Поляризационно-оптические методы диагностики физико-химического состояния поверхности оптических элементов из силикатных стекол тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.11.07, кандидат технических наук Землянский, Владимир Сергеевич

• Землянский, Владимир Сергеевич
• кандидат технических наук
• 2009

Оглавление диссертации кандидат технических наук Землянский, Владимир Сергеевич

Введение

ГЛАВА I. МЕТОДЫ ДИАГНОСТИКИ ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКОГО СОСТОЯНИЯ И ФИЗИКО-МАТЕМАТИЧЕСКОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ НЕОДНОРОДНОЙ СТРУКТУРЫ СИЛИКАТНЫХ СИСТЕМ

1.1 Методы физико-математического и экспериментального анализа структуры, химического состава и свойств многокомпонентных стеклообразных систем

1.2 Эффективная диэлектрическая проницаемость и толщина неоднородного поверхностного слоя

1.3 Эллипсометрические методы диагностики состояния поверхности силикатных систем

1.4 Методы метрологической аттестации эллипсометрической аппаратуры для поляризационно-оптических измерений

Выводы

ГЛАВА II. ПОЛЯРИЗАЦИОННО-ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА НЕОДНОРОДНЫХ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ СИЛИКАТНЫХ СТЕКОЛ

2.1 Методы определения оптических характеристик неоднородных слоев и многослойных отражающих систем

2.2. Обобщенное уравнение эллипсометрии в приближении теории Друде-Борна для неоднородных анизотропных слоев

2.3 Анализ области применимости точных и приближенных теорий отражения поляризованного света от неоднородных слоев

2.4 Основные закономерности изменения состояния поляризации светового пучка отраженного от неоднородного слоя

2.5 Поляризационно-оптические свойства шероховатой поверхности неоднородной подложки

Выводы

ГЛАВА III. МЕТОДЫ ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ

ОПТИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ ЭЛЕМЕНТОВ ЛАЗЕРНОЙ ТЕХНИКИ

3.1 Влияние неоднородности физико-химической структуры кварцевого стекла на потери излучения в УФ области спектра

3.2 Методы эллипсометрического анализа неоднородных поверхностных слоев элементов лазерной техники

3.3 Определение глубины нарушенного слоя на полированной поверхности оптических элементов

3.4 Определение потерь излучения в оптических элементах методами эллипсометрии и спектрофотометрии .140 Выводы

ГЛАВА IV. ИССЛЕДОВАНИЕ КИНЕТИКИ И МЕХАНИЗМОВ ФОРМИРОВАНИЯ НЕОДНОРОДНОЙ СТРУКТУРЫ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ СИЛИКАТНЫХ СТЕКОЛ

4.1 Кинетика и механизм формирования волноводных поверхностных слоев на фторсодержащих стеклах

4.2 Кинетика и механизм процессов стационарного и нестационарного выщелачивания поверхностных слоев силикатных стекол

4.3 Эллипсометрия оптических соединений элементов оптотехники . 181 Выводы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Поляризационно-оптические методы диагностики физико-химического состояния поверхности оптических элементов из силикатных стекол»

В связи с открытием новых областей применения стеклообразных материалов, где стекла играют не традиционную пассивную (например, оптические среды, электроизоляционные материалы и т.п.), а активную роль (лазерные материалы, элементы электронных приборов, дозиметрические материалы и т.п.), для адекватного прогнозирования изменения оптических и физико-технических характеристик элементов оптотехники при различных внешних воздействиях особенно актуальной стала задача изучения кинетики физико-химических процессов, происходящих на поверхности оптических элементов при механических, химических, тепловых, радиационных воздействиях, а также разработка физико-математических моделей различных механизмов формирования неоднородной структуры поверхностного слоя (ПС), образующегося на элементах, выполненных из силикатных стекол и кристаллов.

Внешнее сходство многих свойств силикатных стекол и кристаллов побудило некоторых исследователей к не всегда оправданному формальному применению к описанию кинетики физико-химических процессов и оптических свойств поверхностных слоев фтор содержащих или свинцово-си-ликатных стекол тех же моделей, которые ранее использовались для кристаллов. Однако специфические особенности структуры и состава многокомпонентных силикатных стекол иногда создают значительные затруднения в описании физико-химических процессов, приводящих к образованию неоднородных поверхностных слоев различных силикатных систем (кристаллов, стекол, пленок и т.п.). В основном это связано с тем, что для многокомпонентных силикатных стекол отсутствуют достаточно ясно выраженные границы применения различных представлений и понятий о макро- и микроскопических характеристиках поверхностных слоев, исторически развитых применительно к кристаллическим материалам.

Известно, что описание физико-химических процессов в поверхностных слоях кристалла базируется на двух основных подходах. В одном из них, развитом в физике полупроводников, рассматриваются только электронные процессы в различных, не меняющихся в ходе этих процессов, атомных структурах. В другом, развитом в основном применительно к твердым электролитам, рассматриваются атомно-ионные процессы в предположении, что состояние электронной системы безынерционно следует за ходом этих процессов.

