Плазменный источник электронов для генерации импульсных пучков в форвакуумной области давлений тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.04, кандидат технических наук Медовник, Александр Владимирович

• Медовник, Александр Владимирович
• кандидат технических наук
• 2010

Оглавление диссертации кандидат технических наук Медовник, Александр Владимирович

ВВЕДЕНИЕ.

Глава 1. Плазменные источники импульсных и непрерывных электронных пучков, функционирующих в области повышенных давлений.

1.1 Плазменные источники импульсных электронных пучков.

1.2 Особенности функционирования плазменных источников электронов в форвакуумном диапазоне давлений.

1.3 Источники электронов, функционирующие в форвакуумной области давлений.

1.4 Выводы и постановка задач исследования.

Глава 2. Особенности функционирования импульсного тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном плазменном источнике электронов.

2.1 Техника и методика эксперимента.

2.2 Особенности зажигания тлеющего разряда с полым катодом в импульсном форвакуумном плазменном источнике электронов.

2.3 Характеристики и параметры импульсного тлеющего разряда с полым катодом в форвакуумном плазменном источнике электронов.

2.4 Выводы.

Глава 3. Особенности эмиссии электронов из плазмы и формирования импульсного электронного пучка в форвакуумном диапазоне давлений.

3.1 Техника и методика эксперимента.

3.2 Обратный ионный поток в импульсном плазменном источнике электронов.

3.3 Параметры импульсного электронного пучка.

3.4 Временные характеристики импульсного электронного источника.

3.5 Процесс компенсации заряда при электронно-лучевой обработке изолированной мишени.

3.5.1 Техника эксперимента.

3.5.2 Результаты эксперимента.

3.5.3 Анализ результатов эксперимента.

3.6 Выводы.

Глава 4. Импульсный электронный источник, функционирующий в форвакуумном диапазоне давлений.

4.1 Конструкция импульсного электронного источника.

4.2 Параметры и характеристики электронного источника.

4.3 Применение импульсного источника электронов для обработки высокотемпературных керамик.

4.4 Выводы.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Плазменный источник электронов для генерации импульсных пучков в форвакуумной области давлений»

Обработка материалов низкоэнергетичными импульсными: сильноточными электронными пучками, приводящая к нагреву или оплавлению лишь тонкого поверхностного слоя, обеспечивает существенную модификацию свойств материала на больших глубинах и, как результат, значительные эффекты в повышении микротвердости, коррозионной стойкости, а также снижении коэффициента трения. Для данной технологии модификации поверхностных свойств материалов используются, как правило, плазменные источники электронов с нестационарной или квазистационарной эмиссионной границей плазмы. При этом номенклатура изделий, обрабатываемых импульсными электронными пучками, была ограничена металлами, сплавами и другими проводящими материалами.

В последнее время существенное развитие получили так называемые форвакуумные плазменные источники электронов. Принципиальным отличием этих устройств является их способность к генерации пучков в ранее недоступной области давлений (5 - 20) Па, которая может достигаться с использованием лишь одной механической (форвакуумной) ступенью откачки. Указанное преимущество имеет, несомненно, значение, однако, одним из главных достоинств форвакуумных источников электронов является их способность непосредственной обработки непроводящих материалов. Как показали специально проведенные эксперименты, в форвакуумной области давлений при воздействии ускоренного электронного пучка на изолированную мишень установившийся плавающий потенциал этой мишени оказывается близким к потенциалу земли. Именно этот эффект и обуславливает возможность эффективной обработки диэлектриков электронным пучком с энергией, практически соответствующей величине ускоряющего напряжения. Применение форвакуумных плазменных электронных пушек для обработки непроводящих материалов было успешно продемонстрировано на примере сварки алюмооксидной керамики непрерывным сфокусированным электронным пучком.

В сущности, в форвакуумной области давлений электронный пучок оказывает воздействие на непроводящие материалы практически такое же, как и на металлы. Открывающаяся при этом возможность импульсной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов, в первую очередь высокотемпературных керамик, представляется привлекательной. В. связи с этим тематика диссертационной работы, направленная на исследование особенностей импульсной эмиссии электронов из плазмы при повышенных давлениях газа и создание на этот основе форвакуумного плазменного источника импульсного электронного пучка, является актуальной.

