Магнетронные распылительные системы с электромагнитами тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.14, кандидат технических наук Духопельников, Дмитрий Владимирович

• Духопельников, Дмитрий Владимирович
• кандидат технических наук
• 2007

Оглавление диссертации кандидат технических наук Духопельников, Дмитрий Владимирович

Введение.

Глава 1. СОСТОЯНИЕ ИССЛЕДОВАНИЙ МАГНЕТРОННЫХ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫХ

СИСТЕМ.

1.1. Основные характеристики магнетронных распылительных систем.

1.2. Конструктивные схемы магнетронных распылительных систем.

1.3. Исследования внешних характеристик магнетронных распылительных систем.

1.4. Экспериментальные исследования особенностей рабочего процесса в магнетронных распылительных системах.

1.5. Теоретические исследования рабочего процесса в магнетронных распылительных системах.

Глава 2. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ УСТАНОВКА И МЕТОДЫ

ИЗМЕРЕНИЙ.

2.1. Схема установки.

2.2. Экспериментальные магнетронные распылительные системы.

2.3. Электрический одиночный зонд Ленгмюра.

2.4. Особенности зондовых измерений в плазме с магнитным полем.

2.5. Конструкция зонда и схема зондовых измерений.

2.6. Методика измерений магнитного поля и холловского тока в магнетронном разряде.

Глава 3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ РАЗРЯДА В

МАГНЕТРОННЫХ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМАХ.

3.1. Вольтамперные характеристики (ВАХ) разряда в магнетронных распылительных системах.

3.2. Конфигурация магнитных полей в разрядном промежутке и их влияние на форму разряда.

3.2. Измерение распределения локальных параметров плазмы в прикатодной области разряда.

3.4. Исследование внешней границы области замагниченной плазмы.

3.5. Экспериментальное определение величины холловского тока в разряде магнетронной распылительной системы.

Глава 4. ЭЛЕКТРОМАГНИТЫ ДЛЯ МАГНЕТРОННЫХ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМ.

4.1. Распределение магнитной индукции над поверхностью катода в зависимости от параметров электромагнита.

4.2. Электромагнитная система для распыления ферромагнитных материалов.

Глава 5. ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ РАЗРЯДНОГО ПРОМЕЖУТКА

МАГНЕТРОННОЙ РАСПЫЛИТЕЛЬНОЙ СИСТЕМЫ.

5.1. Структура разрядного промежутка.

5.2. Некоторые константы, характерные для области замагниченной плазмы. Распределение В, E,jp в области замагниченной плазмы.

5.3. Эквивалентное давление и признаки подобия коэффициента ионизации в присутствии магнитного поля.

5.4. Распределение коэффициента ионизации в разрядном промежутке.Л

5.5. Распределение плотности электронного тока je, плотности ионного тока jh концентрации плазмы пе в разрядном промежутке.

5.6. Параметры разряда на границе области замагниченной плазмы и катодного слоя.

5.7. Градиент электронного давления и его учет в описании плазмы магнетронного разряда.

5.8. Холловский ток в области замагниченной плазмы.

5.9. Баланс энергии электронов и температура электронов в анодной области разряда.

5.10. Функция распределения ионов по энергиям на входе в катодный слой. Средняя энергия ионов на входе в катодный слой.

5.11. Минимальное рабочее давление.

5.12. Внешняя граница области замагниченной плазмы.

5.13. Толщина катодного слоя.

5.14. Движение электронов в катодном слое.

5.15. Ионизирующая способность катодного слоя.

5.16. Функция распределения ионов по энергиям на поверхности катода. Средняя энергия иона на поверхности катода.

ВЫВОДЫ.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Магнетронные распылительные системы с электромагнитами»

Метод магнетронного распыления широко используется в технологии нанесения тонких пленок, в частности, в электронной и оптической промышленности, а также в машиностроении. [1], [2]. Однако недостаток знаний о строении магнетронного разряда сужает возможность управления его параметрами, не раскрывает причину таких эффектов, как устойчивость разряда или работоспособность магнетронной системы. Как замечено в [3], практическое применение магнетронных распылительных систем (MPC) значительно опередило разработку теории их работы и появление методики расчета.