Стремление к разграничению этих двух подходов наблюдается также при исследованиях оптических свойств поверхностного слоя силикатных стекол. Именно по этому принципу разделены исследования полупроводниковых свойств стекол, с одной стороны, и явлений ионной проводимости, диффузии атомов и т.п. - с другой. В то же время сходство внешних проявлений электронных и атомно-ионных процессов существенно затрудняет их разделение. Особенно ярко это проявляется в исследованиях физико-химических явлений, связанных с электропереносом, на что ранее указывал А.Ф. Иоффе применительно к кристаллам. В многокомпонетных силикатных стеклах это разделение может быть еще более затруднительным.

Поэтому особую актуальность приобрело обобщение указанных двух подходов с целью более четкого выявления их сходств и различий на основе единой точки зрения. Постановка такой задачи своевременна, на что указывают два основных момента: современный уровень изученности структуры стекол на основе оптических и ядерно-физических методов, позволяющих детально сравнивать структуру кристаллов и стекол и выявить в них природу образования собственных и примесных дефектов кремнекисло-родной структуры силикатного стекла, и имеющиеся доказательства сходства статистического описания физико-химических процессов, протекающих в электронных и ионных оболочках твердых тел кристаллического и стеклообразного состояния.

Несмотря на значительные успехи, достигнутые в области теории физико-математического моделирования неоднородного стеклообразного состояния твердого тела, известные теоретические подходы к анализу физико-химических свойств неоднородной силикатной системы, основанные на методах кинетических частиц и молекулярно-динамическом моделировании структуры стекла, не может быть формально перенесен для описания макро- и микроскопических свойств поверхностных слоев (ПС) оптических элементов. Это связано с тем, что возможность использования таких методических подходов зависит от степени разделения групп частиц, участвующих в кинетике формирования неоднородной структуры поверхностного слоя, по скоростям релаксации и химического взаимодействия, но эта степень, в свою очередь, определяется как составом, так и структурой исходного физико-химического состояния поверхности твердых тел.

Для формирования научных представлений о природе физико-химических процессов, приводящих к образованию неоднородных по своему составу и структуре силикатных систем поверхностного слоя, необходима разработка новой методологии в изучении и физико-математическом моделировании механизмов и свойств самых разнообразных силикатных систем (кристаллов, стекол, пленок и т.п.) при различных внешних воздействиях.

Цель настоящей работы состояла в усовершенствовании известных и разработке новых поляризационно-оптических и спектрометрических методов исследования физико-химических характеристик поверхностных слоев элементов оптотехники в процессе модификации структуры силикатных стекол при различных внешних воздействиях (механических, химических, тепловых, радиационных и т.д.).

Для этого в работе решались следующие основные задачи:

- разработка методик эллипсометрического и спектроскопического анализа поляризационно-оптических свойств неоднородных поверхностных слоев многокомпонентных силикатных стекол;

- изучение основных закономерностей изменения состояния поляризации отраженного светового пучка от оптической системы «неоднородный поверхностный слой — шероховатая поверхность — неоднородная подложка»;

- изучение кинетике и физико-химических механизмов формирования волноводных поверхностных слоев на фторсодержащих силикатных стеклах при различных внешних воздействиях окружающей среды (атмосферы воздуха, влажной атмосферы, вакуума) и тепловой низкотемпературной обработке; изучение кинетики и физико-химических механизмов формирования неоднородной структуры поверхностных слоев свинцовосиликатных стекол при механической, химической и ионной обработке.

Научная новизна работы состоит в том, что

- на основе применения теории возмущений к рекуррентным соотношениям Абеле для многослойной отражающей системы в аналитическом виде получено уравнение эллипсометрии для оптической системы «неоднородный слой

- шероховатая поверхность - неоднородная подложка»;

- исследованы основные закономерности изменения состояния поляризации отраженного светового пучка от оптической системы «неоднородный слой — шероховатая поверхность», на основе которого разработаны методы физико-математического моделирования структуры неоднородных поверхностных слоев силикатных стекол и их оптических соединений;

- методами эллипсометрии, волноводной спектроскопии, электронной Оже-спектрометрии и вторичной ионной масс-спектрометрией (ВИМС) установлены корреляционные связи между поляризационно-оптическими параметрами поверхностных слоев, образующихся при механической, химической, тепловой и ионной обработке силикатных стекол, и физико-химическими характеристиками элементного состава стекла;

- изучены кинетика и физико-химические механизмы формирования ма-ломодовых волноводных поверхностных слоев на фторсодержащих стеклах при различных внешних воздействиях окружающей среды (вакуума, атмосферы воздуха, влажной атмосферы) и при последующей тепловой обработке оптических элементов;

- изучены кинетика и физико-химические механизмы формирования выщелоченного слоя и сегрегации щелочных компонентов в глубине поверхностного слоя при ионной и химической обработке свинцовосиликатных стекол; исследованы физико-химические механизмы формирования неоднородной структуры парофазного кварцевого стекла и влияние "комбинационной" (химической) и "позиционной" (структурной) неоднородности кремнекисло-родной сетки на потери излучения в УФ области спектра излучения.

