Микроволновые и структурные особенности тонких магнитных плёнок на основе Co и Fe70Co30, получаемых методом магнетронного распыления тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.13, кандидат физико-математических наук Маклаков, Сергей Сергеевич

• Маклаков, Сергей Сергеевич
• кандидат физико-математических наук
• 2012

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Маклаков, Сергей Сергеевич

Содержание

Введение

I. Обзор литературы

§ 1. Магнетронное распыление

§ 1.1. Взаимодействие потока ионов с материалом

§ 1.2. Влияние газовой среды

§ 1.3. Процессы на поверхности при росте тонких плёнок

§ 2. Тонкие плёнки кобальта

§ 2.1. Статические магнитные свойства плёнок Со

§ 2.2. Динамические магнитные свойства плёнок Со

§ 2.3. Кристаллические модификации в плёнках Со

§ 2.4. Текстура в плёнках Со

§ 3. Тонкие плёнки Ре1_хСох

§ 3.1. Общие сведения

§ 3.2. Магнитные свойства плёнок Ре].хСох

§ 4. Тонкие композиционные плёнки (Ре1.хСох)1.у(8Ю2)у

§ 4.1. Общие сведения

§ 4.2. Жидкофазные методы получения

§ 4.3. Газофазные методы получения

§ 5. Микроволновые магнитные свойства тонких плёнок

§ 6. Постановка задачи

И. Оборудование для получения тонких плёнок

III. Экспериментальная часть

§ 7. Получение плёнок Со

§ 8. Получение плёнок РеуоСозо

§ 9. Получение композитных плёнок (Ре7оСозо)1-х(8Ю2)х

§ 10. Методы исследования

§ 10.1. Магнитная радиоспектроскопия

§ 10.2. Магнитостатические измерения

§ 10.3. Просвечивающая электронная микроскопия

§ 10.4. Рентгеновская дифрактометрия

2

§ 10.5. Интерференционная микроскопия

§ 10.6. Электрическое сопротивление тонких плёнок

§ 10.7. Сканирующая электронная микроскопия

§ 10.8. Гамма-резонансная спектроскопия

IV. Экспериментальные результаты и их обсуждение

§11. Тонкие плёнки Со

§ 11.1. Частота естественного ферромагнитного резонанса плёнок Со

§ 11.2. Кристаллическая текстура плёнок Со

§ 11.3. Магнитная анизотропия плёнок Со

§ 12. Тонкие плёнки Ре70Соз0

§ 13. Композиционные плёнки (Ре7оСозо)1-х(8Ю2)х

§ 14. Эффект Мёссбауэра в плёнках Ре70Соз0 и (Ре7оСо3о)95(8Ю2)5

§ 15. Многослойные структуры на основе Ре70Соз0 и 8Ю2

Выводы

Список литературы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Микроволновые и структурные особенности тонких магнитных плёнок на основе Co и Fe70Co30, получаемых методом магнетронного распыления»

Введение

Для развития современной электронной техники необходимо создание материалов с высоким значением магнитной проницаемости. В силу закона Снука, тонкие плёнки обладают максимальным значением магнитной проницаемости среди объектов иной геометрической формы, изготовленных из одного ферромагнитного материала [1]. Тонкие магнитные плёнки интенсивно исследуются в связи с созданием электрофизических устройств: средств для хранения информации высокой плотности, датчиков магнитного поля и устройств для СВЧ диапазона. Наиболее широко изучают корреляции между структурой и магнитными свойствами плёнок на основе твёрдых растворов Ре1.хСох и Реьх№х, что объясняется высоким значением намагниченности насыщения М5 данных веществ. Для фундаментальных исследований используют плёнки кобальта, который обладает одноосной магнитной анизотропией. Подробно исследована взаимосвязь между строением и коэрцитивной силой Нс магнитных плёнок [2]. При этом не выявлено структурных параметров, определяющих величину статической магнитной проницаемости ¡л0.

Вакуумные методы нанесения тонких плёнок позволяют получать объекты высокой плотности, однородности и чистоты. Выбор метода перевода вещества в газовую фазу определяет энергию и состав потока частиц, оседающих на подложку. При этом, изменение данных параметров приводит к существенному изменению строения и магнитных свойств тонких плёнок [3]. Данный эффект возможно использовать для получения тонких магнитных плёнок с заданными статическими и микроволновыми свойствами [4, 5]. Дополнительной возможностью управления свойствами тонких магнитных плёнок является возможность формирования плёнок композиционного строения, состоящих из частиц ферромагнетика и диэлектрика. Данные объекты, полученные сораспылением в вакууме, относятся к типу самоорганизующихся структур. В зависимости от состава

композита, магнитные свойства подобных плёнок варьируются от суперпарамагнитных до суперферромагнитных [6].

Магнетронное распыление на постоянном токе приводит к получению поликристаллических плёнок с размером кристаллитов И в диапазоне от единиц до десятков нм. В данной области размеров коэрцитивная сила магнитных плёнок пропорциональная £>6 [2]. Специфика распыления и массопереноса вещества даёт возможность масштабирования лабораторных установок для получения тонких ферромагнитных плёнок до производственных. Разработка технологических подходов получения тонких ферромагнитных плёнок с использованием магнетронов постоянного тока, основанная на понимании взаимосвязи структура - магнитные свойства, актуальна для поиска и производства эффективных материалов -поглотителей электромагнитного излучения заданного частотного диапазона.

В связи с этим была сформулирована цель работы: определение взаимосвязи между строением и динамическими магнитными параметрами тонких плёнок на основе Со и Ре70Со30 и изучение возможности управления высокочастотными магнитными свойствами тонкоплёночных материалов на основе Со и Ре70Соз0 в частотном диапазоне 1-10 ГГц. Для достижения поставленной цели были решены следующие задачи-.

• Получение тонких плёнок Со магнетронным распылением на постоянном токе с использованием различных значений набора технологических параметров; изучение взаимосвязи между строением и магнитными параметрами плёнок Со.

• Получение тонких плёнок твёрдого раствора Ре70Со30, выявление взаимосвязи структура - магнитные параметры для данных объектов.

• Получение тонких плёнок композиционного материала Ре7оСо3о-8Ю2 магнетронным сораспылением в вакууме. Исследование взаимосвязи между высокочастотными магнитными свойствами и структурой композиционных плёнок на основе Ре70Со30.

• Создание многослойных структур на основе металлических и композиционных плёнок Fe7oCo3o. Определение изменения высокочастотных магнитных параметров полученных объектов в зависимости от параметров многослойного материала.

Основные результаты и положения, выносимые на защиту

1. Частота естественного ферромагнитного резонанса fres плёнок кобальта монотонно возрастает от 2,9 до 7,3 ГГц при увеличении скорости нанесения от Vd = 4,3 до 7,0 нм/мин. Возрастание частоты коррелирует с возрастанием размера кристаллитов кобальта от 5 до 50 нм и шириной распределения кристаллитов Со по размерам от 5 до 70 нм.

