Плазменный источник электронов для генерации сфокусированных непрерывных электронных пучков в форвакуумной области давлений тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.04, кандидат технических наук Жирков, Игорь Сергеевич

• Жирков, Игорь Сергеевич
• кандидат технических наук
• 2008

Оглавление диссертации кандидат технических наук Жирков, Игорь Сергеевич

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ГЕНЕРАЦИЯ СФОКУСИРОВАННЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ НА ОСНОВЕ СИСТЕМ С ПЛАЗМЕННЫМ КАТОДОМ, ФУНКЦИОНИРУЮЩИХ В ОБЛАСТИ ПОВЫШЕННЫХ ДАВЛЕНИЙ ГАЗА.

1.1. Инициирование разряда низкого давления с полым катодом.

1.2. Формирование эмиссионной границы плазмы в источниках с высокой плотностью электронного тока.

1.3. Формирование узкосфокусированных пучков.

1.4. Источники электронов с плазменным катодом для генерации сфокусированных пучков при повышенных давлениях.

1.5. Выводы и постановка задач исследования.

ГЛАВА 2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНОЕ ОБОРУДОВАНИЕ И МЕТОДИКИ ИССЛЕДОВАНИЙ

2.¡.Экспериментальный макет форвакуумного плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом.

2.2.Диагностика параметров электронного пучка и пучковой плазмы.

2.3.Особенности инициирования разряда в плазменном источнике электронов в области повышенных рабочих давлений.

2.4.Выводы.

ГЛАВА 3. ЭМИССИЯ ЭЛЕКТРОНОВ ИЗ ПЛАЗМЫ И ГЕНЕРАЦИЯ СФОКУСИРОВАННЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ В ФОРВАКУУМНОЙ

ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ.

3.1.Особенности формирования эмиссионной границы плазмы.

3.2.Влияние аксиально-симметричного магнитного поля на отбор электронов и электрическую прочность в ускоряющем промежутке.

3.3.Особенности генерации электронных пучков с высокой плотностью тока в форвакуумном диапазоне давлений.

3.4.Процессы, сопровождающие транспортировку электронного пучка.

3.5.Вывод ы.

ГЛАВА 4. ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ СФОКУСИРОВАННОГО ПУЧКА В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ.

4.1 .Конструктивные особенности электронного источника.

4.2.Тепловой режим электродной системы плазменного источника электронов.86 4.3.Эксплуатационные параметры и характеристики источников.

4.4.Некоторые применения источника.

4.5.Выводы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Плазменный источник электронов для генерации сфокусированных непрерывных электронных пучков в форвакуумной области давлений»

Способность источников электронов с плазменным катодом сохранять работоспособность в области повышенных давлений, а также в присутствии химически агрессивных сред, не только делает предпочтительным их использование в электронно-лучевых технологиях модификации поверхностных свойств материалов, но и значительно расширяет область применения электронных пучков. Одним из наиболее перспективных направлений развития источников электронов такого типа является «прорыв» в так называемую форвакуумную область давлений (порядка 1-15 Па), достигаемой при использовании лишь механических средств откачки. В проведенных ранее исследованиях была показана принципиальная возможность получения ускоренных электронных пучков в форвакуумной области давлений. В результате было создано несколько разновидностей форвакуумных плазменных источников электронов, обеспечивающих генерацию непрерывных пучков цилиндрической и ленточной конфигураций.

Ряд принципиальных технологических применений электронных пучков требует существенного повышения в форвакуумной области давлений удельных параметров воздействия электронов, например плотности мощности электронного пучка. Такая задача может быть, очевидно, решена в результате повышения плотности эмиссионного тока электронного пучка и его последующей фокусировки. По аналогии с плазменными источниками сфокусированных электронных пучков, функционирующими в традиционной области давлений (менее 0.1 Па), и для форвакуумной области принципиальным является ограничение размеров эмиссионной поверхности плазмы до минимально возможных значений. В предельном случае отбор электронов осуществляется из одиночного эмиссионного отверстия (канала). В форвакуумной области давлений при генерации сфокусированных электронных пучков следует ожидать проявления особенностей образования плазменной эмиссионной границы, отбора и ускорения электронов, формирования электронного пучка и его фокусировки, а также транспортировки пучка. Очевидно также, что достижение более высокой плотности мощности электронного пучка не может не влиять на электрическую прочность ускоряющего промежутка.

