Форвакуумный импульсный плазменный источник электронов для модификации поверхности диэлектрических материалов тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.20, кандидат технических наук Юшков, Юрий Георгиевич

• Юшков, Юрий Георгиевич
• кандидат технических наук
• 2012

Оглавление диссертации кандидат технических наук Юшков, Юрий Георгиевич

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА I. ПЛАЗМЕННЫЕ ИСТОЧНИКИ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ПУЧКОВ В ФОРВАКУУМНОЙ ОБЛАСТИ ДАВЛЕНИЙ.

1.1. Особенности формирования-широкоапертурных электронных пучков в форвакуумной области давлений.

1.2. Взаимодействие электронного пучка с изолированной мишенью в форвакуумной области давлений.

1.3. Обработка электронным пучком поверхности керамики.

1.4. Выводы и постановка задач исследований.

ГЛАВА II. ФОРМИРОВАНИЕ ОДНОРОДНОГО

ИМПУЛЬСНОГО ПУЧКА БОЛЬШОГО СЕЧЕНИЯ.

2.1. Техника и методика эксперимента.

2.2. Радиальное распределение плотности тока в электронном пучке.

2.3. Формирование электронного пучка с использованием многоапертурной системы извлечения.

2.4. Выводы.

ГЛАВА III. ЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ ПОТЕНЦИАЛ

ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ МИШЕНИ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ ИМПУЛЬСНОГО ЭЛЕКТРОННОГО ПУЧКА.

3.1. Техника и методика эксперимента.

3.2. Результаты экспериментов по измерению потенциала керамики, облучаемой импульсным электронным пучком.

3.3. Выводы.

ГЛАВА IV. МОДИФИКАЦИЯ ПОВЕРХНОСТИ КЕРАМИКИ ИМПУЛЬСНЫМ ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ.

4.1. Техника эксперимента.

4.2. Результаты измерений толщины и свойств модифицированного поверхностного слоя керамики.

4.3. Модификация поверхности керамики.

4.4. Выводы.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Форвакуумный импульсный плазменный источник электронов для модификации поверхности диэлектрических материалов»

Интенсивное развитие техники генерации широкоапертурных электронных пучков (электронных пучков большого сечения) связано с перспективностью их использования для обработки поверхностей с большой площадью. Такая обработка пучками в вакууме и остаточной атмосфере различных газов используется в радиационных технологиях [1,2], термической обработке различных материалов [3-8], нанесении покрытий [9-11].

Плазменные источники электронов - ускорители электронов прямого действия с плазменным катодом [12], как известно, некритичны к «тяжелым» вакуумным условиям и, в сущности, не имеют альтернативы при решении проблем генерации электронных пучков в области повышенных давлений, в том числе и в форвакуумном диапазоне [13].

Расширение рабочего диапазона давлений электронных источников, в так называемую форвакуумную область (1-20 Па), связано не только со значительным упрощением системы вакуумной откачки (в этом случае требуется лишь одна механическая ступень вакуумирования), но, в гораздо большей степени, с открывающимися новыми возможностями электроннолучевых технологий. Прежде всего, следует выделить плазмохимические технологии [14], а также уникальную возможность непосредственной электронно-лучевой обработки непроводящих материалов [15-17] (здесь и далее, под непроводящими материалами подразумеваются диэлектрические материалы, например, керамики).

Привлекательность и эффективность применения широкоапертурных форвакуумных электронных источников в технологических приложениях обусловлена достижением в этих источниках необходимых параметров самого пучка. К таким параметрам следует, прежде всего, отнести энергию электронов, полный ток пучка и плотность тока в нем, а также однородность распределения плотности тока по его сечению.

