Технология получения тонкопленочных покрытий с переменным отражением тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.11.07, кандидат технических наук Дмитренко, Владимир Анатольевич

• Дмитренко, Владимир Анатольевич
• кандидат технических наук
• 2003

Оглавление диссертации кандидат технических наук Дмитренко, Владимир Анатольевич

Введение.

1. Методы формирования неравнотолщинных покрытий и их применение в лазерных системах. (Литературный обзор).

1.1 Методы, позволяющие улучшить выходные характеристики лазерных систем.

1.2 Применение в лазерных резонаторах, многослойных диэлектрических зеркал, с переменным коэффициентом отражения.!

1.3 Методы формирования слоев с переменной по поверхности детали толщиной.

1.4 Контроль толщины слоев во время процесса осаждения.

2. Выбор конструкций тонкопленочных систем, обеспечивающих заданные выходные характеристики лазерных систем.

2.1 Диэлектрические узкополосные фильтры.

2.2 Четвертьволновые зеркала.

2.3 Диэлектрические системы различных конструкций.

Выводы по главе 2.

3. Формирование слоев с переменным профилем толщины при испарении пленкообразующих материалов в вакууме.

3.1 Планетарное вращение.

3.2 Одинарное вращение.

3.3 Факторы, оказывающие влияние на профиль толщины покрытий во время осаждения.

3.4 Оснастка для формирования в вакууме покрытий с переменным профилем толщины.

Выводы по главе 3.

4. Изготовление и исследование многослойных диэлектрических покрытий с переменным отражением.

4.1 Используемое вакуумное оборудование.

4.2 Изготовление многослойных диэлектрических систем.

4.3 Исследование многослойных диэлектрических систем.

Выводы по главе 4.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Технология получения тонкопленочных покрытий с переменным отражением»

С развитием современных оптических технологий лазерные системы и технологии находят все большее применение в различных областях науки и техники. В последнее время большое внимание уделяется улучшению выходных пространственно-энергетических характеристик лазеров. Разработаны методы, позволяющие достичь в этом направлении положительных результатов. Одним из таких методов является использование в лазерных резонаторах отражателей с переменным по поверхности коэффициентом отражения. Отражатели представляют собой, нанесенные на подложку многослойные диэлектрические покрытия, содержащие слои с переменным по поверхности детали профилем толщины. Конструкция таких диэлектрических систем, т.е. число слоев, порядок их расположения, показатели преломления, оптические толщины, может быть различной, для облегчения подбора пленочной системы важно определить закономерности формирования коэффициента отражения в зависимости от следующих параметров, которые необходимо рассматривать не только по отдельности, но и в совокупности друг с другом:

- общее количество слоев в системе;

- количество слоев с непостоянной толщиной в системе;

- толщина слоев в центре детали и на краях;

- порядок чередования слоев с высоким и низким показателями преломления и их взаимное расположение;

- величины показателей преломления слоев, подложки, среды. Определив некоторые существующие закономерности, можно подобрать множество систем, близко удовлетворяющих заданным условиям, и, учитывая требуемые характеристики: распределение коэффициента отражения по поверхности детали, фазовые соотношения, сделать окончательный выбор системы.

Процесс вакуумного испарения пленкообразующего вещества является сложным, но достаточно изученным процессом. Осаждение пленок в вакууме можно разделить на несколько последовательных этапов: 1) переход пленкообразующего вещества из твердой или жидкой фазы в газообразную; 2) перенос паров вещества в вакууме от испарителя до поверхности подложки; 3) конденсация паров вещества на поверхности подложки. На эти этапы оказывает влияние множество различных факторов, в том числе и человеческий фактор, которые возможно предсказать, но довольно трудно учесть непосредственно во время процесса осаждения, так как каждый процесс осаждения вещества является индивидуальным, т.е. неповторимым, и многие факторы изменяются с течением времени. Поэтому при выборе конструкции многослойной пленочной системы необходимо руководствоваться таким свойством системы как минимальная зависимость распределения коэффициента отражения и других оптических характеристик от каких-либо ошибок и отклонений, возникающих во время осаждения.

