Балансно-двухволновой метод контроля оптических толщин слоев: Исследование возможностей метода при изготовлении интерференционных покрытий тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.11.07, кандидат технических наук Эльгарт, Зиновий Эльевич

• Эльгарт, Зиновий Эльевич
• кандидат технических наук
• 1998

Оглавление диссертации кандидат технических наук Эльгарт, Зиновий Эльевич

ОГЛАВЛЕНИЕ

стр.

Введение

1. Методы и средства контроля толщин наносимых слоев оптических интерференционных покрытий (обзор литературы)

2. Балансно-двухволновый метод контроля оптических толщин пленок в процессе их формирования (математическая модель.)

2.1. Контроль оптических толщин "четвертьволновых" слоев БДВ методом контроля

2.2. Влияние ошибки установки рабочих длин волн системы контроля

на смещение спектральной характеристики покрытия

2.3. Влияние дисперсии показателя преломления наносимой пленки на смещение спектральной характеристики покрытия

2.4. Контроль "нечетвертьволновых" оптических покрытий БДВ методом

2.5. Оценка влияния спектральных характеристик источника и приемника света на величину погрешности контроля оптических толщин слоев

2.6. Влияние девиаций значений показателей преломления наносимых слоев на величину погрешности контроля оптических толщин

2.7. Использование БДВ метода контроля для определения отклонений значений показателей преломления формируемых слоев от их расчетных величин

2.8. Метод индикации изменений показателей преломления формирующихся слоев, основанный на совместном использовании двух методов контроля толщины (БДВ+мкварцевый") пленок

Выводы по главе 2

3. Экспериментальная реализация приборного комплекса для ба-

лансно-двухволнового метода контроля оптических толщин слоев

3.1. Оптическая схема контроля оптических толщин пленок

3.2. Оптическая схема устройства для выделения двух независимых монохроматических световых потоков из сплошного спектра входного излучения. (Дихроматор)

3.3. Принципиальная схема электронно-измерительного блока управления и ввода данных - УВД

3.4. Блок-схема и принцип работы электронно-измерительной части системы балансно-двухволнового контроля оптических толщин пленок

стр.

Выводы по главе 3

4. Применение БДВ метода при изготовлении некоторых типов многослойных интерференционных систем

4.1. Дихроические покрытия

4.2. Алгоритм расчета рабочих длин волн при сквозном контроле дих-роических четвертьволновых покрытий БДВ методом

4.3. Результаты программного расчета оптимальных рабочих длин волн для дихроических покрытий и узкополосных фильтров

4.4. Работа БДВ метода контроля при изготовлении дихроических покрытий из материалов с нестабильным значением показателей преломления

4.5. Применение БДВ метода при контроле просветляющих покрытий, обеспечивающих эффект просветления в одной длине волны

Выводы по главе 4

5. Экспериментальные и практические результаты применения БДВ метода контроля при изготовлении оптических покрытий

Выводы по главе 5

Заключение

Литература

Приложение

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Балансно-двухволновой метод контроля оптических толщин слоев: Исследование возможностей метода при изготовлении интерференционных покрытий»

ВЕДЕНИЕ

В последнее десятилетие технология оптических интерференционных покрытий продолжала развиваться достаточно интенсивно. Причиной этому послужил как количественный рост производства оптических элементов с покрытиями, так и качественно возросшие (или принципиально новые) требования, предъявляемые к оптическим покрытиям, использующимся во всем "спектре" современного оптического и научного приборостроения: астрономия, спектроскопия, лазерная техника, волоконно-оптические системы связи, телевидение, фото-киноаппаратура и др. Применение оптических покрытий позволяет целенаправленно изменять спектральные передающие функции оптических элементов и как результат, качественно улучшать выходные параметры оптических приборов и систем. Современные технологии нанесения оптических покрытий базируются главным образом на вакуумных методах нанесения слоистых структур и сводятся к конденсации в виде тонких пленок паров пленкообразующих материалов (ПОМ) на предварительно подготовленные поверхности подложек.

Технология интерференционных оптических покрытий включает ряд

этапов:

1. Выбор конкретных ПОМ, на базе которых будет реализована расчетная структура многослойного покрытия;

2. Определение метода и аппаратуры для реализации структуры: испарение или распыление в вакууме.

3. Определение значений основных технологических параметров процесса нанесения каждого выбранного ПОМ: температуры поверхности детали, давления и состава остаточных или реактивных газов, скорости осаждения ПОМ.

Дополнительными факторами технологического процесса являются: качество исходных материалов, количество и комбинации

ПОМ, используемых при создании интерференционной системы, состояние поверхности образцов и вакуумной камеры.

4. Выбор метода и рабочих параметров системы контроля толщин наносимых слоев в процессе их формирования.

5. Реализация выбранных технологических процессов нанесения ПОМ на вакуумной установке в последовательности, количестве и качестве, определяемыми заданной расчетной структурой интерференционной системы.

С математической точки зрения многослойная тонкопленочная система представляет собой комбинацию из конечного числа плоскопареллельных бесконечно протяженных слоев, толщина которых сравнима с длиной волны электромагнитного излучения светового диапазона.

В свою очередь каждый слой характеризуется показателем преломления - а в случае поглощения - коэффициентом поглощения - ку

Определение коэффициентов отражения, пропускания и поглощения многослойной системы с точки зрения электромагнитной теории сводится к определению стационарных амплитуд векторов напряженности электрического и магнитных полей на всех границах многослойной системы при падении световой волны с определенными характеристиками.

Оптические же свойства каждого слоя полностью описываются комплексным показателем преломления = г^ - ; и геометрической толщиной - с^, а свойства интерференционной системы - величинами ^ , N0, N¡+1 и I j = (оптическая толщина слоя), где: j - порядковый номер слоя, а N0 и

N^1- комплексные показатели преломления подложки и обрамляющей среды.

Технологический процесс изготовления оптических покрытий зависит, как уже указывалось, от нескольких десятков параметров, характеризующих

как непосредственно сам процесс вакуумного осаждения слоев, так и параметров подложки и условий эксплуатации.

Влияние некоторых из этих параметров на окончательный результат может быть достаточно точно оценено аналитически, а сами они могут с требуемой степенью точности быть измерены и отрегулированы.

Другая группа параметров может быть более или менее достоверно проанализирована аналитически с точки зрения степени их влияния на характеристики покрытия, однако, их измерение возможно лишь косвенными, полуколичественными методами, что в свою очередь, резко снижает возможности целенаправленного управления этими величинами. И наконец, целый ряд важных параметров процесса изготовления задается только эмпирически и не контролируется вообще.