В настоящее время важной задачей для магнетронных распылительных систем является возможность распыления ферромагнитных материалов, в частности, ферромагнитных материалов для накопителей информации. Применение магнетронных распылительных систем для нанесения сложных многослойных оптических покрытий на крупногабаритные оптические детали и плоских систем отображения информации требует увеличения стабильности работы при реактивных процессах. При этом необходимо получать покрытия с воспроизводимостью свойств и толщины, сравнимой с воспризводимостью при электронно-лучевой технологии. Применение магнетронных распылительных систем в нанотехнологии требует высокой стабильности скорости нанесения покрытия. Все эти задачи могут быть решены с помощью магнетронов, оснащенных электромагнитными системами, которые позволяют гибко управлять величиной и конфигурацией магнитного поля, а также получать магнитные потоки необходимые для магнитного насыщения и распыления ферромагнитных катодов. Однако на сегодняшний день магнетронные системы с электромагнитными системами не получили широкого распространения так как отличаются сложностью изготовления и проблемами в управлении разрядом. Это, в значительной мере, связано с неполным представлением о влиянии конфигурации магнитного поля на рабочие характеристики магнетронного разряда. Поэтому выбор представленного направления исследований является актуальным и, что особенно важно, нацеленным на практический промышленный выход. Целью работы является

-исследование физических процессов в магнетронной распылительной системе;

-разработка рекомендаций для проектирования электромагнитных систем промышленных магнетронов;

-разработка электромагнитной системы, которая должна обеспечивать: распыление ферромагнитных материалов со скоростью удовлетворяющей производство накопителей информации на жестких магнитных дисках; распыление металлических мишеней в среде реактивного газа при заданной скорости нанесения диэлектрических и полупроводниковых покрытий для оптических деталей и средств отображения информации; управление разрядом с помощью магнитной системы, минуя значительные изменения давления в камере и напряжения источника питания.

Основными задачами данной работы являются:

-экспериментальное определение распределения локальных параметров плазмы (потенциал и концентрация плазмы, температура электронов) в области замагниченной плазмы и выяснения связи полученного распределения с распределением индукции магнитного поля;

-теоретическое описание потоков заряженных частиц в области замагниченной плазмы и прикатодной области разряда;

-определение граничных условий существования разряда; -получение рекомендаций для проектирования электромагнитных систем промышленных магнетронов.

Научная новизна работы состоит в следующем:

- экспериментально получено пространственное распределение локальных параметров плазмы в прикатодной области MPC: электронной температуры, концентрации и потенциала плазмы;

- экспериментально определено положение внешней границы разряда, которая имеет потенциал анода и установлена количественная связь между положением этой границы, а также величиной и формой поля В, давлением и родом рабочего газа;

- получены критерии работоспособности MPC и области допустимых рабочих параметров;

- разработана методика оценочного расчета магнитных полей в MPC с электромагнитной системой.

На защиту выносятся:

-результаты экспериментального исследования распределения локальных параметров плазмы в прианодной области и области замагниченной плазмы MPC: электронной температуры, концентрации и потенциала плазмы;

-результаты экспериментального определения положения внешней границы разряда в MPC, а также исследование параметров плазмы на этой границе;

-результаты измерения величины холловского тока в прикатодной области разряда;

- результаты теоретического исследования разряда в MPC; -методика оценочного расчета магнитных полей в MPC с электромагнитной системой.

- рекомендации по проектированию MPC.

Заключение диссертации по теме «Теплофизика и теоретическая теплотехника», Духопельников, Дмитрий Владимирович

Основные результаты, представленные в диссертации, опубликованы в следующих печатных изданиях;

1. Духопельников Д.В., Марахтанов М.К. Структура разряда в магнетронной системе ионного распыления //Физика низкотемпературной плазмы: Материалы VIII Всесоюзной конференции. -Минск, 1991. -Часть 2. -С.63-64.

2. Духопельников Д.В., Марахтанов М.К. Значения параметра Холла, характерные для внешней границы зоны замагниченной плазмы в ЕхВ разряде низкого давления //Двигательные, энергетические и электрофизические установки космических, летательных аппаратов: Тезисы докладов Всесоюзной юбилейной конференции, посвященной 100-летию со дня рождения A.B. Квасникова,-Москва, 1992. -С.13.