2. Плёнки Со, полученные магнетронным распылением на постоянном токе, обладают одноосной текстурой. Ось текстуры изменяет ориентацию в зависимости от скорости нанесения кобальта. При скорости Vd = 4,3 нм/мин ось текстуры находится в плоскости плёнки и перпендикулярна оси лёгкого намагничивания. В случае Vd = 7,0 нм/мин ось текстуры перпендикулярна подложке. Изменение ориентации оси текстуры связано с направлением стока заряда, проходящего через металлическую плёнку при нанесении.

3. Предложена модель, объясняющая изменение частоты естественного ферромагнитного резонанса при изгибе ферромагнитных поликристаллических плёнок. В рамках предложенной модели, анализ значений частот fres, измеренных для изогнутых плёнок, показывает, что плёнки Со с частотой fres — 2,9 ГГц обладают большей свободной энергией, чем плёнки Со с частотой fres = 7,3 ГГц. Уменьшение свободной энергии связано с уменьшением объёма аморфного кобальта и переходом магнитных моментов в плоскость плёнки.

4. Структурные изменения при повышении скорости нанесения Vd вызваны

увеличением поверхностной температуры подложки при росте плёнки.

Сравнение плёнок Со, полученных при минимальной и максимальной

доступных скоростях нанесения показывает, что в случае Vd = 4,3 нм/мин

6

доминирующий процесс при росте плёнки - зародышеобразование. Для = 7,0 нм/мин становится возможным расширенный рост зародышей.

5. Частота /гех понижается от 10,2 до 5,7 ГГц при формировании композиционных плёнок (Ге7оСозо)94($102)б по сравнению с металлическими плёнками Ре70Соз0. При этом происходит уменьшение коэрцитивной силы от 200 до 20 Э. При содержании а композите с(ЗЮ2) > 21 об. % происходит переход плёнок в суперпарамагнитное состояние.

6. Изменение высокочастотных магнитных параметров при формировании десятислойного материала с прослойками 8Ю2 сильнее в случае использования Ге70Со30 по сравнению с (Ре70Со3о)97(8Ю2)з. Уменьшение частоты е-ФМР и максимального значения ¡л " составляет А/ге$ = 2,4 ГГц, Ди " = 8 для Ре70Со30 и А/ге, = 1 ГГц, Ди "=10 для (Ре70Со3о)97(8Ю2)3.

7. Предложена модель, описывающая изменение распределения сверхтонкого поля на ядрах 57Ре в зависимости от атомной структуры твёрдого раствора Ре70Со30. Степень упорядочения Ре70Соз0 по типу С5С/ в композиционной плёнке (Ре70Со3о)95(8Ю2)5 выше, чем в плёнке Ре7оСо30. Упорядочение вызвано повышенной поверхностной температурой при росте плёнки за счёт сообщения энергии подложке потоком 8Ю2.

8. Разработан технологический подход, позволяющий получать методом магнетронного распыления плёнки на основе Со и Рв1.хСох с заданными высокочастотными свойствами.

I. Обзор литературы § 1. Магнетронное распыление

Процесс ионно-плазменного нанесения тонких плёнок состоит из трёх этапов: распыление материала мишени, перенос распылённого материала на расстояние мишень - подложка, осаждение вещества на подложке. Изменение характеристик на каждом этапе процесса существенно влияет на свойства осаждаемых плёнок. Средняя энергия распылённых частиц составляет 3-5 эВ.

Ионно-плазменное нанесение выделяется среди вакуумных методов получения тонких плёнок высокой адгезией плёнок по отношению к подложке, высокой плотностью плёнок, возможностью получения плёнок многокомпонентных материалов без изменения состава, возможностью получения плёнок тугоплавких и неплавящихся материалов, возможностью изменения свойств получаемых плёнок при помощи регулировки газовой среды во время нанесения, возможностью очистки поверхности плёнки и подложки при помощи ионной бомбардировки [7].

Устройства магнетронного распыления обладают наибольшей производительностью и обеспечивают максимальные скорости ионно-плазменного нанесения материалов. Постоянные магниты на обратной стороне катода-мишени формируют на лицевой стороне замкнутое магнитное поле, перпендикулярно которому направлено электрическое поле, создаваемое между анодом и мишенью (рис.1, 2).

Л

А

Рис. 1. Распределение электрического и Рис. 2. Схема магнетронного распыления на

магнитного полей в магнетроне постоянного постоянном токе. 1 - катод, 2 - подложка, 3 -тока [8]. анод [7].

Высокие скорости распыления материалов с использованием магнетронов постоянного тока определяются эффективностью захвата электронов в скрещенных электрическом и магнитном полях вблизи поверхности распыляемой мишени [8]. Электроны возникают при ионизации газа и в результате вторичной электронной эмиссии с поверхности распыляемого материала.

Для повышения энергии распылённых частиц применяют импульсное магнетронное распыление. В данном процессе на магнетронное устройство подаётся импульсное напряжение высокой мощности. При этом суммарное время интервалов между импульсами приводит к понижению скорости нанесения У^, которая достигает 15 - 80% по сравнению со скоростью нанесения с использованием постоянного тока [8].

Для нанесения плёнок диэлектриков используют устройства ВЧ распыления. Электроны и ионы в диэлектрических веществах обладают различной подвижностью. Переменное электрическое поле (у = 13,56 МГц) вызывает осцилляцию электронов с диэлектрической мишени. В результате столкновения происходит ионизация атомов газа. Высокоподвижные электроны создают отрицательный по отношению к плазме потенциал самосмещения на поверхности диэлектрика, вызывающий распыление материала. Распыление мишени из оксида кремния приводит к получению плёнок аморфного 8Юг [9].

§ 1.1. Взаимодействие потока ионов с материалом В зависимости от энергии потока ионов, происходит внедрение ионов в материал, осаждение на поверхности, или отражение. При внедрении иона в материал происходит каскад упругих и неупругих взаимодействий с атомами мишени, которые вызывают смещение и возбуждение атомов вещества и изменение структуры в зоне столкновений (рис. 3). Отражение бомбардирующих ионов от поверхности может сопровождаться изменением

заряда иона. Внедрение ионов с высокой энергией вызывает распыление частиц материала мишени. Данные взаимодействия сопровождаются вторичной электронной эмиссией и электромагнитным излучением в диапазоне от ИК-излучения до рентгеновского.

/V/® ^А~А°

Рис. 3. Схематические изображение процессов Рис. 4. Схема каскада упругих столкновений при бомбардировке твёрдого тела потоком при ионной бомбардировке [7].

ионов. У - бомбардирующий и обратно рассеянные ионы, А' - распылённые ионы, В -дефекты в материале, е - вторичные электроны, Ую - фотоны [7].