Цель диссертационной работы состояла' в проведении комплекса исследований, направленных на выявление физических особенностей генерации импульсных пучков плазменными источниками электронов в форвакуумной области давлений. В задачу работы также входило создание на основе проведенных исследований импульсного источника электронов с относительно большим поперечным сечением пучка и плотностью энергии в импульсе порядка 10Дж/см, достаточной для поверхностной обработки проводящих и непроводящих материалов.

Научная новизна работы заключается в том, что для импульсного плазменного источника электронов, функционирующего в форвакуумной области давлений:

1. Выявлены особенности влияния ускоряющего напряжения на процессы инициирования плазмообразующего разряда.

2. Измерена величина обратного тока ионов и определена степень его влияния на предельные параметры импульсного электронного' пучка: ток, плотность тока, длительность импульса и энергию.

3. Выяснен основной механизм нейтрализации зарядки изолированной мишени при ее обработке ускоренным импульсным электронным пучком.

Научная и практическая ценность работы состоит в том, что:

1. Создан форвакуумный плазменный источник электронов, обеспечивающий при давлении 5-20 Па генерацию широкоапертурного импульсного электронного пучка микросекундного диапазона длительностей с плотностью энергии пучка в импульсе, достигающей 10 Дж/см2.

2. Существенно расширен диапазон возможных технологических применений плазменных электронных источников, в частности, показана возможность использования разработанного устройства для импульсной электронно-лучевой обработки поверхности высокотемпературных диэлектриков.

3. Полученные в работе результаты могут быть использованы в других устройствах, имеющих аналогичные разрядные структуры и функционирующих в области повышенных давлений, а именно: в ионно-плазменных напылительных установках, генераторах низкотемпературной плазмы, источниках ионов.

Содержание диссертации.

Диссертация состоит из введения, четырех глав и заключения.

Заключение диссертации по теме «Физическая электроника», Медовник, Александр Владимирович

Основные результаты диссертационной работы заключаются в следующем:

1. Установлено, что в импульсном режиме функционирования > форвакуумного плазменного источника электронов; процесс инициирования основного разряда с полым катодом, так же как в непрерывном режиме, стимулируется ионным потоком из плазмы стационарного слаботочного высоковольтного тлеющего разряда, возникающего в ускоряющем промежутке при повышенных давлениях. Особенность импульсного режима состоит в том, что время запаздывания зажигания плазмообразующего разряда существенно снижается с ростом ускоряющего, напряжения-, определяющего установившиеся значение тока высоковольтного- тлеющего разряда в ускоряющем промежутке, а, следовательно, и величину тока инициирующих ионов.

2. Определено, что. в процессе генерации импульсного электронного пучка форвакуумным плазменным источником электронов предельные' параметры пучка: ток, плотность тока, длительность импульса и энергия в значительной степени определяются обратным потоком ионов из пучковой плазмы, образующейся в области, непосредственно прилегающей к ускоряющему промежутку со стороны пространства дрейфа электронного пучка. При этом величина обратного ионного потока может достигать 5-НО % от тока пучка что, как минимум, на порядок больше, чем в источниках

О 1 электронов функционирующих в традиционной области давлений (10"" - 10 Па).

3. Естественным ограничением, тока пучка плазменных источников электронов на основе тлеющего разряда является переход разряда в дуговую форму. Однако для форвакуумных источников электронов с тлеющим разрядом раньше этого наступает пробой ускоряющего промежутка. Причем в импульсном режиме работы «плазменный» тип пробоя оказывается доминирующим.

4. Показано, что при обработке форвакуумным плазменным источником электронов изолированной мишени практически полная нейтрализация наводимого на поверхность мишени отрицательного заряда электронного пучка обеспечивается главным образом ионным потоком; состоящим, в свою очередь, из ионов пучковой плазмы, а также ионов» несамостоятельного разряда, возникающего между мишенью и заземленными стенками вакуумной камеры.

5. В результате проведенных исследований создан форвакуумный плазменный источник электронов, который обеспечивает при давлении 5-20 Па генерацию широкоапертурного импульсного электронного пучка с током до 120 А с энергией электронов до 20 кэВ и длительностью импульса до 200 мкс. Достигнутая в плазменном источнике плотность энергии электронного пучка в импульсе до 10 Дж/см достаточна для эффективной модификации поверхностных свойств проводящих и непроводящих материалов.

