Генерация сильноточных импульсных электронных пучков форвакуумным плазменным источником на основе дугового разряда тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.04, кандидат наук Казаков Андрей Викторович

• Казаков Андрей Викторович
• кандидат наук
• 2015

Оглавление диссертации кандидат наук Казаков Андрей Викторович

ВВЕДЕНИЕ

ГЛАВА 1. ДУГОВОЙ РАЗРЯД В ИМПУЛЬСНЫХ ПЛАЗМЕННЫХ ИСТОЧНИКАХ ЭЛЕКТРОНОВ

1.1 Особенности инициирования дугового разряда

1.2 Функционирование дугового разряда с катодным пятном и генерация плазмы

1.3 Дуговой разряд в плазменных источниках электронов

1.4 Применение импульсных электронных пучков для обработки диэлектрических

материалов в форвакуумном диапазоне давлений

1.5 Выводы и постановка задач исследований

ГЛАВА 2. ИНИЦИИРОВАНИЕ ДУГОВОГО РАЗРЯДА С КАТОДНЫМ ПЯТНОМ В РАЗРЯДНОЙ СИСТЕМЕ ФОРВАКУУМНОГО ИМПУЛЬСНОГО ИСТОЧНИКА ЭЛЕКТРОНОВ

2.1 Техника и методика эксперимента

2.2 Особенности инициирования дугового разряда в форвакуумном диапазоне

давлений

2.3 Моделирование процессов инициирования дугового разряда

2.3.1 Модель инициирования разряда

2.3.2 Результаты расчетов и сравнение с экспериментальными данными

2.4 Выводы

ГЛАВА 3. ФУНКЦИОНИРОВАНИЕ ДУГОВОГО РАЗРЯДА С КАТОДНЫМ ПЯТНОМ В ФОРВАКУУМНОМ ПЛАЗМЕННОМ ИСТОЧНИКЕ ЭЛЕКТРОНОВ

3.1 Техника и методика эксперимента

3.2 Параметры и характеристики дугового разряда

3.3 Спектры оптического излучения плазмы дугового разряда

3.4 Масс-зарядовый состав плазмы дугового разряда

3.5 Радиальное распределение концентрации эмиссионной плазмы дугового разряда

3.6 Выводы

ГЛАВА 4. ГЕНЕРАЦИЯ ШИРОКОАПЕРТУРНЫХ ИМПУЛЬСНЫХ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ ПУЧКОВ В ДУГОВОМ ФОРВАКУУМНОМ ПЛАЗМЕННОМ ИСТОЧНИКЕ

4.1 Техника и методика эксперимента

4.2 Эмиссионные свойства плазмы импульсного дугового разряда в форвакуумной

области давлений

4.3 Особенности формирования широкоапертурных импульсных электронных пучков

дуговым плазменным источником в форвакуумном диапазоне давлений

4.4 Параметры плазменного источника электронов на основе дугового разряда с катодным пятном

4.5 Выводы

ГЛАВА 5. ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ОБРАБОТКА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОЛИМЕРНЫХ МАТЕРИАЛОВ

5.1 Техника и методика экспериментов

5.2 Обработка полимеров импульсным электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений

5.3 Выводы

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

Приложение 1. Патент на полезную модель №

Приложение 2. Патент на полезную модель №

Приложение 3. Свидетельство о регистрации программы для ЭВМ

Приложение 4. Акт об использовании №

Приложение 5. Акт об использовании №

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Генерация сильноточных импульсных электронных пучков форвакуумным плазменным источником на основе дугового разряда»

ВВЕДЕНИЕ

Отличительной особенностью источников электронов с плазменным эмиттером является способность сохранять работоспособность в присутствии химически агрессивных сред и при повышенных давлениях рабочего газа. Такая особенность существенно расширяет область применения данных источников в электронно-лучевых технологиях. Необходимость повышения рабочего давления источников электронов привела к созданию, так называемых, форвакуумных плазменных источников. Устройства такого типа обеспечивают генерацию электронных пучков в форвакуумном диапазоне давлений от единиц до десятков Па как в непрерывном, так и в импульсном режимах. Генерация электронных пучков в форвакууме обеспечивает возможность эффективной электронно-лучевой обработки различных диэлектрических материалов (керамики и др.) без использования дополнительного оборудования, обеспечивающего снятие заряда с поверхности диэлектрика.

В импульсных источниках электронов с плазменным катодом величина тока электронного пучка определяется главным образом значением тока разряда, который генерирует эмиссионную плазму. Существовавшие до выполнения настоящей работы форвакуумные импульсные плазменные источники электронов были созданы на основе тлеющего разряда с полым катодом. В указанных устройствах эмиссионная плазма достаточно однородна, обладает стабильными параметрами, а также низким уровнем шумов. Однако в тлеющем разряде с полым катодом плотность тока разряда и полный ток ограничены некоторым предельным (пороговым) значением, превышение которого приводит к образованию катодного пятна и переходу разряда в дуговой режим. В этих условиях катодное пятно возникает случайным образом в любой точке поверхности катодной полости, и процесс дугообразования резко нарушает однородность плазмы, что, в конечном счете, приводит к пробою ускоряющего промежутка. Кроме того, для выхода на рабочий режим импульсного источника, основанного на тлеющем разряде с полым катодом, необходимо кондиционирование («тренировка») электродов разрядной системы, которое может занимать достаточно длительное время, особенно после разгерметизации вакуумной системы и проведения технических работ. Проблема ограничения предельного тока и длительности его импульса в плазменных источниках электронов, функционирующих в традиционном диапазоне давлений от 10-5 до 10-1 Па, решалась заменой тлеющего разряда на дуговой. Для формирования сильноточных импульсных электронных пучков аналогичный переход на дуговой разряд целесообразно использовать и в форвакуумном диапазоне давлений.

Характеристики дугового разряда и особенности его использования в плазменных источниках заряженных частиц достаточно подробно изучены в диапазоне давлений от 10-5 до 10-1 Па. При этом установлено, что давление в указанном диапазоне оказывает влияние на параметры дуги. При горении дугового разряда в области более высоких давлений форвакуумного диапазона следует ожидать, что наличие газа может оказать существенное влияние на параметры разряда, а, следовательно, и на эмиссионные характеристики плазмы. Однако использование дугового разряда в форвакуумном диапазоне давлений от единиц до десятков Па применительно к плазменным источникам электронов практически не исследовалось. В связи с этим тематика диссертационной работы, направленная на исследование особенностей функционирования импульсного дугового разряда и эмиссии электронов из дуговой плазмы в широкоапертурном форвакуумном плазменном источнике электронов, представляется актуальной.

Цель работы состояла в проведении комплекса экспериментальных исследований, направленных на изучение особенностей генерации и формирования широкоапертурных импульсных низкоэнергетичных электронных пучков в форвакуумном диапазоне давлений в системе с плазменным эмиттером на основе дугового разряда с катодным пятном.

Основные задачи настоящей работы заключались в определении особенностей зажигания и горения дугового разряда с катодным пятном в форвакуумном плазменном источнике электронов, а также в исследовании эмиссионных свойств дуговой плазмы и процессов формирования широкоапертурных импульсных низкоэнергетичных электронных пучков в форвакуумном диапазоне давлений. В задачи работы также входили исследования возможности использования импульсных низкоэнергетичных пучков, генерируемых в форвакууме, для электронно-лучевой модификации поверхностных свойств диэлектрических полимерных материалов.

Для достижения целей работы и решения поставленных задач были использованы следующие экспериментальные методики:

- осциллография импульсных токов и напряжений;

- зондовая диагностика параметров плазмы и электронного пучка;

- оптическая спектрометрия;

- масс-спектрометрия ионов плазмы;

- растровая электронная микроскопия и атомно-силовая микроскопия;

- ИК-спектроскопия;

- численные оценки и моделирование.

Научная новизна диссертационной работы заключается в следующем:

1. Выявлены особенности инициирования и формирования дугового разряда с катодным пятном в плазменном источнике электронов, функционирующем в форвакуумном диапазоне давлений. Установлена степень влияния обратного ионного потока, возникающего при подаче используемого для извлечения электронов постоянного высокого напряжения, на зажигание дугового разряда.

2. Определены и изучены режимы (стадии) горения дугового разряда в форвакуумном диапазоне давлений. Установлены факторы, которые оказывают влияние на режимы горения дугового разряда с катодным пятном.

3. Исследованы эмиссионные свойства дуговой плазмы и особенности формирования низкоэнергетичных широкоапертурных импульсных электронных пучков в форвакуумном диапазоне давлений.

4. Изучены процессы импульсной электронно-лучевой модификации диэлектрических полимерных материалов в форвакуумной области давлений.

Научная и практическая ценность работы состоит в следующем:

1. Решена проблема ограничения амплитуды и длительности импульса тока разряда, формирующего эмиссионную плазму в форвакуумном плазменном источнике электронов, при этом выход на необходимые параметры разряда осуществляется без кондиционирования («тренировки») электродов разрядного промежутка.

