1 (21). С.66-69

40. Дронь О.С. Развитие эллипсометрии // Научное приборостроение. 2002.1. Т. 12. №4. С.57-62.

41. Дмитриев A.JT. Эллипсометр с мгновенной визуализацией проекционнойкартины на экране ЭЛТ// Опт. и спектр., 1972 . Т.32. С. 191-194.

42. Hazerbroek H.F., Holscher A.A. Interferometric ellipsometer // J.Phys. E., 1973. v.6,p.822-826.

43. Прокопенко В.Т., Трофимов В.А. Анализ поляризации излучения ОКГ методом интерферометрической эллипсометрии // Труды ЛИТМО. 1975.1. С. 23-25.

44. Витвинин Е.А., Иванникова Г.Е., Игошин Ф.Ф. Интерферометр Майкель-сона дальнего инфракрасного диапазона с шаговым приводом, работающий в режиме «на линии» с вычислительной машиной // Приборы и техника эксперимента. 1981. №3. С.186-188.

45. Hart M. X-ray polarization phenomena // Philosophical magazine.B. 1978. 38. . №1. Part 2. p.41-56.

46. Конев B.A., Кулещов E.M., Пунько H.H. Радиоволновая эллипсометрия // Под*ред. И.С.Ковалева. М.: Наука и техника», 1985. С.104-107.

47. Jasperson, S.N., Schnafterly S.E. An improved method for high reflectivity . ellepsometry// Rev.Sci.Instr., 1969: v.40. №6. p.761

48. Федоринин B.H., Соколов. B.K. Критерий« качества эллипсометрических схем//Опт. и спектр., 1991. Т.70. вып 5. С. 1169

49. Федоринин В.Н. Исследование и разработка спектральных эллипсометров

50. Авт. реф. канд. дисс. Новосибирск: ИИГА и К, 1992. 23 с.

51. A.c. 684409 (СССР). Способ определения критического угла полного внутреннего отражения света; Авт. изобрет. Пеньковский А. И., Исхаков Б. О., Жданов В. Н. Опубл. в Б. И., 1979 .№33

52. Пеньковский А.И.1 Способ измерения показателей преломления поглощающих сред // ОМП 1982. №8. С.38-41

53. Маслов В. П.,Мельник Т. С. Вопросы исследования метода эллипсометрии для контроля качества оптических деталей // Обзор №4687, ЦНИИИ и ТЭИ . 1988.67 с.

54. Маслов В. П.,Одарич В. А. Эллипсометрические исследования механически полированных образцов некоторых оптических стекол //ОМП. 1983. №3. 1983. С.60-61

55. Маслов В. П., Мельник Т. С., Одарич В. А. Эллипсометрические исследования поверхности поверхности кристаллического кварца после механической обработки // ОМП. 1985. №8. С. 1-2

56. Владимирова Т. В., Горбань Н. Я., Маслов В. П., Мельник Т. С., Одарич

57. В.А. Исследование оптических свойств и строения поверхностного слоя ситалла// ОМП.1979. №9. С.9-14.

58. Свиташева С.Н.,Свиташев К.К.,Семенов Е.Е.,Васильев А.Г. Изменение эл-липсометрических параметров в зависимости от механической обработки поверхности //Поверхность.Физика, химия, механика. 1983. №12. С.64-71.

59. Neuman К. Ellipsometrische Bestimmung von Oberflachenschichten auf polierten optischen Glasern // Opt.Acta. 1983 v.30, №7. S.967-980

60. Мансуров Г.М., Мамедов P.K., Сударушкин A.C., Сидорин В.К.,Сидорин

61. К.К, Пшеницын,В.И.,Золотарев В.М. Исследование природы полирован-. -ной поверхности», кварцевого стекла методами эллипсометрии и спектроскопии // Опт.и спектр.1982. Т.52, вып.5. С.852-857

62. Нечаева Н.А.,Журавлев Г.И.ЛисицкшнЮ.В. Применение метода эллипсометрии для оптимизации процесса глубокого полирования стекол К108 и Ф101 // ОМП.1984.№9. С.61-62

63. Yokota H.,Sakata H.,Nishibori M.,Kinosita К., Ellipsometrie study of polishedglass surfaces // Surf.Scciens. 1969 .v. 16. P.265-267

64. Wright C.R.,Kao K.C. Spetrophotometrie studies of ultra low loss optikal glasses ,111. Ellipsometrie determination of Surface reflecta es // J., of Physics. 1969 . s.2, v.2.P.579-583