При обработке мишени импульсным электронным пучком с относительно небольшой скважностью импульсов результат воздействия во многом определяется достигнутой плотностью энергии пучка в импульсе. Поскольку неоднородность распределения плотности тока по сечению электронного пучка приведет к неравномерной обработке поверхности мишени, изучение методов достижения однородного распределения плотности тока пучка в форвакуумных плазменных источниках представляется важной задачей. Уникальная возможность электроннолучевой обработки диэлектрических материалов требует проведения дополнительных исследований по изучению этого процесса. Прежде всего, необходимо определить и обеспечить оптимальные параметры импульсного электронного источника, необходимые и достаточные для эффективной и высокопроизводительной обработки этих материалов.

Из предыдущих работ по электронно-лучевой обработке диэлектрических поверхностей [15,16], выполненных с использованием непрерывных и импульсных форвакуумных электронных пучков, следует, что поверхностный заряд, вносимый пучком на поверхность, эффективно «снимается» вторичной плазмой пучка. Изучение поведения отрицательного потенциала на поверхности в зависимости от тока пучка, длительности и частоты следования импульсов, энергии электронов и давления газа позволит определить и оптимизировать параметры импульсного форвакуумного электронного источника, применяемого для обработки диэлектриков и, в частности, для керамики.

Однако, одной реализации возможности обработки поверхности диэлектриков импульсным форвакуумным электронным пучком недостаточно для обоснования технологических достоинств этого метода. Важно экспериментально показать, что такая обработка позволяет целенаправленно изменять свойства поверхности и, тем самым, обосновать перспективность использования таких пучков для процесса обработки диэлектрических материалов, наиболее перспективными из которых является керамика.

Таким образом, тематика работы, направленная на разработку форвакуумного плазменного источника импульсного широкоапертурного пучка электронов с высокой однородностью плотности тока по его сечению, обеспечивающего параметры, достаточные для эффективной обработки поверхности диэлектрических, в том числе и керамических материалов, представляется актуальной.

Цель работы состояла в проведении экспериментальных исследований, направленных на изучение особенностей формирования в форвакуумной области давлений импульсных электронных пучков при эмиссии электронов с развитой поверхности плазмы, и создание на этой основе источника электронов для обработки поверхности диэлектрических материалов, главным образом различных керамик. В задачу работы также входило проведение на примере керамики исследований процессов зарядки поверхности диэлектрика под воздействием ускоренного импульсного электронного пучка и демонстрация принципиальной возможности эффективной электронно-лучевой модификации поверхностных свойств диэлектрических материалов.

Научная новизна работы заключается в том, что для импульсного плазменного источника электронов, функционирующего в форвакуумной области давлений:

1. Выявлены причины, приводящие к неоднородности распределения плотности тока пучка по его сечению, и предложены пути их устранения.

2. Проведены измерения величины отрицательного электрического потенциала, создаваемого пучком на поверхности диэлектрической мишени, и определена степень влияния на него параметров пучка и давления газа.

3. Изучено влияние параметров электронного пучка на изменение поверхностных характеристик одного из наиболее используемых диэлектриков - алюмооксидной керамики.

Научная и практическая ценность результатов работы заключается в том, что:

1. Научные положения и выводы, сделанные на основании проведенных исследований, вносят вклад в понимание особенностей процессов генерации импульсных «форвакуумных» электронных пучков.

2. На основе проведенных исследований в широкоапертурном импульсном плазменном источнике электронов, функционирующем в форвакуумной области давлений, достигнуты параметры электронного пучка, обеспечивающие возможность эффективной модификации поверхностных свойств непроводящих керамических изделий.

3. Полученные в работе результаты могут быть использованы в других устройствах, имеющих подобные разрядные структуры и функционирующих в форвакуумном диапазоне давлений: а именно, генераторах низкотемпературной плазмы и источниках ионов.

Содержание диссертации:

Диссертация состоит из введения, четырех глав и заключения, выполнена на 104 листах, содержит 52 рисунка и 3 таблицы, а также список литературы, включающий 94 наименования.