Основные положения и результаты, выносимые на защиту состоят в следующем:

1. Физико-математическое моделирование многослойной неоднородной отражающей системы по методу «эффективного слоя» и «эффективной подложки», основанное на применении теории возмущений к рекуррентным соотношениям Абеле, позволяет в аналитическом виде получить уравнение эллипсо-метрии для отражающей системы «неоднородный слой — шероховатая поверхность - неоднородная подложка».

2. Метод последовательного эллипсометрического анализа неоднородных отражающих систем, основанный на физико-математическом моделировании структуры отражающей системы, позволяет по измеренным значениям поляризационных параметров отраженного светового пучка в произвольно выбранной измерительной ситуации определять оптимальные условия эксперимента, при которых можно сравнивать различные по своему физическому содержанию модели поверхностного слоя при наименьшей вероятности ошибки в оценки их адекватности объекту исследования.

3. При воздействии влажной атмосферы на поверхность фторсодержаще-го силикатного стекла, синтезированного с добавками окислов алюминия, образуются волноводные поверхностные слои, которые изменяют свои оптические характеристики в процессе низкотемпературной обработки детали.

4. Метрологическая аттестация потерь оптического излучения в элементах парофазного кварцевого стекла, основанная на совместном использовании методов эллипсометрии и спектрофотометрии, позволяет различать потери излучения, вызванные образованием поверхностного слоя при обработке стекла от потерь излучения, связанных с его ослаблением в объеме стекла.

Практическая значимость работы, состоит в том что

- полученные методами эллипсометрии и спектрометрии результаты исследований структуры, состава и физико-химических характеристик поверхностного слоя элементов оптоэлектроники позволяют осуществить поиск оптимальных технологических режимов обработки поверхности оптических элементов и более целенаправленно определить условия эксплуатации деталей с модифицированной структурой поверхностного слоя в оптико-электронных приборах и комплексах различного функционального назначения;

- установленные корреляционные связи между оптическими характеристиками поверхности детали и технологическими параметрами ее обработки являются основой для разработки способов изготовления и методов эллипсомет-рического контроля оптических элементов с высокой химической устойчивостью поверхности и минимальными потерями излучения в видимой, УФ- и ИК областях спектра.

Реализация результатов работы отражена в актах внедрения от предприятий ООО "Кварцевое стекло" и ФГУП НИТИОМ ВНЦ ТОЙ им. С.И.Вавилова". Результаты работы, затрагивающие теоретические и методические основы эллипсометрии неоднородных оптических систем и шероховатых поверхностей элементов оптоэлектроники, использованы также в учебном процессе в СПбГУ ИТМО.

Личный вклад автора. Все результаты, представленные в диссертации, получены либо лично автором, либо по его инициативе и при его непосредственном участии.

Апробация работы. Результаты научной работы докладывались и обсуждались на VII Международной конференции "Прикладная оптика - 2006", проводимой в рамках Международного оптического конгресса "ОПТИКА — XXI век" (г.Санкт-Петербург, 2006 г.); на IV межвузовской конференции молодых ученых (г.Санкт-Петербург, 2007 г.); на XXXVI, XXXVIII конференциях ППС СПб ГУ ИТМО (г.Санкт-Петербург, 2007, 2009 г.).

Публикации. Материалы диссертационной работы опубликованы в 11 научных трудах, в том числе 4 научных статьях опубликованных в изданиях, рекомендованных ВАК для докторских и кандидатских диссертаций (перечень от 01.01.2007 г.)

Структура и объем диссертации. Диссертационная работа состоит из введения, четырех глав, заключения, списка литературы, включающего 118 наименований, приложения; содержит 198 страниц машинописного текста, 52 рисунка и 17 таблиц.

Заключение диссертации по теме «Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы», Землянский, Владимир Сергеевич

Выводы

По результатам экспериментально-теоретических исследований поляризационно-оптических характеристик поверхностных слоев силикатных стекол и оптических соединений элементов оптотехники можно сделать следующие выводы.

1. Изучена кинетика и механизм формирования волноводных поверхностных слоев на фторсодержащих стеклах при различных внешних воздействиях окружающей среды (атмосферы воздуха, влажной атмосферы, вакуума) и тепловой обработки стекла. Показано, что образование волноводных слоев происходит в процессе гидролитической деструкции поверхностного слоя, а волно-водные ПС являются гидролизными.

2. Одновременное использование методов эллипсометрии и волноводной спектроскопии в измерительной системе технологического контроля оптических элементов при совместном решении обратной задачи ВКБ и эллипсоме-трии позволяет реконструировать оптический профиль маломодовых волноводов неразрушающим способом.