Важным моментом в технологии изготовления таких систем, основанной на вакуумных методах нанесения покрытий с переменным профилем толщины, используя различную оснастку, является простота и удобство эксплуатации оснастки, а также получение покрытий с заданными оптическими и геометрическими параметрами.

В процессе осаждения материала используются различные методы контроля толщины слоев. Самым распространенным является фотометрический метод, в котором оптическая толщина на фиксированной длине волны Лк контролируется путем измерения коэффициента пропускания 71(ЛК) или отражения Я(ЛК). Во время осаждения Т(ЛК) или /?(Лк) изменяются с ростом толщины слоя по косинусоидальному закону и зависят от показателей преломления пленкообразующего материала, подложки, среды, из которой падает свет и от длины волны Лк. Существует проблема контроля толщины слоев на деталях с зоной постоянного коэффициента отражения меньшей размера светового пучка, посредством которого ведется контроль, или на деталях малого диаметра по тем же причинам. Поэтому необходим метод, который должен обеспечивать формирование покрытий с требуемыми оптическими и геометрическими параметрами.

Целью работы является анализ влияния конструкции тонкопленочных систем, включающих слои с переменным профилем толщины, на коэффициент отражения (пропускания) в некоторой точке поверхности подложки на заданной рабочей длине волны и оптимизация выбора конструкции покрытий с заданными характеристиками, а также создание экспериментальной технологии многослойных диэлектрических систем с переменным коэффициентом отражения по поверхности детали, используемых в лазерных резонаторах.

Настоящая диссертационная работа посвящена:

1. Поиску закономерностей, позволяющих оптимизировать выбор конструкции диэлектрической системы, которая должна обеспечить требуемое распределение коэффициента отражения по поверхности детали. Конструкция определяется общим количеством слоев в системе, величиной показателей преломления слоев, подложки, среды, количеством слоев с переменным профилем толщины, а также взаимным расположением слоев с высоким и низким показателями преломления (порядковый номер в пленочной системе), толщиной слоев в центре детали и на краях.

2. Оценке неоднозначности выбора конструкций пленочных систем, обеспечивающих требуемый профиль коэффициента отражения, и определение критериев выбора конструкции многослойной системы.

3. Анализу особенностей фотометрического контроля толщины слоев с переменным профилем во время процесса осаждения.

4. Оценке влияния различных факторов во время осаждения материала на формируемый профиль толщины, а, следовательно, на профиль коэффициента отражения.

5. Исследованию оптических характеристик полученных покрытий.

Основные результаты, выносимые на защиту:

1. Критерии выбора конструкции пленочной системы.

2. Зависимости коэффициента отражения от толщины слоев R{d) для пленочных систем различных конструкций.

3. Закономерности влияния структуры многослойной диэлектрической системы, включающей слои с переменным профилем толщины, на распределения коэффициента отражения R(d).

4. Условия формирования профиля толщины слоев пленочных покрытий через круглую диафрагму на подложку, совершающую планетарное или одинарное вращение.

5. Универсальная оснастка для формирования покрытий с переменным профилем толщины на подложке при одинарном вращении.

6. Экспериментальные результаты создания и исследования полученных диэлектрических систем, включающих слои с переменным профилем толщины.

Диссертация состоит из четырех глав. В первой главе представлен анализ работ, посвященный проблеме улучшения выходных энергетических характеристик лазерных систем, а также методам, позволяющим выполнить эту задачу путем применения в лазерных системах резонаторов различных конструкций. Особое внимание уделяется методу, использующему в резонаторах отражатели с переменным по поверхности детали отражением. Заданное распределение коэффициента отражения обеспечивают многослойные тонкопленочные системы, включающие слои с переменным профилем толщины. Здесь же рассмотрены методы формирования переменного профиля пленочных покрытий в вакууме с использованием масок различных конструкций.