Заключение диссертации по теме «Физика пучков заряженных частиц и ускорительная техника», Юшков, Юрий Георгиевич

4.4. Выводы

1. Результаты проведенных исследований показали технические возможности импульсной электронно-лучевой модификации поверхности непроводящих материалов, в том числе и различных керамик. Использование для этих целей форвакуумных плазменных источников электронов обеспечивает энергетическую эффективность воздействия на диэлектрики, при которой отражение быстрых электронов пучка, несущественно.

2. Сопоставление экспериментальных и расчетных зависимостей указывает на целесообразность достижения необходимого эффекта воздействия в «многоимпульсном» режиме облучения с плотностью энергии в импульсе не превышающей 10 Дж/см . Такой режим позволяет избежать механического разрушения образца, наблюдаемого из-за возникающих термических напряжений в случае одиночных импульсов с высокой плотностью энергии. Достигаемое значение температуры в приповерхностной области облучаемого объекта повышается по мере набора импульсов. В зависимости от выбранных параметров электронного пучка кривая распределения температуры по глубине к концу импульса оказывается либо монотонно спадающей, либо содержащей участки постоянной температуры, соответствующие фазовым переходам.

3. Увеличение энергии в импульсе приводит не к возрастанию толщины расплавленной области, а к более резкому повышению температуры и, как следствие, к уносу вещества за счет испарения. Указанное обстоятельство позволяет сделать вывод о том, что для увеличения глубины модифицированной области предпочтительнее использовать увеличение количества импульсов, а не повышение энергии пучка в импульсе.

4. Разработанный импульсный электронный источник форвакуумного диапазона давлений может эффективно применяться для проведения экспериментов или отработки технологии модификации поверхности керамики и других непроводящих материалов при нагреве, плавлении или испарении их поверхности импульсным электронным пучком. микротвердости в 4 раза и снижению ее шероховатости, обуславливая, таким образом, существенное повышение эксплуатационных параметров и характеристик керамических деталей и изделий. На основе сопоставления экспериментальных и расчетных зависимостей показано, что для обработки электронным пучком керамики целесообразно использование «многоимпульсного» режима облучения с плотностью энергии в импульсе, не превышающей 10Дж/см. Такой режим позволяет избежать механического разрушения образца, наблюдаемого из-за возникающих термических напряжений в случае одиночных импульсов с высокой плотностью энергии.

4. Найдено, что увеличение энергии в импульсе приводит не к возрастанию толщины расплавленной области поверхности керамики, а к более резкому повышению температуры и, как следствие, к уносу вещества за счет испарения. Сделан вывод о том, что для увеличения глубины модифицированной области предпочтительнее использовать увеличение количества импульсов, а не повышение энергии пучка в импульсе.

5. Показано, что в широкоапертурном плазменном источнике электронов с многоапертурной системой формирования электронного пучка и центральной катодной вставкой могут быть получены однородные по сечению пучки площадью 10 см и более. При функционировании источника в импульсно-периодическом режиме и форвакуумной области давлений (1 -20 Па) при ускоряющем напряжении до 15 кВ и субмиллисекундном диапазоне длительности импульса, плотность энергии пучка в единичном импульсе может составлять до 30 Дж/см , что при частоте повторения 50 Гц обеспечивает среднюю мощность электронного пучка в 3 кВт. На основе экспериментальных исследований определено, что такие параметры пучка обеспечивают эффективную электронно-лучевую модификацию поверхностных свойств керамических материалов за счет плавления и испарения их поверхностного слоя.

Достоверность и обоснованность результатов работы подтверждается систематическим характером исследований, использованием современных методов диагностики, воспроизводимостью результатов экспериментов и их удовлетворительным совпадением с экспериментальными, теоретическими и оценочными данными других исследований, практической реализацией научных положений и выводов при создании конкретных устройств.

Материалы диссертационной работы опубликованы в 5-ти статьях в рецензируемых журналах [56, 59, 79, 88, 92], рекомендованных ВАК РФ для публикации результатов диссертационных работ, в трудах и докладах международных [35, 65, 77, 78, 80, 81, 87] и всероссийских конференций [8286, 89,90] и конкурсов [73, 74, 91]. По результатам работы получены патенты РФ на полезную модель [93] и изобретение [94].