Таким образом, тематика диссертационной работы, посвященная исследованию особенностей генерации в форвакуумном плазменном источнике электронов сфокусированных электронных пучков, представляется, несомненно, актуальной.

Цель работы состояла в проведении комплекса исследований эмиссионных свойств плазмы, создаваемой в тлеющем разряде с полым катодом в форвакуумной области давлений, и рассмотрении особенностей генерации электронного пучка с высокой плотностью мощности. В задачу работы входило также создание на основе проведенных исследований плазменного источника электронов, способного генерировать в ранее недоступном форвакуумном диапазоне давлений сфокусированный электронный пучок с плотностью мощности не менее 50 кВт/см , достаточной для проведения процессов поверхностной обработки, плавки и испарения ряда материалов.

Научная новизна работы заключается в том, что впервые:

1. Продемонстрирована возможность использования слаботочного высоковольтного тлеющего разряда, возникающего в ускоряющем промежутке форвакуумного плазменного источника электронов для инициирования основного разряда с полым катодом. Установлены основные закономерности и выявлены особенности инициирования, а также определены параметры, оказывающие влияние на эффективность инициирования.

2. Установлено положительное влияние продольного магнитного поля в ускоряющем промежутке на устойчивость функционирования и стабильность параметров форвакуумного плазменного источника электронов, а также на возможность увеличения мощности электронного пучка и повышения предельного рабочего давления источника.

3. Детально исследованы процессы формирования и транспортировки сфокусированного электронного пучка в форвакуумной области давлений. Описаны условия возникновения пучково-плазменного разряда в фокальной плоскости пучка, показано отрицательное влияние этого разряда на минимально достижимый диаметр пучка.

4. Показано, что в форвакуумном диапазоне давлений существуют ограничения, накладываемые на протяженность и диаметр эмиссионного канала, обусловленные снижением эффективности извлечения электронов и нарушением электрической прочности ускоряющего промежутка за счет порогового возрастания ионизационных процессов непосредственно в эмиссионном канале.

Научная и практическая ценность работы состоит в том, что:

1. Создан плазменный источник электронов, обеспечивающий в форвакуумной области давлений (1-15 Па) генерацию электронных пучков с током до 300 мА, энергией до 25кВ и плотностью мощности до 50 кВт/см2.

2. Существенно расширен диапазон возможных технологических применений плазменных электронных источников, в частности показана возможность использования разработанного устройства для инициирования плазмохи-мических реакций между парами обрабатываемых металлов и напускаемым в рабочий объем реактивным газом.

3. Полученные в работе результаты могут быть использованы в других устройствах, имеющих аналогичные разрядные структуры и функционирующих в области повышенных давлений, а именно: ионно-плазменных напы-лительных установках, генераторах низкотемпературной плазмы, плазменных источниках ионов.

Содержание диссертации.

Диссертация состоит из введения, четырех глав и заключения.

Заключение диссертации по теме «Физическая электроника», Жирков, Игорь Сергеевич

Основные результаты диссертационной работы заключаются в следующем:

1. Определены основные закономерности и выявлены особенности инициирования разряда с полым катодом в плазменном источнике электронов, функционирующем в форвакуумной области давлений (1-15 Па). Показано, что возникающий в ускоряющем промежутке слаботочный высоковольтный тлеющий разряд может быть использован для эффективного инициирования основного разряда с полым катодом. Повышение ускоряющего напряжения, увеличение диаметра эмиссионного отверстия, а также рост давления газа и выбор рабочего газа, с большим коэффициентом вторичной ион-электронной эмиссии относительно материала катода, способствует данному способу инициирования.