Во второй главе подробно рассмотрены расчеты профиля толщины слоя, на примере однослойной и трехслойной диэлектрических пленочных систем, содержащих один слой с меняющейся толщиной, в ходе которых определены параметры, оказывающие влияние на требуемый профиль толщины слоя или слоев, и который в итоге должен обеспечивать требуемое или близкое к требуемому распределение коэффициента отражения по поверхности подложки. Определены критерии выбора конструкции многослойной диэлектрической системы в порядке их значимости, руководствуясь которыми будет проводиться окончательный выбор пленочной системы. Рассмотрено влияние определенных параметров на зависимость коэффициента отражения от толщины, от порядка расположения слоев с постоянной и меняющейся толщиной и т.д., в конструкциях, представляющих собой узкополосные диэлектрические фильтры, четвертьволновые зеркала, а также другие зеркальные системы. Проведен поиск закономерностей в этих системах, позволяющих упростить подбор необходимой диэлектрической системы. Показана неоднозначность в выборе конструкции пленочных систем. Используя эти зависимости и зная выявленные закономерности, присущие тем или иным системам, можно в большой степени упростить получение желаемого результата.

В третьей главе рассмотрена математическая модель планетарного вращения, в которой осаждение материала происходит через круглую диафрагму на подложку, совершающую планетарное движение. Для данной модели предложены различные варианты схем подложкодержателя для вакуумного формирования неравнотолщинных покрытий одновременно на большом количестве подложек. Рассмотрена модель одинарного вращения, описывающая формирование на подложках осесимметричных покрытий с переменным профилем толщины. Рассмотрены факторы, оказывающие влияние на профиль толщины покрытий во время осаждения. При одинарном вращении и испарении вещества из малого поверхностного испарителя через круглую диафрагму, рассмотрено влияние на толщину слоя в некоторой точке поверхности подложки параметров, ограниченных в заданных пределах: Н - расстояние от испарителя до поверхности подложки, к - расстояние от испарителя до диафрагмы, Яц - расстояние от испарителя до оси вращения подложкодержателя, г И 1 - радиус диафрагмы. Представлена схема разработанной экспериментальной оснастки для формирования в вакууме пленочных покрытий с переменным профилем толщины.

В четвертой главе рассмотрено вакуумное формирование на плоскопараллельной пластине многослойной диэлектрической системы с переменным отражением, а также проведено исследование полученных пленочных систем и сравнение экспериментальных и расчетных данных.

Заключение диссертации по теме «Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы», Дмитренко, Владимир Анатольевич

Выводы.

В данной главе рассмотрен процесс изготовления многослойных диэлектрических пленочных систем с переменным профилем коэффициента отражения (пропускания), приведены результаты исследования полученных систем.

1. Проведено исследование тестовых зеркал для видимого диапазона с переменным отражением (пропусканием): исследование распределения Т{р) и спектральных характеристик Т(Л) в различных зонах покрытия, сравнение расчетных и экспериментальных распределений.

2. Определены отклонения в толщине слоев многослойных покрытий возникших в процессе осаждения и влияющих на распределение отражения.

3. Выполнена проверка возможности проведения качественного контроля: измерение распределения пропускания в видимой области, полученных пленочных систем с переменным отражением (пропусканием), с использованием в качестве инструмента измерения офисной оргтехники -планшетного сканера.

4. Изготовлены многослойные диэлектрические зеркала для лазерных систем на подложках разных диаметров.

Заключение.

В данной работе:

1. Проведено решение задач синтеза на простых примерах, в дальнейшем позволяющее аналогично выполнять поставленные задачи для более сложных пленочных систем.

2. Определены критерии выбора конструкции многослойной диэлектрической системы в порядке их значимости, руководствуясь которыми будет проводиться окончательный выбор пленочной системы.

