Ультрафиолетовые газоразрядные эксимерные лазеры и их применение в медицине тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.21, доктор физико-математических наук Ражев, Александр Михайлович

• Ражев, Александр Михайлович
• доктор физико-математических наук
• 1999

Оглавление диссертации доктор физико-математических наук Ражев, Александр Михайлович

стр.

Введение

Часть I. УФ ИМПУЛЬСНЫЕ ГАЗОРАЗРЯДНЫЕ ЭКСИМЕРНЫЕ

ЛАЗЕРЫ НА ГАЛОГЕНИДАХ ИНЕРТНЫХ ГАЗОВ

Глава 1.1. Физические принципы возбуждения эксимерных лазеров на галогенидах инертных газов

Глава 1.2. Способы возбуждения газовых активных сред высокого давления электрическим разрядом

1.2.1. Способ возбуждения газовых активных сред поперечным разрядом с предварительной ионизацией дополнительным поперечным разрядом через диэлектрик

1.2.2. Газоразрядные N2 (337,1 и 357,6 нм) и А^ (391,4 и 427,8 нм) лазеры высокого давления

1.2.3. Способ возбуждения газовых лазеров высокого давления поперечным разрядом с предварительной ионизацией активной среды ультрафиолетовым излучением искр

Глава 1.3. Генерация на переходах 0'—>А'двухатомных молекул галогенов в электрическом разряде высокого давления

1.3.1. Газоразрядный Вг2 лазер (292 нм). Интерпретация спектров люминесценции и генерации

1.3.2. Новые полосы в спектре генерации газоразрядного

СШ лазера (285 нм)

1.3.3. Увеличение эффективности генерации ВУФ ¥2 лазера (157 нм) при повышении давления активной среды

1.3.4. Новые линии генерации в красной области спектра газоразрядного лазера на переходах атомов фтора

Глава 1.4. УФ газоразрядные лазеры на бромиде Хе и хлоридах

КгнХе

1.4.1. Генерация на переходах В 2? 1/2 XI? 1/2 эксимерных молекул ХеВг (282 нм) в электрическом разряде

1.4.2. Эксимерный КгС1 лазер в области 223 нм

1.4.3. Новый высокоэффективный газоразрядный лазер высокого давления на эксимерных молекулах ХеС1 (308 нм)

1.4.4. ХеС1 лазер с высокими пространственной однородностью и плотностью излучения

1.4.5. Система генератор-усилитель на основе ХеС1 лазера с двумя активными объемами, возбуждаемыми одним импульсом тока

1.4.6. Зависимость параметров плазмы и энергии генерации ХеС лазера от содержания Хе в смеси Не-Хе-НС

1.4.7. Влияние состава активной среды, частоты следования импульсов и режима долговременной работы на эффективность лазеров на хлоридах инертных газов

Глава 1.5. Эксимерные лазеры на фторидах инертных газов

1.5.1. ЭксимерныйХе/^-лазер (351 и 353 нм) высокого давления

1.5.2. Новый газоразрядный лазер на переходах В и эксимерных молекул ЛпР( 193 нм)

1.5.3. Одновременная генерация на УФ переходах эксимерных молекул АгЖ и Хе¥, ИК переходах атомов АгиХеи красных линиях фтора

1.5.4. Газоразрядный КгГ лазер (248 нм) высокого давления

1.5.5. Высокоэффективные АгГ и КгГ лазеры на основе буферного газаТ/е

1.5.6. Особенности работы эксимерных лазеров на фторидах инертных газов без смены активной среды и при высокой частоте следования импульсов

Часть II. УФ ЭКСИМЕРНЫЕ ЛАЗЕРЫ В МЕДИЦИНЕ

Глава 2.1. Взаимодействие УФ лазерного излучения с биологическими тканями

2.1.1. Взаимодействие УФ излучения эксимерных лазеров с полимерными материалами (конденсированными средами)

2.1.2. Взаимодействие УФ лазерного излучения с тканями сердца. Возможности использования УФ лазеров в кардиохирургии

2.1.3. Исследование взаимодействия УФ лазерного излучения с роговицей глаза. Перспективы применения УФ эксимерных лазеров в офтальмологии

2.1.4. Хромосомные мутации и регенерация тканей в роговице глаза после УФ лазерного воздействия

Глава 2.2. Новые офтальмологические системы на основе УФ эксимерных лазеров

2.2.1. Разработка и создание офтальмологической установки на основе эксимерного ArF лазера (193 нм)

2.2.2. Новая офтальмологическая система на основе эксимерного KrCl лазера (223 нм) для коррекции аномалий рефракции глаза

2.2.3. Коррекция аномалий рефракции и лечение некоторых заболеваний глаза с использованием УФ излучения эксимерных лазеров

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Ультрафиолетовые газоразрядные эксимерные лазеры и их применение в медицине»

Интенсивные исследования в области квантовой электроники привели к созданию оптических квантовых генераторов, работающих на различных переходах большого количества элементов и их соединений. Важное место в широком круге ОКГ занимает целый класс газовых лазеров. При создании газовых лазеров реализованы как импульсный, так и непрерывный режим генерации. Разработано много способов возбуждения газовых активных сред, наиболее распространенными среди которых являются возбуждение электронным пучком, оптическая накачка, несамостоятельный электрический разряд, стабилизируемый электронным пучком, самостоятельный электрический разряд в газах.

При исследованиях в области газовых лазеров обычно рассматриваются различные задачи, среди которых можно выделить следующие как наиболее важные: поиск новых эффективных лазерных сред, увеличение эффективности уже известных лазеров, детальное изучение физических процессов, позволяющих получить понимание механизмов образования инверсии, режимов работы лазеров и обеспечивающих тем самым создание лазеров как устройств, пригодных для различных применений.

Газовые лазеры высокого давления являются источниками излучения, обладающего некоторыми новыми свойствами, связанными с шириной спектра, расходимостью, пространственной и временной когерентностью. Использование высокого давления газовых смесей для поиска новых активных сред и линий генерации обусловило реализацию новых процессов заселения уровней атомов и молекул, то есть новых механизмов создания инверсии населенностей [1,2].

