Фототравление поверхности меди с использованием галогенсодержащих полимерных композиций тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.04, кандидат химических наук Домина, Нина Гранитовна

• Домина, Нина Гранитовна
• кандидат химических наук
• 2003

Оглавление диссертации кандидат химических наук Домина, Нина Гранитовна

Введение 5 1 .Основные закономерности процесса фототравления полимерными фоточувствительными композициями обзор литературы)

1.1. Влияние различных факторов на протекание процесса фототравления

1.2. Механизм фотолитического травления

1.3. Влияние ионов металлов и оксидов металлов на фотоокисление полимеров

1.4. Закономерности протекания фотодеструкции полимерных композиций для фототравления

1.5. Постановка задачи исследования

2. Экспериментальная часть

2.1. Подготовка исходных реактивов

2.1.1. Очистка поливинилхлорида

2.1.2. Очистка растворителей

2.2. Изготовление фотошаблонов

2.3. Подготовка поверхности образцов к фототравлению

2.4. Подготовка составов для фототравления и нанесение их на поверхность образцов

2.5. Фототравление образцов

2.6. Удаление фотоактивной пленки и продуктов фототравления с поверхности дифракционной решетки

2.7. Определение состава продуктов фототравления меди

2.8. Методика измерения толщины фотоактивного слоя, наносимого на образец, и контроля качества поверхности меди

3. Основные закономерности процесса фототравления поверхности меди

3.1. Выбор и исследование составов для удаления продуктов фототравления меди

3.2. Влияние различных факторов на процесс фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями

4. Расчет фазовых отражательных дифракционных решеток

5. Исследование кинетических закономерностей процесса фототравления поверхности меди

5.1. Анализ сравнительной устойчивости радикалов, образующихся под действием УФ-облучения

5.2. Исследование кинетики образования продуктов реакции фототравления поверхности меди

Выводы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Фототравление поверхности меди с использованием галогенсодержащих полимерных композиций»

Для преобразования, разделения и исследования излучений большой мощности используются специальные изделия металлооптики, к числу которых относятся фазовые отражательные дифракционные решетки с различным профилем штриха. Для их изготовления используют механическую нарезку, фотолитографию и т.д. Каждому методу присущи недостатки. Например, механическая нарезка приводит к неравномерности по глубине, фотолитография - к большому количеству дефектов, искажающих характеристики излучения. Поэтому актуальность приобретает разработка новых методов изготовления отражательных дифракционных решеток. Наиболее перспективным в этом отношении является метод гетерофазного окисления на границе металл-полимер, инициируемого УФ-облучением. В результате фотолиза компонентов, содержащихся в полимерной пленке, нанесенной на поверхность металлической заготовки, образуются соединения, которые в месте облучения взаимодействуют с поверхностью металла. Продукты реакции удаляются растворителем. Преимущества процесса - в его одностадийности, благодаря совмещению стадий облучения и травления, и в уменьшении количества дефектов дифракционной решетки. При этом в зависимости от типа металла, подвергаемого фототравлению, и требований к качеству поверхности дифракционной решетки в каждом конкретном случае необходим индивидуальный подход к выбору состава фоточувствительной композиции. Наиболее перспективным в настоящее время является использование в этих целях галогенсодержащих органических соединений, в том числе, полимеров, позволяющих проводить процесс фототравления в контролируемых условиях.

Целью работы, исходя из вышесказанного, явилось выявление кинетических закономерностей и механизма процесса фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными композициями на основе поливинилхлорида и добавок различных фотосенсибилизаторов для получения дифракционных решеток с контролируемой глубиной штриха.

Для достижения поставленной цели потребовалось решить следующие задачи:

1. Исследовать взаимосвязь кинетических закономерностей процесса фототравления с условиями его проведения и составом фоточувствительной композиции (видом фотосенсибилизирующих добавок); влияние образующихся продуктов фотолиза и их активности по отношению к меди.

2. Разработать методику определения состава продуктов фотохимических превращений и выбрать растворители для их удаления.

3. Провести расчет параметров дифракционных решеток, позволяющий определить необходимую глубину штриха для оптимального распределения интенсивности дифрагированного излучения по главным максимумам.

Научная новизна работы заключается в следующем.