3. Рассмотрено влияние на зависимость коэффициента отражения от толщины Я(с1/с1о) для множества различных систем: порядка, а также взаимного расположения слоев с постоянной и меняющейся толщиной в многослойном пакете, ограниченном с двух сторон системой сред воздух-подложка; количества слоев с меняющейся толщиной в конструкциях, представляющих собой узкополосные диэлектрические фильтры, четвертьволновые зеркала, а также другие зеркальные системы. Проведен 'поиск закономерностей в этих системах, позволяющих оптимизировать подбор необходимой диэлектрической системы. Показана неоднозначность в выборе конструкции пленочных систем.

4. Рассмотрена математическая модель планетарного вращения, в которой осаждение материала происходит через круглую диафрагму на подложку, совершающую планетарное движение. Предложены различные варианты схем подложкодержателя для вакуумного формирования градиентных покрытий одновременно на большом количестве подложек, совершающих сложные движения. Также рассмотрена модель одинарного вращения, описывающая формирование на подложках осесимметричных покрытий с переменным профилем толщины.

5. При одинарном вращении и испарении вещества из малого поверхностного испарителя через круглую диафрагму, рассмотрено влияние на толщину слоя в некоторой точке поверхности подложки параметров оснастки: Н, У?и, h, rD\, ограниченных в заданных пределах.

6. Определены и рассмотрены возможные различные факторы: ошибки, возникающие до процесса осаждения, при изготовлении элементов оснастки, при сборке и установке оснастки в вакуумной камере, и ошибки, возникающие во время осаждения и причины их возникновения.

7. Разработана универсальная оснастка для формирования в вакууме различных пленочных систем с переменным отражением (пропусканием): зеркала, фильтры (A.C. на п.м. МПК С23с 14/00 Устройство для формирования покрытия с переменным профилем толщины., В. А. Дмитренко, Э. С. Путилин, (Россия) №2002118016, Реш. о выдаче 22.11.02.).

8. Проведены исследования полученных многослойных систем с использованием различных измерительных схем. Проведено сравнение расчетных и экспериментальных распределений: спектральные характеристики и распределение коэффициента пропускания Т(р) (отражения R(p)). Проведена оценка влияния различных факторов, оказывающих влияние на распределение Т(р), результаты которой позволят при изготовлении таких систем их учитывать и в дальнейшем получать необходимое Т(р).

9. Изготовлены зеркальные системы с переменным отражением, которые используются в качестве элементов резонатора лазерной системы.

134

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Дмитренко, Владимир Анатольевич, 2003 год

1. P. W. Rhodes, D. L. Shealy, Refractive optical systems for irradiance redistribution of collimated radiation: their design and analysis // Appl. Opt., Vol. 19, p. 3545-3553, 1980.

2. S. R. Jahan, M. A. Karim, Refraction systems for Gaussian-to-uniform beam transformations // Opt. Laser Technol., Vol. 21, p. 27-30, 1989.

3. M. A. Karim, A. K. Cherri, A. A. Sami Awwal, A. Basit, Refracting systems for annular laser beam transformation // Appl. Opt., Vol. 26, p. 2446-2449, 1987.

4. W. B. Veldkamp, Laser beam profile shaping with binary diffraction gratings // Opt. Commun., Vol. 38, p. 381-386, 1981.

5. M. A. Karim, A. M. Hanafi, F. Hussain, S. Mustafa, Z. Samberid, N. M. Zain, Realization of a uniform circular source using a two-dimensional binary filter // Opt. Lett., Vol. 10, p. 470-471, 1985.

6. S. P. Chang, J.-M. Kuo, Y.-P. Lee, C.-M. Lu, K.-J. Ling, Transformation of Gaussian to coherent uniform beams by inverse-Gaussian transmittive filters // Appl. Opt., Vol. 37, №4, p. 747-752, 1998.

7. Y. Ohtsuka, Y. Arima, Y. Imai, Acustooptic 2-D profile shaping of a Gaussian laser beam //Appl. Opt., Vol. 24, p. 2813, 1985.