Результаты работ докладывались и обсуждались на:

16-ом Международном симпозиуме по сильноточной электронике (Томск, 2010 г.);

VII Международной конференции студентов и молодых учёных «Перспективы развития фундаментальных наук» (Томск, 2010 г.);

Международной научно-практической конференции «Электронные средства и системы управления» (Томск, 2010, 2011 гг.);

Международной научно-практической конференции «Актуальные проблемы естественных наук» (Новосибирск, 2011 г.);

Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУ СУР» (Томск 2010, 2012 гг.);

17-ой и 18-ой Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых (Екатеринбург 2011 г., Красноярск 2012 г.);

XVIII Международной научно-практической конференции студентов и молодых ученых «Современные техника и технологии» (Томск 2012 г.);

IV Международном Крейнделевском семинаре «Плазменная эмиссионная электроника», (г. Улан-Удэ, 2012 г.);

III Международном симпозиуме по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы (Томск, 2012 г.).

Работы по данной тематике поддержаны грантами РФФИ № 12-02-16069-мобзрос, № 10-08-00257-а, № 11-08-12052-офи-м-2011, №12-08-00074-а, грантом Минобрнауки по программе «Развитие научного потенциала высшей школы» (2.1.2/1951), и двумя Федеральными целевыми программами «Электронно-лучевой синтез оксидных керамических материалов» и «Исследование керамических материалов, синтезированных облучением электронным пучком». (2012-2013 гг.). Работы по тематике диссертации были удостоены финансовой поддержки Фонда содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере в рамках программы «Участник молодежного научно-инновационного конкурса (У.М.Н.И.К.)» по гранту «Исследование модификации поверхностных свойств керамических материалов при обработке импульсным электронным пучком», государственный контракт № 8723р/13140 от 14.01.2011 г. на 2011 -2012 гг.

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых разработана конструкция импульсного источника электронов. Соавторы, принимавшие участие в отдельных направлениях исследований, указаны в списке основных публикаций по теме диссертации. Все результаты, составляющие научную новизну диссертации и выносимые на защиту, получены автором лично.

В заключении автор выражает искреннюю благодарность своему научному руководителю д.т.н., профессору Е. М. Оксу за научное руководство диссертаций и поддержку работы, д.т.н., профессору

В.А. Бурдовицину за помощь и обсуждение результатов исследований, к.т.н., доценту Ю.А. Бурачевскому за помощь в проведении экспериментов и

90 ценные замечания, сотруднику ИСЭ СО РАН A.A. Гришкову за помощь в проведении компьютерного моделирования. Автор признателен сотрудникам лаборатории НИЧ кафедры физики ТУСУР за проявленный интерес и поддержку работы, а также сотрудникам Центра измерений свойств материалов Национального исследовательского Томского политехнического университета за измерение характеристик образцов.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Юшков, Юрий Георгиевич, 2012 год

1. Рябухин Ю.С., Шальнов A.B. Ускоренные пучки и их применение. М., Атомиздат, 1980. 280 с.

2. Алимов A.C., Ишханов Б.С., Шведунов В.И. Компактный линейный ускоритель электронов для радиационных технологий // Вестник Московского университета. Серия 3: Физика, Астрономия. 2008. № 4. с. 28 -30.

3. Коваль H.H., Девятков В.Н., Щанин П.М., Толкачев B.C., Винтизенко Л.Г. Установка для обработки поверхности металлов электронным пучком // Приборы и техника эксперимента. 2005. №1. с. 135-140.

4. Горшков O.A., Ризаханов Р.Н. Поверхностное термоупрочнение металлов концентрированным пучком электронов низких энергий в воздухе атмосферного давления // Известия Российской академии наук. Энергетика. 2004. № 1. с. 137 142.