2. Установлено положительное влияние продольного магнитного поля в ускоряющем промежутке на устойчивость функционирования и стабильность параметров форвакуумного плазменного источника электронов. На основании комплексных исследований процессов в ускоряющем промежутке показано что, в форвакуумной области давлений при отборе электронов из плазмы через одиночное эмиссионное отверстие, наложение продольного магнитного поля в области формирования и ускорения электронного пучка плазменного источника обеспечивает устойчивость границы приникающей в ускоряющий промежуток плазмы и ограничивает ее площадь. Это позволяет не только существенно повысить стабильность работы плазменного источника электронов в условиях существенного влияния на эмиссионные свойства плазмы обратного потока ионов, но и увеличить параметры электронного пучка, а также повысить предельное рабочее давление.

3. Показано, что в форвакуумном диапазоне давлений при отборе электронов из плазмы через одиночный эмиссионный канал, увеличение диаметра канала с целью обеспечения большей площади эмиссионной поверхности плазмы, а, следовательно, и большего тока пучка, возможно лишь при соответствующем удлинении канала. Однако такой способ повышения тока пучка имеет свои ограничения, обусловленные снижением эффективности извлечения электронов и нарушением электрической прочности ускоряющего промежутка за счет порогового возрастания ионизационных процессов непосредственно в эмиссионном канале.

4. Детально исследованы процессы формирования и транспортировки сфокусированного электронного пучка в форвакуумной области давлений. Описаны условия возникновения пучково-плазменного разряда в фокальной плоскости пучка, показано отрицательное влияние пучково-плазменного разряда, на минимально достижимый диаметр пучка. Показано, что возникновение, при превышении некоторого порогового значения плотности тока, пучково-плазменного разряда в фокальной плоскости пучка и соответствующее расширение энергетического спектра электронов приводит к их дополнительному рассеянию, что, в конечном счете, обуславливает возрастание диаметра пучка и, соответственно, снижение плотности его мощности. Способами подавления пучково-плазменного разряда являются повышение ускоряющего напряжения или увеличение давления рабочего газа, однако, эти возможности ограничиваются нарушением электрической прочности ускоряющего промежутка.

5. На основании проведенных исследований разработан плазменный источник электронов на основе разряда с полым катодом обеспечивающий при давлениях газа 1-15 Па генерацию сфокусированного аксиально-симметричного непрерывного электронного пучка током до 300 мА, энергией до 25кВ и плотностью мощности до 50 кВт/см2.

Достоверность и обоснованность результатов диссертационной работы подтверждается систематическим характером исследований, удовлетворительным совпадением экспериментальных и расчетных зависимостей и величин, использованием независимых дублирующих экспериментальных и расчетных методик, практической реализацией научных положений и выводов в конкретных разработках, используемых как в нашей стране, так и за рубежом.

Материалы диссертационной работы опубликованы в статьях [70, 72, 77, 79, 104, 106,107, 109], а также в трудах международных и отечественных конференций, симпозиумов и совещаний [71, 82, 85-88, 103, 105, 108, 110-113]. Одно из технических решений, положенное в основу созданных плазменных электронных источников, защищено патентом [83].

Результаты работ докладывались и обсуждались на XIII и XIV международном симпозиуме по сильноточной электронике (Томск, Россия, 2004 г. и 2006 г.), на 8 международной конференции по электронно-лучевым технологиям (Варна, Болгария, 2006), на международной конференции IEEE по физике плазмы и ее применениям ICOPS (Монтерей, США, 2005), на 34 международной конференции по физике плазмы (ЗР61, 2007, New Mexico, USA), на 10 международной конференции по плазме газового разряда и её применению (Томск, Россия, 2007 г.), на трех международных научно-практических конференций «Электронные средства и системы управления» (Томск, Россия,

2004г., 2005г. и 2007г.), на четвертой международной научно-практической конференции «Электронные средства и системы управления. Опыт инновационного развития» (Томск, Россия, 2007 г.) на 13-ой международной конференции студентов аспирантов и молодых ученых "Современная техника и технологии" (Томск, 2007 г.).