8. C. C. Aleksoff, K. K. Ellis, B. D. Neagle, Holographic conversion of a Gaussian beam to a near-field uniform beam // Opt. Eng., Vol. 30, p. 537-543, 1991.

9. N. C. Roberts, Beam shaping by holographic filters // Appl. Opt., Vol. 28, p. 31-32 1989.

10. C. S. Ih, Absorption lens for producing uniform laser beams // Appl. Opt., Vol. 11, p. 694-695, 1972.

11. P.A.Bélanger, C. Paré, Optical resonators using graded-plane mirrors // Opt. Lett., Vol. 16, p. 1057-1059, 1991.

12. P. A. Bélanger, R. L.Lachance, C. Paré, Super-Gaussian output from C02 laser by using a graded-phase mirror resonator // Opt. Lett., Vol. 17, p. 739-741, 1992.

13. C. Paré, D. A. Bélanger, Custom laser resonators using graded-phase mirrors // IEEE J. Quantum Electron., Vol. QE-28, p. 355-362, 1992.

14. V. Kcrmene, A. Saviot, M. Vampouille, B. Colombeau, C. Froehly, T. Dohnalik, Flattening of the spatial laser beam profile with low losses and minimal beam divergence// Opt. Lett., Vol. 17, p. 859-861, 1992.

15. J. R. Leger, D.Chen, Z.Wang, Diffractive optical element for mode shaping of a Nd:YAG laser// Opt. Lett., Vol. 19, p. 108-110, 1994.

16. J. R. Leger, D.Chen, G. Mowry, Design and performance of diffractive optics for custom laser resonators // Appl. Opt., Vol. 34, p. 2498-2509, 1995.

17. K. Yasui, S. Yagi, M. Tanaka, Negative-branch unstable resonator with a phase unifying output coupler for high power Nd:YAG lasers // Appl. Opt., Vol. 29, № 9, p. 1277-1280, 1990.

18. A. Piegari, G. Emiliani, Laser mirrors with variable reflected intensity and uniform phase shift: design process // Appl. Opt., Vol. 32, № 28, p. 5454-5461, 1993.

19. G. Emiliani, A. Piegari, S. De Silvestri, P. Laporta, V. Magni, Optical coatings with variable reflectance for laser mirrors // Appl. Opt., Vol. 28, № 14, p. 2832-2837, 1989.

20. S. De Silvestri, P. Laporta, V. Magni, O. Svelto, Solid-state laser unstable resonators with tapered reflectivity mirrors: the super-Gaussian approach // IEEE J. Quantum Electron., Vol. 24, № 6, p. 1172-1177, 1988.

21. S. De Silvestri, V. Magni, O. Svelto, G. Valentini, Lasers with super-Gaussian mirrors // IEEE J. Quantum Electron., Vol. 26, № 9, p. 1500-1509, 1990.

22. A. Parent, P. Lavigne, Variable reflectivity unstable resonators for coherent radar emitters//Appl. Opt., Vol. 28, № 5, p. 901-903, 1989.

23. P. Lavigne, N. McCarthy, A. Parent, K. J. Snell, Laser mode control with variable reflectivity mirrors // Can. J. Phys., Vol. 66, p. 888-895, 1988.

24. K. J. Snell, N. McCarthy, M. Piche, P. Lavinge, Single transverse mode oscillation from an unstable resonator Nd:YAG laser using a variable reflectivity mirror // Opt. Commun., Vol. 65, № 5, p. 377-382, 1988.

25. S. De Silvestri, P. Laporta, V. Magni, O. Svelto, C. Arnone, C. Call, S. Sciortino, C. Zizzo, Nd:YAG laser with multidielectric variable reflectivity output coupler // Opt. Commun., Vol. 67, № 3, p. 229-232, 1988.