5. Архипов A.B., Ковалев В.Г., Мишин М.В., Мюллер Г., Соминский Г.Г., Энгелько В.И. Исследование интенсивных импульсных электронных пучков большого сечения // Известия высших учебных заведений. Радиофизика. 2004. Т. 47. № 5 6. с. 471 - 479.

6. Полетика И.М., Голковский М.Г., Борисов М.Д., Салимов P.A., Перовская М.В. Формирование упрочняющих покрытий методом наплавки в пучке релятивистских электронов // Физика и химия обработки материалов. 2005. № 5. с. 29 41.

7. Колубаев Е.А., Сизова О.В., Толмачев А.И., Колубаева Ю.А., Иванов

8. Ю.Ф., Девятков В.Н., Гончаренко И.М., Коваль H.H., Щанин П.М.

9. Модифицирование структуры поверхностного слоя конструкционной92стали ударным ультразвуковым и импульсным электронно-лучевым воздействиями / Физическая мезомеханика. 2004. Т. 7. № S2. с. 165 — 168.

10. Ахмадеев Ю.Х., Гончаренко И.М., Иванов Ю.Ф., Коваль H.H., Щанин П.М. Азотирование технического чистого титана в тлеющем разряде с полым катодом // Письма в Журнал технической физики. 2005. Т. 31. №. 13. с. 24- 30.

11. Абзалова Г.И., Сабиров P.C., Михайлов A.B. Нанесение равномерных по толщине покрытий на большие поверхности методом электроннолучевого испарения в вакууме // Оптический журнал. 2005. Т. 72. № 10. с. 76 78.

12. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат.1977. 144 с.

13. Бурачевский Ю.А., Бурдовицин В.А., Куземченко М.Н., Мытников A.B., Оке Е.М. Генерация электронных пучков в форвакуумной области давлений // Известия ВУЗов. Физика. 2001. № 9, с. 85 89.

14. Пушкарев А.И., Ремнев Г.Е., Пономарев Д.В., Ежов В.В, Гончаров Д.В. Использование импульсных электронных пучков в плазмохимии // Известия Томского политехнического университета. 2006. Т. 309. № 2. с. 103 107

15. Бурдовицин В.А., Климов A.C., Оке Е.М. О возможности электроннолучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений // Письма в Журнал технической физики. 2009. Т. 35. № 11. с. 61 -66.

16. Медовник A.B., Бурдовицин В.А., Климов A.C., Оке Е.М. Электронно93лучевая обработка керамики // Физика и химия обработки материалов. 2010. №3. с. 39 -44.

17. Ко val1 N.N., Ivanov Yu.F. Nanostructuring of surfaces of metal-ceramic and ceramic material by electron beams // Russian Physical Journal. 2008. T. 51. № 5. c. 505 516.

18. Бугаев С.П., Крейндель Ю.Е., Щанин П.М. Электронные пучки большогосечения. М: Энергоатомиздат, 1984. 112 С.

19. Крейндель Ю.Е., Мартене В.Я., Съедин В.Я. Исследование плазмы электронного эмиттера непрерывного действия с большой эмитирующей поверхностью // Источники электронов с плазменным эмиттером. Новосибирск: Наука, 1983, с.25 33.

20. Визирь A.B., Оке Е.М., Щанин П.М., Юшков Г.Ю. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для источников широкоапертурных ионных пучков. // Журнал технической физики. 1997, Т.67. №.6. с. 611 -614.

21. Девятков В.Н., Коваль H.H., Щанин П.М. Генерация и транспортировка сильноточных низкоэнергетичных электронных пучков в системе с газонаполненным диодом // Журнал технической физики. 1998. Т. 68. №. 1. с. 44-48.

22. Федоров М.В. Распределение концентрации плазмы в протяженном полом катоде // Материалы региональной научно-технической конференции «Научная сессия ТУСУР-2003» 2003 г. Томск, Россия, с. 62 -64.