Созданные на основе проведенных исследований источники электронов с плазменным катодом используются на кафедре физики ТУСУР для проведения исследований и выполнения хоздоговоров и контрактов. Один из созданных плазменных источников электронного пучка поставлен в Болгарию, Институт электроники Болгарской Академии Наук, г. София, где он успешно применяется в исследованиях по осаждению покрытий полученных плазмохимическим способом. Другой источник поставлен в Израиль, Институт Технологий, г. Хайфа, для проведения исследований по испарению тугоплавких металлов. Результаты диссертационной работы, опубликованные в печати, использовались в лаборатории плазменных источников Института Сильноточной Электроники СО РАН.

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Обсуждение задач исследований, методов их решения и результатов анализа экспериментальных данных проводилось совместно с соавторами, фамилии которых указаны в опубликованных по теме диссертации работах. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых им было разработано две конструкции источников остросфокусированного электронного пучка. Окончательная редакция защищаемых научных положений и выводов по работе осуществлялась совместно с научными руководителями при активном творческом участии соискателя.

В заключение автор искренне благодарит своего научного руководителя д.т.н., профессора Е.М. Окса и научного консультанта д.т.н., профессора В.А. Бурдовицина, взявших на себя кропотливую работу по формированию личности автора как исследователя и человека, к.т.н., доцента Ю.А. Бурачевского за помощь в проведении экспериментов и ценные замечания. Автор признателен сотрудникам лаборатории НИЧ кафедры физики ТУСУР за проявленный интерес и поддержку работы.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Жирков, Игорь Сергеевич, 2008 год

1. Глазунов В.Н., Метель A.C. Инверсия катодной полости тлеющего разряда в магнитном поле. ЖТФ, 1981. Т. 51, № 5. С. 932 939.

2. Бурдовидин В.А., Репин М.Ф. Ионный поток, формируемый разрядом с полым катодом. Тезисы докл. VII Всесоюзного симпозиума по сильноточной электронике. 4.1. Томск, 1988, с.110-112.

3. Райзер Ю.П. Физика газового разряда: учебное руководство.-М.:Наука.Гл.ред.физ,-мат. Лит., 1987.592 с.4.3авьялов М.А., Крейндель Ю.Е., Новиков A.A., Шантурин Л.П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М. Энергоатомиздат. 1989. 256 с.

4. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат, 1977.

5. Метель A.C. Расширение рабочего диапазона давлений тлеющего разряда с полым катодом. ЖТФ. 1984. Т. 54. Вып. 2. С. 241 247.

6. Груздев В.А., Крейндель Ю.Е., Ремпе Н.Г., Троян O.E. Электронная пушка с плазменным эмиттером. Приборы и техника эксперимента. 1985. № 1, С. 140- 142.

7. Гаврилов Н.В., Каменецких A.C. Характеристики ионного источника с плазменным катодом и многополюсной магнитной системой удержания быстрых электронов. ЖТФ 2004 т. 74 вып. 9

8. Мартенс В.Я .Инициирование объемного разряда низкого давления в плазменном источнике электронов с ленточным пучком. ЖТФ 1999 т. 69 вып. 7

9. Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М: «Радио и связь», 1982.

10. Девятков В.Н., Коваль H.H., Щанин П.М., Электронный газонаполненный диод на основе тлеющего разряда Журнал технической физики, 2001, том 71, вып. 5, с.20-24

11. В.И. Гушенец, H.H. Коваль, B.C. Толкачев, П.М. Щанин. Эмиссионные свойства плазменного катода на основе тлеющего разряда для генерации пучка электронов наносекундной длительности Журнал технической физики, 1999, том 69, вып. 11, с. 62-65.

12. Белюк С.И., Крейндель Ю.Е., Ремпе Н.Г. Исследование возможности расширения области давлений рабочего газа плазменного источника электронов. ЖТФ, 1980, т. 50, с. 203-205.

13. Визирь A.B., Оке Е.М., Щанин П.М., Юшков Г.Ю. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных ионных источников. ЖТФ, 1997 т. 67 вып. 6

14. Крейндель Ю.Е., Мартене В.Я., Съедин В.Я. Исследование плазмы электронного эмиттера непрерывного действия с большой эмитирующей поверхностью./ Источники электронов с плазменным эмиттером. Новосибирск: Наука, 1983, с.25-33.