Таким образом, ввиду сложности технологического процесса изготовления оптических интерференционных покрытий, в настоящее время отсутствует его полное адекватное математическое описание.

При синтезе интерференционных покрытий в расчет принимаются только комбинации пар: ^ и ^ ^, порядок расположения которых однозначно

определяют оптические и, в большей степени, эксплуатационные (прочность, адгезия, лучевая стойкость и т.п.) характеристики системы: оптическая деталь + слоистая структура.

Обычно, в расчет закладываются некоторые усредненные значения показателей преломления и коэффициентов поглощения тонких слоев ПОМ, полученные в сходных производственных условиях.

По такому же принципу определяются и точностные параметры систем контроля толщин слоев в процессе их осаждения.

При практической реализации оптических покрытий, ввиду сложности и многопараметричности этого процесса, зачастую не удается обеспечить соответствие реальных значений и^ их расчетным значениям.

Следствием этого является отличие заданных характеристик оптических покрытий от полученных реально.

Частично (и далеко не всегда) эта проблема может быть решена с помощью средств оптимизации конструкции покрытия путем повышения "устойчивости" покрытий.

Для этого еще на этапе проектирования моделируются возможные технологические отклонения параметров: nj ;kj и I jot их расчетных значений

и выбираются наиболее "устойчивые" с технологической точки зрения конструкции.

Такой подход позволяет сузить границы неопределенности результата, однако, не решает по крайней мере две из основных проблем изготовления интерференционных многослойных систем:

а) не обеспечивает воспроизводимости выходных параметров покрытий в условиях массового производства;

б) не гарантирует получение некоторых типов современных покрытий с уникальными характеристиками.

В настоящее время при выборе метода и рабочих параметров системы контроля оптических - £j = Nj -dj или геометрических - djтолщин пленок

формирующейся на поверхности детали слоистой системы руководствуются, как правило, эмпирическим подбором параметров системы контроля и других параметров технологического процесса, влияющих на точность контроля толщин пленок. При этом, тип покрытия, его конкретные характеристики, система и методика контроля толщин пленок , а также комплекс технологического оборудования для осаждения пленок в вакууме, не рассматриваются как единая замкнутая система, объединенная набором, описываемых аналитически, причинно-следственных связей, набором выходных параметров которой являются характеристики изготовленной тонкослойной интерференционной системы.

Зачастую в технологических процессах не контролируются непосредственно оптические толщины формирующихся пленок, определяющие характеристику всей интерференционной системы, а ведется контроль параметров (геометрическая толщина, масса, емкость, электропроводность, поляризационные свойства и т.д.), информация о которых косвенным образом, сопровождаемая естественно ростом погрешности, может быть интерпретирована в значения оптических толщин.

Научно обоснованное развитие существующих, а также создание новых технологий оптических покрытий невозможно осуществить без разработки методов и систем контроля параметров процесса вакуумного напыления формирующихся покрытий.

Для выбора оптимальных конструкций покрытий и оптимальных условий их изготовления необходимо установить объективную аналитическую взаимосвязь между характеристиками формирующегося покрытия и некоторыми технологическими параметрами процесса осаждения покрытий с одной стороны и методикой, рабочими параметрами и показаниями такой важнейшей системы всего технологического комплекса как система оперативного контроля оптических толщин формирующихся пленок с другой стороны.

Учитывая многопараметричность технологии вакуумного напыления и отсутствие полного адекватного математического описания этого процесса, безусловно, невозможно сейчас ставить задачу о глобальной оптимизации, по всем параметрам, используя систему контроля толщин пленок в процессе осаждения как единственный источник информации о состоянии всего комплекса параметров процесса изготовления покрытий.

Цель настоящей работы состояла в выборе способа и разработке методики систем контроля оптических толщин пленок в процессе их формирования, позволяющих оптимизировать процесс разработки и изготовления оптических интерференционных покрытий, увеличить воспроизводимость выход-

ных параметров и создавать покрытия с новыми (уникальными) характеристиками.

Для достижения сформулированной цели необходимо было решить следующие задачи:

1. Выбрать (разработать) метод контроля толщин пленок оптического интерференционного покрытия в процессе их формирования.

2. Создать математическую модель, учитывающую методические и аппаратурные особенности системы контроля в комплексе с конструкцией конкретно изготовляемого покрытия и некоторыми другими параметрами технологического процесса.

3. Реализовать на практике полученные методики.

4. Проанализировать полученные экспериментальные результаты изготовленных оптических покрытий с помощью созданной методики и аппаратуры.

5. На основе полученных данных установить научно обоснованную взаимосвязь между возможностями метода, его рабочими параметрами, режимами работы и спектральными характеристиками полученных покрытий.

Научная новизна работы заключается в том, что применительно к ба-лансно-двухволновому методу контроля оптических толщин пленок в процессе их нанесения разработана математическая модель, позволяющая впервые объединить в единый комплекс составные части процесса создания оптиче-

и и и

ского покрытия: тип и характеристика конкретной многослойной системы, режимы работы и параметры системы контроля оптических толщин слоев, параметры технологического оборудования и пленкообразующих материалов;

- получены аналитические зависимости для количественной оценки погрешности контроля оптических толщин слоев в зависимости от типа покрытия, режима и рабочих параметров системы контроля;

- разработаны критерии выбора оптимальным образом реализуемых конструкций покрытий;

Полученные методики полностью адаптированы современной аппаратурной базе, на основе которой они могут получить свое дальнейшее развитие, являясь новым эффективным средством научно обоснованной оптимизации процессов создания оптических интерференционных покрытий. Практическая значимость работы проявляется в следующем:

- Создан комплекс фотометрического контроля оптических толщин наносимых пленок балансно-двухволновым (БДВ) методом;

- Разработаны методики выбора оптимальной конфигурации системы контроля, режимов его работы и требования к параметрам и характеристикам основных узлов фотометрического комплекса;

- Изготовлены на вакуумном оборудовании низкой системы автоматизации (установки ВУ-1А и ВУ-2М) следующие покрытия:

а) 11-ти слойные дихроические покрытия со стабилизацией положения

( ДА,0 5 ^

спектральной характеристики Ао5<2 нм -—<0,3% при среднеквадра-

^о /

тичном отклонении результатов - ё = 0,3 нм

б) 19-ти слойные дихроические покрытия со стабилизацией длинноволнового и коротковолнового "фронтов" спектральной характеристики не хуже ±1 нм; крутизне фронта - Б =12%/нм при Ттах=90%;

в) 31-слойные отрезающие фильтры из 6-ти разных пленкообразую-

Я

щих материалов с суммарной оптической толщиной I- = 63— (Хо=508 нм и

4

670 нм) со стабильными значениями положения полосы пропускания отрезающих фильтров (ДА,о,5=1 нм), крутизной 8=10%/нм при Ттах=80%.