2. Создан опытный образец форвакуумного импульсного плазменного источника электронов на основе дугового разряда, который обеспечивает в рабочем диапазоне давлений 3-15 Па генерацию широкоапертурного электронного пучка с током до 170 А, энергией электронов до 15 кэВ, длительностью импульса до 1 мс, полной энергией в импульсе до 600 Дж и частотой следования импульсов до 50 Гц. Неравномерность распределения плотности тока по сечению пучка диаметром 70 мм не превышает 15 %, при этом плотность энергии пучка в импульсе достигает 15 Дж/см2. Сжатие пучка обеспечивает повышение плотности энергии до 85 Дж/см2.

3. Показана возможность использования низкоэнергетичных импульсных электронных пучков, генерируемых в форвакуумном диапазоне давлений, для поверхностной обработки диэлектрических полимерных материалов.

4. Выявленные закономерности зажигания, формирования и горения дугового разряда, используемого применительно к форвакуумному плазменному источнику электронов, могут быть использованы в других газоразрядных устройствах на основе дуги, которые функционируют в области рабочих давлений форвакуумного диапазона.

На защиту выносятся следующие научные положения:

1. В форвакуумном плазменном источнике электронов на основе импульсного дугового разряда с катодным пятном повышение давления рабочего газа приводит к снижению напряжения зажигания дугового разряда и уменьшению времени запаздывания зажигания разряда, а также сокращению переднего фронта импульса тока дуги. По сравнению с форвакуумным источником электронов на основе тлеющего разряда с полым катодом для источника на основе катодной дуги влияние обратного ионного потока из ускоряющего промежутка на процессы зажигания дугового разряда, формирующего эмиссионную плазму, проявляется в заметно меньшей степени.

2. В форвакуумном диапазоне давлений в течение импульса тока дуги возможны два режима (стадии) горения дугового разряда. Первая (начальная) стадия разряда наблюдается при относительно высоком давлении (> 10 Па) рабочего газа и малом токе дуги (< 80 А), характеризуется более высоким напряжением горения и заметной долей ионов газа в плазме дугового разряда. При переходе во второй режим напряжение горения дуги снижается, и в разрядной плазме доминируют ионы материала катода. Длительность первой стадии и время перехода ко второй стадии возрастают с повышением давления газа и уменьшением тока дуги.

3. В процессе отбора электронов из плазмы импульсного дугового разряда, функционирующего в форвакуумной области давлений, так же как и для более низких давлений, повышение давления рабочего газа при неизменном токе разряда приводит к увеличению амплитуды импульса тока эмиссии электронов и, соответственно, тока пучка. При транспортировке широкоапертурного электронного пучка, генерируемого форвакуумным плазменным источником, повышение давления рабочего газа, а также увеличение эмиссионного тока, обеспечивают сжатие пучка.

4. Форвакуумный плазменный источник электронов на основе импульсного дугового разряда с катодным пятном обеспечивает в рабочем диапазоне давлений 3-15 Па генерацию широкоапертурного электронного пучка с током до 170 А, энергией электронов до 15 кэВ, длительностью импульса 20-1000 мкс, полной энергией пучка в импульсе до 600 Дж и частотой следования импульсов до 50 Гц. Неравномерность распределения плотности тока по сечению пучка диаметром 70 мм не превышает 15 %, при этом плотность энергии пучка в импульсе достигает 15 Дж/см2. Сжатие пучка обеспечивает повышение плотности энергии до 85 Дж/см2. Полученные параметры электронного пучка обеспечивают возможность эффективной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов. Продемонстрирована возможность использования низкоэнергетичных импульсных электронных пучков для поверхностной модификации полимеров в форвакуумном диапазоне давлений.

Достоверность и обоснованность результатов работы подтверждаются систематическим характером исследований, использованием различных экспериментальных методик, сопоставлением полученных экспериментальных данных с численными оценками и литературными данными, а также практической реализацией научных положений и выводов при создании и применении импульсного плазменного источника электронов.

Публикации. По результатам исследований по теме диссертации опубликовано 26 работ, из которых 7 статей в рецензируемых журналах, входящих в перечень ВАК РФ и реферативные базы данных Web of Science и Scopus, 1 полный текст доклада в индексируемом в базе Scopus сборнике трудов конференции, 9 полных текстов докладов на международных и 6 полных текстов докладов на всероссийских конференциях. По результатам работы получено 2 патента РФ на полезные модели [Приложения 1 и 2] и 1 свидетельство о регистрации программы для ЭВМ [Приложение 3].

Апробация работы. Результаты работ докладывались и обсуждались на конференциях:

- X Международная конференция студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» (г. Томск, 2013 г.);

- Всероссийская научно-техническая конференция «Научная сессия ТУСУР-2013» (г. Томск, 2013 г.);

- XI Международная конференция «Газоразрядная плазма и ее применение» (г. Томск, 2013 г.);

- XI Международная конференция студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» (г. Томск, 2014 г.);

- International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014) (г. Томск, 2014 г.);

- 26th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (ISDEIV-2014) (г. Мумбаи, Индия, 2014 г.);

- X Международная научно-практическая конференция «Электронные средства и системы управления» (г. Томск, 2014 г.);

- Всероссийская научно-техническая конференция студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2014» (г. Томск, 2014 г.);

- XII Международная конференция студентов, аспирантов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» (г. Томск, 2015 г.);

- V Международный Крейнделевский семинар «Плазменная эмиссионная электроника» (г. Улан-Удэ, 2015 г.);

- The 12th International Conference «Gas Discharge Plasmas and Their Applications» (г. Томск, 2015 г.).

Работы по тематике диссертации поддержаны грантами РФФИ № 12-08-33016 мол_а_вед, РФФИ № 13-08-00175 А, РФФИ № 14-08-31075 мол_а, РФФИ № 14-08-00047 А и грантом Президента РФ № 14^56.14.2253-МК.

Личный вклад автора состоит в создании экспериментальной установки, выборе методик эксперимента, проведении исследований и анализе их результатов. Обсуждение задач исследований, методов их решения и результатов анализа экспериментальных данных проводилось совместно с соавторами, фамилии которых указаны в работах, опубликованных по теме диссертации. Автором самостоятельно выдвинуты защищаемые научные положения, сделаны выводы и даны рекомендации, на основании которых была модернизирована конструкция форвакуумного импульсного плазменного источника электронов, применяемого для обработки диэлектрических материалов. Соавторы, принимавшие участие в отдельных направлениях исследований, указаны в списке основных публикаций по теме диссертации. Все результаты, составляющие научную новизну диссертации и выносимые на защиту, получены автором лично.

Структура и объем работы. Диссертационная работа состоит из введения, пяти глав, заключения, списка литературы и приложений. Диссертация изложена на 150 страницах, содержит 100 рисунков и 4 таблицы. Список литературы включает 160 источников.

Автор выражает искреннюю благодарность своему научному руководителю, д.т.н., профессору В.А. Бурдовицину за научное руководство диссертацией и поддержку работы, д.т.н., профессору Е.М. Оксу за помощь и обсуждение результатов исследований, к.т.н., доценту А.В. Медовнику за помощь в проведении экспериментов, к.т.н., доценту Ю.А. Бурачевскому за ценные замечания. Автор признателен сотрудникам лаборатории НИЧ кафедры физики ТУСУР за проявленный интерес и поддержку работы.

ГЛАВА 1. ДУГОВОЙ РАЗРЯД В ИМПУЛЬСНЫХ ПЛАЗМЕННЫХ ИСТОЧНИКАХ

ЭЛЕКТРОНОВ

Использование дугового разряда в плазменных источниках электронов, как известно [13], связано с необходимостью повышения тока электронного пучка. Главные преимущества источников электронов с плазменными катодами обусловлены отсутствием в разрядных системах таких устройств электродов, накаленных до термоэмиссионных температур. Именно поэтому дуговой разряд в плазменных источниках также реализуется в системе с ненакаливаемым (холодным) катодом. В дуговом разряде с холодным катодом плазма генерируется в катодных пятнах, поэтому такой разряд часто называют катодной дугой [4, 5]. Формирование и устойчивое функционирование катодного пятна происходит, начиная с определенного порогового тока разряда [4], что, в свою очередь, ограничивает минимально возможный ток эмиссии дугового плазменного катода. По-видимому, это обусловило реализацию в плазменных источниках электронов преимущественно импульсно-периодического режима горения катодной дуги. При этом ток дуги в этих источниках может составлять величину от десятков ампер [6, 7] до нескольких килоампер [8, 9], а длительность импульсов - от десятков микросекунд [10, 11] до миллисекунды [6, 12]. Достаточно часто в плазменных источниках частота повторения импульсов составляет единицы и десятки герц, либо привязана к частоте электрической сети [1-3], но в ряде случаев эта частота может достигать единиц и десятков килогерц [9, 13].

1.1 Особенности инициирования дугового разряда

Напряжение зажигания дугового разряда с катодным пятном значительно, иногда на несколько порядков величины, превышает напряжение горения установившейся дуги. Реализация импульсно-периодического режима горения дуги с катодным пятном в электродной системе плазменного источника электронов предполагает создание специальных условий для стабильного инициировании разряда при относительно низких величинах напряжения зажигания и достаточно высокой частоте повторения импульсов. При этом ресурс системы инициирования должен составлять не менее 104-106 импульсов. Именно поэтому в плазменных источниках электронов, также как и в других системах на основе импульсно-периодической дуги, для зажигания разряда применяют дополнительные разрядные устройства, генерирующие начальную плазму, которая значительно облегчает инициирование катодного пятна. Для

создания инициирующей плазмы используют разряды в скрещенных электрическом и магнитном (Е*Н) полях, а также разряд по поверхности диэлектрика.