На основе квантово-механических расчетов энергии разрыва связей для нормального и возбужденного состояния молекул был построен ряд сенсибилизаторов, расположенный по возрастанию фотоактивности, что позволило выбрать компоненты для фоточувствительной композиции и предложить механизм процесса фототравления меди с использованием композиций на основе поливинилхлорида.

Впервые исследованы состав продуктов фотохимических превращений и кинетика образования продуктов фототравления меди галогенсодержащими композициями.

Определена энергия активации процессов образования продуктов фототравления на поверхности меди в зависимости от состава композиции для фототравления.

Практическая значимость работы. -Предлагаемые фоточувствительные композиции, условия травления и проявления изображения могут быть использованы для получения фазового рельефа с заданными параметрами и в контролируемых условиях для любых планарных систем с медью.

-Предложенный механизм фототравления может быть положен в основу выбора новых материалов для осуществления процесса фототравления полимерными светочувствительными составами как для меди, так и для других переходных металлов.

-Разработанный алгоритм расчета параметров отражательных дифракционных решеток, позволяющий получить оптимальное распределение интенсивности дифрагированного излучения, может быть использован при расчетах требуемых параметров дифракционных решеток.

Основные положения, выносимые на защиту:

- взаимосвязь кинетических закономерностей процесса фототравления с условиями его проведения и составом полимерной композиции;

- предложенную методику удаления продуктов фототравления с поверхности меди и определения их состава;

- предложенный механизм процесса фототравления поверхности меди полимерными фоточувствительными композициями;

- алгоритм расчета параметров отражательных дифракционных решеток, позволяющих получить оптимальное распределение интенсивностей дифрагированного излучения по главным максимумам без изменения характеристик излучения.

Заключение диссертации по теме «Физическая химия», Домина, Нина Гранитовна

Выводы

1. Впервые в комплексе рассмотрено влияние на процесс твердофазного фототравления наличия в составе фоточувствительных пленок на основе поливинилхлорида различных фотосенсибилизирующих соединений. Установлено, что наиболее эффективными сенсибилизаторами являются 1,3,6,8-тетрахлор-9-октилкарбазол (ТХОК), КГ-аллилфенотиазин и Ы-аллилфеноксазин. Рассмотрено влияние на процесс фототравления остаточных количеств растворителей, условий проведения процесса, в частности, рассмотрена температурная зависимость в интервале 20 - 60° С скорости процесса фототравления.

2. Для объяснения механизма влияния сенсибилизатора на процесс фототравления меди проведены квантово-механические расчеты энергии диссоциации связей компонентов фоточувствительной композиции методом МЖЮ для нормального и возбужденного состояния молекул. Показано, что предложенные фотосенсибилизаторы могут легко переходить в возбужденное состояние при облучении лампой ДРШ-500, после чего энергетически выгодным является образование радикальных интермедиатов поливинилхлорида в результате гомолитического разрыва связей С-С1.

3. Методом ЭПР экспериментально обнаружено образование органических радикалов одинаковой природы при УФ-облучении полимерных композиций, независимо от природы вводимых добавок.

4. Предложен механизм фототравления поверхности меди галогенсодержащими фоточувствительными композициями, предлагающий образование радикальных интермедиатов поливинилхлорида с последующим выделением травителя (хлора), взаимодействующего с поверхностью меди.

5. Показано, что при взаимодействии продуктов фотолиза полимерной композиции с поверхностью меди образуется хлорид меди (I). Предложена методика его количественного определения.

6. Рассмотрены кинетические закономерности взаимодействия меди с хлором с учетом образования твердых продуктов реакции (СиС1) в пределах температур 20 -60° С. Установлено, что температурные зависимости начальной скорости процесса фототравления образцов удовлетворительно описываются уравнением Аррениуса. Энергия активации процесса заметно снижается при использовании в составе фоточувствительной композиции фотосенсибилизаторов: 1,3,6,8 -тетрахлор-9-октилкарбазола и бромоформа и составляет в этом случае 34±2 кДж/моль, в то время как в отсутствии сенсибилизатора она составляет 47 ± 9 кДж/моль.

7. Впервые проведен расчет и оптимизация параметров фазовых отражательных дифракционных решеток с прямоугольным профилем штриха. Найдены параметры, решетки, обеспечивающие ослабление излучения в 100 и 1000 раз ип максимумах порядка п = -1 и п = - 5. Установлена взаимосвязь иитснсипиостей главных дифракционных максимумов при дифракции волн разной длины и рассчитан коэффициент корреляции между длинами волн падающего излучения 10.6- 103 им (рабочей) и 630 им (применяемой для предварительных исследований.