г) 17-ти слойные диэлектрические узкополосные интерференционные фильтры на Атах=404 нм (при А.тах<^н - нижней границы рабочего спектраль-

ного диапазона системы контроля) с точностью стабилизации длины волны максимального пропускания ДХтах^ ±0,3 нм и полушириной - 3 нм;

- Получены экспериментальные подтверждения точностных возможностей БДВ метода для широкого диапазона оптических толщин наносимых слоев: относительная погрешность контроля находится на уровне 0,1%;

На защиту выносятся:

1. Математическая модель двухволнового балансного фотометрического метода контроля оптических толщин формируемых слоев.

2. Архитектура системы контроля, методика ее настройки, эксплуатации и требования к основным функциональным узлам.

3. Методика выбора оптимальных рабочих длин волн, обеспечивающих минимальную погрешность контроля с учетом: типа покрытия, номера слоя в многослойной системе, вида пленкообразующего материала, режима работы системы контроля (на пропускание или отражение), толщины наносимого слоя, типа контроля: сквозной или раздельный, ширины рабочего спектрального диапазона, спектральных и конструктивных характеристик используемых источника и приемника света.

4. Оценка влияния дисперсии и девиации значений показателя преломления наносимой пленки на смещение спектральной характеристики покрытия и методика его компенсации.

5. Методика контроля "тонких" £ = ——

слоев при (А® - нижняя

4

граница рабочего спектрального диапазона системы контроля).

6. Методика расчета и изготовления просветляющих (типа У-соа1;) и дихроических покрытий при использовании пленкообразующих материалов с нестабильными значениями показателей преломления (эффект автоматической оперативной коррекции, автоподстройки).

7. Методика использования БДВ системы как отдельно, так и совместно с системой "кварцевого" контроля толщины пленок для оперативной инди-

кации отклонений значений показателей преломления формируемых слоев от их расчетных или экспериментально установленных величин.

8. Алгоритм расчета оптических и адаптивных покрытий применительно к БДВ методу контроля.

9. Результаты экспериментальной проверки разработанного фотометрического комплекса при изготовлении дихроических, просветляющих и узкополосных фильтрующих покрытий.

Основные научные результаты работы докладывались и обсуждались на VIII Международной конференции по инженерной оптике (Израиль, 1992) на симпозиумах по прикладной оптике (Санкт-Петербург, 1994; 1996). Основные материалы диссертации обсуждались и одобрены в 1990- 1997 гг. на научно-технических семинарах кафедры Оптических технологий СПб ГИТМО (ТУ).

По материалам диссертационной работы опубликовано 10 научных работ и получено 5 авторских свидетельств.

Диссертация состоит из введения, пяти глав, заключения и списка литературы. Общий объем диссертации составляет 217 страниц машинописного текста, в том числе 33 рисунка, 14 таблиц и 4 приложения. Список литературы содержит 107 наименований.

Во введении показана актуальность задачи разработки и создания систем и средств контроля оптических толщин формируемых покрытий оптических элементов, сформулированы основные направления работы для достижения поставленной задачи, а также научные положения и результаты, выносимые на защиту.

Первая глава диссертации посвящена анализу работ, связанных с описанием методов и средств контроля толщин слоев, формирующихся оптических интерференционных покрытий.

Приведен краткий анализ физических параметров тонкослойных интерференционных систем и технологических факторов, влияющих на "качество"

оптических покрытий и, в первую очередь, на форму и точность положения их спектральных характеристик.

Приведен обзор методов и устройств, используемых для оперативного контроля толщин пленок в процессе их формирования.

Сравнительный анализ технических характеристик и возможностей систем контроля толщин оптических покрытий показал, что наиболее перспективными для использования в составе технологического комплекса для изготовления оптических покрытий являются системы, основанные на принципе спектрофотометрирования как отдельных слоев многослойных интерференционных покрытий, так и всего многослойного "пакета" в целом.

Такие системы наряду с контролем спектральных энергетических параметров (коэффициентов пропускания, отражения) формирующейся многослойной интерференционной системы позволяют вести непосредственный контроль оптических толщин наносимых слоев, т.е. основного важнейшего параметра, определяющего, в конечном счете, параметры спектральной характеристики всей многослойной интерференционной системы в целом.

Кроме того, спектрофотометрические системы контроля являются единственными, позволяющими на практике, в условиях производства, получать информацию о действительном значении и величине спектральной дисперсии второго важнейшего параметра, определяющего свойства оптических интерференционных покрытий, а именно: показателе преломления формируемых слоев.

Проведенный анализ литературных данных об устройстве и методиках использования современных спектрофотометрических систем и методик, используемых в производственных технологических комплексах для изготовления оптических покрытий показывает, что обеспечиваемая ими относительная погрешность оперативного контроля оптических толщин слоев находится на уровне 1-г2%. При этом, указанные цифры достижимы только при контроле слоев с оптическими толщинами порядка 75 нм и выше. С уменьшением оп-

тических толщин наблюдается резкое падение точностных возможностей известных методик и систем спектрофотометрического контроля. Разработанные методики получения информации о величине показателей преломления формирующихся слоев носят чисто качественный характер (типа: "больше-меньше") и пригодны только для относительно "толстых" слоев. Методика оценки и учета влияния дисперсии показателя преломления формирующегося слоя отсутствует. Нет четких критериев для выбора режимов и рабочих параметров системы контроля в зависимости от типа покрытия, порядкового номера формируемого слоя, его материала и, собственно говоря, от требований, предъявляемых ко всей интерференционной системе в целом.

Учет всех вышеперечисленных факторов является непременным условием дальнейшего прогресса в разработке изготовления и применении тонкослойных оптических покрытий. Использование спектрофотометрических систем при контроле толщин оптических интерференционных покрытий требует дальнейшей разработки и усовершенствования методик и аппаратурных средств.