3. Духопельников Д.В. Исследование магнитных полей в магнетронных системах ионного распыления //Состояние и перспективы дальнейшего развития плазменных процессов: Тезисы докладов к Всесоюзному научно-техническому совещанию. -Москва, 1992. -С. 13-16.

4. Управление движением катодного пятна в линейных вакуумно-дуговых испарителях /Д.В. Духопельников. A.B. Жуков, A.A. Костин и др. //Упрочняющие технологии и покрытия. - 2005. - №11. -С.45-49.

5. Духопельников Д.В. Измерения магнитного поля и холловского тока в разряде магнетронной распылительной системы //Электровакуумная техника и технология: Труды Всероссийского постоянно действующего научно-технического семинара. - Москва, 2006. -Том 3. -С.174-177.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Духопельников, Дмитрий Владимирович, 2007 год

1. Vossen J. L., Werner К. Thin Film Processes. -N.-Y.; S. Fr.; L.: Academic Press, 1978. -564p.

2. Schiller S., Heising V. Electron beam evaporation and high-rate sputtering with plasmatron/ magnetron systems a comparison INakuum - Technik. -1978. -H.21, №1. -P.51-56 '"'

3. Wasa K., Hayakawa Sh. Some features of magnetron sputtering //Thin Solid Films.-1978.-V.52.-P.31-43.

4. Данилин B.C., Сырчин B.K. Магнетронные распылительные системы. -M.: Радио и связь, 1982. -72 с.

5. Pat. 4407713 (USA), Int. CI. C23C 15/00. Cilindrrical magnetron sputterin cathode and apparatus/ Bogdan Zega. -Issue date 04.10.1983.

6. Pat. 4842703 (USA), Int. CI. C23C 14/34. Magnetron cathode and method for sputter coating/ Walter H. Class, James F. Smith. -Issue date 27.06.1989.

7. Кесаев И.Г., Пашкова B.B. электромагнитная фиксация катодного пятна //Журн. техн. физики. -1959. -Т.29, №3. -С.287-298.

8. Осаждение металлических пленок путем распыления из жидкой фазы / Б.С. Данилин, М.В. Какурин, В.Е. Минайчев и др. //Электронная техника. Сер. Микроэлектроника. -1978. тВып. 2 (74). -С.84-87.

9. Данилин Б.С., Неволин В.К., Сырчин В.К. Исследование разряда в магнетронных системах ионного распыления //Электронная техника. Сер. 3, Микроэлектроника. -1977. -Вып. 3 (69). -С.37-44.

10. Данилин Б.С., Неволин В.К., Сырчин В.К. Исследование магнетронной системы ионного распыления материалов //Физика и химия обработки материалов.-1978.-№2.>с.33-39.

11. Данилин Б.С., . Сырчин В.К., Тимофеев П.А. Исследование равномерности нанесения .тонкопленочных слоев в магнетронных системах ионного распыления материалов //Физика и химия обработки материалов.-1979.-№3. -С.108-112.

12. Данилин Б.С., Киреев В.Ю., Сырчин В.К. Энергетическая эффективность процесса ионного распыления материалов и систем для его реализации //Физика и химия обработки материалов. -1979.-№2. -С.52-56.

13. Корчагина М.Н., Савенков Н.В., Корчагин Б.В. Математическое моделирование рабочих характеристик магнетронных систем ионного распыления //Электронная техника. Серия 1. Электроника СВЧ. -1986. -Вып. 1 (385). -С.62-63.

14. Сейдман JI.A. Получение пленок нитрида кремния реактивным распылением на постоянном токе //Электронная, промышленность. -1984. -Вып.4(132).-С.15-20.

15. Сейдман JI.A. Получение пленок нитрида титана реактивным магнетронным распылением //Электронная техника. Серия 2. Полупроводниковые приборы. -1985. -Вып. 2 (175). -С.69-75.

16. Сейдман JI.A Механизм роста пленок нитрида кремния при реактивном магнетронном распылении //Электронная техника. Серия 2. Полупроводниковые приборы. -1985. -Вып. 2 (178). -С.44-47.