3. Изучены основные закономерности изменения поляризационно-опти-ческих и физико-химических свойств поверхностных слоев в процессе стационарного и нестационарного выщелачивания силикатных стекол. Установлено, что кинетика выщелачивания ПС многокомпонентных силикатных стекол в слабокислых водных растворах происходит в два этапа: на ранней стадии формируется ПС с показателем преломления выше объемного значения, при длительном процессе выщелачивания ПС формируется слой по структуре близкий к структуре кремнекислородной матрицы стекла.

4. Разработан эллипсометрический метод определения химической устойчивости поверхности оптических элементов, который по нормативным требованиям соответствует рефлектометрическому методу, но позволяет по кинетике изменения оптических параметров ПС различать процессы стационарного и не стационарного выщелачивания многокомпонентных силикатных стекол.

5. Показано, что в процессе электронно-лучевой и ионно-плазменной обработки многокомпонентных стекол формируется двухслойная структура ПС: в приповерхностной области образуется слой с показателем преломления меньше объемного значения, в глубине ПС, вследствие сегрегации щелочных компонентов, формируется слой с высоким показателем преломления.

6. Разработан метод эллипсометрического контроля напряженно-деформированного состояния оптического соединения деталей и поляризационно-оптических характеристик зоны оптического контакта элементов оптотехники с учетом физико-химического состояния поверхности.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

На основании проведенных в диссертационной работе исследований можно сделать следующие выводы:

1. Разработан метод решения задачи отражения поляризованного света от неоднородных анизотропных слоев, основанный на применении теории метода возмущений к соотношениям Абеле для многослойной осесимметричной анизотропной оптической системы. Метод позволил с одной стороны получить в аналитическом виде уравнение эллипсометрии для неоднородных и анизотропных поверхностных слоев, с другой определить границы применимости макро-и микроскопических подходов к анализу поляризационно-оптических свойств неоднородных поверхностных слоев элементов оптоэлектроники.

2. Разработан метод определения потерь излучения в поверхностном слое оптических элементов и показателя ослабления излучения в стеклах, основанный на сопоставительном анализе экспериментальных данных, полученных методами спектр о фотометрии и эллипсометрии.

3. Изучена кинетика и механизм формирования волноводных поверхностных слоев на фторсодержащих стеклах при различных внешних воздействиях окружающей среды (атмосферы воздуха, влажной атмосферы, вакуума) и тепловой обработки стекла. Показано, что образование волноводных слоев происходит в процессе гидролитической деструкции поверхностного слоя, а волно-водные ПС являются гидролизными.

4. Изучены основные закономерности изменения поляризационно-оптических и физико-химических свойств поверхностных слоев в процессе стационарного и нестационарного выщелачивания силикатных стекол. Установлено, что кинетика выщелачивания ПС многокомпонентных силикатных стекол в слабокислых водных растворах происходит в два этапа: на ранней стадии формируется ПС с показателем преломления выше объемного значения, при длительном процессе выщелачивания ПС формируется слой по структуре близкий к структуре кремнекислородной матрицы стекла.

5. Разработан эллипсометрический метод определения химической устойчивости поверхности оптических элементов, который по нормативным требованиям соответствует рефлектометрическому методу, но позволяет по кинетике изменения оптических параметров ПС различать процессы стационарного и не стационарного выщелачивания многокомпонентных силикатных стекол

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Землянский, Владимир Сергеевич, 2009 год

1. Стеклообразное состояние, Труды V1.I Всесоюзного совещания // Под ред.

2. Е.А. Порай-Кошица, Л.:"Наука". 1988. 170 с.

3. Серков М.М., Кондратьев Ю.Н. Градиентные среды на основе кварцоидов // Физика и химия стекла, 1984, Т. 10, №3, C.380D383.

4. Алексеев С.Е., Прокопенко В.Т., Яськов А.Д. Экспериментальная оптика полупроводников, СПб: Политехника, 1994. 248 с.

5. Авдеев С.П. Разработка электронно-лучевой технологии изготовления малошумящих микроканальных пластин // Автореферат кард, диссерт., ТГРУ, г.Таганрог, 1997, 22 с.

6. Новиков A.A., Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А Определение потерь излучения на оптических элементах методами эллипсометрии и спектрофотометрии // Приборостроение.Изв.ВУЗОВ, 2007. Т.50 , №3, С. 6268.

7. Новиков A.A., Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А Оптические свойства поверхностных слоев силикатных стекол при ионной и электронно-лучевой обработки // Приборостроение. Изв.ВУЗОВ, 2007, №8, С.54-60.

8. Гарин П.Л., Новиков А.А, Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А Исследование оптических свойств поверхностных слоев в процессе стационарного и нестационарного выщелачивания силикатных стекол // Приборостроение. Изв. ВУЗОВ. 2007. Т.50. №7. С.23-30.

9. Храмцовский И.А., Пшеницын В.И., Мишин A.B., Толмачев В.А., Холлдаров Н.Х. Исследование поверхностных слоев свинцовосиликатного стекла методом эллипсометрии // Физика и химия стекла. 1987. Т.13. №1. С.104-111.