Импульсные газовые лазеры высокого давления представляют собой источники излучения, отличающихся большой импульсной мощностью излучения. Эти лазеры работают на различных переходах молекул, атомов, молекулярных ионов, эксимеров. Во многих случаях повышение рабочего давления газовой активной среды до атмосферного и выше сопровождается увеличением удельных и абсолютных характеристик выходного излучения лазера (коэффициента усиления, мощности), а также генерацией новых линий. В 1970 году интерес к газовым лазерам высокого давления значительно повысился в связи с созданием новых лазеров, называемых эксимерными. Эти лазеры работают в ВУФ области спектра на переходах таких эксимерных молекул как Хе2, Кг2, Лг2 [3-5], образующихся лишь при высоких давлениях газовых активных сред. Кроме того, появились лазеры на эксимерных молекулах ХеО и КгО\ излучающие в зеленой области спектра [6], тоже работающие при давлениях газовых активных сред, превышающих атмосферное.

В 1960 году Хоутерманс высказал предположение о возможности создания лазера на молекулах с разлетным нижним состоянием [7], а в 1970 году в работах Басова Н.Г. с сотрудниками [2,8,9] был описан первый эксимерный лазер на молекулах конденсированного ксенона - Хе2 (X = 176,0 нм), который положил начало широкому классу эксимерных лазеров на различных молекулах. Вслед за этими работами появились сообщения [3-5] о создании ВУФ эксимерных лазеров наХе2*, Кг2, Аг2, а затем и на ХеО* (540 нм) и Кг О (558 нм) [6] при возбуждении сжатых до десятков атмосфер газов электронным пучком. Однако, наиболее эффективными в тот период времени оказались лазеры с возбуждением электронным пучком на галогенидах инертных газов - ХеВг , КгР*, ХеС1*, ХеР* [1014], созданные в 1975 году. Первым из них был реализован ХеВг-лазер (281,8 нм) [11], а затем КгР(1А% нм) и ХеО (308 нм) -лазеры [10], причем в последней работе был получен кпд лазеров 7]« 0,4%, &ХеГ -лазер (353 нм), возбуждаемый коаксиальным пучком [13], имел кпд около 3%. КгР -лазер, описанный в [14] имел мощность излучения 100 МВт. Такие параметры лазеров на галогенидах инертных газов указывали на большие перспективы их исследований и применений, учитывая слабо освоенный ультрафиолетовый диапазон излучения этих лазеров. Особый интерес к лазерам на галогенидах инертных газов возник после появления сообщения [15] о разработке КгР - лазера, возбуждаемого электрическим несамостоятельным разрядом, контролируемым электронным пучком. Все эти эксперименты указывали на возможность создания эксимерных лазеров на галогенидах инертных газов при давлениях выше атмосферного с возбуждением самостоятельным электрическим разрядом, что и обусловило постановку наших экспериментов.

С созданием лазеров ИК, видимого и УФ диапазонов спектра быстро начали развиваться такие направления, как лазерная спектроскопия, лазерная фотохимия, разделение изотопов и др. Расширялось использование лазеров в биологии и медицине. Однако, из всего оптического диапазона наименее освоенной остается ультрафиолетовая часть спектра. Число УФ лазеров, существующих к началу описываемых ниже исследований, немногочисленно, а эффективность их невелика. Для большого круга применений импульсные лазеры УФ и видимого диапазонов спектра должны иметь не только вполне определенные длины волн, но и высокие значения пиковых и средних мощностей излучения. В связи с этим, поиск новых высокоэффективных лазерных сред, обеспечивающих требуемые характеристики излучения, являлся одной их актуальных проблем квантовой электроники.

Большой интерес к газоразрядным лазерам с высоким давлением газовой активной среды, связан с возможностью увеличения мощности накачки, а следовательно и мощности излучения, создания плавно перестраиваемых по частоте источников за счет перекрытия линий в полосах, получения генерации на переходах большого количества атомов, молекул, ионов [16,21].

В настоящее время разработан целый ряд способов импульсного возбуждения газовых активных сред электрическим разрядом. Эти способы позволяют реализовать объемный однородный разряд в газах и получать генерацию во всем оптическом диапазоне спектра. К таким способам относятся: возбуждение продольным разрядом [17], поперечным поверхностным разрядом [18] (под поперечным разрядом здесь имеется в виду разряд, протекающий перпендикулярно к направлению распространения излучения), поперечным объемным разрядом с предварительной УФ ионизацией активной среды [19], поперечным разрядом предварительной ионизацией активной среды дополнительным разрядом через диэлектрик [20]. Первым при создании импульсных газовых лазеров было реализовано возбуждение продольным разрядом [17]. Однако, дальнейшее использование его в лазерах высокого давления стало проблематичным из-за необходимости использования высоких напряжений, создающих значительные технические трудности. Поперечный поверхностный разряд неперспективен вследствие малости объема активной среды, а также сложности практической реализации такого устройства.

Одним из наиболее перспективных способов импульсного возбуждения газовых сред высокого давления является поперечный объемный разряд с предварительной ионизацией активной среды. Этот способ, в отличие от возбуждения газов электронным пучком, не требует защиты обслуживающего персонала от рентгеновского излучения и обеспечивает работу лазера с высокой частотой следования импульсов. Поэтому, в настоящей работе для проведения исследований по созданию лазеров на новых активных средах был выбран способ возбуждения газовых сред поперечным объемным электрическим разрядом с предварительной ионизацией активной среды либо дополнительным поперечным разрядом через диэлектрик [66,69], либо УФ излучением искр [19].

Цель работы:

Основной целью данной диссертационной работы являлся поиск новых лазерных активных сред в ультрафиолетовой области спектра и их применений.

Задачи исследований: создание новых импульсных газоразрядных лазеров, излучающих в ультрафиолетовой области спектра, возбуждаемых при давлениях выше атмосферного импульсным поперечным электрическим разрядом с предварительной ионизацией активной среды. поиск новых линий генерации в существующих импульсных газоразрядных лазерах и повышение эффективности этих лазеров. исследования влияния условий накачки, давления и состава активной газовой среды, с помощью которых можно управлять параметрами излучения импульсных УФ газоразрядных лазеров. изучение возможностей и обоснование применений создаваемых УФ газоразрядных лазеров.

Научная новизна:

1. Впервые исследованы спектральные, пространственно-временные и энергетические характеристики излучения N2 и лазеров УФ и синей областей спектра в диапазоне давлений 1-11 атм смеси Не-Ы2. Изучена вращательная структура спектра и обнаружено аномально слабое уширение линий генерации. Исследована пространственная структура излучения в этих лазерах. Впервые получена генерация в самостоятельном электрическом разряде высокого давления в полосе (0-1) молекулы N2 на длине волны 357,6 нм.