Для инициирования дуги в плазменных источниках используются обе конфигурации электродных систем разрядов в скрещенных Е*Н полях: ячейка Пеннинга (рис. 1.1) [14, 15] и цилиндрический магнетрон (рис. 1.2) [14, 16]. В этих системах созданы условия для удержания и многократной осцилляции электронов в промежутке катод-анод, что обеспечивает зажигание вспомогательного разряда вплоть до высокого вакуума (10-4 Па) и генерацию плазмы, плотность которой достаточна для стимулирования образования катодного пятна.

Рисунок 1.1 - Схема плазменного источника с инициированием вакуумной дуги вспомогательным Пеннинговским разрядом [15]: 1 - катод; 2 - полый анод; 3 - анод Пеннинговского разряда; 4 - соленоид; 5 - эмиссионный электрод; 6 - ускоряющий электрод.

Рассмотрим принцип зажигания дуги с помощью разряда в скрещенных Е*Н полях в плазменном источнике электронов на примере использования в качестве вспомогательной плазмообразующей среды - магнетронного разряда [16] (рис. 1.2). В начальный момент приложение напряжения между полым катодом 1 основной разрядной системы и вспомогательным цилиндрическим электродом 2 приводит к зажиганию в скрещенных Е*Н полях вспомогательного магнетронного разряда. При достижении током I\ вспомогательного разряда некоторой величины (I > 10 мА), вследствие разрыва катодной оболочки вблизи отверстий связи 3, плазма вспомогательного разряда проникает в катодную полость. Эта плазма стимулирует эмиссию электронов с внутренней поверхности полости, что приводит к возникновению эффекта полого катода. Переход вспомогательного магнетронного разряда в режим горения с полым катодом приводит к двукратному увеличению его тока, и, соответственно, генерации более плотной плазмы, которая обеспечивает существенное снижение напряжения зажигания основного дугового разряда между полым катодом 1 и

основным анодом разрядной системы 4. После зажигания дугового разряда вспомогательный разряд не оказывает влияния на параметры дуги, поэтому время функционирования вспомогательного разряда может быть значительно меньше длительности горения дуги.

Рисунок 1.2 - Электродная схема разрядного промежутка плазменного источника электронов с инициированием дуги вспомогательным магнетронным разрядом: 1 - катод; 2 - вспомогательный цилиндрический электрод магнетронного разряда; 3 - отверстия связи; 4 - полый анод; 5 - соленоид; 6 - промежуточный электрод.

Ресурс систем на основе вспомогательного разряда в скрещенных полях достигает 10 импульсов [14-16]. В то же время для реализации данных систем требуются дополнительные специальные электроды и присутствие магнитного поля, что усложняет как конструкции плазменных источников электронов, так и схемы их электрического питания.

Известно [17, 18], что размещение диэлектрика между электродами так, чтобы пробой происходил по его поверхности, приводит к резкому снижению электрической прочности промежутка по сравнению с пробоем металлических электродов в вакууме, что связано с повышенной напряженностью поля в месте контакта, так называемой тройной точке, где граничат металл, диэлектрик и вакуум. Напряженность поля в прикатодной области может быть найдена по выражению, выведенному в [18]:

Ек = иг/3, (1.1)

где и - приложенное напряжение; г - диэлектрическая проницаемость; 3 - толщина диэлектрика.

С учетом того, что поверхность катода не может быть идеально ровной, и на ней имеются микроострия [19], напряженность поля на их вершинах увеличивается [18]:

Е = Екфк, (1.2)

где в - коэффициент усиления поля, который зависит от макро- и микро-геометрии катода [17, 18]. может составлять 80-100 [18].

Использование диэлектрика позволяет значительно снизить напряжение пробоя между электродами. В связи с этим, наиболее распространенным методом зажигания дуги в источниках, работающих в импульсно-периодическом режиме, является использование вспомогательного разряда (пробоя) по поверхности диэлектрика, расположенного между катодом и стационарным поджигающим электродом [20-24] (рис. 1.3). Как правило, в таких системах используются вспомогательные блоки питания, которые обеспечивают подачу положительного относительно катода потенциала смещения порядка нескольких киловольт на поджигающий электрод (триггер). В качестве материала диэлектрика достаточно часто используются различные виды керамики [20-24], а расстояние между катодом и триггером обычно составляет 1-2 мм.

та---------------77/

Рисунок 1.3 - Схема инициирования дугового разряда пробоем по поверхности диэлектрика с использованием высоковольтного вспомогательного блока питания: 1 - катод;

2 - изолятор; 3 - поджигающий электрод (триггер); 4 - анод; 5 - блок питания дугового разряда; 6 - высоковольтный вспомогательный блок питания.

Подача высоковольтного импульса на поджигающий электрод возбуждает скользящий разряд по поверхности диэлектрика, который создает вблизи катода плотную плазму. Ионы из плазмы вспомогательного разряда бомбардируют катод, инициируя на его поверхности катодное пятно, которое, как правило, возникает в области контакта металл-диэлектрик [18]. При этом для надежного (стабильного) зажигания основного дугового разряда вспомогательный поджигающий разряд должен обеспечить генерацию достаточного количества плазмы, которая в свою очередь обеспечит возникновение катодного пятна.

Необходимая плотность плазмы может быть достигнута подбором амплитуды и длительности поджигающего импульса. Например, в работах [23, 24] показано, что для инициирования катодного пятна достаточно разряда по поверхности керамики с током в десятки ампер и длительностью импульса в несколько микросекунд, а увеличение длительности импульса до десятков микросекунд значительно повышает стабильность возникновения катодного пятна. Возникшее катодное пятно обеспечивает генерацию плазмы и зажигание основного дугового разряда.

Зажигание дуги вспомогательным высоковольтным разрядом по поверхности диэлектрика - достаточно простой и надежный метод, который обеспечивает малые времена задержки зажигания дуги и ресурс системы 105-106 импульсов [20-24]. Недостатки данного метода: необходимость использования вспомогательного блока питания; нежелательные примеси в составе дуговой плазмы, связанные с эрозией изолятора и триггера; возможность замыкания катода и триггера проводящей пленкой с малым сопротивлением, образуемой на диэлектрике в результате осаждения материала катода. Обычно эти проблемы решаются подбором геометрии и материала изолятора, а также геометрии поджигающего электрода [22].

Для упрощения конструкции и системы электропитания в некоторых источниках с инициированием дуги вспомогательным разрядом по поверхности диэлектрика поджигающий электрод соединяют с анодом через сопротивление порядка сотен Ом [9-11, 25]. В этом случае не требуется дополнительный высоковольтный блок питания, а поджигающий электрод фактически становится вспомогательным анодом. Стабильность зажигания разряда достигается геометрией поджигающего электрода, выбором соответствующего материала диэлектрика и протяженности диэлектрического промежутка. В таких системах конфигурацию инициирующего промежутка обычно подбирают таким образом, что бы напряжение зажигания не превышало 1-1,5 кВ.

Для надежного пробоя промежутка по поверхности диэлектрика, как правило, требуются напряжения в несколько киловольт, что не всегда удобно и в целом усложняет оборудование. В то же время, экспериментально установлено [22], что стабильность инициирования дугового разряда вспомогательным разрядом по поверхности керамики увеличивается, если поверхность диэлектрика становится немного проводящей в результате осаждения макрочастиц (капель) и ионов из металлической плазмы дуги. Поэтому для снижения пробивного напряжения часто прибегают к «искусственному загрязнению» поверхности керамики, так чтобы она стала немного проводящей. Развитие данного способа привело к методу, предложенному А. Андерсом и др. [26, 27]. Для снижения напряжения зажигания авторы [26, 27] разработали низковольтный или, так называемый, «triggeriess» метод инициирования дуги. Особенность данного метода заключается в том, что для его осуществления не нужен ни вспомогательный

блок питания, ни поджигающий электрод. На рисунке 1.4 представлена одна из возможных схем реализации режима «triggerless» [26].

Рисунок 1.4 - Одна из возможных схем инициирования дугового разряда в низковольтном

режиме «Triggerless» [26].

Непосредственно на керамический изолятор, разделяющий катод и анод, наносится тонкий слой из электропроводящего материала (обычно графит). Авторами экспериментально установлено [26, 27], что система достаточно надежно работает в диапазоне сопротивлений слоя от 1 Ом до 10 кОм, а напряжение зажигания составляет сотни вольт. В некоторых ионных источниках на основе дугового разряда из-за особенностей конструкции авторы использовали дополнительный вспомогательный анод [27], подключенный к основному аноду через сопротивление, но принцип работы системы не отличался. Согласно [26, 27], плазмообразование в режиме «triggeriess» происходит следующим образом. Так как на керамику, разделяющую катод и анод, нанесен проводящий слой, то практически отсутствует диэлектрический промежуток, и по слою может протекать ток. Однако, как следует из рисунка 1.4, ток протекает по тонкому слою и локализуется в одной или нескольких точках. Это приводит к появлению «горячего пятна» на границе «проводящий слой - катод». Дальнейший омический нагрев этого пятна приводит к тепловому пробою промежутка: увеличение температуры пятна контакта вызывает возрастание его сопротивления и, соответственно, увеличение рассеиваемой на нем мощности, что приводит к еще большему росту температуры и, в конечном счете, к взрывной эмиссии и образованию плазмы.