Достоверность и обоснованность результатов работы подтверждается систематическим характером исследований, использованием различных экспериментальных методик, сопоставлением экспериментальных результатов и численных оценок, а также практической реализацией научных положений и выводов при создании источников электронов.

Материалы диссертационной работы опубликованы в статьях [86, 89, 90, 92], в сборниках докладов международных конференций [81-83; 85, 87, 91], в трудах конференций Всероссийского и регионального масштабов [84, 88].

Результаты работ докладывались и обсуждались на 16-м Международном симпозиуме по сильноточной электронике (Томск, Россия, 2010 г.), на 10-й Международной конференции по плазме газового разряда и её применению (Томск, Россия, 2007 г.), на 9-й международной конференции по электронно-лучевым технологиям (ЕВТ'09) (Варна, Болгария, 2009г.), на 7-й международной конференции студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» (Томск, 2010 г.), на 13-й и 14-й Международных конференциях студентов, аспирантов и молодых ученых "Современная техника и технологии" (Томск, 2007 г., 2008 г.), на Всероссийской научно-технической конференция студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУ СУР» (Томск, 2009 г., 2010 г.).

Работы по данной тематике поддержаны грантами РФФИ (08-08-12005, 09-08-00147, 09-08-99023, 10-08-00257), а также грантом Минобрнауки по программе «Развитие научного потенциала высшей школы» (2.1.2/195 К).

Созданный на основе проведенных исследований импульсный источник электронов с плазменным катодом используется на кафедре физики ТУСУРа для проведения исследований и выполнения хоздоговоров и контрактов.

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Обсуждение задач исследований, методов их решения и результатов анализа экспериментальных данных проводилось совместно с соавторами, фамилии которых указаны в опубликованных по теме диссертации работах. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых разработана конструкция импульсного источника электронов. Окончательная редакция защищаемых научных положений и выводов по работе осуществлялась совместно с научным руководителем при активном творческом участии соискателя.

В заключение автор искренне благодарит своего научного руководителя д.т.н., профессора Е.М. Окса и научного консультанта д.т.н., профессора В.А. Бурдовицина, взявших на себя кропотливую работу по формированию личности автора как исследователя и человека, к.т.н., доцента Ю.А. Бурачевского за помощь в проведении экспериментов и ценные замечания. Автор признателен сотрудникам лаборатории НИЧ кафедры физики ТУ СУР за проявленный интерес и поддержку работы.

Заключение

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Медовник, Александр Владимирович, 2010 год

1. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат. - 1977. - 144 с.

2. Плазменные процессы в технологических электронных пушках / М.А. Завьялов, Ю.Е. Крейндель, А.А. Новиков, Л.П. Шантурин. М.: Энергоатомиздат, 1989. - 256 с.

3. Источники электронов с плазменным эмиттером / Сборник статей под редакцией профессора Ю.Е. Крейнделя. Новосибирск: Наука. - 1983. — 120 с.

4. Источники заряженных частиц с плазменным эмиттером/ Сборник статей под редакцией профессора П.М. Щанина. Екатеринбург: Наука.-1993.-152 с.

5. Известия ВУЗов «Физика» / Тематический выпуск «Плазменная эмиссионная электроника» / под редакцией профессора П.М. Щанина. 2001. - Т. 44., вып. 9. - 96 с.

6. Oks Е.М. Physics and technique of plasma electron sources // Plasma Sources Sci. Technol. 1992. - V. 1. - P. 249-255.

7. Oks E.M. Development of plasma cathode electron guns / E.M. Oks, P.M. Schanin // Physics of Plasmas. 1999. - V. 7, No. 5. - P.1649-1654.

8. Broad beam electron guns with plasma cathodes / N.N. Koval, E.M. Oks, Yu.E. Kreindel, P.M. Schanin and N.V. Gavrilov // Nucl. Instrum. Mathods in Phys. Research. 1992. - V. A312. - P.417-428.

9. Current Status of the Plasma Emission Electronics: I. Basic Physical Processes / V.I. Gushenets, E.M. Oks, G.Yu. Yushkov, N.G. Rempe // Laser and Particle Beams. 2003. -V. 21, No. 2. - P. 123-138.