2. Впервые при давлениях выше атмосферного в газовых активных средах, возбуждаемых импульсным двойным поперечным электрическим разрядом получена генерация на переходах эксимерных молекул АгР (193 нм), КгР (248 нм), КгС1 (223 нм), ХеС1 (308 нм), ХеВг (282 нм), в том числе с галогенсодержащи-ми газами 8Р6, ВС13 и фреонами. Впервые показана возможность работы газоразрядных УФ эксимерных лазеров с высокой частотой следования импульсов (до 100 Гц и более).

3. Впервые обнаружена и интерпретирована генерация в одном импульсе возбуждения на УФ переходах эксимерных молекул АгР, ХеР, ИК переходах атомов Аг, Хе и красных линиях атомарного фтора. Исследованы механизмы изменения энергии излучения в лазерах на фторидах и хлоридах инертных газов. Показано существование обратимого и необратимого процессов изменения энергии при изменении частоты следования и увеличении числа импульсов возбуждения.

4. Впервые показано, что увеличение мощности накачки в газоразрядных АгР и КгГ лазерах на основе буферного газа Не с автоматической УФ предыониза-цией приводит к увеличению импульсной мощности и эффективности генерации. Достигнут полный кпд 1,5 % с энергией излучения более 0,5 Дж для АгР и 2,5 % с энергией излучения около 1 Дж для КгР лазеров.

5. Обнаружена, теоретически и экспериментально изучена слабая зависимость эффективности эксимерного ХеС1 лазера от концентрации Хе в газовой смеси в диапазоне от 0,5 % до 8 %.

6. Создана новая система генератор-усилитель для управления пространственными и спектральными характеристиками излучения эксимерных лазеров на основе лазера с двумя активными объемами, возбуждаемыми одним импульсом тока.

7. Обнаружен эффект влияния плотности активной среды на механизм образования инверсии в газоразрядных лазерах на переходах атомов и двухатомных молекул галогенов, приводящий к увеличению эффективности и получению новых линий генерации. Впервые в газоразрядном СШ лазере (285 нм) обнаружена и интерпретирована колебательная структура спектра излучения. Получена генерация на смеси Не-р2-ВС13.

8. В газоразрядном Т7; лазере на смеси Не-Г2 (ЗУРз) получено пять новых линий генерации в красной области спектра с импульсной мощностью 250 кВт, показана возможность управления спектральным составом путем изменения полного давления в диапазоне 0,1-6 атм.

9. Впервые предложено использование излучения газоразрядного эксимерного КгС1 лазера (223 нм) в медицине, в частности, для коррекции аномалий рефракции глаза в офтальмологии. Экспериментально исследовано взаимодействие излучения этого лазера с тканями глаза, проведено сравнение с результатами воздействия излучения Ат¥ лазера (193 нм).

Практическая ценность работы:

1. Созданный газоразрядный ХеС1 лазер использовался в экспериментах по разделению изотопов редкоземельных элементов для измерения сечения фотоионизации иттербия.

2. Созданные газоразрядные УФ эксимерные лазеры применялись в экспериментах по исследованию взаимодействия мощного УФ лазерного излучения с полимерными материалами и биологическими тканями.

3. Обнаруженный приповерхностный фоторефракционный эффект в кристалле ЫШОз, возникающий при воздействии излучения эксимерного КгР лазера, был использован в экспериментах по созданию элементов интегральной оптики.

4. Эксимерные Кг¥ и ХеВг лазеры использованы в исследованиях по накачке перестраиваемых лазеров на красителях в УФ области спектра.

5. С использованием газоразрядных УФ эксимерных лазеров проведены исследования хромосомных мутаций и регенерации тканей глаза, показавшие биологическую безопасность применения этих лазеров в медицине.

6. Результаты исследований по взаимодействию УФ лазерного излучения с биологическими тканями могут использоваться для создания эксимерных лазерных медицинских установок и их применения в офтальмологии, кардиохирургии, нейрохирургии.

7. Разработаны и созданы высокоэффективные А гЕ, Кг Г и КгС1 лазеры на основе буферного газа/Те с полным кпд 1,5 %, 2,5 % и 0,4 % и энергией излучения 0,5 Дж, 1 Дж, и 0,2 Дж, соответственно. Созданные лазеры использованы для создания УФ лазерных офтальмологических систем "Медилекс" и пригодны для применения в других лазерных медицинских установках.

8. Впервые разработана и создана офтальмологическая система на основе экси-мерного КгС1 лазера (223 нм) для рефракционной хирургии (методами фоторефракционной кератектомии и лазерного кератомилеза "ЬаБИс") и лечения таких заболеваний глаза как герпетические кератиты и глаукома. Создана первая отечественная офтальмологическая система на основе эксимерного АгГ лазера (193 нм) для коррекции аномалий рефракции глаза (близорукости и дальнозоркости любых степеней, астигматизма) и лечения глаукомы. Для выполнения операций разработана и создана оригинальная и эффективная оптическая система для преобразования и передачи мощного УФ лазерного излучения на роговицу глаза с целью перепрофилирования ее внешней поверхности. В основу метода положены специальные вращающиеся многощелевые маски. Проведены успешные клинические испытания офтальмологических систем "Медилекс" на длинах волн 193 и 223 нм.

Защищаемые положения:

1. Впервые при возбуждении импульсным поперечным электрическим разрядом с предварительной ионизацией газовых смесей при давлениях выше атмосферного получена генерация на эксимерных молекулах ЛпР (193 нм), Кг Г (248 нм), КгС1 (223 нм), ХеС1 (308 нм), ХеВг (282 нм), в том числе с галогенсо-держащими газами 57*6, ВСЦ и фреонами.

2. В газоразрядных эксимерных лазерах зависимость энергии генерации от частоты следования и числа импульсов возбуждения состоит из обратимого и необратимого процессов.

3. Обнаружен эффект влияния плотности активной среды на механизм образования инверсии в лазерах на переходах атомов и молекул галогенов, заключающийся в значительном увеличении эффективности этих лазеров и возникновении генерации на новых линиях.