Список литературы диссертационного исследования кандидат наук Казаков Андрей Викторович, 2015 год

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Крейндель, Ю. Е. Плазменные источники электронов / Ю. Е. Крейндель. -М.: Атомиздат, 1977. - 144 с.

2. Окс, Е. М. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения / Е. М. Окс. - Томск: Изд-во НТЛ, 2005. - 216 с.

3. Щанин, П. М. Источники заряженных частиц с плазменным эмиттером / П. М. Щанин. -Екатеринбург: УИФ Наука, 1993. - 150 с.

4. Кесаев, И. Г. Катодные процессы электрической дуги / И. Г. Кесаев. - М.: Наука, 1968. -

244 с.

5. Anders, A. Cathodic arcs: from fractal spots to energetic condensation / A. Anders. - New York: Springer, 2008. - 555 p.

6. Гаврилов, Н. В. Источник мощных электронных и ионных пучков импульсно-периодического действия / Н. В. Гаврилов, Ю. Е. Крейндель, О. А. Шубин // Приборы и техника эксперимента. - 1991. - T. 33, № 3. - С. 130-134.

7. Oks, E. M. Electron beam extraction from a broad beam vacuum arc metal plasma source / E. M. Oks, I. G. Brown // IEEE Trans. on Plasma Science. - 1998. - V. 26, No. 5. - P. 1562-1565.

8. Воробьёв, М. С. Источник электронов с многодуговым плазменным эмиттером для получения мегаваттных пучков субмиллисекундной длительности / М. С. Воробьёв, С. А. Гамермайстер, В. Н. Девятков, Н. Н. Коваль, С. А. Сулакшин, П. М. Щанин // Письма в ЖТФ. - 2014. - Т. 40, Вып. 12. - С. 12-30.

9. Гушенец, В. И. Генерация сильноточных электронных пучков наносекундной длительности с высокой частотой повторения импульсов / В. И. Гушенец, Н. Н. Коваль, П. М. Щанин // Письма в ЖТФ. - Т. 16, Вып. 8. - 1990. - С. 12-16.

10. Gielkens, S. W. A. A long-pulse 300 keV electron gun with a plasma cathode for high-pressure gas lasers / S. W. A. Gielkens, P. J. M. Peters, W. J. Witteman, P. V. Borovikov, A. V. Stepanov, V. N. Tskhai, M. A. Zavjalov, V. I. Gushenets, N. N. Koval // Review of Scientific Instruments. - 1996. - V. 67, No. 7. - P. 2449-2452.

11. Девятков, В. Н. Генерация и транспортировка сильноточных низкоэнергетичных электронных пучков в системе с газонаполненным диодом / В. Н. Девятков, Н. Н. Коваль, П. М. Щанин // Журнал технической физики. - 1998. - Т. 68, № 1. - С. 44-48.

12. Гаврилов, Н. В. Использование импульсно-периодической дуги с катодным пятном для генерации электронных и ионных пучков с регулируемым средним током / Н. В. Гаврилов,

Ю. Е. Крейндель, Г. А. Месяц, Ф. Н. Шведов // Письма в ЖТФ. - 1988. - Т. 14, Вып. 10. -С. 865-869.

13. Гушенец, В. И. Высокочастотная генерация импульсных электронных пучков большого сечения / В. И. Гушенец, Н. Н. Коваль, Д. Л. Кузнецов, Г. А. Месяц, Ю. Н. Новоселов, В. В. Уварин, П. М. Щанин // Письма в ЖТФ. - 1991. - Т. 17, Вып. 23. - С. 26-29.

14. Nikolaev, A. G. Vacuum arc trigger systems based on E*B discharges / A. G. Nikolaev, G. Yu. Yushkov, E. M. Oks, R. A. MacGill, M. R. Dickinson, I. G. Brown // Review of Scientific Instruments. - 1996. - V. 67, No. 9. - P. 3095-3098.

15. Nikolaev, A. G. Processes involved in vacuum arc triggering by E*B discharge / A. G. Nikolaev, E. M. Oks, G. Yu. Yushkov, R. A. MacGill, M. R. Dickinson, I. G. Brown // IEEE Proceedings XVIII-th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (ISDEIV). - 1998. - V. 1. - P. 101-104.

16. Окс, Е. М. Дуоплазмотрон с холодным катодом и вспомогательным магнетронным разрядом / Е. М. Окс, П. М. Щанин // Источники электронов с плазменным эмиттером / Под. ред. проф. Ю. Е. Крейнделя. - Новосибирск: Наука, 1983. - С. 70-74.

17. Месяц, Г. А. Эктоны. Часть 1 / Г. А. Месяц. - Екатеринбург: УИФ Наука, 1993. - 184 с.

18. Месяц, Г. А. Эктоны. Часть 2 / Г. А. Месяц. - Екатеринбург: УИФ Наука, 1994. - 248 с.

19. Little, R. P. Electron Emission Preceding Electrical Breakdown in Vacuum / R. P. Little, W. T. Whitney // Journal of Applied Physics. - 1963. - V. 34, No. 8. - P. 2430-2432.

20. Gilmour, A. Pulsed metallic-plasma generator / A. Gilmour, D. L. Lockwood // Proceedings of the IEEE. - 1972. - V. 60, No. 8. - P. 977-992.

21. Boxman, R. L. Triggering mechanisms in triggered vacuum gaps / R. L. Boxman // IEEE Transactions on Electron Devices. - 1977. - V. 24, No. 2. - P. 122-128.

22. Brown, I. G. Vacuum arc ion sources / I. G. Brown // Review of Scientific Instruments. -1994. - V. 65, No. 10. - P. 3061-3081.

23. Watt, G. C. A trigger power supply for vacuum arc ion sources / G. C. Watt, P. J Evans // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1993. - V. 21. - P. 547-551.

24. Evans, P. J. Metal vapor vacuum arc ion source research at ANSTO / P. J. Evans, G. C. Watt, J. T. Noorman // Review of Scientific Instruments. - 1994. - V. 65. - P. 3082-3087.

25. Koval, N. N. The effect of gas on the development of a vacuum arc with a hollow anode / N. N. Koval, Yu. E. Kreindel, V. S. Tolkachyov, P. M. Schanin. // IEEE Transaction on Electrical Insulation. - 1985. - V. EI-20, No. 4. - P. 735-737.

26. Anders, A. "Triggerless" triggering of vacuum arcs / A. Anders, I. G. Brown, R. A. MacGill, M. R. Dickinson // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1998. - V. 31. - P. 584-587.

27. Anders, A. Pulsed vacuum-arc ion source operated with a "triggerless" arc initiation method / A. Anders, J. Schein, N. Qi // Review of Scientific Instruments. - 2000. - V. 71, No. 2. - P. 827-829.

28. Жирков, И. С. Инициирование разряда в плазменном источнике электронов с полым катодом / И. С. Жирков, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс, И. В. Осипов // Журнал технической физики. - 2006. - Т. 76, № 10. - С. 128-131.

29. Burdovitsin, V. A. Fore-vacuum plasma-cathode electron sources / V. A. Burdovitsin, E. M. Oks // Laser and Particle Beams. - 2008. - V. 26, No. 4. - P. 619-635.

30. Бурдовицин, В. А. Расширение рабочего диапазона форвакуумных плазменных источников электронов в область более высоких давлений / В. А. Бурдовицин, А. К. Гореев, А. С. Климов, А. А. Зенин, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, Вып. 8. -С. 62-66.

31. Медовник, А. В. Временные характеристики импульсного источника электронов, функционирующего в форвакуумной области давлений / А. В. Медовник, Е. Э. Поздеев // Доклады ТУСУРа. - 2010. - № 1 (21), Ч. 2. - С. 93-98.

32. Юшков, Ю. Г. Форвакуумный плазменный источник импульсных электронных пучков / Ю. Г. Юшков, В. А. Бурдовицин, А. В. Медовник, Е. М. Окс // Приборы и техника эксперимента. - 2011. - № 2. - С. 85-88.

33. Handbook of vacuum arc science & technology: fundamentals and applications / edited by R. L. Boxman, D. M. Sanders, P. J. Martin. - New Jersey: Noyes Publications, 1995. - 742 p.

34. Beilis, I. I. State of the Theory of Vacuum Arcs / I. I. Beilis // IEEE Transactions on Plasma Science. - 2001. - V. 29, No. 5. - P. 657-670.

35. Kutzner, J. Integrated ion flux emitted from the cathode spot region of diffuse vacuum arc / J. Kutzner, H. C. Miller // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1992. - V. 25, No 4. - P. 686-693.

36. Kimblin, С. W. Erosion and Ionization in the Cathode Spot Regions of Vacuum Arcs / С. W. Kimblin // Journal of Applied Physics. - 1973. - V. 44, No. 7. - P. 3074-3081.