65. Дагман Э.Е.,Семененко A.JI. Исследование неоднородных отражающих систем методом эллипсометрии.I Апроксимация однородными слоями // Укр.физ.журнал. 1981. Т.26. №5. С.820-826

66. Дагман Э.Е.,Семененко A.JI. Исследование неоднородных отражающих систем методом эллипсометрии. II Апроксимация линейными слоями // Укр.физ.журнал. 1981. Т.26. №6. С.820-826

67. Scandonne F.,Ballerini'L. Theorie de la transmission et de la reflexion dans les systems.de conches minces multiples //Nuovo Gemento. 1946. v.3.P.81-91

68. Abeles F. Recherches sur la propagation des ondes electromagnetignes sinusoedales dans les milienx stratifies // Ann.Phys. 1950. v.5. P.596, 706

69. Розенберг Г.В.,Оптика тонкослойных покрытий,М.,Физматгиз,1958.

70. Минков И.М. Прохождение и отражение света плоскопараллельными анизотропными слоями //Опт.и спектр. 1974. Т.37,вып.2. С.309-316

71. Веремей В.В.,Горбунова Т.А.,Минков И.М. Явное выражение для 4x4 матрицы интерференции кристаллического слоя // Опт.и спектр. 1975. Т.38. С.390-391

72. Хэнерт М.,Раушенбах Б. Исследование поверхностных слоев силикатныхстекол // Физика и химия стекла.1988. Т.9. №6. G.696-703

73. Веденский В;Д.,Коновалова О.П.,Шаганов И.И. Оптическая• неоднородность. тонких диэлектрических» слоев,получаемых методом, вакуумного термического испарения // ОМИ.-1987. №2. С.55-59

74. Fukyo H.,Oura N.,Kitajiama N.,Kono Н. The refrakctive index distribution normal to the polished , surface of fused quartz measured by ellipsometry // J.Appl. Phys. 1979*. v.50,№5.p.3653-3657

75. Azzam R.M.A. Direcf relation between Fresnels intface reflection ceefficientsfor the paralled and perpendicular polarizations // J.Opt.Soc.Am. 1979. v.69, №7. P.438-445

76. Azzam R.M.A. Mapping of Fresnels interfase reflectction coefficients betweennormal and oblique incidence: results for the paralled and perpendicular polarization at several angles of incidence // Appl.0pt.l980.v.l9, №19. P.3361-3369.

77. Швец В. А. О возможности определения комплексных коэффициентов отражения методом эллипсометрии // Опт.и спектр. 1983. Т.55, вып.З.1. С.558-561

78. Мардежев А. С.ДНвец В. А. Определение параметров однослойной системы из иммерсионных эллипсометрических измерений // Поверхность. Физика, химия, механика1985. №7. С.56-61.

79. Дагман Э. Е., Панькин В. Г., Свиташев К. К., Семененко А. И., Семененко А. В., Шварц Н .Л. Определение параметров поглощающих пленок с помощью метода эллипсометрии // Опт. и спектр. 1979.Т.46, вып.З. С.559-565.

80. Holmes D.A. Оп the calculation thhin film refraktive index and thickness by ellipsometry//Appl.Optics.1967. v.6, №1. P.168-170

81. Павлов П. В.,Хохлов А. Ф.Дурильчик Е. В.Доброхотов Э. В. Попов Ю.С. Изменение свойств кремния и кварца при ионно-плазменной обработке // Активируемые процессы технологии микроэлектроники, Таганрог, 1979. Т. 15. С.57—71.

82. Беграмбеков Л.Б. Взаимодействие ионов с оптическими материалами // В сб. "Ионизирующие излучения и лазерные материалы".М.: Энергоиздат 1982. С.91-100

83. Кирееев В.Ю.,Данилин Б.С.,Кузнецов В.И.,Плазмохимическое травление микроструктур,М.:,Радио и связь.1983.128с.

84. Первеев А.Ф.,Михайлов А.В.,Муранов Г.А., Ильин В.В. Оптические свой-ства пленок ТЮг, полученных высокочастотным реактивным рас-пыле-нием с напряжением смещения // ОМП. 1975. №3. С.43-45.

85. Лызлов Н.Ю., Пшеницын В.И. Электрохимический эталон для эллипсометрии // Электрохимия- 1984. т.20, №8. С. 1139-1140.