В состав распылённых частиц входят атомы (90 [7] - 99 % [8]), кластеры и многозарядные ионы. Большая часть (> 90 %) энергии бомбардирующего иона расходуется на разогрев материала мишени. При внедрении бомбардирующий ион испытывает ядерное и электронное торможение, происходит потеря энергии и остановка иона. В результате упругого взаимодействия происходит рассеяние бомбардирующих ионов, увеличение колебаний атомов мишени вокруг равновесного положения, смещение атомов мишени. Распыление возможно в случае передачи импульса бомбардирующего иона на поверхность в результате каскада столкновений. Среднее время развития каскада столкновений составляет ~

13

2-10" сек [10]. В результате неупругих столкновений происходит возбуждение вещества мишени, что приводит к вторичной электронной эмиссии, заряду распылённых частиц и перезарядке обратно рассеянных ионов.

В качестве характеристики процесса распыления используют коэффициент распыления & Коэффициент распыления определяют как количество распылённых атомов, приходящихся на один бомбардирующий ион (атом/ион). В случае неопределённости состава продуктов распыления используют скорость распыления ¥р, характеризующую толщину удалённого слоя материала в единицу времени при заданной мощности ионной обработки. Скорость и коэффициент распыления связаны соотношением:

5 = (1)

) ш мишени

где е - заряд электрона, Кл; р - плотность материала мишени, г/см3; у -плотность тока ионов, А/см ; Ммишеии - масса атомов материала мишени, г/моль; Ыа - число Авогадро, моль'1.

Эффективность распыления определяется энергией бомбардирующего иона. Зависимость коэффициента распыления от энергии иона обладает максимумом, после прохождения которого глубина проникновения ионов в мишень достигает критической величины, в результате чего теряется энергия распылённых атомов. Значение 5тах увеличивается с ростом массы бомбардирующего иона [11]. Для выбора эффективного режима распыления используют приведённый коэффициент распыления 8(Е0)/Е0, где Е0 - энергия падающего иона. Оптимальные значения Е0 лежат в диапазоне 200-500 эВ.

В случае распыления многокомпонентных материалов возможно неравномерное распределение кинетической энергии между компонентами, приводящее к преимущественному распылению одного из составляющих. Эффект преимущественного распыления определяется различием атомных масс компонентов материала, различием прочности связей на поверхности, массой и энергией бомбардирующих ионов. Для характеристики распыляемости многокомпонентных материалов используют парциальные коэффициенты распыления [7]. Близкие значения атомных масс приводит к сохранению стехиометрического состава мишени при распылении. В случае бинарных металлических материалов сохранение состава характерно для

твёрдых растворов; распыление интерметаллических соединений происходит с изменением стехиометрического соотношения [12]. Возможно получение плёнок многокомпонентных материалов сораспылением набора мишеней из составляющих материала.

§ 1.2. Влияние газовой среды Газовая среда влияет на массоперенос распылённых частиц к подложке. В зависимости от конструкции установки, возможно осуществление магнетронного распыления с использованием газов различного состава и давления. В качестве основного компонента газовой среды применяют инертные газы, что связано с отсутствием химического взаимодействия с материалом мишени. Присутствие в газовой среде дополнительных веществ приводит к изменению протекания распыления. Случай химического взаимодействия материала мишени с компонентами газа называют реактивным распылением [7]. В качестве химически активных добавок наиболее широко применяют простые вещества: азот, кислород и водород. Химическое взаимодействие протекает в газовой фазе и на поверхности мишени. Образование химических соединений в газовой фазе приводит к получению плёнок состава, отличного от состава мишени. Химические взаимодействие на поверхности мишени приводит к снижению коэффициента распыления и изменению параметров газового разряда. В случае распыления магнитных металлов максимальное содержание реактивной добавки, при которой возможно возникновение тлеющего разряда, составляет ~ 20 об. % [13].

Тлеющий разряд между электродами магнетрона постоянного тока возникает в диапазоне давлений Р ~ 10"4 — 10"3 мм рт. ст. Давление в вакуумной камере определяется диаметром отверстия для напуска газа и скоростью откачки системы вакуумных насосов [14]. Увеличение давления приводит к увеличению вероятности столкновения ионов рабочего газа и распылённых частиц с атомами рабочего газа. Взаимодействие между ионами и атомами аргона приводит к перезарядке ионов (Аг+ + Аг = Аг +

12

Аг+), потере заряда и энергии бомбардирующего иона. Данные процессы приводят к возникновению дисперсии потока ионов по энергии и уменьшению коэффициента распыления. Одновременно происходит увеличение степени ионизации рабочего газа, что выражается в увеличении скорости распыления. Взаимодействие распылённых частиц с газовой средой при давлении Р ~ 10"3 мм рт. ст. приводит к термализации - уменьшению энергии потока частиц до тепловой [15].

§ 1.3. Процессы на поверхности при росте тонких плёнок Магнетронное распыление на постоянном токе приводит к получению поликристаллических тонких плёнок. Распыление и осаждение материала мишени происходит при малых (0,1-0,4 Тт) температурам по отношению к температурам кипения Тт и сублимации [16]; процесс роста плёнок протекает вдали от термодинамического равновесия. Структура тонких плёнок, полученных данным образом, определяется конкурентными кинетическими и диффузионными процессами на поверхности. В результате становится возможным формирование метастабильных состояний, искусственных слоистых структур и наноразмерных материалов. Свободная энергия при росте плёнок затрачивается на рост гранул, ориентацию кристаллитов, локальное изменение состава, что приводит к плёнкам с развитой морфологией поверхности.

При оседании распылённых атомов на поверхность подложки происходит поверхностная диффузия, формирующая структуру плёнки [17]. При магнетронном распылении рост плёнки протекает по островковому механизму Волмера-Вебера [16] (рис. 5). Развитие структуры последовательно проходит стадии зародышеобразования, роста зародышей, столкновение и коалесценцию монокристаллических «островков», образование поликристаллических «островков». Размер зёрен определяется соотношением между энергией адсорбированных атомов и энергией образования межфазных границ.

7Т

* * t i I | j 4

/ЬЯ .> Д /Т'Д ffnO,^!

Заключение диссертации по теме «Электрофизика, электрофизические установки», Маклаков, Сергей Сергеевич

Выводы

1. Частота естественного ферромагнитного резонанса плёнок Со повышается с ростом среднего размера кристаллитов металла. Размер кристаллитов увеличивается с ростом скорости нанесения Со.

2. Плёнки кобальта, полученные магнетронным распылением на постоянном токе, обладают одноосной кристаллической текстурой. Положение оси текстуры изменяется в зависимости от стока заряда при нанесении, что определяет магнитную анизотропию плёнок.

3. Повышение скорости нанесения снижает свободную энергию плёнок Со. Явление объясняется уменьшением доли объёма аморфного металла и поворотом магнитных моментов в плоскость плёнки, что соответствует минимуму магнитной энергии.

4. Частота естественного ФМР композиционной плёнки (Ре70Созо)1-х(8Ю2)х ниже, чем металлической. Уменьшение частоты естественного магнитного резонанса сопровождается увеличением статической магнитной проницаемости, что соответствует закону Снука.