4. Газоразрядный эксимерный КгС1 лазер (223 нм) является новым и эффективным источником лазерного излучения для медицинских применений, включающих коррекцию аномалий рефракции глаза и лечение различных заболеваний, включающих вирусные. Впервые в мире проведены исследования и создана новая офтальмологическая система на основе эксимерного КгС1 лазера. Создана первая отечественная офтальмологическая система на основе эксимерного АгГ лазера 193 (нм).

Личный вклад автора

Личный вклад автора в получении представленных в данной диссертации результатов заключается в следующем:

1. Непосредственно автором выполнены экспериментальные исследования спектральных, пространственно-временных и энергетических характеристик излучения N2 и лазеров высокого давления.

2. Автором осуществлены постановка работ и проведение исследований по поиску генерации и созданию первых УФ газоразрядных эксимерных лазеров на галогенидах инертных газов, а также лазеров на галогенах.

3. Все описанные в данной диссертации эксперименты, а также полученные в них результаты и подготовленные на их основе публикации сделаны по инициативе и при непосредственном участии автора.

4. Решающий вклад автора заключается в проведении исследований по взаимодействию УФ лазерного излучения с конденсированными средами, включая биологические ткани и в создании первых эксимерных лазерных офтальмологических установок.

Апробация работы

Результаты диссертационной работы докладывались на:

II Всесоюзном симпозиуме по физике газовых лазеров (Новосибирск, 1975 г.), Всесоюзных конференциях по когерентной и нелинейной оптике (Тбилиси, 1976 г., Ленинград 1978 г., Ереван 1982 г., Москва 1985 г., Минск 1988г.), III Всесоюзном симпозиуме по молекулярной спектроскопии высокого и сверхвысокого разрешения (Томск, 1976 г.), Всесоюзных конференциях "Оптика лазеров" (Ленинград, 1977 г., 1982г., 1990 г., 1993г., 1995г.), X Сибирском совещании по спектроскопии (Томск, 1981 г.), IV Всесоюзной конференции "Перестраиваемые по частоте лазеры" (Новосибирск, 1983 г.), Всесоюзном совещании "Инверсная заселенность и генерация на переходах в атомах и молекулах" (Томск, 1986 г.), IV Международной школе "Применение лазеров в атомной, молекулярной и ядерной физике" (Вильнюс, 1988 г.), Международном симпозиуме "Применение лазеров в хирургии и медицине" (Самарканд, 1988 г.), Международной конференции "Лазеры и медицина" (Ташкент, 1989 г.), II Всесоюзном семинаре "Лазерная биофизика и новые применения лазеров" (Тарту, ЭССР, 1990 г.), Международной конференции "Коротковолновые лазеры и их применения" (Самарканд, 1990 г.), Международных симпозиумах "Современные проблемы лазерной физики" (Новосибирск, 1995, 1997 г.), VIII Конференции по квантовой электронике (Познань, Польша 1978 г.), V Международной конференции "Лазеры-82" (Сан-Франциско, США 1982 г.), Международной конференции по лазерам и электрооптике КЛЕО -88 (Анахейм, США, 1988 г.), Конференции по рефракционной лазерной хирургии роговицы (Нью-Йорк, США, 1990 г.), III Международном симпозиуме по современной оптике (Будапешт, Венгрия, 1988 г.), Международных конференциях "Лазер М2П" (Гренобль, Франция, 1991г., Лион, Франция, 1993 г.), Европейских конференциях по лазерам и электрооптике КЛЕО (Амстердам, Нидерланды, 1994 г., Гамбург, Германия, 1996 г., Глазго, Шотландия, 1998 г.), Международном коллоквиуме 363 "Механика лазерной абляции" (Новосибирск, 1997), Российско-Германском лазерном симпозиуме (Новосибирск, 1997 г.), II Международной конференции "Импульсные лазеры на переходах атомов и молекул" (Томск, 1997), Европейском симпозиуме по биомедицинской оптике "БиОС Европа' 98" (Стокгольм, Швеция, 1998).

Публикации. Основное содержание диссертации опубликовано в 60 научных работах.

Структура и объем диссертации. Диссертация состоит из Введения, двух частей, содержащих соответственно пять и две главы, Приложения, Заключения и списка цитируемой литературы. Диссертация содержит 340 страниц машинописного текста, включая 10 таблиц, 95 рисунков и список цитируемой литературы из 375 наименований.

Заключение диссертации по теме «Лазерная физика», Ражев, Александр Михайлович

Выводы к 2.2.3

Впервые выполнены исследования по воздействию УФ лазерного излучения с долиной волны 193, 223 и 248 нм роговицу живого глаза животных, изучен характер заживления и определены параметры лазерного излучения, необходимые для выполнения хирургических операций. Проведены первые операции по коррекции близорукости, дальнозоркости и астигматизму, а также лечению герпетических кератитов и глаукомы. Впервые для коррекции миопии применена методика типа

Таким образом, представленные результаты операций, впервые проведенные на человеческих глазах, показывают большие перспективы использования УФ излучения эксимерных лазеров на длинах волн 193 и 223 нм при лечении ряда заболеваний и коррекции аномалий рефракции глаз у пациентов. На основании этих результатов созданы первые офтальмологические лазерные системы «Медилекс», которые уже широко применяются в Новосибирском филиале МНТК "Микрохирургия глаза" и краевой офтальмологической больнице г. Барнаула.

Заключение

В данной диссертационной работе получены следующие основные результаты:

1. Впервые для возбуждения УФ газоразрядных эксимерных и азотных лазеров при высоком давлении газовой активной среды использован импульсный поперечный разряд с предварительной ионизацией дополнительным поперечным разрядом через диэлектрик.

2. Обнаружена одновременная генерация на линиях N2 и ТУ/ лазеров с длинами волн 337,1; 391,4 и 427,8 нм в диапазоне давлений смеси Не-М2 от 2 до 10 атм.

3. Исследована вращательная структура спектра и обнаружено аномально слабое уширение линий сверхсветимости N2 и Дг2+ лазеров в диапазоне давлений 1-11 атм смеси Не-1У2- На примере лазера исследовано расщепление линии сверхсветимости, наблюдаемое в лазерах с большим коэффициентом усиления.