37. Oks, E. M. Ion Charge State Distribution in High Current Vacuum Arc Plasmas in a Magnetic Field / E. M. Oks, A. Anders, I. G. Brown, M. R. Dickinsonet, R. A. MacGill // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1996. - V. 24, No. 3. - P. 1174-1183.

38. Бугаев, А. С. Исследования направленных скоростей ионов в вакуумном дуговом разряде эмиссионными методами / А. С. Бугаев, В. И. Гушенец, А. Г. Николаев, Е. М. Окс, Г. Ю. Юшков // Журнал технической физики. - 2000. - Т. 70, Вып. 9. - С. 37-43.

39. Любимов, Г. А. Катодное пятно вакуумной дуги / Г. А. Любимов, В. И. Раховский // Успехи Физических Наук. - 1978. - Т. 125, Вып. 4. - С. 665-706.

40. Siemroth, P. Microscopic High Speed Investigations of Vacuum Arc Cathode Spots / P. Siemroth, T. Schulke, T. Witke // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1995. - V. 23, No. 6. -P. 919-925.

41. Sanger, C. C. Arc cathode current density measurement / C. C. Sanger, P. E. Secker // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1971. - V. 4, No. 12. - P. 1940-1945.

42. Anders, A. High-resolution imaging of vacuum arc cathode spots / A. Anders, S. Anders, B. Juttner, H. Luck // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1996. - V. 24, No. 1. - P. 69-70.

43. Tuma, D. T. Erosion products from the cathode spot region of a copper vacuum arc / D. T. Tuma, C. L. Chen, D. K. Davies // Journal of Applied Physics. - 1978. - V. 49, No. 7. -P. 3821-3831.

44. Daalder, J. E. Components of Cathode Erosion in Vacuum Arcs / J. E. Daalder // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1976. - V. 9, No 16. - P. 2379-2395.

45. Anders, S. On Modes of Arc Cathode Operation / S. Anders, A. Anders // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1991. -V. 19, No. 1. - P. 20-24.

46. Achtert, J. Influence of Surface Contamination on Cathode Processes of Vacuum Discharges / J. Achtert, В. Altrichter, B. Juttner, P. Pech, H. Pursch, H. D. Reiner, W. Rohrbeck, P. Sjemroth, H. Wolffet // Beitrage aus der Plasmaphysik. - 1977. - V. 17, No. 6. - P. 419-431.

47. Juttner, B. On the variety of cathode craters of vacuum arcs, and the influence of the cathode temperature / B. Juttner // Physica B+ C. - 1982. - V. 114, No. 2. - P. 255-261.

48. Vogel, N. The cathode spot plasma in low-current air and vacuum break arcs / N. Vogel // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1993. - V. 26, No. 10. - P. 1655-1661.

49. Juttner, B. The dynamics of arc cathode spots in vacuum. Part III: Measurements with improved resolution and UV radiation / B. Juttner // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1998. -V. 31, No. 14. - P. 1728-1736.

50. Ivanov, V. A. Time-resolved measurements of the parameters of arc cathode plasmas in vacuum / V. A. Ivanov, B. Juttner, H. Pursch // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1985. -V. PS-13, No. 5. - P. 334-336.

51. Juttner, B. Characterization of the cathode spot / B. Juttner // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1987. - V. PS-15, No. 5. - P. 474-480.

52. Brown, L. G. Multiply stripped ion generation in the metal vapor vacuum arc / L. G. Brown, B. Feinberg, J. E. Galvin // Journal of Applied Physics. - 1988. - V. 63, No. 10. - P. 4889-4898.

53. Николаев, А. Г. Зарядовое распределение ионов в плазме вакуумного дугового разряда в сильном магнитном поле / А. Г. Николаев, Е. М. Окс, Г. Ю. Юшков // Журнал технической физики. - 1998. - Т. 68, № 5. - С. 39-43.

54. Anders, A. Time Dependence of Vacuum Arc Parameters / A. Anders, S. Anders, B. Juttner, I. Brown // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1993. - V. 21, No. 3. - P. 305-311.

55. Paperny, V. L. Ion acceleration at different stages of a pulsed vacuum arc / V. L. Paperny, A. A. Chernich, N. V. Astrakchantsev, N. V. Lebedev // Journal of Physics D: Applied Physics. -2009. - V. 42, No 15. - P. 155201.

56. Yushkov, G. Y. Effect of the Pulse Repetition Rate on the Composition and Ion Charge-State Distribution of Pulsed Vacuum Arcs / G. Y. Yushkov, A. Anders // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1998. - V. 26, No. 2. - P. 220 - 226.

57. Redhead, P. A. The Physical Basis of Ultrahigh Vacuum / P. A. Redhead, J. P. Hobson, E. V. Kornelsen. - London: Chapman & Hall, 1968. - 498 p.

58. Spadtke, P. Influence of gas added to the MEWA discharge on the extracted ion beam / P. Spadtke, H. Emig, B. H. Wolf, E. Oks // Review of Scientific Instruments. - 1994. - V. 65, No. 10.

- P.3113-3118.

59. Николаев, А. Г. Влияние остаточного газа на зарядовое распределение ионов в плазме вакуумного дугового разряда / А. Г. Николаев, Е. М. Окс, Г. Ю. Юшков // Журнал технической физики. - 1998. - Т. 68, № 9. - С. 24-28.

60. Nikolaev, A. G. Ion angular distribution in plasma of vacuum arc ion source with composite cathode and elevated gas pressure / A. G. Nikolaev, K. P. Savkin, G. Y. Yushkov, E. M. Oks // Review of Scientific Instruments. - 2014. - V. 85, No. 2. - P. 02B501.

61. Koval, N. N. Broad beam electron sources with plasma cathodes / N. N. Koval, E. M. Oks, P. M. Schunin, Yu. E. Kreindeland, N. V. Gavrilov // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment. - 1992. -V. 321, No. 3. - P. 417-428.

62. Gushenets, V. I. High current electron sources and accelerators with plasma emitters / V. I. Gushenets, P. M. Schanin // Emerging Applications of Vacuum-Arc-Produced Plasma, Ion and Electron Beams / edited by E. Oks, I. Brown. - Berlin: Springer, 2002. - P. 91-104.

63. Коваль, Н. Н. Эффективное использование дуги низкого давления в сетчатом плазменном эмиттере электронов / Н. Н. Коваль, Ю. Е. Крейндель, Г. А. Месяц, В. С. Толкачев, М. П. Щанин // Письма в ЖТФ. - 1983. - Т. 9, - № 9. - С. 568-572.

64. Козырев, А. В. Процессы в катодной области дугового разряда низкого давления / А. В. Козырев, Ю. Д. Королев, И. А. Шемякин // Известия высших учебных заведений. Физика.

- 1994. - № 3. - С. 5-23.

65. А. с. 746769 СССР, М. Кл.2 H01J 3/02. Плазменный источник электронов / Г. С. Казьмин, Н. Н. Коваль, Ю. Е. Крейндель, П. М. Щанин (СССР). - № 2590714/18-25 ; заявл. 15.03.78 ; опубл. 07.07.80, Бюл. № 25. - 3 с.: ил.

66. Bugaev, A. S. High-density plasma low energy electron gun based on vacuum arc in a strong magnetic field / A. S. Bugaev, V. I. Gushenets, Yu. A. Khuzeev, E. M. Oks, G. Yu. Yushkov // IEEE Proceedings of the 19th International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum.

- 2000. - V. 2. - P. 629-632.

67. Григорьев, С. В. Эффект усиления эмиссии при генерации низкоэнергетического субмиллисекундного электронного пучка в диоде с сеточным плазменным катодом и открытой границей анодной плазмы / С. В. Григорьев, В. Н. Девятков, Н. Н. Коваль, А. Д. Тересов // Письма в Журнал технической физики. - 2010. - Т. 36, №. 4. - С. 23-31.

68. Электронно-лучевая обработка материалов / В. Н. Алехнович, А. В. Алифанов, А. И. Гордиенко, И. Л. Поболь. - Минск: Белорусская наука, 2006. - 319 с.

69. Рау, Э. И. Механизмы зарядки диэлектриков при их облучении электронными пучками средних энергий / Э. И. Рау, Е. Н. Евстафьева, М. В. Андрианов // Физика твердого тела. - 2008.

- Т. 50, № 4. - С. 599-607.

70. Evstafeva, E. N. Analysis of mechanisms of dielectric target charging under the effect of electron irradiation / E. N. Evstafeva, E. I. Rau, V. N. Mileev, L. S. Novikov, S. A. Ditsman, R. A. Sennov // Inorganic Materials: Applied Research. - 2011. - V. 2, No. 2. - P. 106-113.

71. Jbara, O. Surface potential measurements of electron-irradiated insulators using backscattered and secondary electron spectra from an electrostatic toroidal spectrometer adapted for scanning electron microscope applications / O. Jbara, M. Belhaj, S. Odof, K. Msellak, E. I. Rau, M. V. Andrianov // Review of Scientific Instruments. - 2001. - V. 72, No. 3. P. - 1788-1795.

72. Rice, R. W. Welding of ceramics : report / R. W. Rice // Naval Research Laboratory. Washington DC. - 1970. - No. NRL-7085. - 38 p.

73. Коваль, Н. Н. Наноструктурирование поверхности металлокерамических и керамических материалов при импульсной электронно-пучковой обработке / Н. Н. Коваль, Ю. Ф. Иванов // Известия высших учебных заведений. Физика. - 2008. - Т. 51, № 5. - С. 60-70.