86. Candela G.A, Chandler-Horowitz D., Novotny D.B., Vorburger T.V. Film thickness and refractive index Standart Reference Material calibrated by ellip-sometry and profilometry // Proc.SPIE. Int. Soc.Opt. Eng, 1986.V.661 P.402

87. Steinike H.,Muller B.,Richter-Mendan J.,Hennig H.-p. Evidence of an Amor-hous Layer on Mechanicall Treated Singll Grystall of Quartz // Kristall und Technik. 1979. v.14, №7. p.37-38

88. Храмцовский НА., Пшеницын В.И. Влияние полирующего абразива на оптические характеристики поверхностного слоя // ОМП. 1987. №7. С.29-31

89. YokotaH\,Sakata H;,Nishibori Mi,Kinosita^K., Ellipsometrie study of polishedglass surfaces // Surf.Scciens. 1969. v. 16. p.265-267

90. Храмцовский И.А., Вощенко Т.К., Черезова JT.A., Пшеницын В.И., Апинов A.A. Изменение оптических свойств поверхностного слоя; при ионно-плазменном распылении кварцевого стекла // Опт. и спектр. 1988; Т.65. вып. 1.С. 141-145

91. Кузьмин В .Л. Об оптических явлениях в анизотропных средах // Опт. и спектр., 1976, т.41, С.850-854.

92. Кузьмин В.Л., Михайлов A.B. Молекулярная теория отражения света и границы применимости макроскопического, подхода //Опт. и спектр;, 1981, Т.51,0.691-695.

93. Кузьмин В.Л. Многократное рассеяние в задаче распространения света в среде // Опт. и спектр., 1976, Т.40, С.552-557

94. Антонов. В .А., Пшеницын В.И. Эффективная диэлектрическая проницаемость гетерогенной системы // Опт. и спектр., 1981,Т.50,вып.2, С.362-370.

95. Доценко А.В1, Ефремов A.M., Кучинский С.А. Оценка предельных значений коэффициента отражения и оптической плотности металло-диэлек-трических поглощающих слоев // ОМП, 1988, №2, С. 16 19

96. Федорова Л.В;,Молчанов В.С.,Макарова Т.М.,Тихонова З.И.,Немилов С.В. Кинетика начальных стадий выщелачивания свинцовосиликатных стекол кислыми растворами // Физика и химия стекла, 1983, Т.9, №6, С.725-729

97. Бесцветное оптическое стекло СССР, каталог / Под ред.чл.-корр. Г.Т. Петровского, М., 1990 .130 с.

98. Антонов В.А.,Пшеницын В.И.,Храмцовский И.А. Уравнение эллип-сометрии для неоднородных и анизотропных поверхностных слоев- в приближении Друде-Борна// Опт. и спектр 1987. Т.62, вып.4. С.828-831

99. Иванов В.Ю. Физико-математическое моделирование структуры кремнекислородных соединений в* эллипсометрии неоднородных оптических систем // Тезисы УГВсеросийской межвузовской конференции молодых ученых. СПб: СПб ГУ ИТМО. 2009. 82 с.

100. Сивз^хин Д.В. Феноменологическая теория переходного слоя // ЖЭТФ 1943. Т. 13. С.361-370

101. Сивухин Д.В. Молекулярная теория отражения и преломления света // ЖЭТФ. 1948. Т.18. С.754-750

102. Пикус Г.Е. О влиянии поверхностных состояний электронов на оптические свойства полупроводника и диэлектрика // ЖЭТФ. 1952. Т.22, вып.З-С.331- 338

103. Пшеницын В.И., Антонов В.А., Зорин З.М. К теории отражения света от тонкого проводящего слоя // Опт. и спектр. 1979. Т.46., вып.2. С.310-316.

104. Щуп Т.,Решение инженерных задач на ЭВМ, М.:Мир .1982,

105. Бронштейн И.Н., Семендяев К.А. Справочник по математике для инженеров и учащихся втузов М.: "Наука" 1986. 544 с.

106. Леонова Т.В. Исследование эллипсометрическим методом оптических характеристик поверхностей стекол после механической и химической обработки //Авт. канд. диссерт., ГОИ, Л., 1990.

107. Минков И.М., Веремей В.В., Горбунова Т.А., Наклонное падение света на слой с экспоненциально изменяющимся показателем преломления // Опт. и спектр. 1977. Т.43, выпЛ, С.136-145.