Во второй главе описывается математическая модель спектрофотомет-рической системы контроля оптических толщин покрытий, основанной на ба-лансно-двухволновом (БДВ) методе контроля.

Получена аналитическая зависимость для расчета относительной погрешности контроля "четвертьволновых" = = ; и Х2 - рабочие длины волн) слоев, учитывающая аппаратурные особенности построения системы контроля и чувствительность метода при работе на пропускание и отражение.

Получена аналитическая зависимость для расчета методической чувствительности при контроле "четвертьволновых" слоев, включающая в себя практически все физические параметры как собственно самой системы контроля, так и непосредственно контролируемого процесса.

Выведены формулы для расчета рабочих длин волн, обеспечивающих в процессе контроля максимальную чувствительность метода.

Показано, что рабочие длины волн, оптимальные с точки зрения чувствительности метода, вообще говоря, не совпадают с длинами волн минимизирующих относительную погрешность контроля.

Приведены расчетные данные, позволяющие оценить влияние показателей преломления подложки и осаждаемых материалов на ширину рабочего

Ь

спектрального диапазона - g = —.

Х2

Показано, что при значениях £>1,5 не наблюдается практического выигрыша в точности контроля, что позволяет значительно снизить требования к ширине рабочего спектрального диапазона системы контроля а, соответственно, значительно упростить ее аппаратурную реализацию. Кроме того, автоматически снижается отрицательное влияние дисперсии показателей преломления подложек и пленкообразующих материалов на точность фиксации положения спектральной характеристики покрытий.

Получены результаты, идущие вразрез с традиционно сложившимся мнением о том, что для увеличения точности БДВ метода необходимо непременно стремиться к расширению рабочего спектрального диапазона системы контроля. Доказано, что во всем диапазоне известных пленкообразующих материалов и подложек вариант работы БДВ системы контроля на отражение при фотометрировании системы: подложка-непоглощающая пленка гораздо предпочтительнее с точки зрения точностных параметров, чем контроль по пропусканию.

Приводится сравнительная оценка относительных погрешностей "экстремального" одноволнового метода контроля и БДВ метода при работе на отражение. Минимальный выигрыш в точности контроля около 3-х раз.

Рассмотрено влияние ошибки установки рабочих длин волн системы БДВ контроля на смещение спектральных характеристик покрытия. Доказано,

что ошибка положения спектральной характеристики не превышает максимальной из ошибок установки рабочих длин волн. Кроме того, в БДВ системах контроля требования к устройствам монохроматизации могут быть примерно в 2 раза менее жесткими, чем в системах "экстремального" контроля.

Исследовано влияние дисперсии показателя преломления однослойной пленки на смещение спектральной характеристики покрытия. Получена аналитическая зависимость для введения поправок в значения рабочих длин волн, компенсирующих влияние дисперсии.

Теоретически доказана возможность контроля "тонких"

"нечетвертьволновых"

£ = ~;Х0 <-—1 л 2 ; А,0 < Х2

у

слоев БДВ методом при

^ 4 " Хх + Х2

сохранении точности контроля присущей "четвертьволновым" пленкам.

Разработанная методика "предварительного разбаланса" показала однозначное преимущество ввода данных не в оптическую часть системы контроля, а только в электронную (за исключением установки рабочих длин волн). Этот прием обеспечивает как минимум 30% повышения точности контроля параллельно с упрощением и удешевлением всей системы.

Получены аналитические зависимости для вычисления относительной погрешности контроля "нечетвертьволновых" слоев при работе системы как на пропускание, так и на отражение. Эти зависимости включают в себя как параметры изготавливаемой тонкопленочной конструкции, так и рабочие характеристики самой системы контроля.

Анализ зависимостей позволяет сделать вывод, что при работе на отражение вне зависимости от величины показателя преломления осаждаемого слоя БДВ метод обеспечивает возможность контроля "тонких нечетвертьволновых" слоев практически во всем диапазоне оптических толщин

£

ГI = К—;где:К = — > 0,2^

4 Х2 у

ц - "шумовой" коэффициент фотоприемника.

с относительной погрешностью Ык < 15 ¡и; где

Разработана методика расчета аппаратурной погрешности контроля толщин слоев с учетом спектральных характеристик источника света и фотоприемника. Оказалось, что правильный выбор фотоприемника является решающим фактором, обуславливающим принципиальную возможность контроля "тонких нечетвертьволновых" слоев.

Представлена методика расчета оптимальных рабочих длин волн системы контроля при "сквозном" фотометрировании многослойных токопленоч-ных покрытий, обеспечивающая выбор оптимальных рабочих длин волн для каждого из наносимых слоев.

Рассмотрено влияние девиаций значений показателей преломления наносимых слоев на величину погрешности контроля оптических толщин пленок при различных вариантах работы системы - на отражение и на пропускание.

Выведены аналитические зависимости для расчета ошибок оптических толщин, вносимых отклонениями от расчетных значений, показателей преломления осаждаемых пленок.

Разработаны методики выбора режимов работы системы контроля в зависимости от осаждаемых материалов и типа покрытия, позволяющие свести к минимуму влияние девиаций значений показателей преломления наносимых слоев и обеспечивающие получение покрытий с заданными спектральными характеристиками.

Исследована и подтверждена возможность фиксации отклонений от расчетных значений показателей преломления слоев в процессе их осаждения. Регистрируются относительные отклонения значений показателей преломления на уровне 1-3% от номинала.

Предложен и рассмотрен так называемый "совместный" (БДВ +" кварцевый") метод индикации изменений показателей преломления формирующихся слоев и определения их текущих значений.

Предложена (применительно к БДВ контролю) методика синтеза адаптивных интерференционных оптических покрытий, при реализации которых ошибки (неконтролируемые изменения) в показателях преломления слоев не приводят к изменению результирующих спектральных характеристик покрытий за счет их компенсации путем изменения оптических толщин пленок автоматически при выбранной схеме контроля.

В третьей главе описан состав, принцип действия и схема объектов комплекса фотометрического контроля оптических толщин пленок в процессе их формирования. Разработанная система контроля позволяет успешно реализовать все потенциальные возможности БДВ метода.

Приводятся экспериментальные данные о линейности измерительной схемы: не хуже 1% при динамическом диапазоне входного сигнала ±60 дб. Полученные технические решения и результаты оставляют место для дальнейшего развития и усовершенствования как теоретических, так и аппаратурных возможностей балансного метода контроля.