10. Аммас М.М., Лисицын Ю.В., ПодсекаевА.В., ТуркбоевА., Храмцовский И.А

11. Исследование поверхностных слоев фторсодержащих материалов // Вопросы материаловедения, 2000. №1 (21), С.58-63.

12. Пшеницын В.И., Холдаров Н.Х., Храмцовский И.А., Калинина М.А., Тихомирова Н.И. Изменение оптических характеристик поверхностного слоя стекла при полировании // ОМП. 1987. №8. С.28-31.

13. Милованов А. П., Моисеев В. В., Портягин В. И. Современные методы анализа поверхности при изучении стекла // Физика и химия стекла, 1985, Т.11. № 1, С.3-23.

14. Сторижко В. Е. Ядерный микроанализ // Вопросы атомной науки и техники, сер. Общая и ядерная физика. 1987. вып.1 (37). С.3-11.

15. Петровский Г. Т., Тер-Нерсесянц В. Е. Ядерно-физические методы анализа приповерхностных слоев стекла // Физика и химия стекла. 1988. Т. 14. №5. С.641-664.

16. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Новый подход к эллипсометрии реальной поверхности оптических материалов // Сб. «Эллипсометрия: теория, методы, приложение» / Под ред. А.В.Ржанова и Л.А. Ильина. Новосибирск: «Наука». 1987. С.8—14.

17. Землянский В.С, Пшеницын В.И., Степанчук A.A., Храмцовский И.А.

18. Кинетика и механизм формирования поверхностных слоев фторсодер-жащих стекол // Физика и химия стекла, 2008, Т.34 , №2, С.170-181.

19. Землянский B.C., Храмцовский И.А., Горляк А.Н., Степанчук A.A., Методы эллипсометрического анализа поляризационно-оптических свойств неоднородных поверхностных слоев элементов оптоэлектроники // Опт. и спектр., 2008. том 105. № 2. С.346-351.

20. Аммас М.М., Лисицын Ю.В., ПодсекаевА.В., ТуркбоевА., Храмцовский И.А Исследование поверхностных слоев фторсодержащих материалов // Вопросы материаловедения, 2000, №1 (21), С.58-63.

21. Храмцовский И.А., Пшеницын В.И., Степанов В.А., Мошкаров Ю.Г., Цымбал В. А. Исследование оптических характеристик и состава поверхностного слоя микропористого стекла // Физика и химия стекла, 1988. Т. 14, №2, С.240-245.

22. Закис Ю. Р., Тале И. А. Основы метода кинетических частиц в описаниипроцессов переноса в стеклах // Физика и химия стекла 1982. Т.8. №1. С. 3— 10.

23. Закис Ю. Р. Дефекты в стеклообразном состоянии вещества. Рига. 1984.202с

24. Закис Ю. Р., Клява Я. Г. Дискретные и континуальные нарушения структуры твердых тел // Вопросы физики стеклообразного состояния, Рига, 1985, С.51-73.

25. Бальмаков М. Д. Метод оптимальных полиномов для расчета свойствсложных стекол // Физика и химия стекла, 1977. Т.З. № 3. С.255-261.

26. Бальмаков М. Д. Квантовомеханическое обоснование применения метода оптимальных полиномов для расчета свойств стекол // Физика и химия стекла, 1981. Т.7. № 5. С.535-543.

27. Бальмаков М.Д., Борисова З.У. Метод описания соотношения структуры и свойств неупорядоченных систем // Физика и химия стекла, 1976. Т.2. № 3, С.234-238.

28. Мазурин О. В., Порай-Кошиц Е. А. О принципах разработки общей теории стеклообразного состояния // Физика и химия стекла, 1977.Т.З. № 4. С.408-412.

29. Мак-Вини Р., Сатклиф Б. Квантовая механика молекул, М.,1972. 384 с.

30. Zachariasen W.H. The atomic in glass // J.Amer.Chem.,1932, V.54. №10. P.3841—3851

31. Stevels J. M. The physical properties of glass in relation to its structure // J. Soc.Glasstechnol,1946. Vol.30. № 137. P.31-52.

32. Sun K.-H. Fundamental condition of glass formation // J.Amer.Ceram.Soc., 1947. Vol.30. № 9. P.277-279.

33. Ермоленко H.H., Науменко A.M., Карпович Е.Ф. Влияние химическогосостава и структуры на химическую устойчивость стекол алюмосиликатной системы // Стекло, ситаллы и силикаты . Минск, 1981. вып. 10, С.3-6.

34. Поваренных A.C. О количественной оценки химической связи в минералах//ДАН СССР, 1956. Т.112. № 5. С.993-995.

35. Лысенков А. А. Исследование распределения катионов кальция и магниямежду силикатными и алюмосиликатными анионами // Физика и химия стекла, 1981, Т.7. № 5. С.584-594.

36. Бальмаков M.Д. Структурные единицы Мюллера в методах расчета свойств стекол по составу // Физика и химия стекла, 1980. Т.6. №2 С.136— 142.

