Электронное управление переходом металл - изолятор тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.04, кандидат физико-математических наук Стефанович, Денис Генрихович
- Специальность ВАК РФ01.04.04
- Количество страниц 148
Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Стефанович, Денис Генрихович
1. ВВЕДЕНИЕ.
2. ПЕРЕХОД МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР И ЭФФЕКТ ПЕРЕКЛЮЧЕНИЯ В ОКСИДАХ ВАНАДИЯ. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ.
2.1. ПЕРЕХОД МЕТАЛ - ИЗОЛЯТОР. ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА.
2.2. ТЕОРИЯ ПЕРЕХОДА МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР.И
2.3. ПЕРЕХОД МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР В ОКСИДАХ ВАНАДИЯ.
2.4. ВЛИЯНИЕ ИА ПЕРЕХОД МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР ВНЕШНИХ ФАКТОРОВ.
2.5. ПЕРЕКЛЮЧЕНИЕ. ОБЩАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА.
2.6. ТЕОРИЯ ПЕРЕКЛЮЧЕНИЯ.
2.7. ПЕРЕХОД МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР И ПЕРЕКЛЮЧЕНИЕ В ДВУОКИСИ ВАНАДИЯ.
2.8. ВЛИЯНИЕ НА ПЕРЕХОД МЕТАЛЛ - ИЗОЛЯТОР ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ И КОНЦЕНТРАЦИИ НЕРАВНОВЕСНЫХ ЭЛЕКТРОНОВ.
2.9. ВЫВОДЫ ИЗ ОБЗОРА ЛИТЕРАТУРЫ.
3. ПРИГОТОВЛЕНИЕ ОБРАЗЦОВ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ МЕТОДИКИ.
3.1. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ ПОДГОТОВКИ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК.
3.2. МЕТОДИКА ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК.
3.3. МЕТОДИКА ПОЛУЧЕНИЯ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК.
3.4. ИЗМЕРИТЕЛЬНЫЕ МЕТОДИКИ.
4. ЭЛЕКТРОННОЕ УПРАВЛЕНИЕ ПЕРЕХОДОМ МЕТАЛЛ ИЗОЛЯТОР.
4.1. ЭФФЕКТ ПОЛЯ В ДВУОКИСИ ВАНАДИЯ.
4.1.1. ЭФФЕКТ ПОЛЯ В СТРУКТУРАХ Si- Si02- V02.
4.1.2. ЭФФЕКТ ПОЛЯ В СТРУКТУРАХ Si- Si02-Si3N4-V02.
4.1.3. РАСЧЕТ ПОЛЕЙ И КОНЦЕНТРАЦИЙ ЭЛЕКТРОНОВ ПРИ ЭФФЕКТЕ ПОЛЯ В ДВУОКИСИ ВАНАДИЯ.
4.1.4. ЭФФЕКТ ПОЛЯ В ПЕРЕКЛЮЧАТЕЛЬНЫХ СТРУКТУРАХ А1 -У02 -Si02-Si-Al.
4.2. ИНЖЕКЦИОННОЕ ВОЗБУЖДЕНИЕ ПЕРЕХОДА МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР.
4.2.1. ТУННЕЛЬНАЯ ИНЖЕКЦИЯ ЭЛЕКТРОНОВ В У02.
4.2.2. ЛАВИННАЯ ИНЖЕКЦИЯ ЭЛЕКТРОНОВ В V02.
4.2.3. ЛАВИННАЯ ИНЖЕКЦИЯ ЭЛЕКТРОНОВ В СЭНДВИЧ СТРУКТУРАХ SI-SI02-V-V02.
4.3. ВЛИЯНИЕ НЕРАВНОВЕСНЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА НА ПМИ.
5. МИКРО- И НАНОСТРУКТУРЫ НА ОСНОВЕ ДИОКСИДА ВАНАДИЯ С ПЕРЕХОДОМ МЕТАЛЛ-ИЗОЛЯТОР.
5.1. ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ЛИТОГРАФИЯ ПО ОКСИДАМ ВАНАДИЯ.
5.2. ОБЩЕЕ ОПИСАНИЕ ЛИТОГРАФИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА.
5.3. ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК ВАНАДИЯ.
5.4. АНОДНОЕ ОКИСЛЕНИЕ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК ВАНАДИЯ.
5.5. СТРУКТУРА И СОСТАВ АНОДНЫХ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК ВАНАДИЯ.
5.6. ЭКСПОНИРОВАНИЕ ОКСИДНОВАНАДИЕВОГО РЕЗИСТА.
5.7. ВЛАЖНОЕ ПРОЯВЛЕНИЕ ОКСИДНОВАНАДИЕВОГО РЕЗИСТА.
5.8. СУХОЕ ПРОЯВЛЕНИЕ ОКСИДНОВАНАДИЕВОГО РЕЗИСТА.
5.8.1. ПРОЯВЛЕНИЕ ОКСИДНОГО РЕЗИСТА ТРАВЛЕНИЕМ В ПЛАЗМЕ Аг.
5.8.2. ПРОЯВЛЕНИЕ ОКСИДНО-ВАНАДИЕВОГО РЕЗИСТА ПЛАЗМО-ХИМИЧЕСКИМ ТРАВЛЕНИЕМ.
5.8.3. ОПТИМИЗАЦИЯ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ВАНАДИЯ.
5.9. АЛЬТЕРНАТИВНЫЕ МЕТОДЫ НАНЕСЕНИЯ РЕЗИСТА.