5. Уменьшение частоты естественного ферромагнитного резонанса и максимального значения мнимой части магнитной проницаемости при формировании многослойного материала ферромагнетик-8Ю2 более ярко выражено при использовании в качестве ферромагнетика слоёв Ре70Соз0 по сравнению со слоями (Ре7оСо3о)1-х(8Ю2)х.

6. Композиционные плёнки (Ре70Со3о)1-х(8Ю2)х демонстрируют более высокую степень упорядочения твёрдого раствора по сравнению с металлическими плёнками, что вызвано повышенной поверхностной температурой при росте плёнки.

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Маклаков, Сергей Сергеевич, 2012 год

Список литературы

1. Acher О., Dubourg S. Generalization of Snoek's law to ferromagnetic films and composites. // Phys. Rev. В. V. 77. 2008. P. 104440

2. Herzer G. Grain size dependence of coercivity and permeability in nanocrystalline ferromagnets. // IEEE Trans. Magn. V. 26. 1990. P. 13971402

3. Kurlyandskaya G.V., Barandiaran J.M., Minguez P., Elbaile L. Magnetic properties of amorphous thin films deposited by de-focused pulsed laser ablation. //Nanotechn. V. 14. 2003. P. 1246

4. Maklakov S.S., Maklakov S.A., Ryzhikov LA., Rozanov K.N., Osipov A. V. Thin Co films with tunable ferromagnetic resonance frequency. // J. Magn. Magn. Mater. V. 324. 2012. P. 2108-2112

5. Агапонова A.B., Быков КВ., Маклаков С.А., Маклаков С. С., Пухов А.А., Рыжиков И. А., Седова М.В., Шалыгина Е.Е., Якубов И. Т. Визуализация доменной структуры ферромагнитных плёнок с использованием магнетохимического эффекта. // ФТТ. V. 53. 2011. Р. 951-955

6. Stashkevich А.А., Roussigne Y., Djemia P., Billet D., Stognij A.I., Novitskii N.N., Wurtz G.A., Zayats A. V., Viau G., Chaboussant G., Ott F., Gautrot S., Kostylev M.P., Lutsev L.V., Belotelov V. Brillouin light scattering observation of the transition from the superparamagnetic to the superferromagnetic state in nanogranular (Si02)Co films. // J. Appl. Phys. V. 104. 2008. P.093912-13

7. Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986. 232 с.

8. Sarakinos К., Alami J., Konstantinidis S. High power pulsed magnetron sputtering: A review on scientific and engineering state of the art. // Surf. Coat. Technol. V. 204. 2010. P. 1661-1684

9. Маклаков С.А., Жаботжскш B.A., Ивановский Г.Ф., Кузькин В.И, Слепцов В.В. Получение плёнок двуокиси кремния методом высокочастотного магнетронного распыления. // Зарубежн. Электронн. Техн. V. 321.1988. Р. 40-56

10. McCracken G.M. The behaviour of surfaces under ion bombardment. // Rep. Progr. Phys. V. 38.1975. P. 241

11. Tsong I.S.T., Barber D.J. Review: Sputtering mechanisms for amorphous and polycrystalline solids. // J. Mater. Sci. V. 8. 1973. P. 123-135

12. Kelly R. On the problem of whether mass or chemical bonding is more important to bombardment-induced compositional changes in alloys and oxides. // Surf. Sci. V. 100.1980. P. 85-107

13. Wang X., Jia H., Zheng W.T., Chen Y., Feng S. Structural and magnetic properties of Co-N thin films synthesized by direct current magnetron sputtering. // Thin Solid Films. V. 517. 2009. P. 4419-4424

14. Фролов E.C., Минайчев B.E. Вакуумная техника: справочник. М.: Машиностроение, 1992. 480 с.

15. Han J.G. Recent progress in thin film processing by magnetron sputtering with plasma diagnostics. // J. Phys. D: Appl. Phys. V. 42. 2009. P. 043001

16. Petrov I., Вата P.В., Hultman L., Greene J.E. Microstructural evolution during film growth. // J. Vac. Sci. Techn. A. V. 21. 2003. P. SI 17-S128

17. Ehrlieh G., Stolt K. Surface Diffusion. // Ann. Rev. Phys. Chem. V. 31. 1980. P. 603-637

18. Ratseh C., Venables J.A. Nucleation theory and the early stages of thin film growth. // J. Vac. Sci. Techn. A. V. 21. 2003. P. S96-S109

19. Мовчан Б.А., Демчишин А.В. Исследование структуры и свойств толстых вакуумных конденсатов никеля, титана, вольфрама, окиси алюминия и двуокиси циркония. // Физ. металлов и металловед. V. 28. 1969. Р. 653-660

20. Thornton J.A. Influence of apparatus geometry and deposition conditions on the structure and topography of thick sputtered coatings. // J. Vac. Sci. Techn. V. 11.1974. P. 666-670

21. Anders A. A structure zone diagram including plasma-based deposition and ion etching. // Thin Solid Films. V. 518. 2010. P. 4087-4090

22. Poueques L., Imbert J.-C., Boisse-Laporte C., Vasina P., BretagneJ., Teule-Gay L., Touzeau M. Spatial characterization of an IPVD reactor: neutral gas temperature and interpretation of optical spectroscopy measurements. // Plasma Sources Sci. Techn. V. 14. 2005. P. 321

23. AdamikM., Barna P.B., Tomov I. Columnar structures in polycrystalline thin films developed by competitive growth. // Thin Solid Films. V. 317.1998. P. 64-68

24. Svalov A.V., Aseguinolaza I.R., Garcia-Arribas A., Orue I., Barandiaran J.M., Alonso J., Fernandez-Gubieda M.L., Kurlyandskaya G.V. Structure and magnetic properties of thin permalloy films near the "transcritical" state. // IEEE Trans. Magn. V. 46. 2010. P. 333-336

25. Wijn H.P.J. Magnetic properties of metals: d-elements, alloys, and compounds. Springer-Verlag, 1991.

26. Zhang Z, Hammel P.C., Midzor M., Roukes M.L., Childress J.R. Ferromagnetic resonance force microscopy on microscopic cobalt single layer films. // Appl. Phys. Lett. Y. 73.1998. P. 2036-2038

27. Belyaev B., Izotov A., Kiparisov S., Skomorokhov G. Synthesis and study of the magnetic characteristics of nanocrystalline cobalt films. // Phys. Sol. St. V. 50. 2008. P. 676-683

28. Pronin I., Gomoyunova M., Solov'ev S., Vilkov O., Vyalikh D. Initial stages of the growth and magnetic properties of cobalt films on the Si( 100)2 x 1 surface. // Phys. Sol. St. Y. 53. 2011. P. 616-621

29. Van Eek S.M., Costina I., Podgurski V., David R., Franchy R. Growth, thermal stability, and magnetic properties of Co films on Ni3Al (001). // J. Appl. Phys. V. 99. 2006. P. 114310-10