23. Девятков В.Н., Коваль H.H., Щанин П.М. Электронный газонаполненныйдиод на основе тлеющего разряда // Журнал технической физики. 2001.941. Т. 75. №. 5. с. 20-24.

24. Галанский B.JI., Груздев В.А., Осипов И.В., Ремпе Н.Г. Источники электронов с плазменным эмиттером на основе отражательного разряда с полым катодом // Известия ВУЗов. Физика. 1992. Т. 35. № 5. с. 5 23.

25. Мытников А.В., Оке Е.М., Чагин А.А. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений // Приборы и техника эксперимента. 1998. № 2. с. 95 98.

26. Бурдовицин В.А., Куземченко М.Н., Оке Е.М. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений // Журнал технической физики. 2002. Т. 72. №7. с. 134 136.

27. Бурдовицин В.А., Бурачевский Ю.А., Оке Е.М., Федоров М.В. Особенности формирования однородного ленточного пучка электронов плазменным источником в форвакуумной области давлений // Журнал технической физики. 2004. Т. 74, № 1. с. 104 107.

28. Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Оке Е.М., Осипов И.В. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом // Журнал технической физики. 2006. Т. 76. № 10. с. 128 131.

29. Бурдовицин В.А. Плазменные источники электронов на основе разряда с полым катодом для генерации непрерывных пучков в форвакуумном диапазоне давлений. Диссертация доктора технических наук. Томск, ТУ СУР, 2005.

30. Жирков И.С. Плазменный источник электронов для генерациисфокусированных непрерывных электронных пучков в форвакуумной95

31. Электронный источник с плазменным катодом для генерации ленточного пучка в форвакуумном диапазоне давлений // Приборы и техника эксперимента. 2003. № 2. с. 127 129.

32. Бурдовицин В.А., Жирков И.С., Оке Е.М., Осипов И.В., Федоров М.В. Источник электронов с плазменным катодом для генерации сфокусированного пучка в форвакуумном диапазоне давлений // Приборы и техника эксперимента. 2005. № 6. с. 66 68.

33. Wu D., Liu С., Zhu Х.Р., Lei M.K. Numerical study on modification ofceramic coatings by high-intensity pulsed ion beam // Vacuum. 2009. No. 83. p. 198 -200.

34. Овчаренко B.E., Иванов Ю.Ф., Баохай Юй. Наноструктурное упрочнение инструментального металлокерамического сплава при электронно-пучковом облучении его поверхности // Перспективные материалы. Спец. выпуск. 2007, № 9. с. 450 455.

35. Pay Э.И., Евстафьева E.H., Андрианов М.В. Механизмы зарядки диэлектриков при их облучении электронными пучками средних энергий. // Физика твердого тела. 2008. Т. 50. № 4. с. 599 607.

36. Барков А.В., Климов А.С. Электронно-лучевая обработка диэлектриков // Материалы докладов Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР -2008»: Томск. Изд-во «В-Спектр». 2008. Ч. 1. с. 220 222.

37. Oks E., Burdovitsin A., Burachevsky Yu., Klimov A. Ribbon beam electron gun based on discharge with extended hollow cathode // Book of abstracts, 34th International Conference on Plasma Science. Y. 3P62. 2007. Albuquerque, New Mexico, USA. p. 392.

38. Burdovitsin V.A., Klimov A.S., Medovnik A.V., Oks E.M. Electron beam treatment of non-conducting materials by a fore-pump-pressure plasma-cathode electron beam source // Plasma Sources Science and Technology. 2010. V. 19. No. 5. p. 20-26.

39. Юшков Ю.Г., Бурдовицин В.А., Медовник A.B., Оке E.M. Форвакуумный плазменный источник импульсных электронных пучков // Приборы и техника эксперимента. 2011. №2. с. 85 88.

40. Жирков И.С., Бурдовицин В.А., Оке Е.М., Осипов И.В. // Журнал технической физики. 2006. № 10. с. 138 -141.