5.10. ПОЗИТИВНЫЙ И НЕГАТИВНЫЙ РЕЗИСТ НА ОСНОВЕ ОКСИДОВ ВАНАДИЯ.
5.11. ТРАВЛЕНИЕ КРЕМНИЯ ЧЕРЕЗ МАСКУ ИЗ ОКСИДНО - ВАНАДИЕВОГО РЕЗИСТА.
5.12. КЛЮЧЕВЫЕ ПАРАМЕТРЫ ОКСИДНО ВАНАДИЕВОГО РЕЗИСТА.
5.13. МЕХАНИЗМ МОДИФИКАЦИИ СВОЙСТВ АНОДНЫХ ОКСИДОВ ВАНАДИЯ ПОД ДЕЙСТВИЕМ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ОБЛУЧЕНИЯ.
5.14. СУБМИКРОННЫЕ СТРУКТУРЫ Si-Si02- V02.
Рекомендованный список диссертаций по специальности «Физическая электроника», 01.04.04 шифр ВАК
Электронные эффекты в слоистых структурах на основе диоксида ванадия2006 год, кандидат физико-математических наук Кулдин, Николай Александрович
Трансформация структуры и электрофизических свойств оксидов переходных металлов при плазменном, лазерном и электронно-лучевом воздействиях2009 год, кандидат физико-математических наук Черемисин, Александр Борисович
Переключение в тонкопленочных микро- и наноструктурах на основе оксидов переходных металлов с переходом металл-изолятор2002 год, кандидат физико-математических наук Величко, Андрей Александрович
Переход металл-изолятор в пленочных структурах на основе оксидов переходных металлов1997 год, доктор физико-математических наук Стефанович, Генрих Болеславович
Лазерная и корпускулярная модификация свойств оксидов переходных металлов2000 год, кандидат физико-математических наук Кикалов, Дмитрий Олегович
Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Электронное управление переходом металл - изолятор»
Проблема фазового перехода металл - изолятор (ПМИ) является одной из наиболее интересных в физике конденсированного состояния, как в теоретическом плане, так и с точки зрения возможных приложений. Сложность теоретического описания ПМИ в соединениях d-металлов [1] связана с необходимостью детального анализа симметричных свойств атомной структуры, изучения конкретного электронного спектра и влияния на него электрон-электронных и электрон-фононных взаимодействий. В такой ситуации принципиальное значение приобретает вопрос о типе инициирующего механизма (межэлектронное, электрон-фононное взаимодействие). Соответственно, можно выделить два основных подхода к описанию ПМИ - это переход Мотта-Хаббарда и переход с образованием сверхструктуры (волн зарядовой или спиновой плотности).
Если межэлектронные корреляции дают существенный вклад в развитие перехода, т.е. диэлектрическая щель в электронном спектре в значительной степени определяется корреляционными эффектами, то это должно проявляться в прямых экспериментах, например, при реализации ПМИ в электрическом поле или при наличии высокой концентрации неравновесных носителей заряда. Следует отметить, что непосредственно влияния поля на переход трудно ожидать: речь может идти о перераспределении носителей под действием поля или об их инжекции (экстракции). В случае перехода Мотта избыток концентрации свободных носителей заряда должен привести к усилению экранирования и к схлопыванию мотт-хаббардовской корреляционной щели.
Подобные исследования (влияние поля, генерации и инжекции электронов) в настоящее время проводятся в физике высокотемпературных сверхпроводников, фуллеренов и нанотрубок и оказываются весьма информативными [2].
Помимо вышесказанного, актуальность исследований ПМИ обусловлена также очевидными перспективами практических применений, поскольку такие переходы всегда сопряжены с резкими и значительными изменениями физических свойств материалов при малых вариациях внешних параметров, таких как температура, давление, индукция электрического или магнитного поля.
Поэтому работы в указанном направлении актуальны и несут в себе большой прикладной потенциал.
Цель работы заключалась в исследовании перехода металл-изолятор в двуокиси ванадия в условиях высокой концентрации неравновесных носителей, определении на основе полученных результатов и представлений инициирующего механизма развития перехода, и развитии научной базы создания микро и наноструктур реализующих обнаруженные эффекты.
Научная новизна работы определяется тем, что в ней впервые:
1. Проведено экспериментальное исследование эффекта поля в двуокиси ванадия, в условиях, когда влиянием тепловых эффектов можно пренебречь.
2. Изучены различные формы инжекции неравновесных носителей заряда в диоксид ванадия и исследовано их влияние на ПМИ.
3. Проведены расчеты полей, концентраций и температур в двуокиси ванадия при эффекте поля и инжекции электронов.
4. Разработаны научные основы литографического процесса получения микро - и наноструктур на основе оксидов ванадия.
Научно-практическая значимость работы определяется тем, что в ней получена новая важная информация, способствующая развитию представлений о механизмах фазового перехода металл-полупроводник в оксидах переходных металлов. В прикладном аспекте обнаруженные эффекты влияния концентрации неравновесных носителей заряда на переход перспективны для создания трехэлектродных структур с двуокисью ванадия, совместимых с кремниевой технологией. Предложенный литографический процесс позволяет изготавливать такие структуры с микро- и наномасштабными размерами.
Основные положения выносимые на защиту.
1.ПМИ может инициироваться ростом поверхностной концентрации электронов за счет эффекта поля в пленке VO2. Эффект поля может реализовываться как поляризацией кремниевой подложки, так и полем заряда, локализованного в диэлектрике, находящимся в контакте с диоксидом ванадия.
2. ПМИ развивается при увеличении концентрации неравновесных носителей заряда за счет туннельной или лавинной инжекции электронов из кремния в диоксид ванадия.