10. Бугаев С.П. Электронные пучки большого сечения / С.П.Бугаев, Ю.Е. Крейндель, П.М. Щанин. -М.: Энергоатомиздат, 1984. 112 с.

11. ОксЕ.М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск: Издательство HTJI, 2005. - 216 с.

12. I Всесоюзное совещание по плазменной эмиссионной электронике. Сборник докладов^ Улан-Удэ, Бурятский научный центр СО РАН, 1991.-152 с.

13. Труды II международного крейделевского семинара «Плазменная эмиссионная электроника». Улан-Удэ, Россия, июнь 2006.

14. Труды III международного крейделевского семинара «Плазменная эмиссионная электроника». Улан-Удэ, Россия, июнь 2009.

15. Бурдовицин В.А. Плазменные источники электронов на основе разряда с полым катодом для генерации непрерывных пучков в форвакуумном диапазоне давлений. Дисс. докт. техн. наук. Томск, ТУ СУР, 2005.

16. Федоров М.В. Плазменный источник электронов для генерации пучка ленточной конфигурации в форвакуумном диапазоне давлений. Дисс. канд.техн. наук. Томск, ТУ СУР, 2005.

17. Жирков И.С. Плазменный источник электронов для генерации сфокусированных непрерывных электронных пучков в форвакуумной области давлений. Дисс. канд. техн. наук. — Томск, ТУ СУР, 2008.

18. Климов A.C. Форвакуумный плазменный источник ленточного электронного пучка с повышенной плотностью тока на основе разряда с протяженным полым катодом. Дисс. канд. техн. наук. Томск, ТУ СУР, 2009.

19. Назаров Д.С. Генерация низкоэнергетичных сильноточных электронных пучков в пушке с плазменным анодом / Д.С. Назаров, Г.Е. Озур, Д.И. Проскуровский // Известия ВУЗов. Физика. 1994. - № 3. - С. 100-114.

20. Production and application of low-energy, high-current electron beams / G.E. Ozur, D.I. Proskurovsky, V.P. Rotshtein, A.B. Markov // Laser & Particle Beams.-2003.-V. .21, No. 2.-P. 157-173.

21. Озур Г.Е. Источник широкоапертурных низкоэнергетических сильноточных электронных пучков с плазменным анодом на основе отражательного^ разряда / Г.Е. Озур, Д.И. Проскуровский, К.В. Карлик // Приборы и техника эксперимента. — 2005. — № 6. С. 58-65.

22. О движении эмиссионной границы катодной плазмы, поперек однородного магнитного поля в диодах со взрывной эмиссией / С.П: Бугаев,, А.А. Ким, В.И: Кошелев, П.А. Хряпов // Известия АН СССР, Серия физическая. 1982. - Т. 46, № 7. - С. 1300-1305.

23. A.C. Greenwald, A.R. Kirkpatrick, R.G. Little, J.A. Minnucci // J. Appl. Phys. -1979.-V. 50, No. 2.-P. 783-787. •

24. Об использовании электронных пучков для отжига, полупроводников / Н:С. Лидоренко, Г.А. Месяц, С.В. Рябиков,

25. B.Д. Бондаренко, А.К. Зайцева, Н.И. Лебедева, А.А. Полисан, В.Г. Шпак // Журнал технической физики. 1981. -Т. 51, № 6. - С. 1303-1305.

26. Назаров Д.С. Источник плотных импульсных электронных пучков с энергиями электронов до 40 кэВ / Д.С. Назаров, Г.Е. Озур, Д.И. Проскуровский // Приборы и техника эксперимента. 1996. — № 4. - С. 83-88.

27. Получение плотных электронных пучков в пушке с плазменным, анодом на основе отражательного разряда / Г.Е. Озур, Д.И. Проскуровский,

28. Д.С. Назаров, K.B. Карлик // Письма в Журнал технической физики. 1997. -Т. 23, № 10.-С. 42-46.

29. Озур Г.Е. Формирование субмикросекундных низкоэнергетичных сильноточных электронных пучков с плазменным анодом / Г.Е. Озур, Д.И. Проскуровский // Письма в Журнал технической физики. 1988. - Т. 14, №5.-С. 413-416.

30. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. I. / A.B. Жаринов, Ю.А. Коваленко, И.С. Роганов, П.М. Терюканов // Журнал технической физики. 1986. - Т. 56, № 1. - С. 66-71.

31. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. II. / A.B. Жаринов, Ю.А. Коваленко, И.С. Роганов, П.М. Терюканов // Журнал технической физики. 1986. - Т. 56, № 4. - С. 687-693.

32. Высоковольтный электронный источник с плазменным эмиттером для формирования пучков большого сечения / Н.В. Гаврилов, Б.М. Ковальчук, Ю.Е. Крейндель, B.C. Толкачев, П.М. Щанин // Приборы и техника эксперимента. 1981. -№ 3. - С. 152-154.

33. Электронная пушка непрерывного действия с плазменным катодом большой площади / Ю.Е. Крейндель, В .Я. Мартене, В.Я. Съедин, C.B. Гавринцев // Приборы и техника эксперимента. 1982. - № 4. - С. 178— 180.

34. ОксЕ.М. Высоковольтный источник электронов с плазменным катодом и высокой плотностью энергии пучка в импульсе / Е.М. Оке, П.М. Щанин // Приборы и техника эксперимента. 1988. - № 3. - С. 166-169.

35. Плазменный катод электронного ускорителя с большим сечением пучка / Н.В. Гаврилов, В.В. Осипов, O.A. Бурев, Д.Р. Емлин, A.C. Каменецких, В.А. Шитов // Письма в Журнал технической физики. -2005. Т. 31, № 3. - С. 72-78.

36. Девятков В.Н. Электронный газонаполненный диод на основе тлеющего разряда/ В.Н. Девятков, H.H. Коваль, П.М. Щанин// Журнал технической физики. 2001. - Т. 75, №. 5. - С. 20-24.

37. Установка для обработки поверхности металлов электронным пучком / Н.Н. Коваль, В.Н. Девятков, П.М. Щанин, B.C. Толкачев, Л.Г. Винтизенко // Приборы и техника эксперимента. — 2005. — №1. — С. 135— 140.

38. Девятков В.Н. Генерация и транспортировка сильноточных низкоэнергетичных электронных пучков в системе с газонаполненным диодом / В.Н. Девятков, Н.Н. Коваль, П.М. Щанин // Журнал технической физики. 1998. - Т. 68, №. 1. - С. 44-48.

39. Источник электронов с плазменным катодом для генерации сфокусированного пучка в форвакуумном диапазоне давлений /

40. B.А. Бурдовицин, И.С. Жирков, Е.М. Оке и др. // Приборы и техникаэксперимента. 2005. - № 6. - С. 66-68.

41. Электронный источник с плазменным катодом для генерации ленточного пучка в форвакуумном диапазоне давлений / В.А. Бурдовицин, Ю.А. Бурачевский, Е.М. Оке, М.В. Федоров // Приборы и техника, эксперимента. 2003. - №2. - С. 127 - 129.

42. Крейндель Ю.Е. Импульсный источник электронов с плазменным эмиттером на основе каскадной дуги / Ю.Е. Крейндель, Е.М. Оке, П.М. Щанин // Приборы и техника эксперимента: 1984. - № 4. —1. C. 127-130.

43. Гушенец В.И. Сильноточный электронный ускоритель с плазменным катодом /. В.И. Гушенец, Н.Н. Коваль, П.М. Щанин // Сильноточная электроника: Материалы VI Всесоюзного симп. — Томск, Институт сильноточной электроники СО РАН. 1986. - часть 2. - С. 112

44. Генерация в инертных газах при накачке электронным пучком ускорителя с плазменным катодом / Л.Г. Винтизенко, В.И. Гушенец, H.H. Коваль, Г.А. Месяц// Доклады АН СССР. 1986. - Т. 288, № 3. - С. 609-612.

45. Генерация электронных пучков в форвакуумной области давлений / Ю.А. Бурачевский, В.А. Бурдовицин, М.Н. Куземченко,

46. A.B. Мытников, Е.М. Оке // Известия ВУЗов. Физика. 2001. - №9,- С. 8589.

47. Мытников A.B. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений / A.B. Мытников, Е.М. Оке, A.A. Чагин // Приборы и техника эксперимента. 1998. - № 2. - С. 95-98.