37. Антонов В.А., Пшеницын В.И. Эффективная диэлектрическая проницаемость гетерогенной системы // Опт. и спектр., 1981, Т.50, вып.2. С.362— 370.

38. Доценко A.B., Ефремов A.M., Кучинский С.А. Оценка предельных значений коэффициента отражения и оптической плотности металодиэл-ектрических поглощающих слоев // ОМП, 1988, №2. С. 16-19.

39. Пшеницын В. И., Абаев М. П., Лызлов Н. Ю. Эллипсометрия в физико-химических исследованиях, Л.: «Химия». 1986 . 152 с.

40. Храмцовский И. А., Пшеницын В. И., Каданер Г.И., Кислов A.B. Учет оптических характеристик поверхностного слоя при определении коэффициентов отражения и пропускания прозрачных диэлектриков // ЖПС. 1987. Т.46, №2. С.272-279.

41. Антонов В.А.,Пшеницын В.И.,Храмцовский И.А. Уравнение эллипсомет-рии для неоднородных и анизотропных поверхностных слоев в приближении Друде-Борна // Опт. и спектр 1987. Т.62, вып.4. С.828-831.

42. Горшков М.М. Эллипсометрия, М.: "Сов.радио", 1974. 200 с.

43. Борн М.,Вольф Э. Основы оптики, М.: "Наука". 1970 . 650 с.

44. Azzam R.M.A. A perspective on ellipsometry // Surface Sei., 1976. V.56, P.6-17.

45. Эллипсометрия метод исследования поверхности // Под ред.А.В. Ржа-нова , Новосибирск, "Наука", 1983 . 180 с.

46. Эллипсометрия: теория, методы, приложение // Под ред. А.В.Ржанова и Л.А.Ильина, Новосибирск, "Наука", 1987 . 192 с.

47. Современные проблемы эллипсометрии // Под ред. А.В.Ржанова, Новосибирск : "Наука". 1980 . 192 с.

48. Основы эллипсометрии // Под ред.А.В.Ржанова, Новосибирск: "Наука", 1979 . 424 с.

49. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Новый подход к эллипсометрии реальной поверхности оптических материалов // Сб. «Эллипсометрия: теория, методы, приложение» / Под ред. А.В.Ржанова и Л.А. Ильина. Новосибирск: «Наука». 1987. С.8-14.

50. Землянский B.C. Поляризационно-оптические методы контроля элементов интегральной и градиентной оптики // Труды IV Межвузовской конференции молодых ученых: СПб ГУ ИТМО. 2007. С.47.

51. Землянский B.C., Степанчук A.A., Храмцовский И.А., Горляк А.Н. Эл-липсометрический метод технологического контроля элементов лазерной техники и градиентной оптики// Научно—технический вестник СПбГУ ИТМО: Современные технологии, 2007. вып 43. С. 81-87.

52. Землянский B.C., Степанчук А.А., Сычев М.М., Храмцовский И.А. Влияние структуры поверхностного слоя кварцевого стекла на потери излучения в ультрафиолетовой области спектра // Физика и химия стекла, 2008, Т.34, №3, С.326-335.

53. Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А , Землянский B.C., Лисицын Ю.В.,

54. Секарин К.Г. Эллипсометрия оптических соединений элементов опто-электроники // Приборостроение. Изв. ВУЗОВ, 2008. Т.51, №10, С.59-67.

55. Лейкин М.В., Молочников Б.И., Морозов В.Н., Шакарян Э.С.Отражатель-ная рефрактометрия,Л. ^'Машиностроение", 1983. 223 с.

56. Holmes D.A. On the calculation thhin film refraktive index and thickness by ellipsometry // Appl.Optics.1967. V.6, №1. P.168-170.

57. Azzam R.M.A. Two detector ellipsometer//Rev.Sci.Instrum., 1985. Vol.56. №9. P. 1746-1748.

58. Azzam R.M.A. Binary polarization modulator // Optics Letters, 1988. Vol.3 №9 . P.701-703.

59. Федоров Ф.И. Оптика анизотропных сред. Минск: Изд-во АН БССР, 1958.

60. Филиппов В.В., Тронин А.Ю., Константинов А.Ф. Эллипсометрия анизотропных сред // Физическая кристаллография, М. 1992. С.254-258.

61. Шерклиф У. Поляризованный свет.М.: Мир, 1965. 264 с.

62. Алгазин Ю.Б. , Иощенко Н.Н. , Леоненко А.Ф. , Панькин В.Г. , Рыхлит-ский С.В. , Свиташев К.К. Лазерный фотоэлектрический эллипсометр ЛЭФ-ЗМ-1 // Приборы и техника эксперимента. 1987. №6 .С.204.

63. Тейлор Б., Паркер В., Ландерберг Д. Фундаментальные константы и квантовая электродинамика М.: Энергоиздат, 1972

64. Аникеев В.Г.,Каменев П.В., Манько В.И., Рыхлитский С.Б., Сидорова Л.С. // Эллипсометры. Методика поверки. МИ 1811-87, Новосибирск: СНИИМ,1987.