3. Переход по концентрации происходит при достижении последней значения, соответствующего концентрации электронов в полупроводниковой фазе VO2 непосредственно перед переходом, т.е. при Т = Tt (nt ~ 1018 - 1019 см"3).
4. Анализ распределения полей, концентраций и величины токов, текущих при этом через диэлектрик показывает электронную природу инициирующего механизма ПМИ вызванного достижением концентрационного критерия. Близость nt к критерию Мота делает предпочтительным описание инициирующего механизма перехода в условиях высоких концентраций неравновесных носителей на языке сильных электронных корреляций Мотт-Хаббардовского типа.
5. Разработанный литографический процесс по оксидам ванадия делает обнаруженные эффекты перспективными для создания микро- и наноприборов на основе двуокиси ванадия с ПМИ, совместимых с кремниевой электроникой, управляемых процессами в кремниевых структурах и входящих в состав кремниевых микрочипов.
Апробация работы: Основные результаты диссертационной работы были доложены на:
1. Всероссийской научной конференции по физике / низкотемпературной плазмы (ФНТП-2000), Петрозаводск, 2000 г. \J
2. Девятой международной конференции «Диэлектрики-2000», Санкт-Петербург, 2000 г.
3. Научная сессия МИФИ, 2001 г.
4. Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы (ФНТП-2001), Петрозаводск, 2001 г. и опубликованы в виде статей и тезисов докладов конференций:
1. G. Stefanovich, A. Pergament, D. Stefanovich Electrical switching and Mott transition in V02.- J. Phys.: Condens. Matter 12, 2000, pp. 88378845.
2. Борисков П.П., Величко А.А., Пергамент A.JI., Стефанович Г.Б., Стефанович Д.Г. Влияние электрического поля на переход металл-изолятор в диоксиде ванадия // ПЖТФ. - 2002. - Т.28. - Вып.10. -С.13 - 18.
3. Стефанович Г. Б., Пергамент АЛ. Стефанович Д.Г. Электронное управление переходом металл - изолятор // Тез. докл. Девятой международной конференции «Диэлектрики - 2000». - Т.2. -Санкт-Петербург, - 2000. - С. 177 - 178.
4. Г.Б. Стефанович, Д.Г. Стефанович. Применение низкотемпературной плазмы для получения структур с электронным управлением переходом металл-изолятор в диоксиде ванадия. // Материалы Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы (ФНТП-98). - Петрозаводск. -1998. - с.604-606.
5. Г.Б. Стефанович, Гуртов В.А., Д.Г. Стефанович. Неорганический резист для субмикронной литографии на основе аморфного оксида ванадия. // Тез. докл. Научной сессии МИФИ-2001, 22-26 января 2001 г. - Москва.-- Т. 1. - с.32. 7
6. Пергамент A.J1., Стефанович Г.Б., Величко А.А., Стефанович Д.Г., Шраер М. Сухое проявление резиста на основе оксида ванадия травлением в плазме // Материалы Всероссийской научной конференции по физике низкотемпературной плазмы (ФНТП-2001). -Петрозаводск. - 2001. - с.169-172.
7. Стефанович Г.Б., Величко А.А., Стефанович Д.Г. Плазменные процессы в субмикронной литографии // Материалы пленарных докладов ФНТП-2001 и лекции школ по физике низкотемпературной плазмы 2000 и 2001 г. - Петрозаводск. - 2001. - с. 162 - 172.
Публикации и вклад автора. Основные результаты изложены в 7 публикациях. Все экспериментальные исследования проведены за период 1996 - 2002 г. при непосредственном участии автора. Основные теоретические представления сформулированы и обоснованы автором. Результаты главы 4 были получены автором в фирме APT (Applied Phase Transition).
Объем и структура диссертации. Диссертация состоит из введения, литературного обзора, 3 разделов, заключения, списка литературы. Диссертация содержит 145 стр., включая 62 рисунков на 48 стр., 3 таблицы и 101 наименований библиографических ссылок на 9 стр.
Похожие диссертационные работы по специальности «Физическая электроника», 01.04.04 шифр ВАК
Бистабильное электрическое переключение в структурах на основе оксидов ванадия2009 год, кандидат физико-математических наук Путролайнен, Вадим Вячеславович
Электронные и ионные процессы в гидратированном пентаоксиде ванадия2002 год, кандидат физико-математических наук Казакова, Елена Лионовна
Электронные неустойчивости в соединениях переходных металлов2007 год, доктор физико-математических наук Пергамент, Александр Лионович
Влияние условий синтеза и легирования на физические свойства оксидов ванадия2007 год, кандидат физико-математических наук Березина, Ольга Яковлевна
Технология осаждения пленок оксида тантала методом реактивного магнетронного распыления2011 год, кандидат технических наук Комлев, Андрей Евгеньевич
Заключение диссертации по теме «Физическая электроника», Стефанович, Денис Генрихович
2.9. ВЫВОДЫ ИЗ ОБЗОРА ЛИТЕРАТУРЫ.
Несмотря на большое число экспериментальных и теоретических работ по ПМИ в окислах d-металлов, вопрос о механизме перехода в большинстве случаев остаётся открытым. Пролить свет на данную проблему могли бы исследования развития ПМИ в условиях влияния принципиально новых факторов. К таким факторам можно отнести избыточную концентрацию свободных носителей заряда, однако имеющиеся в литературе данные на эту тему немногочисленны и противоречивы.