4. Впервые при давлениях выше атмосферного в газовых активных средах, возбуждаемых импульсным двойным поперечным электрическим разрядом получена генерация на переходах эксимерных молекул АгТ (193 нм), Кг¥ (248 нм), КгС1 (223 нм), ХеС1 (308 нм), ХеВг (282 нм), ХеГ (351, 353 нм), в том числе с галогенсодержащими газами ЛТ^, ВС13 и фреонами.

5. Показано, что при увеличении мощности накачки лазеров на фторидах инертных газов с автоматической УФ предыонизацией на основе буферного газа Не полный кпд увеличивается и достигает 1,5 % при энергии излучения 0,5 Дж для Аг¥ лазера и 2,5 % при энергии излучения около 1 Дж для КгР лазера.

6. Обнаружена и интерпретирована генерация в одном импульсе возбуждения на УФ переходах эксимерных молекул Аг¥, Х<?/\ ИК переход ах атомов Аг, Хе и красных линиях фтора

7. Обнаружена, теоретически и экспериментально исследована слабая зависимость эффективности эксимерного ХеС1 лазера от концентрации Хе в активной среде в диапазоне от 0,5 % до 8 %.

8. Предложена и экспериментально доказана на примере ХеС1 возможность использования эксимерного лазера с двумя активными объемами, возбуждаемыми одним импульсом тока, в качестве системы генератор-усилитель для управления спектром и расходимостью лазерного излучения.

9. Создан 1 Дж газоразрядный ХеС1 лазер с импульсной мощностью 30 МВт и длительностью импульсов 30 не.

10. Исследованы процессы в газоразрядных эксимерных лазерах, влияющие на энергию излучения в импульсно-периодическом режиме работы и ограничивающие частоту следования импульсов. Показано, что основными процессами являются изменение концентрации исходных галогенсодержащих молекул в активной среде и большое время их регенерации после диссоциации в плазме разряда. Впервые показана возможность работы газоразрядных эксимерных лазеров с высокой частотой следования импульсов без использования быстрой прокачки газовой смеси через разрядный промежуток.

11. Обнаружен эффект влияния плотности активной среды на механизм образования инверсии в газоразрядных лазерах на переходах атомов и двухатомных молекул галогенов, приводящий к увеличению эффективности и получению новых линий генерации. В газоразрядном Р2 лазере (157 нм) на электронных переходах 2) А при давлении 10 атм достигнута эффективность 0,2 % при импульсной мощности 3 МВт.

12. Впервые получена генерация на переходах А'молекул С//7 (285 нм) в смеси Не-Рг ВС13 и Вг2 (292 нм) в смеси Не-СРзВг при возбуждении поперечным разрядом. Обнаружена и интерпретирована сложная структура спектров генерации этих лазеров.

13. В Р] лазере (на атомарных переходах фтора) получено пять новых линий генерации в красной области спектра, достигнута импульсная мощность 250 кВт. Исследована зависимость спектрального состава излучения от полного давления смеси Не-Р2(]УРз) в диапазоне 0,1-6 атм.

14. Создана первая отечественная офтальмологическая система на основе экси-мерного АгР лазера с использованием оригинальной оптической схемы с вращающимися многощелевыми масками для перепрофилирования внешней поверхности роговицы глаза при лазерной коррекции аномалий рефракции. Проведены успешные технические и клинические испытания системы.

15. Впервые предложено и обосновано использование эксимерного КгС1 лазера (223 нм) в офтальмологии для коррекции аномалий рефракции и лечения ряда заболеваний глаза. Показаны медицинские и технические преимущества офтальмологической системы на основе КгС1 лазера по сравнению офтальмологической системой на основе эксимерного АгР лазера (193 нм).

Список литературы диссертационного исследования доктор физико-математических наук Ражев, Александр Михайлович, 1999 год

1. В кн: Бычков Ю.И., Королев Ю.Д., Месяц ГА., Осипов В.В., Рыжов В.В., Тарасенко В.Ф. / Инжекционная газовая электроника. // Новосибирск. «Наука». 1982.

2. Басов Н.Г., Данилычев В.А., Попов Ю.М., Ходкевич Д.Д. / Квантовый генератор в вакуумной области спектра при возбуждении жидкого ксенона электронным пучком. // Письма в ЖТФ, 1970, т. 12, в. 10, с. 473-474.

3. Kochler H.A., Ferderber L.J., Redhead D.L., Ebert P.J. Stimulated VUV Emission in High-Pressure Xenon Excited by High-Current Relativistic Electron Beams. // Appl. Phys. Lett., 1972, v. 21, № 1, p. 198-200.

4. Hoff P.W., Swingle J.C., Rhodes C.K. / Observations of Stimulated Emission from High-Pressure Krypton and Argon/Xenon Mixtures. // Appl. Phys. Lett., 1973, v. 23, № 5, p. 245-246.

5. Hughes W.M., Shanon J., Hunter R. / 126.1 nm Molecular Argon Laser. // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 24, № 10, p. 488-490.

6. Powell H.T., Murray J.R., Rhodes C.K. / Laser Oscillation on the Green Bands of XeO and KrO. // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 25, № 12, p. 730-732.

7. Houtermans F.C. / Uber Maser- Wirkung im optischen Spectral-gebiet und die Möglichkeit absolut negativer Absorption fur einiger Falle von Moleculspectren (LichtLawine). // Helv. Phys. Acta, 1960, v. 33, № 8, p. 933-940.

8. Басов Н.Г., Богданкевич O.B., Данилычев В.А., Кашников Г.Н., Керимов О.М.

9. Сверхизлучение конденсированного ксенона при возбуждении быстрыми электронами. // Краткие сообщения по физике, 1970, № 7, с. 68-74.

10. Ewing J.J., Brau С.А. / Laser Action on the 2E+1/2 -> 2I+1/2 Bands of KrF and XeCl. // Appl. Phys. Lett., 1975, v. 27, № 6, p. 350-352.

11. Searles S.K., Hart C.A. / Stimulated Emission at 281,8 nm from XeBr. // Appl. Phys. Lett., 1975 v. 27, № 4, p. 243-245.

12. Ault E.R., Bradford R.S., Bhaumik M.L. / High-Power Xenon Fluoride Laser. // Appl. Phys. Lett., 1975, v. 27, № 7, p. 413-415.