В четвертой главе диссертации рассмотрены некоторые теоретические аспекты и технологические возможности изготовления современных дихрои-ческих покрытий, требующих, в частности, стабилизации положения отрезающего фронта не хуже +2 нм.

Показано, что при контроле "четвертьволновых" дихроических покрытий БДВ методом наблюдается эффект автоподстройки (при условии стабильности показателей преломления пленкообразующих слоев). А именно, выпол-

X

няется равенство: пвс1в + пнс1н = —; где индексы В и Н означают "высокий" и

"низкий"; п и д. - соответственно показатель преломления и геометрическая толщина. Выполнение этого равенства у пар соседних слоев обеспечивает теоретическую стабильность положения отрезающего фронта:

—— < 1 • Ю-4, что примерно в 20 раз лучше, чем при контроле обычным

^0,5

"экстремальным" методом.

Разработан критерий качества и алгоритм расчета рабочих длин волн при сквозном контроле дихроических четвертьволновых покрытий БДВ методом. Приведены результаты программного расчета оптимальных рабочих длин волн при изготовлении двух типов "четвертьволновых" интерференционных систем.

Важнейшим результатом анализа является тот факт, что для каждой конкретной интерференционной системы, вне зависимости от того к какому участку ее спектральной кривой (или набору точек) предъявляются повышенные требования, существует свое, характерное именно для системы данного типа ( с учетом, естественно, и количества слоев) распределение функционала качества БДВ системы контроля, как функции от выбранных рабочих длин волн А,] и 1,2. Рассмотрена работа БДВ метода контроля при изготовлении дихроических покрытий из материалов с нестабльными значениями показателей преломления.

Показано, что в этом случае, для обеспечения эффекта автокомпенсации контроль должен вестись по пропусканию и раздельным способом, т.е. каждому слою из материала с нестабльным значением показателя преломления должна предшествовать смена контрольного образца.

Рассмотрено применение БДВ метода контроля при изготовлении анти-отражающих покрытий. Разработана методика расчета двухслойных антиот-ражающих покрытий при условии их контроля БДВ методом, а также алгоритм выбора рабочих длин волн системы контроля, обеспечивающих в процессе изготовления двухслойного покрытия эффект автоподстройки, с обеспечением минимального коэффициента отражения на заданной длине волны.

В пятой главе диссертации описываются эксперименты и практические результаты применения БДВ метода контроля при изготовлении оптических

покрытий. Описаны серии экспериментов по изготовлению 11 -ти слойных дихроических покрытий из сернистого цинка (ZnS) и фтористого магния (MgF2). Полученные результаты сравниваются с данными, полученными при изготовлении таких же покрытий с контролем "кварцевым" методом. Так при изготовлении "четвертьволновых" 11-ти слойных дихроиков А,0 =550 нм с помощью БДВ метода разброс положения длинноволнового отрезающего фронта - находится в пределах ±2,5 нм. Изготовление нескольких серий этого же покрытия с помощью "кварцевого" контроля обеспечивает

<17 нм. Работа с обычной "экстремальной" системой фотометрирова-

ния дает еще более неудовлетворительные результаты ДА,^ <±22 нм.

Наиболее полно возможности БДВ метода проявились при изготовлении уникального оптического фильтра (типа "Bandpass"), состоящего из двух склеенных отрезающих фильтров, на каждом из которых была нанесена 31 слойная конструкция типа: 3in3B3H3(3H2H2)2[(BiH1)93B2](H23B2)2 Н3ЗВ3; где: пв1 = 2,3 (ZnS); пв2=2,05 (Zr02); пв3 = 1,96 (НЮ2); пн1 = l,35(Na3AlF6); пн2 =l,45(Si02); пн3 = 1,60 (А1303);

Вь В2, В3, Нь Н2, Н3 - "четвертьволновые" оптические слои при А50к) =508 нм для "коротковолнового" отрезающего фильтра и А,(0а) =670 нм для "длинноволнового" фильтра.

Полученный с помощью БДВ метода "Bandpass" - фильтр удовлетворяет заданным параметрам.

№ Параметр Спектральный диапазон, Пропускание,

[нм] Г%1

1 Зона 560-7-610 50±5

"прозрачности"

2 Коротковолновая 480^-550 <0,01

зона подавления (D>4)

3 Длинноволновая 620ч-700 <0,01

зона подавления (D>4)

Была разработана методика и поставлена серия экспериментов , целью которых было получение количественной практической величины погрешности оптических толщин пленок при контроле БДВ методом "нечетвертьволновых" слоев.

В качестве модели был выбран процесс изготовления 11-ти слойных диэлектрических узкополосных интерференционных фильтров с А.тах=404 нм.

Интерпретация полученных результатов позволяет утверждать, что относительная погрешность контроля оптических толщин трех средних (важнейших) слоев узкополосного фильтра при работе БДВ системы в режиме раздельного контроля "нечетвертьволновых" слоев по отражённому сигналу не превышает 0,1%.

Заключение диссертации по теме «Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы», Эльгарт, Зиновий Эльевич

Основные результаты исследований изложенных в работе:

1. Разработана математическая модель двухволнового балансного фотометрического метода контроля оптических слоев покрытий в процессе их формирования.

2. Разработана система контроля, методика ее настройки, эксплуатации и сформулированы требования к ее основным функциональным узлам.

Разработана методика выбора оптимальных рабочих длин волн системы контроля, обеспечивающих минимальную погрешность оптических толщин слоев.

3. Разработана методика оценки влияния дисперсии и девиации значений показателя преломления осаждаемого слоя на смещение спектральной характеристики покрытия и показаны пути компенсации ошибки положения.

4. Разработана методика контроля "тонких нечетвертьволновых" слоев X = —;Х0 <Х„- нижняя граница рабочего спектрального диапазона 4 системы контроля).

5. Изложена методика расчета и изготовления просветляющих (типа У-соа!;) дихроических и фильтрующих покрытий при работе с пленкообразующими материалами, имеющими нестабильные значения показателей преломления (эффект автоматической оперативной коррекции, автоподстройка).

6. Представлен алгоритм использования БДВ системы как отдельно, так и совместно с системой "кварцевого" контроля, предназначенный для оперативной индикации отклонений значений показателей преломления формируемых слоев от их расчетных или экспериментально установленных величин.

7. Изложена методика расчета оптических "адаптивных" покрытий применительно к БДВ методу контроля.