Оценки концентраций неравновесных электронов, которые могли бы влиять на переход, противоречивы. Можно считать, что они лежат в
1 О О "У диапазоне от 10" (критерий Мотта) до 10" (концентрация электронов в металлах). Нижний предел этих оценок в настоящее время достижим только при реализации эффекта поля с использованием совершенных диэлектриков с высокими значениями электрической прочности, типа высококачественных слоев Si02 в кремниевых структурах. Другой путь заключается в реализации туннельной или лавинной инжекции в структурах на основе Si. Верхний предел, видимо, вообще не достижим при электрическом возбуждении электронной системы.
Следовательно, объектами исследования для решения поставленных задач могут быть гибридные структуры на основе кремния и двуокиси ванадия.
Отметим также, что обратимые изменения физических свойств при ПМИ, их технологичность и стабильность, делают оксиды переходных металлов (особенно в тонкопленочном исполнении) потенциальными для технических приложений материалами. Разработка структур, в которых свойства материалов с ПМИ будут согласованы с возможностями кремниевой электроники делает их по настоящему актуальными и перспективными.
3. ПРИГОТОВЛЕНИЕ ОБРАЗЦОВ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ МЕТОДИКИ.
3.1. ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ ПОДГОТОВКИ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК.
В данном разделе описаны технологические приемы подготовки поверхности диэлектрических и полупроводниковых подложек. Методы физико-химической обработки включали предварительную и финишную очистку поверхности от механических, органических и неорганических загрязнений [84]. Механические загрязнения удалялись гидромеханической промывкой с применением бязевых и батистовых лент, колонковых кистей. Очистка от органических загрязнений производилась в жидкой или парогазовой среде с интенсификацией процесса механической обработки поверхности подложек ультразвуком (УЗВ) и включала в себя:
- обезжиривание в кипящих органических растворителях (ацетон, азеотропная смесь четыреххлористого углерода с 18% изопропилового спирта);
- обработка в парах горячих растворителей (бензол) или УЗВ-обработка в органических растворителях;
- промывка в горячей дистиллированной воде;
- сушка горячим воздухом.
Для получения структур типа Si - пленка ОПМ перед осаждением металлических или оксидных пленок применялось травление кремниевых подложек в травителе следующего состава: HNO3: HF: СН3СООН (3:1: 1). Травление производилось при комнатной температуре в течении 1 - 2 мин.
После очистки на подложки производилось осаждение пленок, в случае необходимости они хранились в эксикаторе.
Для получения микро и наноструктур методом электронно-лучевой литографии применялись стандартные для микроэлектроники процедуры очистки. Они будут подробно описаны в 5 разделе.
3.2. МЕТОДИКА ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК.
Для получения металлических прекурсоров, контактов, отражающих подслоев многослойных интерференционных структур и т.д. применялись методы термического напыления и магнетронного распыления в вакууме. Пленки Al, Ni, Fe, Си и нихрома были получены термическим напылением с применением резистивных проволочных вольфрамовых нагревателей. Процесс был реализован в вакуумном посте, средства откачки которого (последовательно включенные диффузионный и форвакуумный насосы) обеспечивали давление остаточных паров не выше 10~5 мм.рт.ст. Очистку поверхности вольфрамовых испарителей производили химическим травлением в 20% растворе гидроокиси калия с последующей промывкой в дистиллированной воде, затем испарители прокаливались в вакууме.
Пленки металлического V осаждались методами термического напыления с электронно-лучевым (ЭЛ) разогревом и магнетронного распыления. При этом принимались во внимание особенности используемого технологического оборудования: ЭЛ напыление обеспечивало нанесение более толстых металлических пленок (до 5000А) с достаточной адгезией к подложке, магнетронное напыление обеспечивало получение однородных пленок на подложки большой площади (до 5см ). Процессы были реализованы в промышленных вакуумных постах ВУП-5 (ЭЛ напыление) и ВУП-5М (магнетронное распыление). ЭЛ напыление производилось из модернизированного 2 кВт испарителя, организованного по принципу "свободной капли" [85]. Режимы магнетронного распыления ионами Аг+ на постоянном токе были оптимизированы подбором значений О разрядного напряжения Up и давления аргона Рр (Up - 500 В, Рр « 1-10" Тор., разрядный ток при этом 1р » 450 мА).
3.3. МЕТОДИКА ПОЛУЧЕНИЯ ОКСИДНЫХ ПЛЕНОК.
Для синтеза оксидных пленок использовалось 3 метода: магнетронное реактивное распыление, золь-гель технология и анодное окисление.
Процесс магнетронного реактивного распыления был реализован в вакуумном посте ВУП-5М, система откачки которого состояла из последовательно включенных форвакуумного и диффузионного насосов и позволяла получать вакуум до 2-10"5 мм.рт.ст., что являлось достаточным для очистки рабочей камеры от нежелательных примесей. В качестве магнетронной системы (рис. 3.1) использовался планарный кольцевой магнетрон на постоянном токе. Инертный (Аг) и активный (02) газы подавались в разрядный промежуток раздельно - кислород в зону подложки, аргон ближе к мишени. Подложка, расположенная на расстоянии 40 - 50 мм, нагревалась резистивным вольфрамовым нагревателем. После окончания распыления производилось охлаждение образцов со скоростью 10-30 К/мин, сопровождающееся постепенным повышением давления кислорода в вакуумной камере до атмосферного.
Рис. 3.1. Схема реактивного магнетронного распыления.