74. Суржиков, А. П. Индуцированные сильноточным импульсным пучком низкоэнергетических электронов структурно-фазовые изменения в приповерхностных слоях корундо-циркониевой керамики / А. П. Суржиков, Т. С. Франгульян, С. А. Гынгазов, Н. Н. Коваль // Перспективные материалы. - 2008. - № 3. - С. 64-70.

75. Nathawat, R. Surface modification study of low energy electron beam irradiated polycarbonate film / R. Nathawat, A. Kumar, V. Kulshrestha, M. Singh, V. Ganesan, D. M. Phase, Y. K. Vijay // Applied Surface Science. - 2007. - V. 253, No. 14. - P. 5985-5991.

76. Nathawat, R. XPS and AFM surface study of PMMA irradiated by electron beam / R. Nathawat, A. Kumar, N. K. Acharya, Y. K. Vijay // Surface & Coatings Technology. - 2009. -V. 203, No. 17. - P. 2600-2604.

77. Гаврилов, Н. В. Потенциал изолированного электрода в потоке быстрых электронов при давлении газа 0,1-1 Pa / Н. В. Гаврилов, А. И. Меньшаков, А. С. Каменецких // Журнал технической физики. - 2013. - Т. 83, № 1. - С. 74-79.

78. Бурдовицин, В. А. О возможности электронно-лучевой обработки диэлектриков плазменным источником электронов в форвакуумной области давлений / В. А. Бурдовицин,

A. С. Климов, Е. М. Окс // Письма в ЖТФ. - 2009. - Т. 35, № 11. - С. 61-66.

79. Burdovitsin, V. A. Electron beam treatment of non-conducting materials by a fore-pump-pressure plasma-cathode electron beam source / V. A. Burdovitsin, A. S. Klimov, A. V. Medovnik, E. M. Oks // Plasma Sources Science and Technology. - 2010. - V. 19, No. 5. - P. 055003.

80. Бурдовицин, В. А. Потенциал диэлектрической мишени при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений / В. А. Бурдовицин, А. В. Медовник, Е. М. Окс, Е. В. Скробов, Ю. Г. Юшков // Журнал технической физики. - 2012. - Т. 82, № 10. -С. 103-108.

81. Бурдовицин, В. А. Компенсация заряда изолированной мишени при облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений / В. А. Бурдовицин,

B. С. Гулькина, А. В. Медовник, Е. М. Окс. // Журнал технической физики. - 2013. - Т. 83, № 12. - С. 134-136.

82. Скробов, Е. В. Особенности плавления керамики под воздействием электронного пучка / Е. В. Скробов, В. А. Бурдовицин, А. К. Гореев, А. С. Климов, Е. М. Окс // Физика и химия обработки материалов. - 2011. - № 5. - С. 10-14.

83. Зенин, А. А. Электронно-лучевая пайка алюмооксидной керамики с металлом с применением форвакуумного плазменного источника электронов / А. А. Зенин, А. С. Климов // Доклады ТУСУРа. - 2013. - № 1 (27). - С. 10-13.

84. Burdovitsin, V. Electron beam sintering of zirconia ceramics / V. Burdovitsin, E. Dvilis, A. Zenin, A. Klimov, E. Oks, V. Sokolov, A. Kachaev // Advanced Materials Research. - 2014. -V. 872. - P. 150-156.

85. Бурдовицин, В. А. Модификация поверхности керамики импульсным электронным пучком, генерируемым форвакуумным плазменным источником / В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс, Е. В. Скробов, Ю. Г. Юшков // Перспективные материалы. - 2011. - № 6. - С. 1-6.

86. Бурдовицин, В. А. Структура поверхности алюмооксидной керамики при облучении импульсным электронным пучком / В. А. Бурдовицин, Э. С. Двилис, А. В. Медовник, Е. М. Окс, О. Л. Хасанов, Ю. Г. Юшков // Журнал технической физики. - 2013. - Т. 83, №. 1. - С. 117-120.

87. Kondyurin, A. Ion beam treatment of polymers: application aspects from medicine to space / A. Kondyurin, M. Bilek. - 2nd edition. - Amsterdam: Elsevier, 2014. - 259 p.

88. Handbook of polyolefins / edited by C. Vasile. - 2nd edition revised and expanded. - New York: Marcel Dekker, 2000. - 1000 p.

89. Desai, S. M. Surface modification of polyethylene / S. M. Desai, R. P. Singh // Long Term Properties of Polyolefins / edited by A. C. Albertsson. - Berlin: Springer, 2004. - P. 231-294.

90. Chen, W. Chemical surface modification of poly (ethylene terephthalate) / W. Chen, T. J. McCarthy // Macromolecules. - 1998. - V. 31, No. 11. - P. 3648-3655.

91. Sutherland, I. Modification of polypropylene surfaces by flame treatment / I. Sutherland, D. M. Brewis, R. J. Health, E. Sheng // Surface and Interface Analysis. - 1991. - V. 17, No. 7. -P. 507-510.

92. Park, S. J. Effect of corona discharge treatment on the dyeability of low-density polyethylene film / S. J. Park, J. S. Jin // Journal of Colloid and Interface Science. - 2001. - V. 236, No. 1. -P. 155-160.

93. Визен, Е. И. Модификация полипропилена с помощью тлеющего низкочастотного разряда в воздушной среде / Е. И. Визен, А. Б. Гильман, Л. С. Шипряева, Л. Н. Сосповская, А. А. Ришина // Высокомолекулярные соединения. - 1996. - Т. 38, № 8. - С. 1297-1301.

94. Guven, O. An atomic force microscopic study of the surfaces of polyethylene and polycarbonate films irradiated with gamma rays / O. Guven, A. Alacakir, E. Tan // Radiation Physics and Chemistry. - 1997. - V. 50, No. 2. - P. 165-170.

95. Gavrilov, N. Structure of polyethylene after pulse ion beam treatment / N. Gavrilov, D. Yakusheva, A. Kondyurin // Journal of Applied Polymer Science. - 1998. - V. 69, No. 6. -P. 1071-1077.

96. Gheysari, D. The effect of high-energy electron beam on mechanical and thermal properties of LDPE and HDPE / D. Gheysari, A. Behjat, M. Haji-Saeid // European Polymer Journal. - 2001. -V. 37, No. 2. - P. 295-302.

97. Гордиенко, В. П. Радиационное модифицирование композиционных материалов на основе полиолефинов / В. П. Гордиенко. - Киев: Наук. думка, 1986. - 176 с.

98. Kazakov, A. V. Special features of arc discharge in a plasma electron source at forevacuum pressure / A. V. Kazakov, A. V. Medovnik, V. A. Burdovitsin, E. M. Oks // IEEE Proceedings of the XXVI International Symposium on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum. - Mumbai, 2014. - V. 1. - P. 737-739.

99. Казаков, А. В. Инициирование дугового разряда в форвакуумном плазменном источнике электронов / А. В. Казаков, А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия высших учебных заведений. Физика. - 2014. - Т. 57, № 3/2. - C. 106-109.

100. Казаков, А. В. Зажигание дугового разряда в форвакуумном диапазоне давлений [Электронный ресурс] / А. В. Казаков, А. В. Медовник // Сборник научных трудов X

Международной конференции студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» / под ред. Г. В. Ляминой, Е. А. Вайтулевич. - Томск: Изд-во Томского политехнического университета, 2013. - С. 88-90. Режим доступа: http://science-persp.tpu.ru/Previous%20Materials/Konf_2013.pdf. - 987 с. - PDF формат, версия 1.5. - Систем треб. Adobe Acrobat 6.0 и выше. - ISBN 978-5-4387-0234-4.

101. Казаков, А. В. Зажигание дугового разряда в условиях среднего и высокого вакуума / А. В. Казаков, А. В. Волков, А. В. Медовник // Материалы Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2013»: в 5 ч. -Томск: В-Спектр, 2013. - Ч. 2. - С. 154-156.

102. Казаков, А. В. Инициирование дугового разряда с катодным пятном в форвакуумном диапазоне давлений при использовании вспомогательного разряда / А. В. Казаков, А. В. Медовник, И. Ю. Бакеев // Материалы докладов X Международной научно-практической конференции «Электронные средства и системы управления»: в 2 ч. - Томск: В-Спектр, 2014. -Ч. 1. - С. 202-206.

103. Бакеев, И. Ю. Моделирование инициирования дугового разряда вспомогательным разрядом по поверхности диэлектрика в форвакуумном диапазоне давлений / И. Ю. Бакеев, А. В. Казаков, А. В. Медовник // Материалы Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2015»: в 5 ч. - Томск: В-Спектр, 2015. - Ч. 2. - С. 279-281.

104. Свидетельство № 2015615838 РФ. Моделирование инициирования дугового разряда вспомогательным разрядом по поверхности диэлектрика в форвакуумном импульсном источнике электронов : Свидетельство о государственной регистрации программы для ЭВМ / А. В. Казаков, И. Ю. Бакеев, А. В. Медовник ; правообладатель ФГБОУ ВПО Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники ; заявл. 09.04.2015; регистрация 26.05.2015.