48. Разработка и возможные применения плазменной электронной пушки в области повышенных давлений / Ю.А. Бурачевский,

49. B.А. Бурдовицин, И.С. Жирков, Е.М. Оке, М.В. Федоров // Материалы Международной Научно-Практической конференции "Электронные средства и системы управления". Томск, Россия. 2004. - С. 175-177.

50. Источники электронов с плазменным эмиттером на основе отражательного разряда с полым катодом / B.JI. Галанский, В.А. Груздев, И.В. Осипов, Н.Г. Ремпе // Известия ВУЗов. Физика. 1992. - Т. 35, № 5. - С. 5-23.

51. Бурдовицин В.А. Куземченко М.Н., Оке Е.М. Плазменный электронный источник. Патент Российской Федерации №2215383.

52. Бурдовицин В.А. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений / В.А. Бурдовицин, М.Н. Куземченко, Е.М. Оке // Журнал технической физики. — 2002. Т. 72, № 7. — С. 134—136.

53. Особенности формирования однородного ленточного пучка электронов плазменным источником в форвакуумной области давлений/

54. В.А. Бурдовицин, Ю.А. Бурачевский, Е.М. Оке, М.В. Федоров // Журнал технической физики. 2004. - Т. 74, № 1. - С. 104-107.

55. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом / И.С. Жирков, В.А. Бурдовицин, Е.М; Оке, И.В. Осипов // Журнал технической физики. 2006. - Т. 76, № 10. - С 128-131.

56. Таблицы физических величин. Справочник / Под редакцией И.К. Кикоина. М.: Атомиздат. 1976. - 1008 с.

57. О предельном рабочем давлении плазменного источника, электронов на основе разряда с полым катодом / Ю.А. Бурачевский, В.А. Бурдовицин, А.В. Мытников, Е.М. Оке // Журнал технической физики. -2001. Т. 71, № 2. - С. 48-50.

58. Бурдовицин В.А. О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений / В.А. Бурдовицин, А.С. Климов, Е.М. Оке // Письма в Журнал технической физики. 2009. - Т. 35, № 11. - С. 61-66.

59. LampsonA.I. A plasma diode electron-beam for low-density flow visualization // AJAA, pap. 1977. - No 322. - P. 1-8.

60. Кармикаэль К.Г.Г. Электронная пушка на газовом разряде для получения субмикросекундных импульсов электронов высокой энергии/ К.Г.Г. Кармикаэль, Р.К. Гарнсуорси, Л.Е.С. Матиас // Приборы для научных исследований. 1973. - № 6. - С. 30-35.

61. Pulsed atmospheric-pressure carbon-deoxide laser initiated by a cold-cathode glow discharge electron gun / A. Crocker, H. Foster, H.M. Rampson, J.H. Holliday // Electronics Lett. 1972. - V. 8, No 18. - P. 460-461.

62. Isaacs G.G. A cold-cathode glow discharge electron gun for high-pressure C02 laser ionization / G.G. Isaacs, D.L. Jordan, P.Y. Dooley // J. Phys. and Sci. Instrum. 1979. -V. 12. - P. 115-118.

63. Pigache D. A secondary emission, electron gun for high pressure gas lasers and plasma chemical reactions / D. Pigache, Y. Bonnet, G. Tomier // Proc. Intern. Conf. on phenom. in ionized gases. Minsk. 1981. - P. 865-866.

64. Корнилов С.Ю. Получение остросфокусированных пучков в электронных пушках с плазменным катодом / С.Ю. Корнилов, И.В. Осипов, Н.Г. Ремпе // Приборы и техника эксперимента. — 2009. — № 3. — С. 104-109.

65. OlcsE.M. Ion beam noise reduction method for the MEVVA ion source / E.M. Oks, P. Spadtke, H. Emig, B.H. Wolf //Review of Scientific Instruments. 1994. - V. 65, № 10. - C. 3109-3112.

66. Бугаев С.П. Источник газовых и металлических ионов на основе контрагированного разряда и вакуумной дуги / С.П. Бугаев, Е.М. Оке, П.М. Щанин, Г.Ю. Юшков // Известия ВУЗов. Физика. 1994. - Т. 37, № 3. С. 53-66.

67. Королев Ю.Д. Физика импульсного пробоя в газах / Ю.Д. Королев, Г.А. Месяц. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1991. - 224 с.

68. Капцов Н.А. Электроника. М.: ГИТТЛ, 1956. - 241 с.