13. Brau C.A., Ewing J.J. / 354-nm Laser Action on XeF. // Appl. Phys. Lett., 1975, v. 27, №8, p. 435-437.

14. Tisone G.C., Hays A.K., Hoffman J.M. /100 MW, 248,4 nm, KrF Laser Excited by on Electron Beam. // Opt. Comm., 1975, v. 15, № 2, p. 188-189.

15. Mangano J.A., Jacob J.H. / Electron- Beam-Controlled Discharge Pumping of the KrF Laser. // Appl. Phys. Lett., 1975, v. 27, № 9, p. 495-497.

16. Петраш Г.Г. / Импульсные газоразрядные лазеры. // УФН, 1971, т. 105, в. 4, с. 645-676.

17. Heard Н.С. / Ultra-Violet Gas Laser at Room Temperature. // Nature, 1963, v. 200, № 4907, p. 667.

18. Alcock A.J., Leopold K., Richardson M.C. / Continuously Tunable High-Pressure C02 Laser with UV Photopreionisation. // Appl. Phys. Lett., 1973, v. 23, №10, p. 562-654.

19. Ищенко B.H., Лисицын B.H., Старинский B.H. / Импульсный ультрафиолетовый лазер на азоте. // Оптико-механическая промышленность, 1974, №3, с. 32-34.

20. Эксимерные лазеры. / Под ред. Ч. Роудза.- М: Мир, 1981,20 с.

21. Stevens В., Hutton Е. / Nature, 186, 1045 (1960); Forster Т., в кн.: The Exciplex (eds. М. Gordon, W.R. Ware), Academic Press, New York, 1975.

22. Tellinghuisen J., Hoffman J.M., Tisone C.C., Hays A.K. / Spectroscopic Studies of Diatomic Noble Gas Halides: Analysis of Spontaneous and Stimulated Emission from XeCl // J. Chem. Phys., 1976, v. 64, № 6, p. 2484-2490.

23. Tellinghuisen J., Tisone G.C., Hoffman J.M., Hays A.K. / Analysis of spontaneous and laser emission from XeF. // J. Chem. Phys., 1976, v. 64, № 11 , p. 4796-4797.

24. Ewing J J., Brau C.A. / Emission spectrum of Xel in electron- beam excited Xe/I2 mixtures. // Phys. Rev., 1975, A12, № 1, p. 129-132.

25. Ландау Л.Д., Лифшиц E.M. / Квантовая механика. Нерелятивистская теория. // -М.: Физматгиз, 1974.

26. Brau С .A., Ewing J.J. / Emission Spectra of XeBr, XeCl, XeF and KrF. // J. Chem. Phys., 1975, v. 63, №11, p. 4640-4647.

27. Golde M.F., Thrush B.A. / Vacuum UV Emission from Reactions of Metastable Inert Gas Atoms: Chemiluminescence of ArO and ArCl. // Chem. Phys. Lett., 1974, v. 29, №4, p. 486-490.

28. Velazco J.E., Setser D.W. / Bound-Free Emission Spectra of Diatomic Xenon Halides. // J. Chem. Phys., 1975, v. 62, № 5, p. 1990-1991.

29. Golde M.F./ Interpretation of the Oscillatory Spectra of the Inert-Gas Halides. // J. Molec. Spectra, 1975, v. 58, p. 261-273.

30. Tellinghuisen J., Hays A.K., Hoffman J.M., Tissone G.C. / Spectroscopic Studies of Diatomic Noble Gas Halides II. Analysis of Bound-Free Emission from XeBr, XeJ and KrF. // J. Chem. Phys., 1976, v. 65, № 11, p. 4473-4482.

31. Гудзенко Л.И., Лакоба И.С. / Разлетные молекулы гидридов инертных газов как активная лазерная среда. // Краткие сообщения по физике, 1975, № 6, с. 3-5.

32. Елецкий А.В. / Эксимерные лазеры // УФН, 1978, т. 125, в. 2, с. 279-313.

33. Dunning Т.Н., Hay P.J. / Electronic states of KrF. // Appl. Phys. Lett. 1976, v. 28, № 11, p. 649-651.

34. Velazco J.E., Kolts J.H., Setser D.W. / Quenching rate constants for metastable argon, krypton and xenon atoms by fluorine containing molecules and branching ratios for XeF and KrF formation. // Journ. Chem. Phys. 1976, v. 65, № 9, p. 3468-3480.

35. Murray J.R., Powell H.T. / KrCl laser oscillation at 223 nm. // Appl. Phys. Lett.,1976, v. 29, №4, p. 252-253.

36. Moore C.E. / Atomic Energy Levels. //1952, v. II, Natl. Bur. Stand. (US), Circular 467,

37. Shuker R. / Excimer emission band at 235,5 nm in the XeCl molecule. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 29, № 12, p. 785-787.

38. Hart G.A., Searles S.K. / Kinetic model of the XeBr rare-gas monohalide excimer laser. // Journ. Appl. Phys., 1976, v. 47, № 5, p. 2033-2036.

39. Eden J.G., Searles S.K. / XeF (Cl/2) radiative lifetime measurement. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 30, № 6, p. 287-290.

40. Burnham R., Harris N.W. / Radiative lifetime of the С state of XeF. // Journ. Chem. Phys., 1977, v. 66,№ 6, p. 2742-2743.

41. Burnham R., Searles S.K. / Radiative lifetime of KrF. // Journ. Chem. Phys., 1977, v. 67, № 12, p. 5967-5968.

42. Seery D.J., Britton D. / The continuous absorption spectra of chlorine, bromine, bromine chloride, iodine chloride and iodine bromide. // Journ. Phys. Chem., 1964, v. 68, № 8, p. 2263-2266.

43. Steunenberg R.K., Vogel R.C. // The Absorption Spectrum of Fluorine / Journ. Am. Chem. Soc., 1956, v. 78, № 3, P. 901-902.

44. Bhaumik M.L., Bradford R.S., Ault E.R. / High-efficiency KrF excimer laser. / Appl. Phys. Lett., 1976, v. 28, Jfsl.P. 23-24.

45. Кудрявцев Ю.А., Кузьмина Н.П. / Эксимерные ультрафиолетовые газоразрядные XeF, XeCl, KrF лазеры. // Квантовая электроника 1977, т. 4, № 1, с. 220-222.

46. Andrews A.J., Kearsley A.J., Webb С.Е. / A fast discharge laser in mixtures containing NF2, N2F4 or SF6. // Opt. Commun., 1977, v. 20, № 2, p. 265-268.