105. Пат. на полезную модель 134728 Российская Федерация, МПК H 05 H 5/00 H 01 J 37/00. Форвакуумный источник импульсного электронного пучка / Бурдовицин В. А., Медовник А. В., Казаков А. В., Окс Е. М.; заявитель и патентообладатель Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники. -№ 2013128695/07 ; заявл. 24.06.13; опубл: 20.11.13, Бюл. № 32. - 3 с.: ил.

106. Anderson, R. A. Mechanism of pulsed surface flashover involving electron-stimulated desorption / R. A. Anderson, J. P. Brainard // Journal of Applied Physics. - 1980. - V. 51, No. 3. -P.1414-1421.

107. Jaitly, N. C. In-situ Insulator Surface Charge Measurements in Dielectric Bridged Vacuum Gaps Using an Electrostatic Probe / N. C. Jaitly, T. S. Sudarshan // IEEE Transactions on Electrical Insulation. - 1988. - V. 23, No. 2. - P. 261-273.

108. Pillai, A. S. Surface flashover of solid dielectric in vacuum / A. S. Pillai, R. Hackam // Journal of Applied Physics. - 1982. - V. 53, No. 4. - P. 2983-2987.

109. Ковальчук, Б. М. Развитие поверхностного разряда по диэлектрику с большой диэлектрической проницаемостью в газе в наносекундном диапазоне / Б. М. Ковальчук, В. В. Кремнев, Г. А. Месяц, Я. Я. Юрике // Прикладная механика и техническая физика. - 1973. - №. 1. - С. 48-55.

110. Мюллер, Э. В. Автоионизация и автоионная микроскопия. / Э. В. Мюллер // Успехи физических наук. - 1962. - Т. 77, №. 3. - С. 481-552.

111. Cai, L. Two-dimensional simulation research of secondary electron emission avalanche discharge on vacuum insulator surface / L. Cai, J. Wang, X. Zhu, Y. Wang, D. Zhang // Physics of Plasmas. - 2015. - V. 22, No. 1. - P. 013502.

112. Brainard, J. P. Electron avalanche and surface charging on alumina insulator during pulsed high-voltage stress / J. P. Braiard, D. Jensen // Journal of Applied Physics. - 1974. - V. 45, No. 8. -P.3260-3265.

113. Miller, H. C. Flashover of insulators in vacuum: review of the phenomena and techniques to improved holdoff voltage / H. C. Miller // IEEE Transactions on Electrical Insulation. - 1993. - V. 28, No. 4. - P. 512-527.

114. Birdsall, C. K. Plasma Physics via Computer simulation / C. K. Birdsall, A. B. Langdon. -New York: Taylor & Francis Group, 2005. - 469 p.

115. Neuber, A. A. The Role of Outgassing in Surface Flashover Under Vacuum / A. A. Neuber, M. Butcher, H. Krompholz, L. L. Hatfield, M. Kristiansen // IEEE Transactions on Plasma Science. - 2000. - V. 28, No. 5. - P. 1593-1598.

116. Kazakov, A. V. Pulsed Cathodic Arc for Forevacuum-Pressure Plasma-Cathode Electron Sources / A. V. Kazakov, A. V. Medovnik, V. A. Burdovitsin, E. M. Oks // IEEE Transaction on Plasma Science. - 2015. - V. 43, No 8. - P. 2345-2348.

117. Казаков, А. В. Особенности функционирования дугового разряда в форвакуумном плазменном источнике электронов / А. В. Казаков. А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Журнал технической физики. - 2015. - Т. 85, № 2. - С. 55-58.

118. Сниженко, А. Н. Влияние геометрии разрядного промежутка на распределение эмиссионной плазмы в форвакуумном источнике электронов на основе дугового разряда / А. Н. Сниженко, А. В. Казаков, А. В. Медовник // Материалы Всероссийской научно-

технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2014»: в 5 ч. Томск: В-Спектр, 2014. - Ч. 2. - С. 140-143.

119. Казаков, А. В. Распределение плотности плазмы в разрядной системе форвакуумного импульсного источника электронов на основе дугового разряда [Электронный ресурс] / А. В. Казаков, А. Н. Сниженко, А. В. Медовник // Сборник научных трудов XI Международной конференции студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» / под ред. Е. А. Вайтулевич. - Томск: Изд-во Томского политехнического университета, 2014. -С. 90-92. - Режим доступа: http://science-persp.tpu.ru/Previous%20Materials/Konf_2014.pdf. -1133 с. - PDF формат, версия 1.5. - Систем треб. Adobe Acrobat 6.0 и выше.

120. Бадмажапов, З. А. Масс-зарядовый состав ионов плазмы дугового разряда в форвакуумном источнике электронов [Электронный ресурс] / З. А. Бадмажапов, А. В. Казаков // Сборник научных трудов XII Международной конференция студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» / под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Воронова, С. А. Поробовой. - Томск: Изд-во Томского политехнического университета, 2015. - С. 14641466. - Режим доступа: http://science-persp.tpu.ru/Previous%20Materials/Konf_2015.pdf. -1556 с. -PDF формат, версия 1.5. - Систем треб. Adobe Acrobat 6.0 и выше.

121. Тюньков, А. В. Масс-зарядовый состав ионов плазмы дугового разряда форвакуумного широкоапертурного источника электронов / А. В. Тюньков, В. А. Бурдовицин, А. В. Казаков, А. В. Медовник, Е. М. Окс // Прикладная физика. - 2015. - № 4. - С. 45-49.

122. Стриганов, А. Р. Таблицы спектральных линий нейтральных и ионизованных атомов / А. Р. Стриганов, Н. С. Свентицкий. - М.: Атомиздат, 1966. - 899 с.

123. Стриганов, А. Р. Таблицы спектральных линий атомов и ионов: справочник / А. Р. Стриганов, Г. А. Одинцова. - М.: Энергоиздат, 1982. - 312 с.

124. Krupenie, P. H. The spectrum of molecular oxygen / P. H. Krupenie // Journal of Physical and Chemical Reference Data. - 1972. - V. 1, No. 2. - P. 423-534.

125. Lofthus, A. The spectrum of molecular nitrogen / A. Lofthus, P. H. Krupenie // Journal of Physical and Chemical Reference Data. - 1977. - V. 6, No. 1. - P. 113-307.

126. Matsutani, A. Characterization of H2O- inductively coupled plasma for dry etching / A. Matsutani, H. Ohtsuki, F. Koyama // Journal of Physics: Conference Series. - 2008. - V. 100, No. 6. - P. 062022.

127. Tyunkov, A. V. Generation of metal ions in the beam plasma produced by a forevacuum-pressure electron beam source / A. V. Tyunkov, Yu. G. Yushkov, D. B. Zolotukhin, K. P. Savkin, A. S. Klimov // Physics of Plasmas. - 2014. - V. 21, No. 12. - Р. 123115.

128. Yotsombat, B. Optical emission spectra of a copper plasma produced by a metal vapour vacuum arc plasma source / B. Yotsombat, S. Davydov, P. Poolcharuansin, T. Vilaithong, I. G. Brown // Journal of Physics D: Applied Physics. - 2001. - V. 34, No. 12. - P. 1928-1932.

129. Vayner, B. Emission Spectra of Arc Plasmas / B. Vayner, D. C. Ferguson, J. T. Galofaro // IEEE Transactions on Plasma Science. - 2008. - V. 36, No. 5. - P. 2219-2227.

130. Crintea, D. L. Plasma diagnostics by optical emission spectroscopy on argon and comparison with Thomson scattering / D. L. Crintea, U. Czarnetzki, S. Iordanova, I. Koleva, D. Luggenholscher // Journal of Physics D: Applied Physics. - 2009. - V. 42, No. 4. - P. 045208.

131. Anders, A. Emission spectroscopy of low-current vacuum arcs / A. Anders, S. Anders // Journal of Physics D: Applied Physics. - 1991. - V. 24, No. 11. - P. 1986-1992.

132. CRC Handbook of Chemistry and Physics / edited by D. R. Lide. - 90th edition. - Boca Raton: CRC Press, 2009. - 2804 p.

133. Sakaki, M. Excitation, ionization, and reaction mechanism of a reactive cathodic arc deposition of TiN / M. Sakaki, T. Sakakibara // IEEE Transactions on Plasma Science. - 1994. -V. 22, No. 6. - P. 1049-1054.

134. Sakaki, M. Characterization of ion behavior in Ti cathode N2 vacuum arc using plane probe diagnostics and spectroscopic measurements / M. Sakaki, T. Sakakibara // Applied Physics Letters. -1995. - V. 67, No. 18. - P. 2606-2608.

135. Rosen, J. Charge state and time resolved plasma composition of a pulsed zirconium arc in a nitrogen environment / J. Rosen, A. Anders, L. Hultman, J. M. Schneider // Journal of Applied Physics. - 2004. - V. 96, No. 9. - P. 4793-4799.

136. Семиохин, И. А. Элементарные процессы в низкотемпературной плазме / И. А. Семиохин. - М.: Изд-во Московского ун-та, 1988. - 142 с.

137. Bergman, C. Ion flux characteristics in arc vapor deposition of TiN / C. Bergman // Surface and Coatings Technology. - 1988. - V. 36, No. 1. - P. 243-255.