15. Крейндель Ю.Е., Мартене В.Я., Съедин В.Я., Гавринцев C.B. Электронная пушка непрерывного действия с плазменным катодом большой площади ПТЭ, 1982, №4, с.178-180.

16. Семенов А.П., Нархинов В.П. Плазменный эмиттер на основе тлеющего разряда в электродной структуре сетчатого и пластинчатого катодов большой площади//ПТЭ, 1996, №3, с.98-102,

17. Новиков A.A. Источники электронов высоковольтного тлеющего разряда с анодной плазмой. М.: Энергоатомиздат, 1983.

18. Абдуллин Э.Н. Исследование высоковольтной стадии вакуумного разряда для получения квазистационарных электронных пучков: Дисс. канд. физ.-мат. наук. Томск, 1983, - 128 с.

19. Удрис Я.Я., Гусева Л.Г., Чернов В.А., О некоторых свойствах высоковольтного тлеющего разряда с полым анодом. ЖТФ, 1966, XXXVI, стр. 1140.

20. Бурдовицин В.А. Плазменные источники электронов на основе разряда с полым катодом для генерации непрерывных пучков в форвакуумном диапазоне давлений: Дисс. докт. техн. наук. Томск, 2005. - 222 с.

21. Oks Е.М., Schanin P.M. Development of plasma cathode electron guns.//Physics of pi asmas. 1999, vol.7, no.5, pp. 1649-1654.

22. Галанский В.Л., Груздев B.A., Осипов И.В., Ремпе Н.Г. Источники электронов с плазменным эмиттером на основе отражательного разряда с полым катодом // Известия ВУЗов. Физика, 1992, Т. 35, № 5, с. 5-23.

23. Ремпе Н.Г. Управление параметрами электронного эмиттера с плазмой, ограниченной пристеночным ионным слоем: Диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук.-Томск,1985.-153 с.

24. Мытников А. В., Оке Е. М., Чагин A.A. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений // ПТЭ, 1998, № 2, с. 95-98.

25. Девятков В.Н., Коваль H.H., Щанин П.М., Генерация и транспортировка сильноточных низкоэнергетичных электронных пучков в системе с газонаполненным диодом Журнал технической физики, 1998, том 68, № 1, с. 44-48

26. Жаринов A.B., Коваленко Ю.А., Роганов И.С., Тюрюканов П.М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. 1 // ЖТФ, 1986, Т. 56, № 1, с. 66-71.

27. Галанский B.JL, Крейндель Ю.Е., Оке Е.М., Рипп А.Г., Щанин П.М. Эмиссионные свойства анодной плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления // ЖТФ, 1987, Т. 57, № 5, с.877-882.

28. Галанский B.JL, Крейндель Ю.Е., Оке Е.М., Рипп А.Г. Анализ эмиссионных свойств плазменного катода// ЖТФ, 1987, Т.57, № 8, с Л 518-1521.

29. Жаринов A.B., Коваленко Ю.А., Роганов И.С., Тюрюканов П.М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. 2 // ЖТФ, 1986, Т.56, № 4, с. 687-693.

30. Кириченко В.И., Ткаченко В.М., Тютюнник В.Б., Влияние геометрических размеров, материала катода и рода газа на область оптимальных давлений тлеющего разряда с полым катодом, ЖТФ т.46, выпуск 9, 1976 г.

31. Острицкий И.В., Ткаченко В.М. Исследования глубины проникновения плазмы в катодную полость тлеющего разряда с цилиндрическим полым катодом, Известия ВУЗов, Радиофизика, т.ЗЗ, 1990 г.

32. Данилишин Д. Г., Бурдовицин В. А., Бурачевский Ю. А., Оке Е. М. Распространение плазмы в эмиссионном канале анодного электрода разрядной системы плазменного источника электронов. Изв. ВУЗов Физика, 2001, №5, с. 29-32.