108. Пшеницын В.И., Антонов В.А., Абаев М.И. Применение точных и приближенных решений уравнений Максвелла в эллипсометрии неоднородных слоев //Опт. и спектр. 1988.Т.65. вып.З. с.621-627

109. Бреховских Л. М., Волны в слоистых средах, М;:изд.АН СССР. 1957 502'

110. ДрудеП., Оптика, ОНТИ, 1935.

111. Тимофеева Н:Ф: Исследование оптических поверхностных слоев»стекла

112. ЖЭТФ. 1936. Т.6. №1. С.71-92

113. Мансуров Г.М.,Розанов H.H.,Золотарев В.М.,Сутовский С.М. Определение оптических характеристик материалов в объеме и поверхностном* слое по спектрам внутреннего отражения // Опт.и спектр. 1982. Т.53, вып.2. С.ЗО 1-306.

114. Charmet J.С.,de Germes P.G. Ellipsometrie formulas for an inhomogeneonslager with arbirary refractive-index profile // J.Opt.Amer. v.73, №12. p.1777-1784.

115. Charmet J.C.,de Gennes P.G., Ellipsometrie formulas for an index profile ofsmall ampllitude but arbitry shpe.//J.Phys.Collay. 1983. C10. p.27-30.

116. Kaiser J.H. Regularization in ellipsometry.,Nearsurface depth profiles of the refractive-index//Appl.Phys.B.1988. v.B45, №1. p.1-5

117. Strachan С. The reflectien of light at a surface со vered by a monomolecularfilm //Proc.Cambridge Phil.Soc. 1933. v.29. p.l 16-130

118. Алексеев С. E.,Прокопенко В. Т.,Яськов А. Д., Экспериментальная оптика полупроводников ,С.-Пб:"Политехника", 1994,248 с.

119. Иванов В.Ю. Поляризационно-оптические свойства неоднородных анизотропных слоев // Труды молодых ученых / Главный редактор д.т.н., проф. В.О.Никифоров.Выпуск 2. СПб: СПб ГУ ИТМО, 2010, 193 с.

120. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Методы эллипсометрического анализанеоднородных поверхностных слоев и шероховатых поверхностей // В сб. «Эллипсометрия: теория, методы, приложение» / Под ред. К.К.Свиташе-ва, Новосибирск: «Наука». 1991. С.20-33.

121. Иванов В.Ю., Данилова Т.М. Элллипсометрия элементов оптотехники выполненных из фторидов щелочноземельных кристаллов и фторсодер-жащих стекол // Тезисы VI Всеросийской межвузовской конференции молодых ученых. СПб: СПб ГУ ИТМО. 2009. 82 с.

122. Иванов В.Ю., Данилова Т.М:, Храмцовский И^А. Оптико-электронные системы измерения физико-химических характеристик неоднородых сред // Тезисы XXXIX научной и учебно-методической'конференции СПб ГУ ИТМО. 2010.

123. Иванов В.Ю., Храмцовский* И.-А. Спектро-поляризационный контраст в оптико-электронных системах// Тезисы .XXXIX научной и учебно-методической конференции СПб ГУ ИТМО. 2010.

124. Иванов В.Ю., Данилова Т.М, Храмцовский И.А К дискуссии о критерии качества внутрирезонаторных элементов ионных эксимерных лазеров //

125. Сборник: Наука и техника: Вопросы истории и теории. Выпуск XXV. СПб: СПб ИИЕТ РАН, 2009, С.315.

126. Антонов,В.А., Пшеницын В.И. Отражение поляризованного света шероховатой поверхностью // Опт. и спектр. 1984. Т.56. вып.1. С.146-154

127. Ohlidal I.,Lukes F. Ellipsometrie parameters of sistems with rough Sonuda ries // Optika Acta. 1972.v. 19, №10. p.817

128. Ohlidal I.,Lukes F.,Navratil K. The problem of surface roughness in ellip-sometry and reflectromerty // J.Phys.(Franc.). 1977-v.38 №11. p.77-87

129. Vorburger T.V.,Ludemz K.C. Ellipsometry of rough surfaces // Appl.Opt. 1980. v.19 .№4. p.591-593

130. Новиков A.A., Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А. Оптические свойства1 шероховатой поверхности элементов оптоэлектроники // Научно-технический вестник СП ГУ ИТМО: Теория и практика современных технологий / Гл. ред. В.Н.Васильев, 2004. вып.15, С. 73-80.