В ходе разработки технологии нанесения пленок были получено, что режимы осаждения пленок зависят от ряда взаимозависимых факторов из которых можно выделить три основных: скорость осаждения, температура подложки и парциального давления кислорода (Р0). Для получения пленок при низких температурах, при которых воздействие на границу Si - Si02 минимально, распыление необходимо проводить при низких Р0. При этом наилучшие режимы для получения V02 были следующие. Температура подложки 400-550 °С. Общее давление смеси газов 1-5-10"3, при этом \] кислорода должно быть 1-5 %. Электрический режим работы магнетрона: 1=250-300 мА, IX350-400B.
При получении микро и наноструктур методом электронно-лучевой литографии для осаждения магнетронных реактивных оксидных пленок применялась установка, обеспечивающая безмаслянную откачку рабочей камеры. Она будет подробно описана в 5 разделе.
Для некоторых экспериментов оксидные пленочные образцы (оксиды ванадия) изготавливались по технологии предложенной в [72,73] и представляющей собой одну из модификаций золь - гель метода. Порошок пентаксида ванадия марки Ч (ТУ 6-09-4252-76) плавили в алундовом тигле в муфельной печи (ТПЛ=670°С), расплав нагревали до Т=900 - 1100°С и быстро выливали в воду. При этом образуется однородный гелеобразный раствор коричневого цвета. Этот раствор хорошо смачивает различные подложки (Si, Si02 , стекло, ситалл) и растекается, образуя однородную по толщине жидкую плёнку. Кроме того, возможно нанесение пленок методом центрифугирования. После высушивания на подложке образуется твердая пленка состава V205 • nH20, где п определяется температурой сушки и временем хранения пленки. Термическая обработка таких пленок в вакууме или в восстановительной атмосфере приводит к образованию низших оксидов - У20з, V02. Особо отметим, что после высушивания, напыления А1-электродов и электрической формовки в таких пленках легко создаётся канал У02.
Анодное окисление (или анодирование) ванадия проводилось в установке, схема которой изображена на рис. 3.2. При пропускании тока через электрохимическую ячейку, в которой окисляемый образец является анодом, происходит перенос ионов кислорода из электролита в металл и образование на его поверхности анодной оксидной пленки (АОП). Анодирование осуществлялось как в гальваностатическом (ГС), так и в вольтстатическом (ВС) режимах, т.е. при постоянном токе или при постоянном напряжении на ячейке, соответственно. 3
Рис. 3.2. Схема анодного окисления. 1. Блок питания (Б5-52, ТЭС-9). 2.
Амперметр (В7-27). 3. Вольтметр (В7-34). 4. Двухкоординатный самописец (Н307). 5. Электрохимическая ячейка. 6. Анод (окисляемый металл). 7. Катод (никель, нержавеющая сталь). 8. Противоэлектрод (Pt проволока в стеклянном капилляре). 9. Магнитная мешалка.
В качестве электролитов использовались безводные растворы, состав которых приведен в таблице 3.1. Применение безводных электролитов обусловлено высокой реактивностью анодных оксидов ванадия при взаимодействии с водой.
6. ЗАКЛЮЧЕНИЕ.
В соответствии с поставленной задачей экспериментально и теоретически исследовалось развитие перехода металл - изолятор и токовых неустойчивостей в двуокиси ванадия входящей в состав структур Si-Si02-VO2 и Si-Si02-Si3N4-V02 в условиях влияния избыточной концентрации неравновесных носителей заряда. На основе полученных результатов и представлений можно сделать ряд выводов об инициирующем механизме перехода, а также предложить пути использования обнаруженных эффектов в интегральной с кремнием электронике.
1.ПМИ может инициироваться ростом поверхностной концентрации электронов за счет эффекта поля в пленке У02. Эффект поля может реализовываться как поляризацией кремниевой подложки, так и полем заряда, локализованного в диэлектрике, находящимся в контакте с диоксидом ванадия.
2. ПМИ развивается при увеличении концентрации неравновесных носителей заряда за счет туннельной или лавинной инжекции электронов из кремния в диоксид ванадия.
3. Переход по концентрации происходит при достижении последней значения, соответствующего концентрации электронов в полупроводниковой
18 фазе V02 непосредственно перед переходом , т.е. при Т = Tt (nt ~ 10
1019см'3).
Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Стефанович, Денис Генрихович, 2002 год
1. Мотт Н.Ф. Переходы металл-изолятор. - М.: Наука, 1979. 342 с.
2. J. Н. Schon, М. Dorget, F. С. Beuran, X. Z. Zu, Е. Arushanov, С. Deville Cavellin, М. Lagu£s. Superconductivity in CaCu02 as a result of field-effect doping. Nature. У. 414, 2001. p. 434-436.
3. Eliashberg G.M. Mott transition and superconductivity.- Ann. Phys. Fr., v.19 (1994), p.353-366.
4. Мотт Н.Ф., Дэвис Э. Электронные процессы в некристаллических веществах. в 2-х т. М.: Мир, 1982. - 663 с.
5. Займан Дж. Принципы теории твёрдого тела. М.: Мир, 1974. 472 с.
6. Seiichi Kagoshima. Peierls Phase Transition.- Jap. J. Appl. Phys. 1981, v.20, N9, p.1617-1634.
7. Зайцев P.O., Кузьмин E.B., Овчинников С.Г. Основные представления о переходах металл-изолятор в соединениях 3d-nepe-ходных металлов.- УФН, 1986, т. 148, N 4, с.603-636.
8. Пайерлс Р. Квантовая теория твёрдого тела. М.: Изд. иностр. лит., 1956.-259 с.
9. Келдыш Л.В., Копаев Ю.В. Возможная неустойчивость полуметаллического состояния относительно кулоновского взаимодействия. ФТТ, 1964, т.6, N9, с.2791-2799.