Список литературы диссертационного исследования кандидат химических наук Домина, Нина Гранитовна, 2003 год

1.Pat. N 3346384/ Metal image formation// J. Gaynor.- USA, 1967.

2. Pat. N 2411866/Verfahren zur Hersntlung von Metallbildern und Mittel zu Viner Durchfuhrung//Nagata Masayoshi, e.a.-BRD, 1975.

3. Pat. N 3516346/ Photolytic etching of metals alloy// D.L. Shaefer, J.F. Burgess.-US A, 1970.

4. Pat. N 3551227. Formation of tafered erges on magnetic films of photolytic etching// G.F. Burgess.- USA, 1979.

5. Pat. N 3489563. Photolytic etching of Nickel-cromium alloy// D.L. Shaefer. USA, 1970.

6. Pat. N 2416729. Verfahren zum Atzen von Strukturen Substratoberflachen// A. Gunther, L. Wolff.- BRD, 1975.

7. Pat. N 3483108. Method of chemically etching a non-conductive material using an electrolytically controlled mask//D.L. Schaefer.- USA, 1969.

8. Pat. N 3520686. Interact photolytic etching of silicin dioxide// R.F. Kopszevsky, D.L. Schaefer.- USA, 1970

9. Pat. N 348560. Method of etching a metal layer// J.F. Burgess, e.a.-USA, 1969.

10. Castillo F., Martines G. Influense of structure on PVC//Polum Degrad. and Stab.-V.27.- N 1 1990.-P. 1-11.

11. Pat. 4719163. Multi-active photoconductive elements// StaudenmayerW.J., Regan M.T.- USA, 1988.

12. Pat. N 3494768. Condensed vapor phase photoetching of surfaces//D.L. Schaefer.- USA, 1970.

13. Валиев К.А. и др. Нестационарная теория травления полимерных пленок в диффузионном режиме//Микроэлектроника-Т. 16.-N2.- 1987.- С. 131-139.

14. Weiher J. L.Influence of structure defects of metallic films// J. Cryst. Growth.V. 88.-N 2.- 1988.- P. 221-228.

15. Валиев К. А. Фототравление полимеров в присутствии воздуха светом// Химия высок. энергий.-Т.22.- N 4.- 1988.- С. 352-358.

16. Lasar J., Sulvain В. Controll roughening of polyethylene// Rev.phys. appl.- V. 23.-N6.- 1988.-P. 1065-1070.

17. Pat. N 350690. Photolytic etching of aluminium oxide// J.F. Burgess.- USA, 1969.

18. Соколова Ю.Д., Ларичева Т.Е. Химичекое травление пленок оксида кремния, облученных ускоренными ионами ксенона.// Структур. Осн. Модиф. Матер. Методами нетрадиц. Технол./ Межгос. Семин.- Обнинск.- 1719 июня 1997.- Обнинск, 1997.

19. Ульцова А.В. Фотохимические процессы в тонких слоях.-Л.: Химия, 1978.- 232 с.

20. Рэнби Б, Рабек Я. Фотодеструкция, фотоокисление, фотосенсибилизация полимеров.: М.- Мир, 1978.- 676 с.

21. Такаубо Масааки. Способ фотосенсибилизированного изготовления полимерных пленок// Кокай Токке кохо.- Сер 3(3).- N 22.- 1989.- С. 189-192.

22. Huang W.U. Reactant preordering in polymer matrices//Macromoleculs.-1991.- V. 24.- N 16.-P. 4600-4604.

23. Торикаи Д. Механизм фотодсструкиии полимеров//Кобунси Како.- Т.40.-N3.- 1991 CM 14-119.•24. Маслюк А.Ф. и др. Фотосенсибилизированная полимеризация метилметакрилата//Высокомолскул. соед.А-Б.- 'Г. 40.- N 12.-С. 1937-1943.

24. Pat. N 3482976. Photolytic etching of gold// D.L. Schaefer, J.F. Burgess.- USA, 1970.

25. Pat. N 3284975. Photoetching of gold// D.L. Schaefer.- USA, 1970.

26. Пат. N 59-13585. Многослойный галогенсодержащий светочувствительный материал// Яги Т., Исикава М.-65441.- БД ВИНИТИ "Химия" (св. том).- РЖ Хим, 1997.-N 811241 П.