8. Представлены результаты экспериментальной проверки разработанного фотометрического комплекса при изготовлении дихроических просветляющих и узкополосных фильтрующих покрытий.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Эльгарт, Зиновий Эльевич, 1998 год

ЛИТЕРАТУРА

1. Путилин Э.С. Покрытия и защита оптических деталей. JI: ЛИТМОД978, с.92.

2. Холлэид JI. Нанесение тонких пленок в вакууме. М.: Госэнергоиздат, 1963, С. 608.

3. Физика тонких пленок. Под ред. Г.Хасса. М.: Мир, 1967, Т.1, 344 с.

4. Комраков Б.М., Шапочкин Б.А. Измерение параметров оптических покрытий - М.: Машиностроение, 1986,182 с.

5. Розанов Л.Н. Вакуумная техника. -М.: Высшая школа, 1982.

6. Рисанов A.B., Сваташов М.К., Семененко А.И. Основы эллипсометрии. -Новосибирск: Наука, 1979,

7. Левина М.Д., Эльгарт З.Э., Введенский В.Д. Динамика испарения оксидов электронным лучом.- Оптико-механическая промышленность, 1989, №4, с.52-54.

8. Фурман 1П.А. Тонкослойные оптические покрытия,- Л.: Машиностроение, 1977, 264 с.

9. Крылова Т.Н. Интерференционные покрытия,- Л.: Машиностроение, 1977, 224 с.

10. Введенский В.Д., Фурман Ш.А. Автоматизированное нанесение тонкопленочных интерференционных покрытий в вакууме. -Л.: Знание, 1983, 28с.

11. Технология тонких пленок.- Справочник по ред. Л.Майссела и Р.Глэнга -М.: Сов. радио, 1977,Т.1, 664с.

12. Кацнельсон Л.Б. Методы контроля оптической толщины интерференционных пленок, наносимых в вакууме. Обзор.- Оптико-мех.пром-сть, 1969, №4, с.50-58.

13. Колтун М.М. Селективные оптические поверхности преобразователей солнечной энергии -М.: Наука, 1979, 216с.

14. Gracomo P. Jagquinot P. Localization precise dun maximum de transmission en function de la longueur d'onde application a la preparation des couches minces. J.Phgs.RadiumJ952,V. 13,№2,p.59A-64A.

15. Lissberger P.H. Ring J. Improved methods for producing interference filters. Optica Acta, 1955, V.2, №1, p.42-46.

16.Воронцова E.M. и др. Оптические материалы для инфракрасной техники. -М: Наука, 1965, 243с.

17. Baumeister P. Optical coating technocogy.- University of California of Los-Angeles, 1998,1319р.

18. Фазылзянов P.X. Анализ работы двухлучевого фотометра для контроля толщины тонких пленок.- Оптико-мех.пром-сть, 1982, №8, с.47-50.

19. Розенберг Г.В. Оптика тонкослойных покрытий. М.: Физматгиз. 1958. 570с.

20. Швакер X. Фотометр и кварцевый резонатор - два современных инструмента для производства многослойных покрытий. Доклад на симпозиуме по вакуумной технологии, М.: 1976, 22с.

21. GSM420 Optical Film Thickness Monitor. Проспект фирмы Balzers AG, Liechtenstein, BB 800 260 PE (8612).

22. Фотоэлектрический контрольный измеритель толщины пленки серии ОРМ-6.-Проспект фирмы "Синку Кикай Когио КО., ЛТД", Япония.

23. Good Н. Computer testing improvet optical coantings before manufacturing begins.-Photonics Spectra, 1996,№10,p. 102-109.

24. OMS-3000. Фотометр для местного замера в процессах нанесения тонких пленок. -Проспект фирмы "LEYBOLD-HERAEUS GMBN", ФРГ.

25. IC-6000.Thin film deposition controller. -Проспект фирмы "LEYBOLD-HERAEUS GMBN", ФРГ.

26. SPA3. Spectrophotometer.- проспект фирмы "LEYBOLD-HERAEUS GMBN", ФРГ.

27. Auto EL II-IV. Ellipsometry thin film measurements. Проспект фирмы "RUDOLPH RESEAREH", Франция.

28. Швакер X. Контроль покрытий эллипсометром во время процесса осаждения. - Доклад на симпозиуме по вакуумной технологии. -М.: 1976, 31с.

29. Зоммеркамп П. Тенденции развития в нанесении оптических покрытий,-Доклад на симпозиуме "Вакуумная технология тонких пленок в оптике и электронике" М.: 1986, 36с.

30. Улучшенная система измерения характеристик покрытий фирмы "Hoveyuell". Photonics Spectra. 1983, V.17, №31,PI8-23.

31. Метод контроля толщины пленки при осаждении с использованием фотоэлектрического измерителя толщины пленки,- Проспект фирмы "Синку Какай Когио КО ЛТД", Япония. (Автор изобретения К.Мацубара; Заявлено: 01.07.77).

32. Optical film thickness monitoring system. Model LM-101. Проспект фирмы "Eddy Company", США.

33. Кинель Г. Технология покрытий и материалы в оптике.- Доклад на симпозиуме по вакуумной технологии, -М.: 1976, 22с.

34. Методы измерения в производстве тонких пленок. Обзор фирмы "LEYBOLD-HERAEUS GMBN", ФРГ, 1978, 14с.

35. Скоростной акустооптический спектрофотометр для вакуумных напыли-тельных установок AOS-3S. Проспект фирмы: НИИ "Полюс" - НПФ "Норма", Россия, 1994,15с.

36. Acusto-Optic Qevces RF and RF systems. Проспект фирмы "Automates et Automatmes", Франция.

37. MMS Spectral Sensors. Проспект фирмы "ZEISS", ФРГ.

38. SENTINEL III alloy deposition controller. Проспект фирмы "LEYBOLD-HERAEUS LTD", ФРГ.

39. Bobbs В., Rudisill J.E. Optical monitoring of nonquartewave film thicknesses usiny a turning point method. Applied Optics. 1987,V.26,№15,p.3136-3139.

40. Куров Г.А., Гудков В.Н. Жильков Э.А., Борисов B.C. Двухлучевой оптический измеритель толщины диэлектрических пленок. - Сборник трудов по проблемам микроэлектроники. -М.: 1972, Вып.12,с.145-153.

41. Херрман Р. Воспроизводимость автоматизированных процессов нанесения покрытий под управлением системы ЛЕЙКОН. - Доклад на симпозиуме "Вакуумная технология тонких покрытий в оптике и электронике" М.: 1986, 24с.