30. Mangen T., Bai H.S., Tsay J.S. Structures and magnetic properties for electrodeposited Co ultrathin films on copper. // J. Magn. Magn. Mater. V. 322. 2010. P. 1863-1867

31. Sharma A., Tripathi S., Lakshmi N., Sachdev P., Shripathi T. Thickness dependent magnetic and structural properties of Co films grown on GaAs (100). // Solid State Commun. V. 149. 2009. P. 1033-1038

32. Chang H.W., Tsay J.S., Hung Y.C., Yuan F.T., Chan W.Y., Su W.B., Chang C.S., Yao Y.D. Magnetic properties and microstructure of ultrathin Co/Si(l 11) films. // J. Appl. Phys. V. 101. 2007. P. 09D124-3

33. Chen Y.F., McCord J., Freudenberger J., Kaltofen R., Schmidt O.G. Effects of strain on magnetic and transport properties of Co films on plastic substrates. // J. Appl. Phys. V. 105. 2009. P. 07C302-3

34. Zheng L.A., Barrera E. V., Shull R.D. Magnetic properties of the C0-C6O and Fe-C60 nanocrystalline magnetic thin films. // J. Appl. Phys. V. 97. 2005. P. 094309-9

35. Presa B., Matarranz R., Clavero C., Garcia-Martin J.M., Calleja J.F., Contreras M.C. Morphological and magnetic properties of Co nanoparticle thin films grown on Si3N. // J. Appl. Phys. V. 102. 2007. P. 053901-7

36. Sun H.Y., Feng S.Z., Nie X.F., Sun Y.P. Effect of Co layer thickness on structural and magnetic properties of C/Co/C films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 299. 2006. P. 70-74

37. Kohmoto O., Munakata M. Ferromagnetic resonance in evaporated C0-C0O films. // J. Appl. Phys. V. 77.1995. P. 6718-6720

38. Tsay J.S., ChangH. W., Chiou Y.L., Huang K.T., Chan W. Y., Yao YD. Effect of oxygen exposure on the magnetic properties of ultrathin Co/Ge(lll) films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 304. 2006. P. e68-e70

39. Chang H. W., Tsay J.S., Chang W. Y., Huang K. T., Yao Y.D. Effect of oxygen exposure on the magnetic properties of ultrathin Co/Si(lll)-7x7 films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 321. 2009. P. 2398-2401

40. Szymanski B., Matczak M., Lengemann D., Schmidt M., Ehresmann A., Stobiecki F. Co/Au multilayers with aimed coercive field gradient. / Book of abstr. of the 20th SMM intl. conf. 2011. P. 341.

41. Markou A., Beltsios K.G., Panagiotopoulos I., Vlachopoulou M.E., Tserepi A., Alexandrakis V., Bakas T., Dimopoulos T. Magnetic properties of Co films and Co/Pt multilayers deposited on PDMS nanostructures. // J. Magn. Magn. Mater. V. 321. 2009. P. 2582-2586

42. Grzybowski B.A., Wilmer C.E., Kim J., Browne K.P., Bishop K.J.M. Self-assembly: from crystals to cells. // Soft Matter. V. 5. 2009. P. 1110-1128

43. Cahill D.G. Morphological instabilities in thin-film growth and etching. // J. Vac. Sci. Techn. A. V. 21. 2003. P. S110-S116

44. Ovchinnikov D. V., Bukharaev A.A., Borodin P.A., Biziaev D.A. In situ MFM investigation of magnetization reversal in Co patterned microstructures. // Phys. Low-Dim. Struct. V. 3/4. 2001. P. 103-108

45. Szmaja W., Kozlowski W., Balcerski J., Kowalczyk P.J., Grobelny J., Cichomski M. Study of obliquely deposited thin cobalt films. // J. Alloys Compd. V. 506. 2010. P. 526-529

46. Tekielak M., Gieniusz R., Kisielewski M., Mazalski P., Maziewski A., Zablotskii V., Stobiecki F., Szymanski B., Schafer R. The effect of magnetostatic coupling on spin configurations in ultrathin multilayers. // J. Appl. Phys. V. 110. 2011. P. 043924-11

47. Valenzuela R., Zamorano R., Alvarez G., Gutiérrez M.P., Montiel H. Magnetoimpedance, ferromagnetic resonance, and low field microwave absorption in amorphous ferromagnets. // J. Non-Cryst. Solids. V. 353. 2007. P. 768-772

48. Vergara J., Favieres C., Madurga V. Ultrahigh frequency magnetic susceptibility of Co and Fe cylindrical films deposited by pulsed laser ablation. // J. Appl. Phys. V. 101. 2007. P. 033907-6

49. Pires M.J.M., Denardin J.C., da Silva E.C., Knobel M. Ferromagnetic resonance studies in granular Co-Si02 thin films. // J. Appl. Phys. V. 99. 2006. P. 063908-6

50. Alayo W., Baggio-Saitovitch E., Pelegrini F., Nascimento V.P. Oscillations of the ferromagnetic resonance linewidth and magnetic phases in Co/Ru superlattices. // Phys. Rev. B. V. 78. 2008. P. 134417

51. Kharmouche A., Youssef J.B., Layadi A., Cherif S.M. Ferromagnetic resonance in evaporated Co/Si(100) and Co/glass thin films. // J. Appl. Phys. V. 101.2007. P. 113910-6

52. Beaujour J.M.L., Chen W., Kent A.D., Sun J.Z. Ferromagnetic resonance study of polycrystalline cobalt ultrathin films. // J. Appl. Phys. V. 99. 2006. P. 08N503-3

53. Pires M.J.M., Denardin J.C., Dumitru I., Spinu L. Ferromagnetic resonance studies in Co/Si02 multilayers. // Appl. Surf. Sci. V. 254. 2007. P. 351-354

54. Spoddig D., Meckenstock R., Bucher J.P., Pelzl J. Studies of ferromagnetic resonance line width during electrochemical deposition of Co films on Au(l 11).// J. Magn. Magn. Mater. V. 286. 2005. P. 286-290

55. Steinmuller S.J., Vaz C.A.F., Strom V, Moutafis C., Gurtler C.M., Klaui M., Bland J.A.C., Cui Z. Influence of substrate roughness on the magnetic properties of thin fee Co films. // J. Appl. Phys. V. 101. 2007. P. 09D113-3

56. PelzlJ., Meckenstock R., SpoddigD., Schreiber F., Pflaum J., FraitZ. Spin-orbit-coupling effects on g -value and damping factor of the ferromagnetic resonance in Co and Fe films. // J. Phys.: Cond. Matter. V. 15. 2003. P. S451

57. Ohtake M., Futamoto M., Kirino F., Fujita N., Inaba N. Epitaxial growth of hep/fee Co bilayer films on A1203 (0001) substrates. // J. Appl. Phys. V. 103.2008. P. 07B522-3

58. Fermento R., Leitao D.C., Teixeira J.M., Pereira A.M., Carpinteiro F., Ventura J., Araujo J.P., Sousa J.B. Structural, magnetic and transport properties of ion beam deposited Co thin films. // J. Non-Cryst. Solids. V. 354. 2008. P. 5279-5281

59. Cerisier M., Attenborough K., Cells J.P., Van Haesendonck C. Structure and magnetic properties of electrodeposited Co films onto Si(100). // Appl. Surf. Sei. V. 166. 2000. P. 154-159

60. Saisyu Y., Hirahara Т., Hobara R., Hasegawa S. Manipulation of magnetic anisotropy of Co ultrathin films by substrate engineering. // J. Appl. Phys. V. 110. 2011. P. 053902-6

61. Вонсовский C.B. Магнетизм. M.: Наука, 1971. 1032 с.