131. Топорец A.C.,Оптика шероховатой поверхности,JI: Машиностроение1988. 191 с.

132. Храмцовский И.А., Разумная M.JI. Применение трехзеркального резонатора в установке для измерения оптических потерь // ОМП. 1983. №5.1. С.38-41

133. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Исследование потерь излучения на оптических элементах в зависимости от физических параметров поверхностного слоя // ОМП. 1983, №12. С.5-7

134. ИЗ.Троицкий Ю.В. Одночастотная генерация в газовых лазерах, Новосибирск: "Наука", 1975, с.23

135. Хирд Т. Измерение лазерных параметров: Пер.с англ.// Под ред. Ф.С. Хайзулова, М.: "Мир", 1970.

136. Землянский В.С, Пшеницын В.И., Степанчук A.A., Храмцовский И.А. Кинетика и механизм формирования поверхностных слоев фторсодержа-щих стекол // Физика и химия стекла, 2008, Т.34 , №2, С. 170-181.

137. Халилов В.Х. Дефекты типа «обрыва связи» в кварцевом стекле // Физика и химия стекла, 1983, т.9, №2, С. 195-206.

138. Землянский B.C., Степанчук A.A., Сычев М.М., Храмцовский И.А. Влияние структуры поверхностного слоя кварцевого стекла на потери излучения в ультрафиолетовой области спектра // Физика и химия стекла, 2008, Т.34, №3, С.326-335.

139. Новиков A.A., Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А Оптические свойства-поверхностных слоев силикатных стекол при ионной и электронноiлучевой обработки // Приборостроение. Изв.ВУЗОВ, 2007, №8, Т.50. С.54-60.

140. Елисеева И. И., ЮзбашевМ .М'. Общая теория статистики, М:"Финан-сы и статистика". 2004. 655 с.

141. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Исследование потерь излучения на оптических элементах в зависимости от физических параметров поверхностного слоя // ОМП. 1983, №12. С.5-7

142. Смагин А.Г.,Ярославский М.И. Пьезоэлектричество кварца и кварцевые резонаторы. М.,"Энергия",1970. 488 с.

143. Глюкман JI.И. Пьезоэлектрические кварцевые резонаторы. М.: Радио и связь", 1981. 232 с.

144. Постановление МЭК-758-1 (протокол №1)

145. ОСТ 41-07-274-87 (ок. 57 2631), Кварц искусственный пьезоэлектрический (технические условия, введен 01.01.1988)

146. Иванов В.Ю., Данилова Т.М., Храмцовский И.А. Определение оптических характеристик элементов лазерной техники методом внутрирезонаторных потерь излучения // Приборостроение. Изв.ВУЗОВ. 2010. Т. №12 (в печати).

147. Новиков A.A., Храмцовский И.А., Иванов В.Ю., Федоров И.С., Туркбоев А. Эллипсометрия неоднородных поверхностных слоев анизотропных оптических элементов // Приборостроение. Изв. ВУЗОВ. 2009. Т.52. № 1. С.62-68.

148. Каданер Г.И., Кислов A.B., Кувалдин Э.В. Импульсная фотометрическая установкадля измерения коэффициентов пропускания материалов // В кн. Импульсная фотометрия. Л. 1981. вып.7. С.10481- 1051.

149. Yokota H.,Sakata H.,Nishibori М.,Kinosita К., Ellipsometrie study of polished glass surfaces // Surf.Sciens. 1969 .V.16. P.265-267.

150. Ильин В.Г., Ремизов H.B. Интерференционный метод измерения распределения показателя преломления в передающих изображение градана- // Письма в ЖТФ, 1984, Т. 10, вып.2, С. 105-110.

151. Ильин В.Г., Карапетян Г.О., Полянский М.Н. Измерение локальных значений показателя преломления неоднородных сред // ЖПС, 1978. Т.28. №1. С. 160-163.

152. Серков М.М., Кондратьев Ю.Н. Градиентные среды на основе кварцоидов // Физика и химия стекла, 1984, Т.10, №3, С.380-383.

153. Архипова Л.Н., Ивашевский С.Н., Карапетян Г.О. и др. Градиентная оптика для медицинских эндоскопов // Оптический журнал. 1994. №12. С.51-54.

154. Васильева В.И., Петровский Г.Т., Черных В.Д., Ягмуров В.Х. Гибкие регулярные элементы для эндоскопии // Оптический журнал. 1994. №12. С.55-57.