33. Галанский B.JL, Груздев В.А., Зеленский В.И., Осипов И.В., Ремпе Н.Г. Параметры плазмы в эмиссионном канале плазменного эмиттера. ЖТФ, 1990. Т. 60, Вып. 4. С. 168 -170.

34. Бурдовицин В.А., Бурачевский Ю.А., Мытников A.B., Оке Е.М. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом // ЖТФ, 2001, Т. 71, в. 2, с. 48-50.

35. Семенов А.П., Эмиссия ионов из разряда с полым катодом в режимепроникновения плазмы в высоковольтный ускоряющий промежуток Журнал технической физики, 2005, том 75, вып. 4, с. 42-47.

36. Физика и техника мощных импульсных систем, под ред. Е.П. Велихова. М.: Энергоатомиздат, 1980

37. Hollow cathode plasma switch with magnetic field, United States Patent, number 5132597, Jul. 21 1992

38. Proskurovsky D.I., Rotshtein V.P., Ozur G.E., et al., Pulsed electron-beam technology for surface modification of metal. Journal of Vacuum Science & Technology, 1998. Vol. A 16(4), pp.2480-2488.

39. Bakish R. Electron Beam Melting 1995 2005. Proceedings of 7th International Conference on Electron Beam Technologies. Varna, Bulgaria 2003. P. 233 -240.

40. Grechanyuk N., Kucherenko P., Osokin V., et al. New Materials, Coatings and Electron-Beam Equipment for their Production. Proceedings of 7th International Conference on Electron Beam Technologies. Varna, Bulgaria 2003. P. 258 -264.

41. Источники заряженных частиц с плазменным эмиттером. Под ред. П.М. Щанина. Екатеринбург, УИФ «Наука», 1993, 146 с.

42. Osipov I., Rempe N. A plasma-cathode electron source designed for Industrial use. Review of scientific instruments. 2000.V. 71. No. 3. p. 1 4.

43. D. von Dobeneck. Economizing Electron Beam Welding for High Volume Production. Proceedings of 7th International Conference on Electron Beam Technologies. Varna, Bulgaria 2003. P. 185 -190.

44. Оке E.M. Основы физики низкотемпературной плазмы. Томск, ТАСУР, 1997.

45. Белюк С.И., Осипов И.В., Ремпе Н.Г. Промышленное применение электронных источников с плазменным эмиттером // Известия вузов. Физика. 2001. Т. 44. № 9. С. 7.

46. Rempe N.G. Industrial Use of Plasma-Cathode Electron Guns. Proceedings of 7th International Conference on Electron Beam Technologies. Varna, Bulgaria 2003. P. 144-150.

47. Крейндель М.Ю., Осипов И.В., Ремпе Н.Г. Параметры плазмы в отражательном разряде с полым катодом // Журнал технической физики. 1992. Т. 62. № 10. С. 165-169.

48. Молоковский С.И., Сушков А.Д. Интенсивные электронные и ионные пучки. М.: Энергоатомиздат, 1991. - 303 с,

49. Груздев В.А., Крейндель Ю.Е., Ларин Ю.М. Отбор электронов из плазмы в присутствии газа в высоковольтном промежутке. Теплофизика высоких температур. 1973, т. 11, с. 482-486.

50. Алямовский И.В. Электронные пучки и электронные пушки. М: Советское радио, 1966.-456 с.

51. Абромян Е.А., Альтеркоп Б.А., Кулешов Г.Д. Интенсивные электронные пучки. -М.: Энергоатомиздат, 1983.-231 с.

52. Иванов А.А, Лейман В.И. О зажигании пучково-плазменного разряда мощным электронным пучком в газе большой плотности// Физика плазмы. 1977. Т.З, Вып.4. с.780-785.

53. W. Manheimer, R. Femsler, М. Lampe, R. Meger. Theoretical overview of the large-area plasma processing system (LAPPS). Plasma Sources Sei. & Technol., 2000, №9, c. 370386.