65. Эллипсометрия: теория, методы, приложение // Под ред. К.К.Свиташева, Новосибирск: "Наука", 1991., 200 с.

66. Шестаков И.П., Шешуков А.П., Фроленко В.А., Гон B.C. Интерференционный профилограф // Препринт № 367Ф, ИФ СО АН СССР, Красноярск, 1986.

67. Шестаков И.П.,Шешуков А.П., Исследование точности измерения интерференционного профилографа // Труды VT Всесоюзной конференции "Фотометрия и ее метрологическое обеспечение". М. 1986. С.252.

68. Лызлов Н.Ю., Пшеницын В.И. Электрохимический эталон для эллипсометрии // Электрохимия. 1984. Т.20, №8. С. 1139-1140.

69. Candela G.A, Chandler-Horowitz D.,Novotny D.B.,Vorburger T.V. Film thickness and refractive index Standart Reference Material calibrated by ellipsometry and profilometry // Proc.SPIE. Int. Soc. Opt. Eng,- 1986. V.661. P.402—407.

70. Маслов В. П., Мельник Т. С. Вопросы исследования метода эллипсомет-рии для контроля качества оптических деталей // Обзор №4687, ТЭИ и ЦНИИИ 1988.67 с.

71. Маслов В. П., Одарич В. А. Эллипсометрические исследования механически полированных образцов некоторых оптических стекол

72. ОМП. 1983. №3. 1983. С.60-61

73. Маслов В. П., Мельник Т. С., Одарич В. А. Эллипсометрические исследования поверхности поверхности кристаллического кварца после механической обработки // ОМП. 1985. №8. С. 1-2

74. Владимирова Т. В., Горбань Н. Я., Маслов В. П., Мельник Т. С., Одарич

75. B.А. Исследование оптических свойств и строения поверхностного слоя ситалла // ОМП. 1979. №9. С.9-14.

76. Нечаева H.A., Журавлев Г.И.Лисицын Ю.В. Применение метода эллипсо-метрии для оптимизации процесса глубокого полирования стекол К108 и Ф101 // ОМП.1984.№9. С.61-62.

77. Yokota H., Sakata H., Nishibori M., Kinosita К., Ellipsometrie study of polished glass surfaces // Surf.Scciens. 1969 .v. 16. V.265-261.

78. Храмцовский И.А., Пшеницын В.И. Роль удельного давления в формировании оптических свойств поверхностного слоя при полировании кварцевого стекла // ОМП. 1986. №12. С.26-28.

79. Храмцовский И.А., Вощенко Т.К., Черезова Л.А., Пшеницын В.И., Апинов A.A. Изменение оптических свойств поверхностного слоя при ионно-плазменном распылении кварцевого стекла // Опт. и спектр. 1988. Т.65. вып.1. С.141-145

80. Abeles F. Recherches sur la propagation des ondes electromagnetignes sinusoedales dans les milienx stratifiés // Ann.Phys. 1950. V.5. P.596, 706.

81. Scandonne F.,Ballerini L. Theorie de la transmission et de la reflexion dans les systems de conches minces multiples //Nuovo Gemento. 1946. V.3.P.81-91.

82. Azzam R.M.A. Direcf relation between Fresneís intface reflection ceeffï-cients for the paralled and perpendicular polarizations // J.Opt.Soc.Am. 1979. V.69, №7. P.43 8-445.

83. Azzam R.M.A. Mapping of Fresnels interfase reflectction coefficients between normal and oblique incidence: results for the paralled and perpendicular polari-zation at several angles of incidence // Appl.0pt.l980.v.l9, №19. P.3361—3369

84. Швец В. А. О возможности определения комплексных коэффициентов отражения методом эллипсометрии //Опт.и спектр. 1983. Т.55, вып.З.1. C.558 561

85. Храмцовский И.А., Пшеницын В.И. Влияние полирующего абразива наоптические характеристики поверхностного слоя // ОМП. 1987. №7.1. С.29-31.

86. Пшеницын В.И., Антонов В.А., Абаев М.И. Применение точных и приближенных решений уравнений Максвелла в эллипсометрии неоднородных слоев // Опт. и спектр.1988. Т.65. вып.З. с.621—627.

87. Strachan С. The reflectien of light at a surface со vered by a monomolecular film //Proc.Cambridge Phil.Soc. 1933. v.29. p. 116-130

88. Сивухин Д.В. Молекулярная теория отражения и преломления света //

89. ЖЭТФ. 1948. Т.18. С.754—750.

90. Пикус Г.Е. О влиянии поверхностных состояний электронов на оптические свойства полупроводника и диэлектрика // ЖЭТФ. 1952. Т.22, вып.З, С.331— 338.

91. Алексеев С. Е., Прокопенко В. Т., Яськов А. Д., Экспериментальная оптика полупроводников.С.-Пб: "Политехника", 1994,248 с.