62. Zolotaryov A., Bugayev Y., Samofalov V, Devizenko О., Zubarev Е., Martens S., Albrecht О., Görlitz D., Nielsch К. Structural and magnetic phenomena in ultrathin C/Co/C stacks prepared by DC magnetron sputtering. // Phys. Status Solidi A. V. 208. 2011. P. 1698-1703

63. Lin W.-C., Huang Y.-Y., Ho T.-Y., Wang C.-H. Stable canted magnetization in Co thin films on highly oriented pyrolytic graphite induced by template defects. // Appl. Phys. Lett. V. 99. 2011. P. 172502-3

64. Loser W., Hermann R., Volkmann Т., Herlach D.M., Mullis A., Granasy L., Vinet В., Mats on D.M. Study and modelling of nucleation and phase selection phenomena: application to refractory metals and alloys from droptube processing. // Microgravity research and aplications in physical sciences and biotechnology: proceedings of the first International symposium held 10-15 September, 2000 in Sorrento, Italy. Edited by O.

Minster and В. Schurmann. V. European Space Agency, ESA SP-454. 2001. P.1123

65. Лякишев Н.П. Диаграммы состояния двойных металлических систем: справочник. Т. 2. М.: Машиностроение, 1997. 1024 с.

66. Rahaman М., Ruban А. V., Mookerjee A., Johansson В. Magnetic state effect upon the order-disorder phase transition in Fe-Co alloys: A first-principles study. // Phys. Rev. В. V. 83. 2011. P. 054202

67. Oyedele J.A., Collins M.F. Composition dependence of the order-disorder transition in iron-cobalt alloys. // Phys. Rev. В. V. 16.1977. P. 3208-3212

68. Greer A.L. Diffusion and reactions in thin films. // Appl. Surf. Sci. V. 86. 1995. P. 329-337

69. Frincu В., Rivoirard S., Geoffroy O., Waeckerle T. High magnetic field effect on the solid state phase transformation in Fe-Co alloys. // Proceedings to the 20th international Conference on Soft Magnetic Materials. V. 2011. P. 187

70. Choi K.-K., Murase Т., Hiratsuka N., Kakizaki K. Granular substance, magnetic thin film, and magnetic device. //U.S. Patent & Trademark Office, 20060228589. V. 2006. P. 20060228589

71. Пятин Ю.М. Материалы в приборостроении и автоматике: справочник. М.: Машиностроение, 1982. 528 с.

72. McHenry М.Е., Willard М.А., Laughlin D.E. Amorphous and nanocrystalline materials for applications as soft magnets. I I Progr. Mater. Sci. V. 44.1999. P. 291-433

73. Mao M., Schneider Т., Bubber R., Kools J., Liu X., Altounian Z, Lee C.-L., Devasahayam A., Rook K. Optimization of high Bsat FeCo films for write pole applications. // J. Appl. Phys. V. 97. 2005. P. 10F908-3

74. Wu Y.P., Han G.-C., KongL.B. Microstructure and microwave permeability of FeCo thin films with Co underlayer. // J. Magn. Magn. Mater. V. 322. 2010. P. 3223-3226

75. Fu Y., Miyao Т., Cao J. W., Yang Z, Matsumoto M., Liu X.X., Morisako A. Effect of Co underlayer on soft magnetic properties and microstructure of FeCo thin films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 308. 2007. P. 165-169

76. Liu X., Kanda H., Morisako A. The effect of underlayers on FeCo thin films. // J. Phys.: Conf. Ser. V. 266. 2011. P. 012037

77. Mitani S., Niizeki T. Structural instability of FeCo ultrathin films grown on MgO(lOO). // J. Phys.: Conf. Ser. V. 266. 2011. P. 012121

78. Pan Z.Y., Rawat R.S., Verma R., Lin J.J., Yan H., Ramanujan R. V., Lee P., Springham S.V., Tan T.L. Miniature plasma focus as a novel device for synthesis of soft magnetic FeCo thin films. // Phys. Lett. A. V. 374. 2010. P. 1043-1048

79. Rantschler J.O., Alexander Jr С., Jung H.-S. Ferromagnetic resonance in soft Cu/FeCo. // J. Magn. Magn. Mater. V. 286. 2005. P. 262-266

80. Li Z.-W:, Yang X., Wang H. -В., Liu X., Li F. -S. Mossbauer study of the field induced uniaxial anisotropy in electro-deposited FeCo alloy films. // Chinese Phys. В. V. 18. 2009. P. 4829

81. Li J., Zhang X, Jiao D., Ni X, Wang S. Magnetic properties and high frequency characteristics of (Fe81Col9)N thin films. // Thin Solid Films. V. 516. 2008. P. 3217-3222

82. Liu Y, Liu Z.W., Tan C.Y., Ong C.K. High frequency characteristics of FeCoN thin films fabricated by sputtering at various (Ar + N2) gas flow rates. // J. Appl. Phys. V. 100. 2006. P. 093912-5

83. Wang W, Chen Y., Yue G.H., Sumiyama K., Hihara Т., PengD.L. Magnetic softness and high-frequency characteristics of Fe65Co35-0 alloy films. // J. Appl. Phys. V. 106. 2009. P. 013912-6

84. Edon V., Dubourg S., Vernieres J., Warot-Fonrose В., Bobo J.F. Effects of С addition in Fe65Co35 and Fe9.5Co90.5 soft magnetic films. // J. Appl. Phys. V. 107. 2010. P. 09A321-3

85. Wang X., Deng L.J., Xie J.L., Li D. Observations of ferromagnetic resonance modes on FeCo-based nanocrystalline alloys. // J. Magn. Magn. Mater. V. 323. 2011. P. 635-640

86. Han M., Lu H., Deng L. Control of gigahertz permeability and permittivity dispersion by means of nanocrystallization in FeCo based nanocrystalline alloy. // Appl. Phys. Let. V. 97. 2010. P. 192507-3

87. Миегтапп В., Nitsch F., Sperl M., Spitzer A., Bayreuther G. Magnetic anisotropy of Fe0.34Co0.66 (110) on GaAs(llO). // J. Appl. Phys. V. 103. 2008. P. 07B528-3