10. Ю.Лосева Г.В., Овчинников С.Г., Петраковский Г.А. Переход металл-диэлектрик в сульфидах Зd-мeтaллoв. Новосибирск: Наука, 1983. 144 с.
11. П.Кофстад П. Отклонение от стехиометрии, диффузия и электропроводность в простых окислах металлов. М: Мир, 1975. 396 с.
12. Бугаев А.А., Захарченя Б.П., Чудновский Ф.А. Фазовый переход металл-полупроводник и его применение.- Л.: Наука, 1978. 187 с.
13. Yethiraj M. Pure and doped vanadium sesquioxide: a brief experimental review. J. Solid State Chem., 1990, v.88, N1, p.53-69
14. Копаев Ю.В., Мокеров В.П. Механизм фазовых переходов в окислах ванадия и титана.- ДАН, 1982, т.264, N6, с.1370-1376.
15. Барышников Ю.Ю., Дроботенко В.В., Захарова С.В., Макин Г.И., Терман М.Ю. Легированные плёнки диоксида ванадия полученные по МОС-технологии. Физика окисных плёнок. Тез. докл. 3-й Всесоюз. науч.конф. - Петрозаводск, 1991, ч.1, с.31.
16. Bruckner W, Gerlach U., Moldenhauer W. et al. Metal-nonmetal transition in Fe- and Al-doped V02 J. Phys. (Paris), 1976, v.37, suppl. N10, p. C4-63 -C4-68.
17. Ланская Т.Г. Фотоспилловер водорода в плёнках оксидов переходных металлов: Автореф. Дисс.канд. физ.-мат. наук. Л, 1991. - 19 с.
18. Buhling D., Burger W. Widerstand Temperaturcharacteristik und Schichtstructur dunner Vanadium dioxide - Schichten.-Hermsdorf. Techn. Mitt, 1976, v. 16, 1 45, p. 1424.
19. Rao C.N.R, Subba Rao G.V. Electrical conduction in metal oxides. Phys. Stat. Solidi (a), 1970, v.l, p. 597-652.
20. Мокеров В.Г, Бегишев А.Р., Игнатьев А.С. Влияние отклонения от стехиометрического состава на электронную структуру и фазовый переход металл-изолятор в двуокиси ванадия.- ФТТ, 1979, т.21, N 5, с.1482-1488.
21. Joffa Е.А., Adler D. Theory of temperature induced Mott transition.-Phys. Rev. B, 1979, v.20, N10, p.4044-4059.
22. Buhling D., Burger W. Widerstand Temperaturcharacteristik und Schichtstructur dunner Vanadium dioxide.- Schichten.-Hermsdorf. Techn. Mitt., 1976, v. 16, № 45, p. 1424.
23. Verleur H.W., Barker A.S., Berglimd C. N. Optical properties of V02 between 0.25 and 5 eV.- Phys. Rev., 1968, v. B172,p.788.
24. Гербштейн Ю.М., Смирнова T.B., Теруков Е.И., Чудновский Ф.А. Особенности оптических свойств пленок двуокиси ванадия вблизи фазового перехода полупроводник-металл. ФТТ, 1976, т. 18, с. 1503.
25. Бегишев А.Л., Галиев Г.Б., Игнатьев А.С., Мокеров В.Г. Влияние нарушений периодичности кристаллической решетки на фазовый переход металл-полупроводник. ФТТ, 1978, т.20, № 6, с. 1643.
26. Величко В.Я. Влияние ионного облучения на фазовый переход в двуокиси ванадия. дисс.канд. физ.-мат. наук. - Л, 1983. - 230 с.
27. Kennedy T.N, Mackenzie J.D. Suppression of the semiconductor-metal transition in vanadium oxides.- J. Non-Cryst. Sol., 1969, v.l, p.326.
28. Chudnovskii F. A., Stefanovich G.B. Metal- insulator phase transition in disordered VO2 . J. Sol. St. Chem.- 1992,- V. 98.- P.137-145.
29. Викулин И.М., Стафеев В.И. Физика полупроводниковых приборов. М.: Радио и связь, 1990. 264 с.
30. Костылев С.А., ШкутВ.А. Электронное переключение в аморфных полупроводниках. Киев: Наукова думка, 1978. 203 с.
31. Меден А., Шо М. Физика и применение аморфных полупроводников. М.: Мир, 1991.-670 с.
32. Adler D., HenischH.K., MottN.F. Threshold switching in amorphous alloys Rev. Mod. Phys, 1978, v.50, p. 208-221.
33. Сандомирский В.Б., Суханов А.А. Явления электрической неустойчивости (переключение) в стеклообразных полупроводниках. -Зарубежная радиоэлектроника, 1976, N 9, с. 68-101.
34. Коломиец Б.Т., Лебедев Э.А., Цэндин К.Д. Электронно-тепловая природа низкоомного состояния, возникающего при переключении в ХСП. -ФТП, 1981, Т.15, N 2, с.304-310.
35. A1-Ramadhan F.A.S., Hogarth С. A. Observation and compositional studies of the metallic conducting filaments in the ON state of Si0/V205 thin films used as memory elements. J. Mater. Sci., 1984, v. 19, p. 1939-1946.
36. Ray A.K., Hogarth C.A. A critical review of the observed electrical properties of MIM devices showing VCNR.- Int. J. Electronics, 1984, v.57, N1, p.1-78
37. Pagnia H., Sotnik N. Bistable switching in electroformed MIM devices-Phys. Status Solidi A, 1988, v.108, N1, p.l 1-65.