69. РайзерЮ.П. Физика газового разряда: Учебное руководство. -М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1987. 592 с.

70. Крейндель М.Ю. Параметры плазмы в отражательном разряде с полым катодом/ М.Ю. Крейндель, И.В. Осипов, Н.Г. Ремпе // Журнал технической физики. 1992. - Т. 62, № 10. - С. 165-169.

71. Бычков Ю.И. Инжекционная газовая электроника / Ю.И. Бычков, Ю.Д. Королев, Г.А. Месяц и др. Новосибирск: Наука, 1982. - 240 с.

72. Справочник: таблицы физических величин/ под редакцией И.К. Кикоина. -М.: Атомиздат. 1976. - 1008 с.

73. Grigoryev S.V. Investigation of Emission Increasing Effect at the Generation of Low-Energy Sub-Millisecond Electron Beam in the Diode with a

74. Plasma Cathode / S.V. Grigoiyev, N.N. Koval, V.N. Devjatkov, A.D. Teresov, P.M. Schanin// Proc. Of 15th Int. Symp. On High Current Electronics. Tomsk. Russia.-2008.-P. 29-32.

75. Груздев В.А. Влияние ионизации газа в высоковольтном промежутке с плазменным катодом на положение эмитирующей поверхности плазмы / В.А. Груздев, Ю.Е. Крейндель, Ю.И. Ларин // Журнал технической физики. 1973.-Т. 43, № 11.-С. 2318-2323.

76. Незлин М.В. Динамика пучков в плазме. М.: - Энергоиздат. —1982.

77. Оке Е.М. Основы физики низкотемпературной плазмы. — ТУСУР.: Издательство Ротапринт, 1997. 87 с.

78. Зельдович Я.Б. Элементы математической физики. Наука / Я.Б. Зельдович, А.Д. Мышкис. М, 1973. - 351 с.

79. Коваль H.H. Наноструктурирование поверхности металлокерамических и керамических . материалов при импульсной электронно-пучковой обработке / H.H. Коваль, Ю.Ф. Иванов // Известия ВУЗов. Физика. 2008. - Т 51,№ 5. - С. 60-70.

80. Бурдовицин В.А. Параметры "плазменного листа", генерируемого ленточным электронным пучком в форвакуумной области давлений /

81. B.А. Бурдовицин, Е.М. Оке, М.В. Федоров // Известия ВУЗов. Физика. -2004.-№3.-С. 74-77.

82. Григорьев C.B., Эффект усиления эмиссии при генерации низкоэнергетического субмиллисекундного электронного пучка в диоде с сеточным плазменным катодом и открытой границей анодной плазмы/

83. C.B. Григорьев, В.Н. Девятков, H.H. Коваль, А.Д. Тересов //Письма в Журнал технической физики. 2010. - Т. 36, № 4. — С. 23-31.

84. Гаврилов Н.В. 250-кВ диод с ионно-электронной эмиссией, возбуждаемой импульсной контрагированной дугой / Н.В. Гаврилов, Ю.Е. Крейндель, П.М. Щанин // Журнал технической физики. 1985. - Т. 55, №9.-С. 1845-1857.

85. Medovnik A.V. Initial Stage of Discharge Development in Fore-Vacuum Plasma Electron Source / A.V. Medovnik, V.I. Gushenets, E.M. Oks, V.A. Burdovitsin // Известия ВУЗов. Физика. 2007. - №9. Приложение. - С. 202-205.

86. Медовник А.В. Формирование импульсного электронного пучка в системе с плазменным катодом в форвакуумной области давлений / А.В. Медовник, В.А. Бурдовицин, Е.М. Оке // Известия ВУЗов. Физика. -2010. -Т 53, № 2 С. 27-32.

87. Медовник А.В. Электронно-лучевая обработка керамики / А.В. Медовник, В.А. Бурдовицин, А.С. Климов, Е.М. Оке // Физика и химия обработки материалов. 2010. - № 3. - С. 39-44.

88. MedovnikA.V. Fore-Vacuum Pulsed Plasma Electron Source/ A.V. Medovnik, E.M. Oks, Yu.G. Yushkov// Proc. Of 16th Int. Symp. On High Current Electronics. Tomsk. Russia. 2010. - P. 23 - 25.