88. Leiste H., Seemann K., Ziebert C. The influence of the geometry of micro-patterned thin films on the effective permeability and resonance frequency by domains development. // J. Magn. Magn. Mater. V. 322. 2010. P. 13851388

89. Coisson M., Celegato F., Tiberto P., Vinai F. Magnetic properties of field-annealed FeCo thin films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 320. 2008. P. e739-e742

90. Lu G., Zhang H., Xiao J.Q., Bai F., Tang X., Li Y., Zhong Z. Influence of sputtering power on the high frequency properties of nanogranular FeCoHfO thin films. // J. Appl. Phys. V. 109. 2011. P. 07A327-3

91. Sankar S., Berkowitz A.E., Dender D., Borchers J.A., Erwin R.W., Kline S.R., Smith D.J. Magnetic correlations in non-percolated Co-Si02 granular films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 221. 2000. P. 1-9

92. Costacurta S., Malfatti L., Lnnocenzi P., Amenitsch H., Masili A., Corrias A., Casula M.F. Confined growth of iron cobalt nanocrystals in mesoporous silica thin films: FeCo-Si02 nanocomposites. // Microporous Mesoporous Mater. V. 115. 2008. P. 338-344

93. LuX., Liang G., Zhang Y Structure and magnetic properties of FeCo-Si02 nanocomposite synthesized by a novel wet chemical method. // Mater. Lett. V. 61. 2007. P. 4928-4931

94. Ennas G., Casula M.F., FalquiA., Gatteschi D., Marongiu G., Piccaluga G., Sangregorio C., Pinna G. Nanocrystalline iron-cobalt alloys supported on a silica matrix prepared by the sol-gel method. // J. Non-Cryst. Solids. V. 293-295. 2001. P. 1-9

95. Wang C., Baer D.R., Amonette J.E., Engelhard M.H., Antony J., Qiang Y. Morphology and electronic structure of the oxide shell on the surface of Iron nanoparticles. //J. Am. Chem. Soc. V. 131. 2009. P. 8824-8832

96. Falqui A., Serin V., Calmels L., Snoeck E., Corrias A., Ennas G. EELS investigation of FeCo/Si02 nanocomposites. // J. of Microscopy. V. 210. 2003. P. 80-88

97. Casu A., Casula M.F., Corrias A., Falqui A., Loche D., Marras S., Sangregorio C. The influence of composition and porosity on the magnetic properties of FeCo-Si02 nanocomposite aerogels. // Phys. Chem. Chem. Phys. V. 10. 2008. P. 1043-1052

98. Wang C., Zhang Y, Zhang P., Rong Y., Hsu T.Y. Influence of annealing on microstructure and magnetic-transport of FeCo-Si02 nanogranular films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 320. 2008. P. 683-690

99. Shihui G., Dongsheng Y, Masahiro Y., Xiaolin Y., Huaping Z., Takeshi L, Dong Z., Fashen L. Microstructure and magnetism of FeCo-SiO 2 nanogranular films for high frequency application. // J. Phys. D: Appl. Phys. V. 40. 2007. P. 3660

100. Wang C., Xiao X., Rong Y., Hsu H.Y. Nanoparticle morphology in FeCo-Si02 granular films with tunneling giant magnetoresistance. // Mater. Sci. Eng.: B. V. 141. 2007. P. 126-131

101. Yao D., Ge S., Zhou X. Study on microstructure and soft magnetism of (Fe65Co35)x(Si02)l-x nano-granular films with very high ferromagnetic resonance frequency. // Physica B. V. 405. 2010. P. 1321-1324

102. Zhang L., Guo Q., Zhu Z.W., Bi L., Xie J.L., Deng L.J. Compositional dependence of Young's moduli for amorphous FeCo-Si02 thin films. // J. Appl. Phys. V. 109. 2011. P. 07A929-3

103. Herzer G. Soft magnetic nanocrystalline materials. // Scripta Metall. Mater. V. 33.1995. P. 1741-1756

104. Mansuripur M. The physical principles of magneto-optical recording. Cambridge University Press, 1998. 776 p.

105. Alben R., Becker J.J., Chi M.C. Random anisotropy in amorphous ferromagnets. // J. Appl. Phys. V. 49.1978. P. 1653-1658

106. Liu B., Yang Y., Tang D., Chen J., Lu H., Lu M., Shi Y. Influence of multiple magnetic phases on the extrinsic damping of FeCo-Si02 soft magnetic films. // J. Appl. Phys. V. 107. 2010. P. 033911-4

107. Lagarkov A.N., Rozanov K.N., Simonov N.A., Starostenko S.N. Microwave permeability of magnetic films. // Handbook of Adv. Magn. Mater. V. 13. 2006. P. 1742-1773

108. Kittel С. Theory of the dispersion of magnetic permeability in ferromagnetic materials at microwave frequencies. // Phys. Rev. V. 70.1946. P. 281-290

109. Kittel C. On the theory of ferromagnetic resonance absorption. // Phys. Rev. V. 73.1948. P. 155-161

110. Snoek J.L. Dispersion and absorption in magnetic ferrites at frequencies above one Mc/s. // Physica. V. 14.1948. P. 207-217

111. Acher O., Boscher C., LeGuellec P., Baclet P., Perrin G. Investigation of the gyromagnetic permeability of amorphous CoFeNiMoSiB manufactured by different techniques // IEEE Trans. Magn. V. 32.1996. P. 4833 - 4835

112. Acher O., Jacquart P.M., Fontaine J.M., Baclet P., Perrin G. High impedance anisotropic composites manufactured from ferromagnetic thin films for microwave applications // IEEE Trans. Magn. V. 30. 1994. P. 4533 -4535

113. Зефиров H.C. (гл. ред.) Химическая энциклопедия, Т. 4. М.: Большая Российская энциклопедия, 1995. 641 с.

114. Iakubov I.T., Lagarkov A.N., Maklakov S.A., Osipov A.V., Rozanov K.N., Ryzhikov I.A., Simonov N.A., Starostenko S.N. Experimental study of microwave permeability of thin Fe films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 258259. 2003. P. 195-197

115. Iakubov I.T., Lagarkov A.N., Maklakov S.A., Osipov A.V., Rozanov K.N., Ryzhikov I.A., Samsonova V.V., Sboychakov A.O. Microwave and static magnetic properties of multi-layered iron-based films. // J. Magn. Magn. Mater. V. 321. 2009. P. 726-729

116. Fausto F. Measurements of magnetic materials. // Metrologia. V. 47. 2010. P. SI 14

117. Ledieu M., Acher O. New achievements in high-frequency permeability measurements of magnetic materials. // J. Magn. Magn. Mater. V. 258-259. 2003. P. 144-150

118. Iakubov I.T., Kashurkin O.Y., Lagarkov A.N., Maklakov S.A., Osipov A.V., Rozanov K.N., Ryzhikov I.A., Starostenko S.N. A contribution from the magnetoelastic effect to measured microwave permeability of thin ferromagnetic films. // J.Magn. Magn. Mater. V. 10.1016/j.jmmm.2012.02.048. 2012. P. (in press)