27. Валинзон П.З., Гафт С.И. Исследование оптической сенсибилизации композиций иа основе органических галогенидов// Физ. процессы в светочувств. системах.-Вссс. коиф. 10-14 окт. 1986.- Тез. докл.-Кемерово.-1986.

28. Pat. N 242877. Verfahren zur Erhöhung der fotopolumer materialen//Baumann H., Timpe J.- Veb Filmarc Wolfen, 1987.

29. Tao J, Wang J. Photosensibilization of two-dimensional polymers//Polym. Adv. Technol.- V.10.-N 4.- P. 244-250.

30. Сушков Д.Г. Фотосенсибилизированное разложение перекисей в жестких матрицах// Всес. совещание по фотохимии.- Новосибирск.- 16-18 мая 1989.-Тез. докл.-1989.-С. 349.

31. Urano Т, Nagao T.Photosensibilization mechanism in photopolymer coating film// Polym. Adv. Technol.- V.10.- N 6.- P. 348-356.

32. Дорофеев В.И., Скурат B.E. Газообразные продукты фототравления и возможный механизм их образования//Химия высок, энергий,- Т.25.- N 5.-. 1991.- С. 448-453.

33. Гришина А.Д. и др. Фотохимическое усиление эффектов фотовоздействия слоев на основе полигидроксиаминоэфиров//Химия высок энергий.- Т. 28.- N 4.- 1994.- С. 341-346.

34. Вайнер А .Я., Досовицкая И.Е. Фотохимические превращения соли дифенилиодония в матрицах антраценсодержащих полимеров// Доклады РАН T.351.-N 5.-1996.- С. 637-640.

35. Suzuki М, Могу Y.Photosensibilized charge separation by complex-containing polymers//J.Chem. Soc.- V.92.-N 19 1996.- P. 3599-3604.

36. Pat N 4917977. Visible sensitizers for photopolymerizable compositions//Smothers W.-USA, 1990.

37. Gardette J.L.,Phillipart J.L. Perturbation of photochemistry of PVC//J.Photochem. and Photobiol.-V.43.- N 2.- 1988.- P.221-231.

38. Журавлев В.А., Иванов В.Б. Механизм фотохимического дегидрохлорирования галогенсодержащих полимеров// Депонир. рукопись ВИНИТИ N 2233-D-88, 1988.

39. Александров А.П., Китай М.С. Фотохмический механизм роста полиенов при фотодеструкции поливинилхлорида// Высокомолекул. соед.- А.- Т.2.- Nш2.-1990.- С.425-432.

40. Маршарипов С. и др. Стабилизация поливинилхлорида некоторыми производными бензимидазола// Ж.прикл. химии.- Т.61.- N 1.- 1988.- С. 191194.

41. Журавлев М.А., Иванов В.Б.// Фотохимическое дегидрохлорирование поливинилхлорида.- Деп. рукопись ВИНИТИ.- 1988.

42. Pat. N 4962141.Ethylene-vinyl chloride// Iacoviello J.G., DavidowichG.V.-USA, 1990.

43. Delmata F.G. Synthetic and characterization of tungsten oxo alkylidene complexes//.!, of organometallic chem.- N 15.- 1996.-P. 183-189.

44. Левин П.П., Кузьмин В.А. Исследование рекомбинации радикальных пар * в полимерных пленках// Изв. АН СССР.- Сер. химия.-N 8.- 1988.- С. 17421745.

45. Tsuji К. Cationic polymerizationof photochemically and thermally induced byphenothiazine cation radical salts//

46. Adv. polymer Sci. N 12.- 1973.- P. 131.

47. Jellinec H.H.S. Pavlinec J./ Photochemistry of macromolecules//J. Polym. Sci. Chem. N 3.- 1970.- P. 237-250.48Jotner J. Picosecond flash-photolysis studies on phenothiazine in polymers// J. Polym. Sci. Chem.-N37.- 1988.- P.199.

48. Spreitzer, H.; Scholz, M.; Gescheidt, G.; Daub, J. Electron-transfer chemistry and redox-switching of stilbene-likeheteroaromatic-compounds// Hoechst Aktiengessell.- Zf.- Ep G865A : D-65926 Frankfurt.- Germany, 1998.