26. S. De Silvestri, P. Laporta, V. Magni, and O. Svelto, B. Majocchi, Unstable laser resonators with super-Gaussian mirrors // Opt. Lett., Vol. 13, № 3, p. 201-203, 1988.

27. S. Dc Silvcstry, P. Laporta, V. Magni, G. Valcntini G. Gerullo, Comparative analysis of Nd:YAG unstable resonators with super-Gaussian variable reflectance mirrors // Opt. Commun., Vol. 77, № 2,3, p. 179-184, 1990.

28. C. Zizzo, C. Arnone, C. Cali, S. Sciortino, Fabrication and characterization of tuned Gaussian mirrors for visible and the near infrared // Opt. Lett., Vol. 13, № 5, p. 342344, 1988.

29. G. Duplain, P. G. Vcrly, J. A. Dobrovolski, A. Waldorf, S. Bussiere, Graded-reflectance mirrors for beam quality control in laser resonators // Appl. Opt., Vol. 32, №7, p. 1145-1153, 1993.

30. Э. С. Путилин, Л. А. Губанова, Интерференционные фильтры, формирующие фазовые и амплитудные характеристики отраженного и прошедшего излучения // Оптический журнал, № 8, с. 72-77, 1995.

31. II. П. Милованов, Формирование неравнотолщинных тонкопленочных покрытий на сферической подложке напылением из наклонного испарителя // ОМП, № 5, с. 27-30, 1987.

32. Б. А. Шапочкин, Вакуумная асферизация // ОМП. №6, с. 41-43, 1960.

33. Ким Чжон Суп, Э. С. Путилин, Фотометрический контроль толщины слоев с переменным профилем // Оптический журнал т. 65, № 10, с. 113-116, 1998.

34. Ким Чжон Суп, Э. С. Путилин, Формирование толщины слоев вакуумным испарением // Оптический журнал, т. 65, № 10, с. 108-112, 1998.

35. Ким Чжон Суп, Э. С. Путилин, Математическое моделирование процесса осаждения оптических тонких пленок // Оптический журнал т. 64, № 8, с. 61-65, 1997.

36. К. В. Балышев, Э. С. Путилин, С. Ф. Старовойтов, Исследование воспроизводимости выходных параметров многослойных диэлектрических систем во время изготовления // Оптический журнал, т. 65, № 3, с. 39-43, 1998.

37. Холленд JL, Нанесение тонких пленок в вакууме, M.-JI.: "Госэиергоиздат", 1963.

38. С. Y. Han, Y. Ishii, К. Murata, Reshaping collimated laser beams with Gaussian profile to uniform profiles //Appl. Opt. 22, 3644-3647, 1983.

39. Ким Чжон Суп, Моделирование процесса осаждения и разработка методов контроля градиентных пленок в процессе осаждения // С.-П.: канд. диссерт. -с.112, 1998.

40. J. A. Dobrowolski, A. J. Waldorf, Manufacture of all-dielectric interference filters of arbitrary thickness and refractive index // J. Opt. Soc. Am. Vol. 60, 1970.

41. J. A. Dobrowolski, Design and construction of unconventional interference filters // in Optical Coatings: Applications and Utilization II, Proc. SPIE Vol. 140, p.102-108, 1978.

42. H. K. Pulker, Characterization of optical thin films // Applied Optics, Vol. 18, № 12, p. 1969-1977, 1979.

43. A. J. Vermeulen, Some phenomena connected with the optical monitoring of thin-film deposition, and their application to optical coatings // Optica Acta, Vol. 18, № 7, p. 531-538,1971.

44. H. A. Macleod, Turning value monitoring of narrow-band all-dielectric thin-film optical filters // Optica Acta, Vol. 19, № 1, p. 1-28, 1972.

45. H. A. Macleod, E. Pelletier, Error compensation mechanisms in some thin-film monitoring systems // Optica Acta, Vol. 24, № 9, p. 907-930, 1977.