41. Григорьев С.В., Девятков В.Н., Коваль Н.Н., Тересов А.Д. Эффект усиления эмиссии при генерации низкоэнергетического субмиллисекундного электронного пучка в диоде с сеточным плазменным катодом и открытой границей анодной плазмы // Письма в

42. Журнал технической физики. 2010. Т. 36. № 4. с. 23 31.

43. Юшков Ю.Г., Оке Е.М., Медовник А.В., Бурдовицин В.А. //

44. Распределение плотности тока по сечению импульсного электронного пучка в форвакууме // Доклады Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники. 2011. № 2. с. 161 -163.

45. Medovnik A.V., Gushenets V.I., Oks Е.М., Burdovitsin V.A. Initial Stage of Discharge Development in Fore-Vacuum Plasma Electron Source // Известия ВУЗов. Физика. Приложение. 2007. № 9. с. 202-205.

46. Batalin V.A., Kolomiets А.А., Kuibeda R.P., Kulevoy T.V., Pershin V.I.,

47. Petrenko S.V., Seleznev D.N., Bugaev A.S., Gushenets V.I., Oks E.M., Yushkov G.Yu., Hershcovitch A., Johnson B.M. Futher development of the E-MEVVA ion source // Review of Scientific Instruments. 2002. V. 73. No. 2. p. 702 707.

48. Oks E.M. Generation of multiply-charged metal ions in vacuum arc plasmas //

49. EE Transactions on Plasma Science. 2002. T. 30. № 1. p. 202 207.

50. Burdovitsin V.A., Oks E.M. Fore-vacuum plasma-cathode electron sources // Laser and Particle Beams. 2008. T. 26. № 4. p. 619 635.

51. Spadtke P. Numerical-simulation of ion beam related problems // Review of Scientific Instruments. 1992. V. 63. No. 4 (Part II). p. 2647 2651.

52. Solonenko O.P., Ovcharenko V.E., Ivanov Y.F., Golovin A.A. Plasma Sprayed

53. Metal-Ceramic Coatings and Modification of Their Structure with Pulsed Electron Beam Irradiation // Journal of Thermal Spray. 2011. V. 20. No. 4. p. 927-983.

54. Burdovitsin V. A., Klimov A. S., Medovnik A. V., Oks E. M. Electron beamtreatment of non-conducting materials by a fore-pump pressure plasma-cathode electron beam source // Plasma Sources Science and Technology. 2010. No. 19. p. 055003(4).

55. Гаврилов H.B., Меньшаков А.И. Влияние параметров электронного пучкаи ионного потока на скорость плазменного азотирования аустенитной нержавеющей стали // Журнал технической физики. 2012. Т. 82. № 3. с. 88-93.

56. Лернер Э.Ю., Кашина О.А. Пакет mathematical первые уроки. Казань, КГУ. 2001.-26 с.

57. Proskurovsky D.I., Rotstein V.P., Ozur G.E. Application of Low-Energy,

58. High-Current Electron Beams for Surface Modification of Materials // Proc.thof 11ш Intern. Conf. on High-Power Particle Beams. Prague, Czech Rep. 1996. V. l.p. 259 -262.

59. Proskurovsky D.I., Rotstein V.P., Ozur G.E. Use of Low-Energy, High-Current Electron Beams for Surface Treatment of Materials // Surface and Coatings Technology. 1997.V.96.No. 1. p. 117 122.

60. Salvadori M.C., Teixeira F.S., Cattani M., Nikolaev A.G., Savkin K. P., Oks E.M., Park H.-K., Phillips L., Yu К. M., Brown, I. G. On the electrical conductivity of Ti-implanted alumina // Journal of Applied Physics. 2012. V. 111. No. 6. p. 063714(6).

61. Юшков Ю.Г. Импульсный электронный источник с плазменным полымкатодом для модификации непроводящей керамики // Сборник научно-исследовательских работ студентов и аспирантов в области физических наук. 2010. с. 7 12.