38. Гершензон E.M., Гольцман Г.Н., Дзарданов А.Л., Елантьев А.И., Зорин М.А., Маркин А.Г., Семёнов А.Д. S-N-переключение сверхпроводниковых плёнок ниобия и YBCO. СФХТ, 1992, т.5, N12, с.2386-2402.
39. Козырев А.Б., Самойлова Т.Б., Шаферова С.Ю. Быстрое токовое S-N переключение плёнок УВа2Сиз07.х и его применение для амплитудной модуляции СВЧ сигнала. СФХТ, 1993, т.6, N4, с. 823-837.
40. Вороненко А.В., Ушаткин Е.Ф., Урсуляк Н.Д., Тагер А.С. Отрицательное дифференциальное сопротивление контакта сверхпроводящих керамик. СФХТ, 1989, т.2, N5, с.91-96.
41. Warren A.C. Reversible thermal breakdown as a switching mechanism in chalcogenide glasses. IEEE Trans. Electron Dev., 1973, v.ED-20, N2, p.123-131.
42. Thomas D.L., Male J.C. Thermal breakdown in chalcogenide glasses. J. Non-Cryst. Solids, 1972, v.8-10, p.522-530.
43. Kroll D.M. Theory of electrical instabilities of mixed electronic and thermal origin. -Phys. Rev. B, 1974, v.9, N4, p. 1669-1706.
44. Сандомирский В.Б, Суханов A.A, Ждан А.Г. Феноменологическая теория концентрационной неустойчивости в полупроводниках. -ЖЭТФ, 1970, т.58, N5, с.1683-1694.
45. Бондаренко В.М. Кинетические явления в кислородсодержащих ванадиевых соединениях. дисс.докт. физ.-мат. наук. Вильнюс, 1991.- 305 с.
46. Jackson J.L, Shaw М.Р. The form and stability of I-V characteristics for ideal thermal switching. Appl. Phys. Lett, 1974, v.25, N 11, p.666-668.
47. Gildart L. Bistable switching and the Mott transition. J. Non-Cryst. Solids, 1970, v.2, p. 240-249.
48. Makys V, Noga M. Dunamics of threshold switching in amorphous alloys. -Czech. J. Phys, 1979, v.B29, N 12, p.1407-1413.
49. Резницкий JI.А. Химическая связь и превращения оксидов. М.: Изд-во МГУ, 1991.- 168 с.5 6. Von Schulthess G, Wachter P. First observation of photoconductivity in the semiconducting phase of V02. Solid State Comm., 1974, v.15, N 10, p.1645-1649.
50. Mansingh A, Singh R. The mechanism of electrical threshold switching in V02 crystals. J. ofPhys. C. 1980, V.13, N 33, p.5725-5733.
51. Алексеюнас А, Барейкис В, Бондаренко В, Либерис Ю. Флуктуации тока и время переключения в монокристаллах диоксида ванадия. -ФТТ, 1978, т.20, N 7, с. 1980-1984.
52. Мокроусов В.В, Корнетов В.Н. Полевые эффекты в пленках двуокиси ванадия,- ФТТ, 1974, т. 16, N10, с. 3106.3107.
53. Васильев Т.П., Сербинов И.А, Рябова JI.A. Переключение в системе VO2-диэлектрик-полупроводник. Письма в ЖТФ, 1977, т.З, N8, с.342-344.
54. Serbinov I.A, Ryabova L.A, Savitskaya Ya.S. Phase transition and switching in pyrolytic V02 films. Thin Solid Films. 1975, Y.27, p.171-176.
55. Пергамент А.Л. Эффект переключения в оксидах переходных металлов. дисс.канд. физ.-мат. наук.Петрозаводск, 1994. - 210 с.
56. Remke R.L, Walser R.M, Bene R.W. The effect of interfaces on electronic switching in V02 thin films. Thin Solid Films. 1982, v.97, p.129-143.
57. Таллерчик Б.А, Теруков Е.И, Чудновский Ф.А. Тепловой механизм эффекта переключения в окисленном ванадии. Инженерно-физический Журнал, 1975, т.28, N2, с.257-262.
58. Duchene J. Direct IRmeasurements of filament temperature during switching in vanadium oxide film devices. J. Solid State Chem, 1975, v.l2, 303-306.
59. Serbinov I.A, Ryabova L.A, Savitskaya Ya.S. Phase transition and switching in pyrolytic V02 films. Thin Solid Films. 1975, V.27, p.171-176.
60. Мокроусов B.B, Корнетов В.Н. Полевые эффекты в пленках двуокиси ванадия.- ФТТ, 1974, т. 16, N10, с.3106.3107.
61. Васильев Т.П., Сербинов И.А, Рябова JI.A. Переключение в системе У02-диэлектрик-полупроводник. Письма в ЖТФ, 1977, т.З, N8,с.342-344.
62. Котлярчук Б.К. Эффект переключения в ванадии, окисленном на воздухе при лазерном облучении. Украинский Физический Журнал. 1979, Т.24, N 11, с.1753-1755.
63. Андреев В.Н., Тимощенко Н.Е., Черненко И.М., Чудновский Ф.А. Механизм формирования переключающих ванадатно-фосфатных стёкол. ЖТФ. 1981, Т.51, N 8, с. 1685-1689.
64. Higgins J.K., Temple В.К., Lewis J.E. Electrical properties of vanadate-glass threshold switches. J. Non-Cryst. Solids, 1977, v.23, p. 187-215.