49. Malcolm G., Francis J. //J. Amer. Chem. Soc.- V.83.- N11.- 1961.- P. 25662572

50. Воскресенский B.A., Фридланд C.B. Ионы переходных металлов как катализаторы фотоокисления // Успехи химии и технологии полимеров.- Сб. З.-М.: 1960.

51. Midsutani I. Catalytic influencing of ions of metals on process of photooxidation // J. Cemistry and Industry.- N 1.- 1988.- P. 124.

52. Васильев Р.Ф., Карпухин O.H. Ионы цинка как антиоксиданты в реакциях с алкильными радикалами // Журн. физ. химии.- N 35.- 1987.- С. 61.

53. Иванов В.Б., Кузнецова М.Н., Ангерт Л.Г. Исследование кинетических закономерностей фотоинициировфнных реакций // ДАН СССР.- вып.228,-1976.- С. 1144

54. Калверт Дж., Питтс Дж. Фотохимия,- М.: Мир, 1968.- :78 с.

55. Карпухин О.Н. Гидроперекиси как катализаторы фотолиза ВМС// Кинетика и катализ.- Т. 17.- 1976.- С.589.

56. Качан А.А., Червяцова Л.Л.Образование свободных радикалов в полимерных матрицах // В сб. Новые проблемы химии высокомолекулярных соединений.-Киев: Наукова думка.- 1975.- С. 129.

57. Качан A.A., Шрубович Б.А. Фотохимическое модифицирование органических соединений.- Киев: Наукова думка.- 1973.

58. Колдин Е.Е. Быстрые реакции в растворах.- М.: Мир.- 1966.

59. Кричевский Г., Гомбкете Я. Светостойкость окрашенных текстильных волокон.- М.: Легкая индустрия.- 1975.Щ

60. Маслова И.П., Золотарева К.А., Баранова A.C. Химические добавки к полимерам.- М: Химия.- 1973.

61. Павлов H.H., Кротова А.И. Исследование продуктов фотолиза полимеров на основе полиметилметакрилата //Пласт, массы.- N 2.- 1976.- С. 56.

62. Пудов B.C. Расчет характеристического квантового выхода полимеров//Пласт. массы,- N 2.- 1976.- С. 18.

63. Радциг В.А. Исследование температурных зависимостей разложения полимеров// Высокомолек. соединения.- А.- N 18ю- 1976.- С. 1899.

64. Разумовский С.Д., Зайков Г.Е. Реакции кислорода с органическими соединениями.- М.: Наука, 1976.

65. Жужгов Э.Л., Бабинов H.H., Воеводский В.В. Зависимость квантового выхода разрыва связей от температуры стеклования// Кинетика и катализ.- N 6.-1985.-С 56.

66. Хлоплякина М.С., Бучаченко А.Л. Нейман М.Б., Васильева А.Г.Исследование механизма дегидрохлорирования поливинилхлорида// Кин. и кат.- N 6.- 1965.-С. 394

67. Шляпинтох В.Я. Механизмфотодеструкции поливинилхлорида// Пласт, массы.-N2.- 1989.-С 47.

68. Шляпинтох В.Я., Иванов В.Б.Фотодеструкция полимеров // Пласт, массы.-N5.- 1975.-С 15.

69. Шляпинтох В.Я., Иванов В.Б., Хвостач О.М., Шапиро А.Б.Термоокислительное дегидрохлорирование некоторых полимеров// ДАН СССР.- вып. 25.- 1985.- С.1132.

70. Энциклопедия полимеров.- М.: Советская энциклопедия,- 1972. 82.Эмануэль Н.М., Кнорре Д.Г. Курс химической кинетики,- М.: Высшая школа.- 1974.

71. Allen N.C., McCellar G.P.// Chem. Soc. Revs.- N 4.- 1975.- P. 533.

72. Carlsson D.G. Wiles D.M. //J.Polym. Sei.: Polym. Lett.- N 14.- 1985.- P.493. 85McNeil I.C.// J. Oil and colour Chem. Assoc.- N 59.- 1976.- P. 231.