46. C. J. van der Loan, Optical monitoring of nonquarterwave stacks // Appl. Opt., Vol. 25, №5, p. 753-760, 1986.

47. Ryozo Hiraga, Noborii Sugawara, Shigetaro Ogura, Saichiro Amano, Measurements of spectral characteristics of optical thin film by rapid scanning spectrophotometer // Japan J. Appl. Phys., Suppl.2, Pt.l, p. 689-692, 1974.

48. В. Vidal, A. Former, Е. Pelletier, Wideband optical monitoring of nonquarterwave multilayer filters // Appl. Opt., Vol. 18, № 22, p. 3851-3856, 1979.

49. Eberhard Spiller, Experience with the in situ monitor system for the fabrication of x-ray mirrors // App. Thin Film Multilayered Structures to figured X-Ray Optics, Proc. SPIE Vol. 563, p. 367-375, 1985.

50. R. P. Riegert, Optimum usage of quartz-crystal monitor-based devices // Proceedings of the Fourth International Vacuum Congress, p. 527-530, 1968.

51. Chih-Shun Lu, Owen Lewis, Investigation of film-thickness determination by oscillation quartz resonators with large mass load // J. Appl. Phys., Vol. 43, № 11, p. 4385-4390, 1972.

52. C. J. vd Loan, H. J. Frankena, Monitoring of optical thin films using a quartz crystal monitor//Vacuum, Vol. 27, №4, p. 391-397, 1977.

53. V. Mecca, R. V. Bucur, The mechanism of the interaction of thin films with resonating quartz crystal substrates: the energy transfer model // Thin Solid Films, Vol. 60, p. 7384, 1979.

54. A. Hennansen, A method for production of interference filters for specified wavelengths//Nature, Vol. 167(4238), p. 104-106, 1951.

55. P. Н. Berning, Theory and calculations of optical thin films // In: "Physics of Thin Films (advanced in research and development)/ Vol.l" Ed. By G. Hass: Academic Press, p. 84-91, 1963.

56. H. П. Заказнов, В.В.Горелик, Изготовление асферической оптики. М.: Машиностроение, 1978.

57. Р. С. Сабиров, Диаграмма направленности электронно-лучевого испарителя при испарении тугоплавких окислов // ОМП, №8, с. 36-38, 1984.

58. К. Г. Берндт, Методы контроля и измерения толщины пленок и способы получения пленок, однородных по толщине. В кн.: Физика тонких пленок. М.: Мир, т. 3, с. 7-57, 1968.

59. J. A. Dobrovolski, P. D. Grant, R. Simpson, A. J. Waldorf, Investigation of the evaporation process conditions on the optical constants of zirconia films // Appl. Opt., Vol. 28, № 18, p. 3997-4005, 1989.

60. A. Piegari, A. Tirabessi, G. Emiliani, Thin films for special laser mirrors with radially variable reflectance: production techniques and laser testing // Proc. SPIE in Thin films in optics, Т. T. Tschudi, ed., Vol. 1125, 1989.

61. Фазылзянов P. X., Панасенко Б. В., Несмелов Е. А., Тагирова Р. Б., Влияние давления остаточных газов на контроль толщины пленок // ОМП №7, с. 25-28, 1980.

62. Е. Б. Брик, В. И. Тюрникова, Н. Ю. Тюрникова, Неравнотолщинные просветляющие покрытия из фторида магния и оксида титана // ОМП, №11, с. 35-39, 1987.

63. Болынанин А. Ф., Жиглинский А. Г., Парчевский С. Г., Путилин Э. С,. Формирование пленок постоянной толщины на осесимметричной подложке // ОМП, №3, с.39-42, 1978.

64. J1. А. Губанова, В. А. Дмитренко, Э. С. Путилин Технология получения тонкопленочных покрытий с переменным профилем // Международная конференция "Прикладная оптика 96"., Тез. докл. С.-П., с. 198, 1996.