119. Tarey R.D., Rastogi R.S., Chopra K.L. Characterization of thin films by glancing incidence X-ray diffraction. The Rigaku Journal. Vol. 4/ No. 1/ 2. Available 15.04.2012 at: http://www.rigaku.com/downloads/journaW o!4.1987/tarey.pdf

120. Akselrud L.G., Zavalii P.Y., Grin Y.N., Pecharsky V.K., Baumgartner B., Wolfel E. Use of the CSD program package for structure determination from powder data. // Proceedings of the 2nd European Powder Diffraction Conference (EPDIC II) held in Enschede, The Netherlands. V. 1992. P. 133136

121. Rigaku, Corporation. The Rigaku SmartLab Brochure. Available 15.04.2012 at: http://dis.fatih.edu.tr/store/docs/92587 s4Bbakcx.pdf

122. Lagarkov A.N., lakubov I.T., Ryzhikov I.A., Rozanov K.N., Perov N.S., Elsukov E.P., Maklakov S.A., Osipov A.V., Sedova M.V., Getman A.M., Ulyanov A.L. Fe-N films: Morphology, static and dynamic magnetic properties. // Physica B. V. 394. 2007. P. 159-162

123. Yoshihara A., Mawatari J.-i., Sato H., Okamoto S., Kitakami O., Shimada Y. Brillouin light scattering from spin waves in epitaxial hep Co films. // Phys. Rev. B. V. 67. 2003. P. 134435

124. Medina J.D.L.T., Darques M., Piraux L., Encinas A. Application of the anisotropy field distribution method to arrays of magnetic nanowires. // J. Appl. Phys. V. 105. 2009. P. 023909-9

125. Scott G.G., Stumer H.W. Magnetomechanical ratios for Fe-Co alloys. // Phys. Rev. V. 184. 1969. P. 490-491

126. Hegyi I. Ferromagnetic spinels with rectangular hysteresis loops. // J. Appl. Phys. V. 25.1954. P. 176

127. Jacobsohn L., Averitt R., Nastasi M. The role of trapped Ar atoms in the mechanical properties of boron carbide films deposited by dc-magnetron sputtering. // J. Vac. Sci. Technol. A. V. 21. 2003. P. 1639

128. Von Heimendahl M., Bell W., Thomas G. Applications of Kikuchi line analyses in electron microscopy. // J. Appl. Phys. V. 35.1964. P. 3614-3616

129. Freund L.B., Suresh S. Thin film materials: stress, defect formation, and surface evolution. Cambridge University Press, 2003.

130. Dhanaraj G., Byrappa K., Prasad V., Dudley M. Springer Handbook of Crystal Growth. Dordrecht London New York Springer Heidelberg, 2010.

131. Popok V.N. Energetic cluster ion beams: Modification of surfaces and shallow layers. // Mater. Sci. Eng.: R. V. 72. 2011. P. 137-157

132. Маклаков С. С., Маклаков С.А., Рыжиков И.А., Розанов КН., Осипов А.В., Набоко А. С., Амеличев В.А., Куликов С.В. Структура и СВЧ магнитная проницаемость тонких пленок кобальта. // Российские нанотехнологии. V. 7. 2012. Р. (в печати)

133. Вонсовский С.В. Ферромагнитный резонанс. М.: Гос. изд-во физ.-мат. лит-ры, 1961. 344 с.

134. Lagarkov A., Maklakov S., Osipov A., Petrov D., Rozanov К., Ryzhikov I., Sedova M, Starostenko S., Yakubov I. Properties of layered structures based on thin ferromagnetic films. // J. Commun. Techn. Electr. V. 54. 2009. P. 596-603

135. Soohoo R.F. Magnetic thin films. Harper & Row, 1965.316.

136. Агамиров Л.В. Сопротивление материалов. M.: Астрель, ACT, 2003. 256 с.

137. Александров А.В., Потапов В.Д., Державин Б.П. Сопротивление материалов. М.: Высш. школа, 2003. 560.

138. Бозорт P.M. Ферромагнетизм. М.: Изд-во иностр. лит-ры, 1951. 784 с.

139. Kawai Т., Ohtake М., Futamoto М. Saturation magnetostriction measurements of magnetic thin films under high magnetic fields. // Thin Solid Films. V. 519. 2011. P. 8429-8432

140. Qin G., Xiao N., Yang В., Ren Y., Pei W., Zhao X. Amorphous forming ability of Co-X (X=Cr, Mo, W) magnetic thin films. // Acta Metall. Sinica (Eng. Lett.). V. 22. 2009. P. 415-420

141. Matthews F.L., Rawlings R.D. Composite materials: engineering and science. CRC Press, 1999.

142. Huynh N.T.X., Hoang V.V., Zung H. Microstructural analysis of liquid and amorphous Si02 nanoparticles. // Physica B: Condensed Matter. V. 403. 2008. P. 3199-3205

143. Gunnlaugsson H.P., Lippens P.-E., Jumas J.-C., Genin J.-M.R. A simple model to extract hyperfine interaction distributions from Mossbauer spectra. // Proceedings to the ICAME conference. V. 2. 2006. P. 851-854

144. Vertes A., Nagy S., Klencsär Z., Lovas R.G., Rösch F. Handbook of Nuclear Chemistry Vol.3. Dordrecht Heidelberg London New York Springer, 2011. 3049.

145. Liang X.B., Kulik T., Ferenc J., Erenc-Sedziak T., Xu B.S., Grabias A., Kopcewicz M. Mössbauer study on amorphous and nanocrystalline (Fe 1 -xCox)86Hf7B6Cu 1 alloys. // Materials Characterization. V. 58. 2007. P. 143-147

146. DeMayo B., Forester D.W., Spooner S. Effects of atomic configurational changes on hyperfine interactions in concentrated Iron-Cobalt alloys. // J. Appl. Phys. V. 41.1970. P. 1319-1320

147. Singh C. V., Warner D.H. Mechanisms of Guinier-Preston zone hardening in the athermal limit. // Acta Materialia. V. 58. 2010. P. 5797-5805

148. Clementi E., Raimondi D.L., Reinhardt W.P. Atomic screening constants from SCF functions. II. Atoms with 37 to 86 electrons. // J. Chem. Phys. V. 47.1967. P. 1300-1307

149. Denton A.R., Ashcroft N.W. Vegard's law. // Phys. Rev. A. V. 43. 1991. P. 3161-3164

150. Wei Z., Xia T., Ma J., Feng W, Dai J., Wang Q., Yan P. Investigation of the lattice expansion for Ni nanoparticles. // Mater. Charact. V. 58. 2007. P. 1019-1024

151. Popok V.N., Barkel., Campbell E.E.B., Meiwes-Broer K.-H. Cluster-surface interaction: From soft landing to implantation. // Surf. Sei. Rep. V. 66. 2011. P. 347-377