17. Kay Е. Magnetic field effects on an abnormal truncated glow discharge and their relation to sputtered thin film growth //J. Apppl. Phys. 1963. -Vol. 34, №12. -P. 157-164.

18. Wasa K., Hayakawa S. Sputtering in crossed electromagnetic field //IEEE Trans, on parts, mater, and pack». -1967. -Vol.3, №3. -P.70-76.

19. Кервалишвили H.A., Жаринов A.B. Характеристики разряда низкого давления в поперечном магнитном поле //ЖТФ. -1965. -Е.35, №12. -С.2194.

20. Саночкин Ю.В. Неустойчивость разряда низкого давления с замкнутым холловским дрейфом //ЖТФ. -1975. -Е.45, №3. -С. 555-562.

21. Meyer R.X. A Space-Charge-Sheath Electric Thruster //AIAA J. -1967. -V.5,No.ll -P.2057-2059.

22. Meyer R.X., Laboratory Testing of the Space-Charge-Sheath Electric

23. Характеристики холловского ускорителя ионов с анодным слоем /С.Д. Гришин, B.C. Ерофеев, Л.В. Лесков и др. //2-я Всесоюзная конференция по плазменным ускорителям; Материалы 2-й Всесоюзной конференции по плазменным ускорителям. -Минск, 1973. -С.126-127.

24. Марахтанов М.К., Понкратов А.Б., Хохлов Ю.А. Работа ускорителя плазмы магнетронного типа в режиме нанесения тонких пленок //1-я Всесоюзная конференция по физике и технологии тонких пленок: Тезисы докл. -Ивано-Франковск, 1981. -С.83.

25. Марахтанов М.К., Мамонов В.И., Понкратов А.Б. Магнетронный ускоритель плазмы для нанесения тонких пленок //1-я Всесоюзная конференция по.физике и.технологии тонких пленок: Тезисы докл. -Ивано-Франковск, 1981.-С.84.

26. Марахтанов М.К. Магнетронные системы ионного распыления. -М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 1990. -76 с.

27. Марахтанов М.К. Применение в технике ускорителей плазмы магнетронного типа //Плазменные ускорители и ионные инжекторы. М.: Наука, 1984.-С.264-268.

28. Определение энергии ионов в плазме разряда с замкнутым дрейфом электронов в режиме интенсивного распыления катода /С.Д. Гришин, В.И. Мамонов, М.К. Марахтанов и др. //Физика и химия обработки материалов. -1986. -№2.-С.131-132.

29. Марахтанов М.К., Понкратов А.Б. Разряд низкого давления в парах металла собственного катода //Письма в ЖТФ. -1989. -Т.15, вып. 4. -С.91-94.

30. Гвоздев В.В. Исследование магнетронных распылительных систем сжидкометаллическим катодом с целью увеличения производительности и снижения энергозатрат процесса катодного распыления: Дис. .канд.техн.наук. -Москва, 1999.-131с.

31. Fukami Т., Sakuma Т. Target erosion pattern in planar magnetron sputtering //Japanese Journal of Applied Physics. V.21, № 12, -P.1680-1683.

32. Wendt А.Е., Lieberman М.А. Spatial structure of a planar magnetron discharge // J. Vac. Sci. Technol. 1989. - V. A8, №2. - P.902-907.

33. Rosnagel S.M., Kaufman H.R. Langmuir probe characterization of magnetron operation//J. Vac. Sci. Technol. 1986. - V. A4, №3. - P.1822-1825.

34. Rosnagel S.M., Kaufman H.R. Charge transport in magnetrons //J. Vac. Sci. Technol. 1987. - V. A5, №1. - P.88-9J.

35. Rosnagel S.M., Kaufman H.R. Induced drift currents in circular planar magnetrons //J. Vac. Sci. Technol. 1987. - V. A5, №4. - P.2276-2279.

36. Sheridan Т.Е., Gorse J. Low-frequency turbulent transport in magnetron plasma //J. Vac. Sci. Technol. 1989. - V. A7, N3. - P.1014-1018.