42. Установка вакуумная модели ВУ-2М. Паспорт. 2112.00.00.000 ПС, 1986, 163с.

43. Введенский В.Д. Дрейф показателя преломления пленок оксидов гафния и циркония при создании интерференционных покрытий в вакууме. -Оптико-мех.пром-сть, 1981, №11,с.59-62.

44. A.C. 508666 СССР, МКИ G 01В 11/02. Устройство для контроля толщины пленок многослойных покрытий в процессе напыления. О.В.Александров, Л.Б.Кацнельсон, Ш.А.Фурман (СССР).-№1910082/25-28; Заяв. 18.04.73; Опубл. 30.03.76. Бюл.№12.

45. A.C. 539216 СССР, МКИ G 01В 9/00. Устройство для измерения характеристик оптических покрытий. Ш.А.Фурман, Е.Г.Столов (СССР) .№2058192/21; Заявл. 01.09.74; Опубл. 15.12.76. Бюл.№46.

46. Pulker H.K. Coating on glass. Thin film Science and technology. -ELSEVTER, 1984, V.6,484p.

47. Столов Е.Г. Расчет интерференционных оптических покрытий с заданными спектральными характеристиками. -Оптика и спектроскопия, 1977, Т.43,Вып.6,с.1126-1128.

48. Furman Sh.A., Tikhonravov A.V.-Optics of multilayer systems.-Frontieres C-if-zur-Yvette, France, 1992,130p.

49. Введенский В.Д. Математическое описание технологического процесса нанесения интерференционных покрытий в вакууме,- Оптико-механическая промышленность, 1982, №1,с.9-10.

50. Горбунов А.Ф., Сулейманов Н.Р. Получение оптических слоев с заданным показателем преломления методом испарения двух веществ. 1985, №8, с.29-31.

51. Повседенко В.П., Костюченко Н.Г. и др. Применение метода математической статистики для оптимизации условий нанесения оптических вакуумных покрытий. - Оптико-механическая промышленность, 1985, №4, с.31-34.

52. А.С.1136012 СССР, МКИ G 01В 21/08. Устройство для фотометрического контроля оптических толщин пленок в процессе их нанесения на вращающийся образец. Введенский В.Д., Ш.А.Фурман, З.Э.Эльгарт (СССР)-№3485146/18-28; Заявл.02.09.82; Опубл.23.01.85.Бюл.№3.

53. А.С. 1473368 СССР МКИ G 01В 21/08. Способ получения оптического покрытия. Левина М.Д., Метельников А.А., Эльгарт З.Э. (СССР) №4136080; Заявл.05.08.86; Зарегистр.15.12.88.

54. Southwell W.H., Gunning U.J. High-speed ellipsometer for thin film deposition monitoring.//Thin film technologies III: Материалы семинара, -Hamburg, FRG, 1988,p.84-90.

55. Gale M.T., Lehmaun H.W., Brinner H. In situ optical monitoring of thin films during evaporation // Thin film technologies III: Материалы семинара -Hamburg, FRG,1988,p.90-96.

56. Zoller A., Boos M. Optical thickness monitoring of dielectric optical filters using a new in situ photometer with high signal resolution and exelent long term stability //Thin film technologies III; Материалы семинара, -Hamburg, FRG,1988,p.106-114.

57. Губанова JI.А. Тонкопленочные элементы в оптических системах телевизионной техники. Авторефер.канд.дисс. - Л.,1990,18с.

58. Хеймен Р. Светофильтры.-М.:Мир, 1988,216с.

59. Лукьянов Д.П., Корниенко А.А., Рудницкий Б.Е. Оптические адаптивные системы.-М.: Радио и связь, 1989,239с.

60. Emiliani G. Mazetti E., Piegari A. Thin film refractive index determination by different techniques Thin film technologies: II материалы семинара, Innsbruck, Austria, 1986, p.153-158.

61. Carviglia C.K. Effects of dispersion on the determination of optical constants of thin films. Thin film technologies II: Материалы семинара, Innsbruck, Austria, 1986, p.166-179.

62. Selhofer H. Thin film production with a new fully automated optical thickness monitoring system. //Thin film technologies II: Материалы семинара - Innsbruck, Abstria, 1986, p.10-15.

63. Zoller A., Herrmann R., Optical monitoring: comparison of different monitoring reproducibility of the completed lager systems // Thin film texnologiesll: Материалы семинара - Innsbruck, Austria, 1986, p.21-27.

64. Костюк В.П. Одновременное определение оптических постоянных и толщины тонких пленок по результатам спектрофотометрических изме-рений.//Журнал прикладной спектроскопии, 1988,Т.48,Вып. 1,с.91-95.

65. Thelen A. Energy related optical coating // Journal of vacuum science and tec-nology, 1987, №7, P.310-315.

66. Tebo A.R. Optical coating a equipment: a survey of manufactures.// Laser Fo-cusl987, v.3, №23, p.88-95

67. Traub L. Optical thin film technology - an insight for users // El.Optic, U.K.,1987, v.69, №17,p.5-43

68. Мелехин Ю.Я. Минайцев B.E. Одиноков B.B. и др. Развитие вакуумного оборудования для нанесения пленочных структур. -М.: Электронная техника, микроэлектроника, 1987,Вып.4,151с.

69. Сосси JI. Теории синтеза многослойных диэлектрических светофильт-ров.//Известия АНЭССР. Серия: Физика, математика, 1976,№2,с. 170-176.

70. Яковлев П.П., Мешков Б.Б.//Проектирование интерференционных покрытий. -М.: Машиностроение, 1987,185с.

71. Kuittl Т. Optical of thin films.// №4 Willey, 1976, 548p.

72. Houchart J., Bergel J., ChalotS. Stabilisation spectrale des depots optigues en covehes minces. J.Mod. Opt.:, U.K.;1987, v.34 №10, p.1297-1325.

73. Марков Ю.Н. К теории полосовых интерференционных зеркал.//Оптика и спектроскопия,1986,Т.61,Вып.6,с. 1346-1349.

74. Borgogno J., Bousget P., Florg F. - Inhomogeneity in films: limitation of the accuracy of optical monitoring of thin films. // Appl. Opt.1981, v.20,p.90.

75. Bousguet P., Fournier A., Kowalczyk R., Pelletier E. - Optical filters: monitoring process allowing the autocorrection of thickness errors. - Thin Solid Films, 1972, v. 13, p.285-292.