47. Maya J., Davidovits P. / Cross section for the alkali atom-Br2 reactions // Journ. Chem. Phys., 1973, v. 59, № 6, p. 3143-3152.

48. Caledonia G.E. / A survey of the gas-phase negative ion kinetics of inorganic molecules electron attachment reactions. // Chem Rev., 1975, v. 75, № 3, p 333-351.

49. Chen H.-L., Center R.B., Daniel W., Trainor D., Fyfe W.I. / Dissociative attachment of electrons to F2. // Appl. Phys Lett., 1977, v. 30, № 2, p. 99-101.

50. Nygaard K.J., Hunter S.R., Fletcher J.F.,Foltyn S.R. / Electron attachment in dilute fluorine-helium mixtures. // Appl. Phys Lett., 1978, v. 32, № 6, p. 351-353.

51. Mangano J.A., Jacob J.H., Rokni M., Hawryluk A. / Three-body quenching of KrF by Ar and broad-band emission at 415 nm. //Appl. Phys Lett., 1977, v. 31, № 1, p. 26-28.

52. Rokni M., Jacob J.H., Mangano J.A. / Dominant formation and quenching processes inE-beampumpedArFandKrFlasers.//Phys.Rev., 1977,v. A16,№6, p. 2216-2224.

53. Rokni M., Jacob J.H., Mangano J.A., Brochu R. / Formation and quenching kinetics of ArF. // Appl. Phys Lett., 1977, v. 31, № 2, p. 79-82.

54. Rhodes C.K. / Review of ultraviolet laser physics. // IEEE Journ. Quantum. Electron. 1974, v. QE-10, 153-174.

55. Brau C.A. / Electron distribution function in electron-beam-excited plasmas. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 29, № 1, p. 7-9.

56. Bohme D.K., Adams N.G., Mosesman M., Dunkin D.B., Ferguson E.E. / Flowing Afterglow Studies of the Reactions of the Rare-Gas Molecular Ions He2+, Ne2+, and Ar2+ with Molecules and Rare-Gas Atoms. // Journ. Chem. Phys., 1970, v. 52, № 10, P. 5094-5101.

57. Struve W.S., Krenos J.R., McFadden D.L., Herschbah D.R. / Molecular beam kinetics: Angular distribution and chemiluminescence in reaction of alkali dimers with halogen atoms and molecules. // Journ. Chem. Phys., 1975, v. 62, № 2, p. 404-419.

58. Jacob J.M., Mangano J.A. / Modeling the KrF laser discharge. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 28, № 12, p. 724-726.

59. Fisher C.H., Center R.E. / Threshold power density measurements for electron-beam sustained discharge excitation of XeF and KrF. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 31, №2, p. 106-108.

60. Hasson V., Lee C.M., Exberger R., Billman K.W., Rowley P.D. / Gain and fluorescence measurements in photoionization-stabilized XeF discharge laser operating at high-energy loadings. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 31, № 3, p. 167-169.

61. Burnham R., Harris N.W., Djeu N. / Xenon fluoride laser excitation by transverse electric discharge. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 28, № 2, p. 86-87.

62. Wang C.P., Mirels H., Sutton D.G., Suchard G.N. / Fast-discharge-initiated XeF laser. // Appl. Phys. Lett. 1976, v. 28, № 6, p. 326-328.

63. Sutton D.G., Suchard S.N., Gibb O.L., Wang C.P. / Fast-discharge-initiated KrF laser. //Appl. Phys. Lett., 1976, v. 28, № 9, p. 522-523.

64. Ищенко В.Н., Лисицын В.Н., Ражев A.M., Старинский В.Н. / Сверхизлучение на 2+ и Г полосах азота в разряде при давлении выше 10 атм. // Письма в ЖЭТФ, 1974, т. 19, вып. 7, с. 429-433.

65. Ищенко В.Н., Лисицын В.Н., Ражев A.M., Раутиан С.Г., Шалагин A.M. / О расщеплении линии излучения импульсных лазеров на сверхсветимости. // Письма в ЖЭТФ, 1974, т. 19, вып. 11, с. 669-672.

66. Ishchenko V.N., Lisitsyn V.N., Razhev A.M., Starinsky V.N., Chapovsky P.L. / The N2+ Laser. // Opt. Comm., 1975, v. 13, № 3, p. 231-234.

67. Ищенко B.H., Лисицын B.H., Ражев A.M., Старинский В.Н. / Ультрафиолетовый лазер на азоте мощностью 0,5 Вт. // Квантовая электроника, 1975, т. 2, №8, с. 1777-1780.

68. Ищенко В.Н., Лисицын В.Н., Ражев A.M. / Мощная сверхсветимость на эк-симерах ArF, KrF, XeF в электрическом разряде. // Письма в ЖТФ, 1976, т. 2, вып. 18, с. 839-842.

69. Ищенко В.Н., Лисицын В.Н., Ражев A.M., Старинский В.Н., Чаповский П.Л. / Мощный лазер на переходах иона молекулы азота. // В кн. «Газовые лазеры», Новосибирск, Наука, 1977, с. 206-212.

70. Ищенко В.Н., Лисицын В.Н., Ражев A.M., Старинский В.Н. / Ультрафиолетовый лазер на азоте с большой средней мощностью. // В кн. «Газовые лазеры», Новосибирск, Наука, 1977, с. 213-223.

71. Бразовский В.Е., Лисицын В.Н., Ражев A.M. / Одночастотный режим работы азотного лазера. // Квантовая электроника, 1977, т. 4, № 2, с. 448-451.

72. Ishchenko V.N., Lisitsyn V.N., Razhev A.M. / Superradiative Rare Gas Halide Lasers Excited by Electric Discharge. // Appl.Phys., 1977, v. 12, № 1, p. 55-58.

73. Ishchenko V.N., Lisitsyn V.N., Razhev A.M. / Efficient Discharge Pumping XeCl Laser. // Opt. Commun., 1977, v. 21, № 1, p. 30-33.

74. Ищенко B.H., Лисицын B.H., Ражев A.M./ О частотном режиме работы экси-мерного лазера на KrF. // Письма в ЖТФ,1977, т. 3, вып. 14, с. 690-693.