62. Медовник A.B., Бурдовицин В.А., Оке Е.М. Формирование импульсногоэлектронного пучка в системе с плазменным катодом в форвакуумной области давлений // Известия вузов. Физика. 2010. Т. 53. №2. с. 27 32.

63. Коваль H.H., Иванов Ю.Ф. Наноструктурирование поверхностиметаллокерамичесих и керамических материалов при импульсной электронно-пучковой обработке // Известия вузов. Физика. 2008. Т. 51, № 5. с. 60 70.

64. Бурдовицин В.А., Медовник A.B., Оке Е.М., Скробов Е.В., Юшков Ю.Г. Потенциал диэлектрической мишени при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений // Журнал технической физики, 2012. Т. 82. № 10. с. 103 108.

65. Юшков Ю.Г., Скробов Е.В. Расчет температурного профиля приоблучении алюмооксидной керамики электронным пучком // Труды Международной научно-практической конференции «Электронные средства и системы управления», Томск. 2010. с. 56 59.

66. Юшков Ю.Г. Исследование поверхности алюмооксидной керамики при обработке импульсным электронным пучком в форвакууме // Труды Международной научно-практической конференции «Актуальные проблемы естественных наук», Новосибирск. 2011. с. 81 86.

67. Юшков Ю.Г., Харченко A.C. Импульсный электронный пучок для модификации поверхности керамики // Труды Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУ СУР, 2010», Томск. 2010. с. 24 26

68. Юшков Ю.Г. Форвакуумный электронный источник для обработки поверхности диэлектриков // Труды Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых, Екатеринбург. 2011. с. 264 266.

69. Юшков Ю.Г. Изменение поверхностных свойств керамики приимпульсном электронно-лучевом воздействии // Труды Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых, Екатеринбург. 2011. с. 615 616.

70. Юшков Ю.Г., Медовник A.B., Бурдовицин В.А. Модификация структуры и трибологических свойств керамики импульсным электронным пучком

71. Труды Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых, Красноярск. 2012. с. 644 645.

72. Юшков Ю.Г., Медовник A.B. Модификация алюмооксидной керамикиэлектронно-импульсным способом // Материалы Всероссийской научно-практической конференции «Современные материалы, техника, технология », Курск. 2011. с. 362 363.

73. Юшков Ю.Г. Форвакуумный импульсный источник электронов с плазменным катодом для модификации поверхности непроводящей керамики // Труды IV международного Крейнделевского семинара «Плазменная эмиссионная электроника», Улан-Удэ. 2012. с. 118 124.

74. Бурдовицин В.А., Оке Е.М., Скробов Е.В., Юшков Ю.Г. Модификация поверхности керамики импульсным электронным пучком, генерируемым форвакуумным плазменным источником // Перспективные материалы. 2011. № 6. с. 1 6.

75. Юшков Ю.Г., Медовник A.B., Бурдовицин В.А. Особенностиимпульсного источника электронов функционирующего в форвакуумной области давлений // Труды Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых, Красноярск. 2012. с. 279 -280.

76. Бурдовицин В.А., Двилис Э.С., Медовник A.B., Оке Е.М., Хасанов О.Л., Юшков Ю.Г. // Журнал технической физики. 2013. Т. 83. №. 1. с. 117 -120 (в печати, электронный вариант доступен по ссылке http ://journals. ioffe.ru/jtf72013/01/page-117.html.ru).

77. Медовник A.B., Бурдовицин B.A., Оке Е.М. Юшков Ю.Г. // Патент РФ на полезную модель № 107657 "Форвакуумный плазменный электронный источник". 2011.

78. Бурачевский Ю.А., Бурдовицин В.А., Медовник A.B., Оке Е.М., Юшков Ю.Г. // Патент РФ на изобретение №2439742 Способ плазменного анодирования металлического или полупроводникового объекта. 2012.