54. Крашенинников С. И., Никифоров В. А., Физико-химические процессы в стационарном плазменно-пучковом разряде // сб. Химия плазмы под редакцией профессора Смирнова Б. М., № 9, М.: Энергоиздат, 1982, с. 179-206.

55. Иванов А. А. Неравновесная плазма для химии // в сб. Итоги науки и техники, серия Физика Плазмы, Т. 3, с. 176-238.

56. Власенко С. И., Попович В. П., Харченко И. Ф., Формирование пучково-плазменного разряда при инжекции электронного пучка в поток газа // Физика плазмы, 1976, Т.2, № 2, с. 272-276.

57. Попович В. П., Харченко И. Ф., Шустин Е. Г. Пучково-плазменный разряд без магнитного поля// Радиотехника и электроника, 1973, Т. 18, № 3, с. 649-651.

58. Иванов А. А., Соболева Т. К., Юшманов П. Н., Перспективы использования плазменно-пучкового разряда в плазмохимии // Физика плазмы, 1977, Т.З, № 1, с. 152162.

59. Белюк С.И., Демидов В.М., Каплан A.A. Мощная электронно-лучевая сварочная пушка с плазменным эмиттером // Автоматическая сварка, 1982, № 1, с. 74-76.

60. Груздев В.А., Крейндель Ю.Е., Ремпе Н.Г., Троян O.E. Электронная пушка с плазменным эмиттером // ПТЭ, 1985, № 1, с. 140-142.

61. Ильюшенко В.В., Ремпе Н.Г. Сильноточный электронный источник с плазменным эмиттером // ПТЭ, Т. 37, № 4, с. 73-77.

62. Мытников A.B. Плазменный источник электронов на основе разряда с полым катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений: дисс.канд.техн.наук, Томск, ТУСУР, 2002.

63. Федоров М.В. Плазменный источник электронов для генерации пучка ленточной конфигурации в форвакуумном диапазоне давлений: дисс. канд. техн. наук, Томск, ТУ СУР, 2005.

64. Бурдовицин В.А., Куземченко М.Н., Оке Е.М. Плазменный электронный источник. Патент России № 2215383.

65. Жирков И.С., Федоров М.В. Осипов И.В. Бурдовицин В.А., Оке Е.М. Источник электронов с плазменным катодом для генерации сфокусированного пучка в форвакуумном диапазоне давлений. Приборы и техника эксперимента, 2005, №6, с.66-68.

66. Жирков И.С. Повышение токовой эффективности плазменного источника электронов. Материалы докладов Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР 2006», Томск, 2006, с.324 -326

67. Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Оке Е.М., О влиянии продольного магнитного поля в ускоряющем промежутке на предельные параметры плазменного источника электронов в форвакуумной области давлений Журнал технической физики, 2007, том 77, вып. 9 с. 115-119

68. Афанасьев В.П., Явор С.Я. Электростатические анализаторы для пучков заряженных частиц. М.: Наука, 1978.

69. Hughes A., McMillen J. Re-focussing of electron paths in radial electrostatic field.// Physical Review, 1929, p. 291.

70. M. Galonska, R. Hollinger and P. Spaedtke. Charge sensitive evaluation and electron energy distributions of a vacuum arc plasma.// Rev.Sci. Instrum. 2004, Vol.75., No.5, pp.l 592-1594.

71. Афанасьев В.П. Электронная и ионная спектроскопия твердых тел. Соросовский образовательный журнал//1999. №2, с. 110 116.

72. Жирков И.С. Бурдовицин В.А., Оке Е.М., Осипов И.В. Особенности формирования узкосфокусирован-ных электронных пучков, генерируемых источником с плазменным катодом в форвакуумном диапазоне давлений ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 6 с. 106-111.

73. Диагностика плазмы. Под ред. Хаддлстоуна Р. и Леонарда С. Мир. М. 1967. С. 102.

74. Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Оке Е.М., Осипов И.В. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом ЖТФ, 2006, том 76, выпуск 10, с 128-132.

75. Добрецов Л.Н., Гомоюнова М.В. Эмиссионная электроника.I