92. Пшеницын В.И., Антонов В.А., Зорин З.М. К теории отражения света от тонкого проводящего слоя// Опт. и спектр. 1979 т.46., вып.2. С.310-316.

93. Новиков A.A., Прокопенко В.Т., Храмцовский И.А. Оптические свойства шероховатой поверхности элементов оптоэлектроники // Научно-технический вестник СП ГУ ИТМО: Теория и практика современных технологий / Гл. ред. В.Н.Васильев, 2004. вып.15, С. 73-80.

94. Топорец A.C. Оптика шероховатой поверхности, Л: Машиностроение 1988. 191 с.

95. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Исследование потерь излучения на оптических элементах в зависимости от физических параметров поверхностного слоя // ОМП. 1983. № 12. С.5-7.

96. Храмцовский И.А., Разумная M.JI. Применение трехзеркального резонатора в установке для измерения оптических потерь // ОМП. 1983. № 5. С.38-41.

97. Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Методы эллипсометрического анализанеоднородных поверхностных слоев и шероховатых поверхностей // «Эл-липсометрия: теория, методы, приложение» / Под ред. К.К.Свиташева. Новосибирск: «Наука». 1991. С.20—33.

98. Шутилов В. А., Абезгауз Б. С. Структурные особенности и модели строения кварцевого стекла // Физика и химия стекла. 1985. Т.П. № 3, С.257—271.

99. Поль Р.В. Оптика и атомная физика, М., 1966. 552 с.

100. Леко Е.К. Вязкость кварцевых стекол // Физика и химия стекла, 1979,1. Т.5, № 3, С.258-278.

101. Амосов A.B. Новая концепция механизма образования радиационных парамагнитных центров окраски в кварцевых стеклах // Физика и химия стекла, 1983. Т.9. № 5. С.569-583.

102. Бесцветное оптическое стекло СССР, каталог / Под ред.чл.-корр. Г.Т. Петровского,!^, 1990.130 с.

103. Елисеева И. И., Юзбашев M .M. Общая теория статистики, М:"Финансы истатистика". 2004. 655 с.

104. Храмцовский И.А. Эллипсометрия неоднородных слоев и шероховатыхповерхностей оптических элементов // автореф. канд. дисс., 1999, С-Пб: ГИТМО (ТУ), 25 с.

105. Мансуров Г.М., Мамедов Р.К., Сударушкин A.C., Сидорин В.К.,Сидорин К.К, Пшеницын В.И.,Золотарев В.М. Исследование природы полированной поверхности кварцевого стекла методами эллипсометрии и спектроскопии // Опт. и спектр. 1982. Т.52, вып.5. С.852-857.

106. Алексеев С.А., Колосов A.M., Пшеницын В.И., Храмцовский И.А. Определение глубины трещиноватого слоя полированной поверхности кварцевого стекла методом ИК-эллипсометрии // Стекло и керамика. 1992. №8. С.6-8.

107. Gorlyak A.N.,.Cramtsovsky LA The ellipcometry of the roug suface on an inhomogeneous substrate // 4th International Conference on Spectroscopic Ellipsometry. 2007. Stockholm, Sweden, 1st Poster Session, MoP.42, p.74.

108. Храмцовский И.А., Пшеницын В.И., Мишин A.B., Толмачев B.A., Холдаров Н.Х. Исследование поверхностных слоев свинцовосиликатного стекла методом эллипсометрии // Физика и химия стекла. 1987. Т. 13. №1. С.104-111.

109. Дюмин А.Н., Кудрявцев Н.В.,Лебедев В.М.,Мишин A.B.,Петрова И.М., Пшеницын В.И., Тер-Нерсесянц В.Е. Особенности формирования приповерхностного слоя фторсодержащих стекол // Физика и химия стекла, 1991. Т. 17 .№2. С.307—314.

110. Храмцовский И.А., Мишин A.B., Пшеницын В.И. Использование методов эллипсометрии и ВКБ для определения оптического профиля волноводных слоев // Письма в ЖТФ .1987. вып. 13. С. 1230-1235.

111. Аммас М.М., Лисицын Ю.В., ПодсекаевА.В., ТуркбоевА., Храмцовский И.А Исследование поверхностных слоев фторсодержащих материалов// Вопросы материаловедения, 2000. №1 (21), С.58-63.

112. Федорова Л.В., Молчанов B.C., Макарова Т.М., Тихонова З.И., Немилов C.B. Кинетика начальных стадий выщелачивания свинцовосиликатных стекол кислыми растворами // Физика и химия стекла, 1983, Т.9, №6, С.725-729.

113. Белюстин A.A. Современные представления о строении поверхностного слоя стекла взаимодействующего с растворами//Стеклообразное состояние/ Под ред. Е.А.Порай-Кошица, 1986, С.118-124.

114. Абаев М.И.,Лисицын Ю.В.,Путилин Э.С. Исследование зоны оптического контакта стеклянных поверхностей методом эллипсометрии // Письма в ЖТФ. 1984. Т.4. вып.24. С.1505-1507.