65. JI. А. Губанова, В. А. Дмитренко, Э. С. Путилин Многослойные диэлектрические зеркала с переменным профилем коэффициента отражения для лазерных систем // Оптический журнал, №3, с.91-97, 2000.

66. JI. А. Губанова, В. А. Дмитренко, Э. С. Путилин, Зеркала с заданным профилем коэффициента отражения, используемые в лазерных резонаторах // Международная конференция "Прикладная оптика-98". Тез. докл. С.-П., с.44, 1998.

67. Н. Р. Белашенков, В. Б. Карасев, В. В. Назаров, Э. С. Путилин, П. II. Фимин, В. Ю. Храмов // Влияние фазового отклика выходного градиентного зеркала нахарактеристики лазерных мод плоскопараллельного резонатора, Оптический журнал, №1, с.25-28, 2000.

68. Справочник "Технология тонких пленок" / под ред. JI. Майссела, Р. Глэнга, пер. с англ. под ред. М. И. Елинсона, Г. Г. С мол ко, М. "Советское радио", т.1, т.2, 1977.

69. А. Г. Жиглинский, Э. С. Путилин, Оптимальные условия формирования однородных тонких пленок // ОМП, №9, с. 46-49, 1971.

70. А. А. Ефремов, Ю. В. Сальников, Изготовление и контроль оптических деталей, М. "Высшая школа", 1983.

71. В. А. Москалев, И. М. Нагибина, Н. А. Полушкина, В. J1. Рудин, Прикладная физическая оптика, С.-П. Политехника, 1995.

72. И. В. Скоков, Оптические спектральные приборы, М. "Машиностроение", 1984.

73. JI. А. Губанова, Тонкопленочные элементы в оптических системах телевизионной техники, Автореферат дис. . канд. техн. наук (05.11.07) ЛИТМО,-Л., с. 18, 1990.

74. Э. С. Путилин, Многослойные системы, формирующие фазовые и энергетические характеристики излучения, Диссертация . докт. техн. наук (05.11.07) ЛИТМО, JI., с.358, 1988.

75. Н. Р. Белашенков, В. Б. Карасев, Э. С. Путилин, П. Н. Фимин, В. Ю. Храмов, Градиентные лазерные зеркала // Оптический журнал, №5, с.9-19, 2001.

76. А. И. Костржицкий, В.Ф.Карпов, М. П. Кабаченко, О.Н.Соловьева, Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме, М., Машиностроение, с. 173, 1991.

77. М. Борн, Э. Вольф, Основы оптики, М.,: Наука, с.856, 1970.

78. Жиглинский А. Г., Парчевский С. Г., Путилин Э. С., Эльснер 3. Н., Границы сосуществования отражения и формирования волнового фронта диэлектрическими зеркалами // Опт. и спектр. 1977. - Т. 43, вып. 2 - С. 283-287.

79. А. В. Нужин, Д. Б. Путилов, Контроль градиентных зеркал // Изв. вузов. Приборостроение., Т. 44, №1, с. 44-47, 2001.

80. A.C. на п.м. МПК С23с 14/00 Устройство для формирования покрытия с переменным профилем толщины., В. А. Дмитренко, Э. С. Путилин, (Россия) №2002118016, Реш. о выдаче 22.11.02.

81. Справочник "Физические величины" / под ред. И. С. Григорьева, Е. 3. Мейлихова, М. Энерргоатомиздат, 1991.

82. П. Н. Фимин, Разработка и исследование градиентных лазерных зеркал, Диссертация . канд. техн. наук (05.11.07) ЛИТМО, Л., с. 134,2001.

83. Л. Л. Губанова, В. Л. Дмитренко, Э. С. Путилин, Формирование градиентных слоев с помощью круглых диафрагм и экранов // Оптический журнал, №3, с. 5053,2003.

84. Л. А. Губанова, В. А. Дмитренко, Э. С. Путилин, Л. М. Студеникин Синтез условий осаждения градиентных лазерных зеркал // Оптический журнал, №8, с. 50-54,2003.