76. Bousguet P., Pelletier E. - Optical thin film monitoring - recent adiances and limitatios. - Thin solid films, 1981, v.77, p.165-170.

77. A.C. 1044973 СССР. МКИ G 01В 21/08. Устройство фотометрического контроля оптической толщины пленок напыляемых в вакууме. Эльгарт З.Э., Введенский В.Д. (СССР) №3442965/18-28; Заявл. 21.05.82; 0публ.30.09.83; Бюл.№36.

78. Эльгарт З.Э., Фурман Ш.А. Фотометр для контроля толщин пленок по методу двух длин волн //Приборы и техника эксперимента. Москва 1984.-№5.-С.205-208.

79. Фурман Ш.А., Эльгарт З.Э., Полита Т.В., Слотина Н.М.//Разработка технологического процесса изготовления дихроических зеркал с повышенными требованиями к положению спектральной характеристики для передающих камер цветного телевидения,- //Отчет НИР 2-301-81. ЛОМО. Ленинград, 1986,161с.

80. Приток О.М., Столов Е.Г. //Разработка промышленной технологии нанесения высокопрочных оксидных отражающих покрытий применительно к крупногабаритным (1000-^2600 мм) оптическим деталям. -Отчет НИР-2-601-84, Ленинград, ЛОМО,1989,235с.

81. A.C. 1295875 МКИ G 01В Устройство для контроля толщин слоев оптических интерференционных покрытий. Эльгарт З.Э., Столов Е.Г. (СССР) №3897747; Приоритет 12.05.85; Зарегистрировано 8.11.86.

82. A.C. 1299246 МКИ G 01В Фотоэлектронное устройство для контроля толщины пленок оптических покрытий в процессе их изготовления. Эльгарт З.Э., Воробьев С.Ф., Стерин М.Д., Фурман Ш.А. (СССР) №3880362 ; Приоритет 3.04.85, зарегистрировано 22.11.86.

83. A.C. 1486793 МКИ G 01В 21/00 Способ контроля толщины пленок оптических покрытий в процессе их изготовления и устройство для его осуществления. Эльгарт З.Э., Воробьев С.Ф., Морозов А.Г. Стерин М.Д., (СССР) "№4304200/24-28; Заяв. 07.09.87; Опубл. 15.06.89. Бюл. №22.

84. Путилин Э.С., Эльгарт З.Э. Балансно-двухволновый метод контроля толщины оптических покрытий //Оптико-механическая промышлен-ность-1990-№10.-С.52-54.

85. Эльгарт З.Э., Столов Е.Г. Расчет оптических адаптивных покрытий.// Оптика и спектроскопия-1991-Т.70-вып.6-С.1282-1285.

86. Эльгарт З.Э., Столов Е.Г. Синтез адаптивных физических систем. // Ав-тометрия-1991-№3-С.80-85.

87. Путилин Э.С., Эльгарт З.Э. Балансно-двухволновый метод контроля толщин слоев в процессе их осаждения. //Оптико-механическая промышленность- 1991 -№9 .-С. 50-53.

88. A.c. 1685179 МКИ G01B. Устройство для изготовления оптических покрытий. Эльгарт З.Э., Столов Е.Г. (СССР) №4658951 Приоритет 26.12.88; Зарегистрировано 15.06.91.

89. Эльгарт З.Э., Кац A.C. Широкополосное антиотражающее покрытие для видимой и ближней ИК области спектра //Тонкие пленки и покрытия; Тезисы докладов на VIII Оптической конференции. Израиль. Тель-Авив, 1992- С.3-31.

90. Путилин Э.С., Эльгарт З.Э. Устойчивость оптических покрытий при их изготовлении //Материалы симпозиума "Прикладная оптика-94", С-Петербург, 1994, С.24.

91. Путилин Э.С., Эльгарт З.Э. Способ контроля оптических толщин наносимых пленок //Материалы симпозиума "Прикладная оптика-96", С-Петербург, 1996, С.30.

92. Путилин Э.С., Эльгарт З.Э. Применение БДВ метода при изготовлении оптических покрытий. //Материалы конференции "Прикладная оптика-98", С-Петербург,1998.

93. Криксунов JI.3. Справочник по основам инфракрасной техники.-М.: "Советское радио", 1978,400с.

94. Справочник конструктора оптико-механических приборов .//Под ред. Панова B.JI.-JL: Машиностроение, 1980,743с.

95. Физика тонких пленок. Под ред. Г.Хасса и Р.Э.Туна .Т.Б,-М.: Мир, 1973, 344с.

96. Слюсарев Г.Г. Расчет оптических систем. -Л.Машиностроение. 1975, 639с.

97. Macleod Н.А., Ricmond D. The effect of errors in the optical monitoring of narrow-band all dielectric thin optical filters; Opt.Acta, 1974, v.21, p.429-443.

98. Macleod H.A. The monitoring of thin films for optical purposes. In Vacuum and Thin Film Technology, ed by J.Yarwoad and P.Auderson; Pergamon, Oxford, 1978, p.383 -390.

99. Macleod H.A. Design of an antireflection coating for glass over the region 400nm to 900nm. SPIE v.1782,1992,p.602-611.

100. Thelen A. Design of optical interference coaing. Spie v. 1782,1992, p.2 - 7

101. Elgart Z.,Katz-Fish A. Maresse E., Maresse Z. Incorporation of empiric values for refractive indices in multilayer design.SPIE v. 1972, p.276-280

102. Borgoguo J.P., Lazarides В., Pelletier E.// Automatic Determination of Optical Constants of inhomogeneons thin films. - Appl. Opt.,v.21; 1982, p.4020-4029.

103. Ишанин Г.Г. Приемники излучения. Д.: Машиностроеие, 1986,176с.

104. Скворцов H.H. Разработка методов и средств масс-спектроскопического контроля технологии вакуумного напыления оптических покрытий. Автореф.канд. дисс.-С-Петербург, 1994,18с.

105. Бенес B.AVTO-Z-MATCH- новое поколение толщиномеров с кварцевым резонатором. Доклад на симпозиуме "Вакуумная технология тонких покрытий в оптике и электронике".-М.:1986,40с.

106. Приборы, компоненты, материалы и установки для техники тонких пле-нок.Обзор фирмы "LEYBOLD-HERAEUS GMBN", ФРГ,1988,59с.

107.Шило B.JI. Линейные интегральные схемы в радиоэлектронной аппара-тучс ре. -М.:Сов.радио, 1979,366с.