65. Zhang J.G., Eklund P.C. The switching mechanism in V205 gel films. J. Appl. Phys., 1988, V.64, N 2. p.729-733.
66. Bullot J., Gallias O., Gauthier M., Livage J. Threshold switching in V205 layers deposited from gels. Phys. Status Solidi (a), 1982, v.71, N1, p.Kl-K4.
67. Taketa Y., Furugochi R. Switching and oscillation phenomena in Sn02-V0x-PdO ceramics. Appl. Phys. Lett. 1977, V.31, N 7, p.405-406.
68. Loser W., Mattheck C., Haubenreisser W. Influence of the intrinsic termistor effect in V02 coplanar switching devices. Phys. Status Solidi (a), 1974, v.21, N2, p.487-496.
69. Алексеюнас А., Барейкис В., Бондаренко В., Либерис Ю. Флуктуации тока и время переключения в монокристаллах диоксида ванадия. -ФТТ, 1978, т.20, N 7, с.1980-1984.
70. Андреев В.Н., Аронов А.Г., Чудновский Ф.А. Фазовый переход полупроводник металл в сильном поле в V2O3.- ЖЭТФ, 1971, т.61, N2(8), с.705-713.
71. Валиев К.А., Капаев Ю.В., Мокеров В.Г., Раков А.В. Электронная структура и фазовые переходы в низких окислах ванадия в электрическом поле. ЖЭТФ, 1971, т.60, в.6, с.2175-2185.
72. Левшин Н.Л., Поройков С.Ю. Влияние локальных кулоновских полей на фазовый переход полупроводник-металл в плёнках V02. ФТТ, 1991, т.ЗЗ, N3, с.949-951.
73. Мокроусов В.В., Корнетов В.Н. Полевые эффекты в пленках двуокиси ванадия.- ФТТ, 1974, т. 16, N10, с.3106.3107.
74. Васильев Г.П, Сербииов И.А, Рябова Л.А. Переключение в системе У02-диэлектрик-полупроводник. Письма в ЖТФ, 1977, т.З, N8, с.342-344.
75. Бугаев А.А, ГудялисВ.В, Захарченя Б.П, Чудновский Ф.А. Селективность фотовозбужденного фазового перехода металл-полупроводник в V02 при инициировании его пикосекундными импульсами. Письма в ЖЭТФ, 1981, т.34, N8, с.452-455.
76. Becker M.F, Buckman А.В, Walser R.M, Lepin Т, Georgies Р, and Brim A. Femtosecond laser exitation of the semiconductor-metal phase transition in V02. Appl. Phys. Lett, 1994, v.65, 42, p. 1507-1509.
77. Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств: Справочник. -М.: Радио и связь, 1991, 528 с.
78. Данилин Б.С. Вакуумное нанесение тонких пленок.- М,: Энегрия, 1967, 237с.
79. Keil R.G, Solomon R. Е. Anodization of vanadium in acetic acid solutions. ibidem, 1971, v.118, p.860.
80. Pelleg J. J. Less-Common Metals, 1974, v.35, p.299.
81. Кучис E.B. Методы исследования эффекта Холла,- М.: Сов. радио, 1974.
82. Ping Jin and Sakae Tanemura. Formation and Thermochromism of V02 Films Deposited by RF Magnetron Sputtering at Low Substrate Temperature. Jpn. J. Appl. Phys. Vol.33, 1994, p. 1478-1483.
83. Березовский Г.А, Лукащук Е.И. Термодинамические свойства диоксида ванадия в интервале 6-360 К. Новосибирск, 1990 - 20 с. (Препринт/ Ин-т неорг. химии СО АН: 90-04).91.3и С. Физика полупроводниковых приборов. М.: Мир, 1984, т.1, 455 с.
84. Rosevar W.H, Paul W. Hall effect in V02 near the semicondactor-to-metal transition.- Phys. Rev. B, 1973, v.4, № 5, p.2109.
85. Гуртов В.А. Электронные процессы в структурах металл-диэлектрик-полупроводник. -Петрозаводск: Изд. Петр.гос.унив, 1984, 115 с.
86. Jonsher А.К, Hill R,M. Electrical conduction in disordered nonmetal films// Phys. Thin Films.-1975, v.8, №1, p.169-249.
87. Peter van Zant. Microchip Fabrication. 3rd ed. McGraw-Hill Companies, 1997.-p.623.
88. Chudnovskii F.A, Pergament A.L, Schaefer D.A, Stefanovich G.B. "Optical medium based on vanadium oxide films."- J. Proc.SPIE, v. 2777, pp. 80-84,(1996).
89. Ильин A.M., Пергамент A.JI, Стефанович Г.Б, Хахаев А.Д, Чудновский Ф.А. "Лазерно-стимулированная модификация свойств оксидов переходных металлов."- Оптика и спектроскопия.- 1997.- т. 82.-№1.- с. 32-38.
90. Стефанович Г.Б. Переход металл изолятор в пленочных структурах на основе оксидов переходных металлов. - дисс.докт. физ.-мат. наук. С.-Петербург, 1998. - 360 с.
91. Алешина Л.А, Малиненко В.П, Стефанович Г.Б,Чудновский Ф.А. Исследование ближнего порядка атомной структуры аморфной двуокиси ванадия //ФТТ. 1988. - Т.30. -N3. - С.914 - 916.
92. Дель Ока С, Пулфри Д.Л, Янг Л. Анодные окисные пленки.- В кн.: Физика тонких пленок, под ред.М.Х.Франкомба и Р.У. Гофмана. -М.: Мир, 1973, т.6, с.7-96.
93. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов / Под ред. Дж.Р. Брюэра. (пер.с англ). М.: Радио и связь, 1984.-343.
Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.