37. Rosnagel S.M. Gas density reduction effects in magnetrons //J. Vac. Sci. Technol. 1988. - V. A6, №i. - p.19-24.

38. Rosnagel S.M., Saenger K.L. Optical emission in magnetrons: nonlinear aspects //J. Vac. Sci. Technol. 1989. - V. A7, №3. - P.968-971.

39. Духопельников .Д.В., Марахтанов M.K. Структура разряда в магнетронной системе ионного распыления //Физика низкотемпературной плазмы: Материалы VIII Всесоюзной конференции. -Минск, 1991. -Часть 2.-С.63-64.

40. Елистратов Н.Г. Экспериментальное моделирование взаимодействия плазмы изотопов водорода с элементами стенки реактора ИТЭР: Дис. . .канд.техн.наук. -Москва, 2004. -192с.

41. Бурмакинский И.Ю., Рогов А.В. Влияние резонансной перезарядки ионов аргона на эффективную скорость распыления в магнетронном разряде //Журнал технической физики. 2004. -Т.74, вып.1. -С. 120-122.

42. Бурмакинский И.Ю., Рогов А.В. Расчет профиля выработки катода для магнетронных систем ионного распыления //Журнал технической физики. -2003. -Т.73, вып.Ю. -С.46-50.

43. Soxman E.J. Current-Voltage relationships for an inverted magnetron type d.c. sputtering source: Au, Pt, Си, A1 and Ag with argon pressure as a parameter //Proc. 7-ht Jnt. Vac. Congr. And 3-rd Int. Conf. Solid Surfaces. -Vienna, 1977. -P.309-312.

44. Sheridan Т.Е., Goeckner M.J., Goree J. Model of energetic electron transport in magnetron discharges //J. Vac. Sci. Technol. 1990. - V. A8, №1. -P.30-37.

45. Райзер Ю.П. Физика газового разряда: Учебное руководство.-М.: 1 Наука, 1987. -592с.

46. Гришин С.Д.у Лесков Л.В., Козлов Н.П. Электрические ракетные двигатели.-М.: Машиностроение, 1975.-272 с.

47. Гришин С.Д., Лесков Л.В. Электрические ракетные двигатели космических аппаратов. -М.: Машиностроение, 1989. -216 с.

48. Морозов А.И. Физические основы космических электрореактивных двигателей. Элементы динамики потоков в ЭР Д. -М.: Атомиздат, 1978.328 с.

49. Калашников В.И., Саночкин Ю.В. О структуре анодного электрического слоя в самостоятельном разряде с замкнутым дрейфом электронов //Журнал прикладной механики и технической физики. -1976. -№2. -С.9-16.

50. Гришин С.Д. Электрические ракетные двигатели. 4.1: Введение. Электростатические двигатели. -М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 1999. -182с.

51. Калашников В.К., Ким В. Разряд в магнетронной распылительной системе //Физика плазмы. -1991. -Т. 17, вып.8. -С. 1003-1011.

52. Подгорный И.М. Лекции по диагностики плазмы. -М.: «Атомиздат», 1968. -С.220.

53. Диагностика плазмы /Под ред. Р. Хаддлстоуна, С. Леонарда. М.: Мир, 1967.-516с.

54. Методы исследования плазмы /Под ред. В. Лохте-Хольтгревена. -М.: Мир, 1971.-552с. '

55. Козлов О.В. Электрический зонд в плазме. М.: Атомиздат, 1969. -290с.

56. The Characteristics of Electrical Dicharges in Magnetic Fields/ Edited by A. Guthrie and R.K. Wakerling. -New York: McGraw-Hill, 1949. -376 p.

57. Чан П., Тэлбот Л., Турян К. Электрические зонды в неподвижной и движущейся плазме. -М.: Мир, 1978. 164с.

58. Алексеев Б.В., Котельников В.А. Зондовый метод диагностики плазмы. -М.: Энергоатомиздат, 1988. -240 с.

59. Форестер А.Т. Интенсивные ионные пучки. -М.: Мир, 1991. -358с.

60. Каминский М< Атомные и ионные столкновения на поверхности металла.-М.: Мир, 1967.-508с.

61. Браун С. Элементарные процессы в плазме газового разряда. -М.: Госатомиздат, 1961. -323 с.

62. Тейлор Дж. Введение в теорию ошибок. -М.: Мир, 1985. -272с.