138. Lepone, A. Role of metallic neutrals and gaseous molecular ions in a copper cathodic arc operated with oxygen gas / A. Lepone, H. Kelly, A. Marquez // Journal of Applied Physics. - 2001. -V. 90, No. 7. - P. 3174-3181.

139. Казаков, А. В. Форвакуумный импульсный плазменный источник электронов на основе дугового разряда / А. В. Казаков, В. А. Бурдовицин, А. В. Медовник, Е. М Окс // Приборы и техника эксперимента. - 2013. - № 6. - С. 50-53.

140. Казаков, А. В. Распределение плотности тока электронного пучка, генерируемого импульсным форвакуумным плазменным источником электронов на основе дугового разряда / А. В. Казаков, А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия высших учебных заведений. Физика. - 2014. - Т. 57, № 11/3. - С. 68-72.

141. Казаков, А. В. Генерация импульсных электронных пучков плазменным источником на основе дугового разряда в форвакууме [Электронный ресурс] / А. В. Казаков, А. В. Медовник // Сборник научных трудов XII Международной конференция студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» / под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Воронова, С. А. Поробовой. - Томск: Изд-во Томского политехнического университета, 2015. - С. 1491-1493. - Режим доступа: http://science-persp.tpu.ru/Previous%20Materials/Konf_ 2015.pdf. -1556 с. - PDF формат, версия 1.5. - Систем треб. Adobe Acrobat 6.0 и выше.

142. Фомичев, М. П. Влияние обратного ионного потока на функционирование плазменного источника электронов на основе дугового разряда в форвакуумном диапазоне давлений / М. П. Фомичев, А. В. Казаков, А. В. Медовник // Материалы Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2015»: в 5 ч. -Томск: В-Спектр, 2015. - Ч. 2. - С. 293-295.

143. Казаков, А. В. Формирование импульсных электронных пучков в форвакуумной области давлений в системе с плазменным катодом на основе дугового разряда / А. В. Казаков // Труды V международного Крейнделевского семинара «Плазменная эмиссионная электроника» / под ред. А. П. Семенова. - Улан-Удэ: Из-во Бурятского научного центра СО РАН, 2015. -С. 37-44.

144. Koval, N. N. Effect of intensified emission during the generation of a submillisecond low-energy electron beam in a plasma-cathode diode / N. N. Koval, S. V. Grigoryev, V. N. Devyatkov, A. D. Teresov, P. M. Schanin // IEEE Transactions on Plasma Science. - 2009. - V. 37, No. 10. -P. 1890-1896.

145. Груздев, В. А. Влияние ионизации газа в высоковольтном промежутке с плазменным катодом на положение эмитирующей поверхности плазмы / В. А. Груздев, Ю. Е. Крейндель, Ю. И. Ларин // Журнал технической физики. - 1973. - Т. 43, № 11. - С. 2318-2323.

146. Медовник, А. В. Формирование импульсного электронного пучка в системе с плазменным катодом в форвакуумной области давлений / А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е.М. Окс // Известия высших учебных заведений. Физика. - 2010. - № 2. - С. 27-33.

147. Humphries, S. Charged Particle Beams / S. Humphries. - Albuquerque: John Wiley and Sons, 1990. - 856 p.

148. Gushenets, V. Electrostatic plasma lens focusing of an intense electron beam in an electron source with a vacuum arc plasma cathode / V. Gushenets, A. Goncharov, A. Dobrovolskij, I. Litovko, E. Oks, A. Bugaev // IEEE Transactions on Plasma Science. - 2013. - V. 41, No. 8. - P. 2171-2176.

149. Clough, R. L. High-energy radiation and polymers: A review of commercial processes and emerging application / R. L. Clough // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. -2001. - V. 185, No. 1 - P. 8-33.

150. Казаков, А. В. Модификация поверхности полимерных материалов импульсным электронным пучком / А. В. Казаков, А. С. Климов, А. С. Смаилов, А. В. Медовник, Ю. Г. Юшков, И. Ю. Бакеев // Доклады ТУСУРа. - 2013. - № 4 (30). - С. 75-78.

151. Казаков, А. В. Структура поверхности полипропилена при облучении импульсным электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений / А. В. Казаков, А. C. Смаилов,

B. А. Бурдовицин, А. В. Медовник, Е. М. Окс // Доклады ТУСУРа. - 2014. - № 4 (34). -

C. 56-59.

152. Смаилов, А. С. Изменение свойств поверхности полимеров при облучении электронным пучком / А. С. Смаилов, А. В. Казаков, А. В. Медовник // Материалы Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2014»: в 5 ч. - Томск: В-Спектр, 2014. - Ч. 2. - С. 137-140.

153. Смаилов, А. С. Изменение структуры поверхности полипропилена при обработке импульсным электронным пучком в форвакууме [Электронный ресурс] / А. С. Смаилов, А. В. Казаков, А. В. Медовник» // Сборник научных трудов XII Международной конференция студентов и молодых ученых «Перспективы развития фундаментальных наук» / под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Воронова, С. А. Поробовой. - Томск: Изд-во Томского политехнического университета, 2015. - С. 1542-1544. - Режим доступа: http://science-persp.tpu.ru/Previous%20Materials/Konf_2015.pdf. -1556 с. - PDF формат, версия 1.5. - Систем треб. Adobe Acrobat 6.0 и выше.

154. Смаилов, А. С. Расчет теплового поля при облучении полипропилена импульсным электронным пучком / А. С. Смаилов, А. В. Казаков, А. В. Медовник // Материалы Всероссийской научно-технической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР-2015»: в 5 ч. - Томск: В-Спектр, 2015. - Ч. 2. - С. 333-335.

155. Пат. на полезную модель 151645 Российская Федерация, МПК B29C 71/04 H01J 37/06 C08L 23/26. Установка модификации поверхности изделия из полипропилена / Бурдовицин В. А., Казаков А. В., Климов А. С., Медовник А. В., Окс Е. М., Смаилов А. С.; заявитель и патентообладатель Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники. - № 2014117474/04; заявл. 29.04.14; опубл. 10.04.15, Бюл. № 10. - 3 с.: ил.

156. Puhova, I. V. Modification of Polymer Materials by Electron Beam Treatment / I. V. Puhova, K. V. Rubtsov, I. A. Kurzina, A. V. Kazakov, A. V. Medovnik // Key Engineering Materials. - 2016. - V. 670. - P. 118-125. (текст статьи доступен на сайте Trans Tech Publications Inc.: http://www.ttp.net/978-3-03835-612-7.html).

157. Kulshrestha, V. Microscopic studies of electron and ion irradiated polymeric films / V. Kulshrestha, G. Agarwal, K. Awasthi, D. Vyas, Y. K. Vijay // Microscopy: Science, Technology, Applications and Education. - 2010. - V. 3. - P. 1696-1703.

158. Ковивчак, В. С. Волнообразные микроструктуры, формируемые на границе раздела SiO2/Si при воздействии мощного ионного пучка / В. С. Ковивчак, Т. В. Панова, О. В. Кривозубов, Н. А. Давлеткильдеев, Е. В. Князев // Письма в ЖТФ. - 2013. - Т. 39, №. 3. -С. 11-17.

159. Lu, Y.F. Theoretical analysis of laser-induced periodic structures at silicon-dioxide/silicon and silicon-dioxide/aluminum interfaces / Y. F. Lu, J. J. Yu, W. K. Choi // Applied Physics Letters. -1997. - V. 23, No. 23. - P. 3439-3440.

160. Kollia, Z. Self assembled structures on fluoro-polymers induced with laser light at 157 nm / Z. Kollia, E. Sarantopoulou, A. C. Cefalas, S. Kobe, P. Argitis, K. Missiakos // Applied Surface Science. - 2005. - V. 248, No. 1. - P. 248-253.

Приложение 1. Патент на полезную модель № 1

Приложение 2. Патент на полезную модель № 2

Приложение 3. Свидетельство о регистрации программы для ЭВМ

Приложение 4. Акт об использовании № 1

«03» сентября 2015г.

Приложение 5. Акт об использовании № 2

МИНОБРНАУКИ РОССИИ

УТВЕРЖДАЮ

Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Национальный исследовательский Томский государственный университет»

^-

«¿7 »^а.тября 2015

Проректор по HP

I'h_

И.В. Ивонин

(ТГУ, НИ ТГУ)

Ленина пр., 36, г. Томск, 634050 Тел. [phone], факс [phone] E-mail: [e-mail] http://www.tsu.ru ОКПО 02069318, ОГРН 1027000853978 ИНН 7018012970, КПП 70! 701001

на №

от

АКТ

об использовании результатов диссертационной работы

Настоящим удостоверяю, что результаты научных исследований по разработке и применению импульсного форвакуумного плазменного источника электронов, полученные в диссертационной работе аспиранта Томского государственного университета систем управления и радиоэлектроники Казакова Андрея Викторовича «Генерация сильноточных импульсных электронных пучков форвакуумным плазменным источником на основе дугового разряда», используются в лаборатории каталитических исследований химического факультета Томского государственного университета при исследовании электронно-лучевой модификации полимерных материалов.

Заведующий лабораторией каталитических исследований ТГУ

д.ф.-м.н.,

«££» сентября 2015г.