73. Baileg D., Vogl O.//J. Macromolecul. Sci.-N 14.-1976.- P. 155.

74. Baum B. Deanin R.D.// Polymer plast tecnol eng.- N 2.- 1973.- P. 1.

75. Rabek J.F., Ranby В.// Polym. Eng. and Sei. N 15.- 1975.- P. 40.

76. Капустина A.C., Давыдова В.М.Расчет энергии сопряжения двойных связей в ПВХ// Журн. прикл. химии.- N 36.- 1990.- С. 187.

77. Попова З.В. Яновский Д.М., Козлова А.И. Кинетические закономерности некоторых реакций дегидрохлорирования// Журн. прикл. химии.- N 35,1989.- С. 164.

78. Попова З.В., Яновский Д.М. Фотораспад поливинилхлорида// Журн. прикл. химии.- N 28.- 1986.- С. 158.

79. Pokholok K.V., Karpukhin C.V.Mechanizm of thermodistuction// J. polymer Sci.-N 25.- 1988.-P. 48.

80. Sheldric G.E., Vogl O.Photodistruction of Polymers// Polym. Eng. and Sei. N 16.- 1976.-P. 65

81. Stove B.C., Fornes E.F.Termostabililyty of Polymers // Chem. Soc. Revs.- N 25.- 1985.- P. 33.

82. Kirillova E.I., Fradkina G.P. Mater, plast.ed.elast//.// Chem. Soc. Revs N 16.1989.- P.86.

83. Vinc P. Process of photooxidation // Plastica.-N 28.- 1976.- P. 25.

84. Виндзор M.B. Физика и химия твердого состояния органических веществ.М.: Мир. 1968.

85. Туторский Б.А., Новиков C.B. Влияние растворителей на фотодеструкцию полимеров// Высокомолек. соединения.- N 6, 1984.- С.1127

86. Тупиков В.И., Пшежецкий С. Я.Дегидрохлорирование полимеров при УФ-облучении// ДАН СССР.- вып. 156.- 1964.- С.144.

87. ЮО.Турро Н. Молекулярная фотохимия.- М.: Мир, 1967.

88. Справочник химика. T.2.-JI.: Госхимиздат.-1966.- 1170 с.

89. Ахметов Н.С. Общая и неорганическая химия,- М.: Высшая школа.-1993.-680 с.

90. ЮЗ.Татевосян Г.О., Кузнецова И.Б.Фотолиз в слоях высокоскоростного полимерного покрытия// Пласт, массы.- N 7.- 1977.- С. 2221-2229.

91. Далинкевич A.A., Калинин A.B. Распределение продуктов фотоокисления при диффузионном режиме сенсибилизированной фотоокислительной модификации полистирола // Пласт, массы.- N 7.- 1997.-С. 26-32.

92. Гордон А., Форд Р. Спутник химика.- М.: Мир, 1976.- 541 с.

93. Сивухин Д.В. Общий курс физики. Т. 4. Оптика.- М.: Наука. Гл.ред физ.-мат. лит., 1980.- 752 с.

94. Калитеевский Н.И. Волновая оптика.-М.: Высш.школа, 1978.-383 с.

95. Волков Е.А. Численные методы.-М.:Наука. Гл. ред. физ.- мат. лит. 1987.-248 с.

96. Химмельблау Д. Анализ процессов статистическими методами.-М.:Мир,1973.-396 с.

97. Сироткина Е.Е.,Скороходова Т.С. Локальное фотоокисление неорганических материалов// Химики ТГУ на пороге третьего тысячелетия. Вопросы химии и химического материаловедения.- Изд-во Томского ун-та.-Томск.-1998.

98. Сироткина Е.Е., Скороходова Т.С. Новый карбазолилсодержащий реагент 1,3,6,8 тетрахлор-9-октилкарбазол// Первое северо-Кавказское совещание по химреактивам.- Махачкала.- Тез. докл.- С. 195.

99. Анфиногенов В.А., Сироткина Е.Е., Домина Н.Г., Хлебников А.И. Выбор и исследование составов для растворения продуктов фототравления поверхности меди// Известия высших учебных заведений. Химия и химическая технология.-2001.-Т.44.- Вып.4.- С. 139-141.

100. Анфиногенов В.А., Сироткина Е.Е., Домина Н.Г., Хлебников А.И. Фототравление поверхности меди полимерными фоточувствительными покрытиями//Журн Прикл. Химии.-2001 .-T.74.-N 11.- С.1884-1887.