63. Новицкий П.В., Зограф И.А. Оценка погрешностей результатов измерений. -Л.: Энергоатомиздат. Ленингр. отд-ние, 1991. -304с.

64. Гордон A.B., Сливинская А.Г. Электромагниты постоянного тока. -М.: Государственное энергетическое издательство, 1960. -448с.

65. Сливинская А.Г. Электромагниты и постоянные магниты. -М.: Энергия, 1972.-248с.

66. Тозони О.В. Метод вторичных источников в электротехнике. -М.: Энергия, 1975.-296с.

67. Никитенко А.Г., Гринченков В.П., Иванченко А.Н. Программирование и применение ЭВМ в расчетах электрических аппаратов. -М.: Высшая школа, 1990.-232с.

68. Сабоннадьер Ж.-К., Кулон Ж.-К. Метод конечных элементов и САПР. -М.: Мир, 1989.-190с.

69. Духопельников Д.В. Исследование магнитных полей в магнетронных системах ионного распыления //Состояние и перспективы дальнейшего развития плазменных процессов: Тезисы докладов к Всесоюзному научно-техническому совещанию. -Москва, 1992. -С.13-16.

70. Управление движением катодного пятна в линейных вакуумно-дуговых испарителях /Д.В. Духопельников, A.B. Жуков, A.A. Костин и др. //Упрочняющие технологии и покрытия. 2005. -№11. -С.45-49.

71. Минайчев В.Е., Одиноков В.В., Тюфаева Г.П. Магнетронные распылительные устройства (магратроны). -М.: ЦНИИ «Электроника», 1979. -56с. (Обзоры по электронной технике; Сер. 7. Технология, организация производства и оборудование; вып. 8 (659)).

72. Магнетронное распыление магнитных материалов / В.Е. Минайчев, В.В. Одиноков, Д.Д. Спиваков и др. М.: ЦНИИ «Электроника», 1985. -32 с. (Обзоры по электронной технике; Сер. 7. Технология, организация производства и оборудование; вып. 14 (1138)).

73. Pat. 4299678 (USA), Int. CI. C23C 15/00. Magnetic target plate for use in magnetron sputtering of magnetic films/ Benjamin B. Meckel. -Issue date 10.11.1981.

74. Pat. 4324631 (USA), Int. CI. C23C 15/00. Magnetron sputtering of magnetic materials/ Benjamin B. Meckel., Emily I. Bromley. -Issue date 13.04.1982.

75. Pat. 3135208 (DE), Int. CI. C23C 15/00. Kathodenanordnung zur Abslaubung von Material von einem Target in einer Kathodenzerstaubungsanlage/ U. Wermann. -Offenlegundstag 29.09.1983.

76. Pat. 2090872 (GB), Int. CI. C23C 15/00. Magneticarrangement on cathode target in cathode sputter apparatus/ U.Wermann. -Appl. date 10.11.1983.

77. Pat. 4401546 (USA), Int. CI. C23C 15/00. Ferromagnetic high speed sputtering apparatus/ Kyuzo Nakamura, Yoshifumi Ota, Taiki Yamada. -Issue date 30.08.1983.

78. Pat. 4412907 (USA), Int. CI. C23C 15/00. Ferromagnetic high speed sputtering apparatus/ Akio Ito, Kyuzo Nakamura, Yoshifumi Ota, Taiki Yamada. -Issue date Nov.01.1983.

79. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. -М.: "Наука", 1971.-744с.

80. Корн Г., Корн Т. Справочник по математике для научных работников. -М.: Наука, 1978.-831с.

81. Сивухин Д.В. Электричество. -М.: Наука, 1983. -688с.

82. Френсис Г. Ионизационные явления в газах. -М.: Атомиздат, 1964. -304 с.

83. Чен Ф. Введение в физику плазмы. -М.: Мир, 1987. -398с.

84. Кустов В.В. Особенности работы магнетрона в несбалансированном режиме: Дис. .кандяехн.наук.,-Москва, 1995.-136с.

85. Хохлов Ю.А. Плазменные ускорители с азимутальным дрейфом электронов для получения тонких оптических пленок: Дис. .канд.техн.наук. -Москва, 1987. -254с.