75. Chapovsky P.L., Kochubei S.A., Lisitsyn V.N. Razhev A.M. / Excimer ArF/XeF Lasers Providing High-Power Stimulated Radiation in Ar/Xe and F Lines. // Appl. Phys., 1977, v. 14, № 2, p. 231-233.

76. Лисицын В.H., Ражев A.M. / Мощный лазер высокого давления на красных линиях фтора. // Письма в ЖТФ, 1977, т. 3, вып. 17, с. 862-864.

77. Ищенко В.Н., Карлов Н.В., Крынецкий Б.Б., Лисицын В.Н., Мишин В.А., Ражев А.М. / Измерение сечения фотоионизации иттербия из возбужденного состояния 3Pj. II Письма ЖТФ, 1977, т. 3, вып. 20, с. 1044-1048.

78. Ражев А.М. / О выборе галогенсодержащего газа при получении новых линий генерации в электроразрядных эксимерных лазерах. // В сб.: «Исследование сложного теплообмена», Новосибирск, ИТФ СО АН СССР, 1978, с. 123-128.

79. Лисицын В.Н., Ражев А.М., Черненко А.А. / УФ лазеры на красителях с накачкой эксимерными лазерами. // Квантовая электроника, 1978, т. 5, № 2, с. 424-425.

80. Ищенко В.Н., Карлов Н.В., Крынецкий Б.Б., Лисицын В.Н., Мишин В.А., Ражев А.М. / Измерение сечения фотоионизации из возбужденных состояний для некоторых редкоземельных элементов. // Труды ФИАН, Москва, Наука, 1979, т. 114, с. 46-49.

81. Карапузиков А.И., Макуха В.К., Ражев А.М. / Активная синхронизация мод ХеС1 лазера. // Квантовая электроника, 1982, т. 9, № 1, с. 150-152.

82. Ражев А.М./ Два процесса снижения энергии излучения в электроразрядном KrF лазере. // В сб.: «Лазерные системы», Новосибирск, Институт теплофизики СО АН СССР, 1982, с. 46-57.

83. Ищенко В.Н., Ражев А.М., Редин С.Г. / 1 Дж ХеС1-лазер. // В сб.: «Лазерные системы», Новосибирск, Институт теплофизики СО АН СССР, 1982, с. 87-91.

84. Малов А.Н., Ражев А.М. / Лазер с двумя активными объемами возбуждаемыми одним импульсом новая система "генератор-усилитель." // Сб. статей. IV Всесоюзной конф. "Перестраиваемые по частоте лазеры". Новосибирск, 6-9 декабря 1983, с. 227-237.

85. Малов А.Н., Ражев A.M. / Электроразрядный XeCl лазер с высокими пространственной однородностью и плотностью излучения. // Квантовая электроника, 1984, т. И, № 2, с. 287-291.

86. Малов А.Н., Ражев A.M. / Эксимерный лазер с двумя одновременно возбуждаемыми активными средами. // ЖТФ, 1985, т. 55, вып. 4, с. 664-668.

87. Малов А.Н., Ражев A.M. / Эксимерный лазер с двумя одновременно возбуждаемыми активными объемами. //Квантовая электроника, 1985, т. 12, № 11, с. 2269-2274.

88. Лантух В.В., Пятин М.М., Искаков И.А., Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Ражев

89. A.M., Чеботаев В.П. / Применение УФ эксимерных лазеров в микрохирургии глаза. // Препринт №151-86, Институт теплофизики СО АН СССР, 1986,18 с.

90. Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Ражев A.M. / Эффективный электроразрядный F2 лазер на 157,6 нм. // Письма в ЖТФ, 1986, т. 12, вып. 3, с. 157-160.

91. Баркан И.Б., Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Луненок Д.И., Ражев A.M. / Приповерхностный фоторефракционный эффект в кристалле ниобата лития. // Квантовая электроника, 1986, т. 13, № 4, с. 849-851.

92. Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Ражев A.M. / Мощный эффективный ВУФ F2 лазер, возбуждаемый электрическим разрядом. // Квантовая электроника, 1986, т. 13, №5, с. 1072-1075.

93. Barkan I.B., Ishchenko V.N., Kochubei S.A., Lunenok D.I., Razhev A.M. / Study of the subsurface photorefractive effect in lithium niobate. // Appl. Phys. A. 1987, v. 44, p. 167-170.

94. Ищенко B.H., Кочубей C.A., Лантух B.B., Пятин М.М, Ражев A.M., Субботин

95. B.М., Чеботаев В.П. / Использование УФ излучения эксимерных лазеров в микрохирургии глаза. // Опт. и спектроскопия, 1987, т. 63, вып. 5, с. 1132-1138.

96. Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Лантух В.В., Пятин М.М., Ражев A.M., Чеботаев В.П. / Фотоиспарение материалов мощным УФ излучением. Некоторые применения. //Известия АН СССР, сер. физич., 1987, т. 51, № 8, с. 1425-1430.

97. Ражев A.M. / Взаимодействие УФ излучения с поверхностью конденсированных сред. // Труды IV Международной школы "Применение лазеров в атомн., молек. иядерн. физике". 27-29 авг.1987 г. Вильнюс, 1988, с. 170-177.

98. Chebotayev V.P., Ishchenko V.N., Iskakov I.A., Kochubei S.A., Lantukh V.V., Pyatin M.M., Razhev A.M. / UV excimer lasers in eye microsurgery. // Lasers in the Life Sciences, 1988, v. 2,1 4, p. 271-284.

99. Багинский В.М., Головинский П.М., Ражев A.M., Щедрин А.И. / Зависимость параметров плазмы и энергии генерации эксимерных лазеров от содержания Хе в смеси Не-Хе-НС1. // Квантовая электроника, 1988, т. 5, № И, с. 2309-2317.

100. Лантух В.В., Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Пятин М.М., Ражев A.M., Чеботаев В.П. / Способ лечения герпетических кератитов. // Авт. свидетельство №1524221, 1989 г. СССР.

101. Малов А.Н., Ражев A.M. / Разработка газоразрядных эксимерных лазеров для медицинских применений. // Труды II Всесоюзн. семинара "Лазерная биофизика и новые применения лазеров'Тарту, ЭССР, Госуниверсигет 1990, с. 256-260.

102. Китай М.С., Корниловский И.М., Ражев A.M., Семчишен В.А. / Кератомо-делирование низкоинтенсивным ультрафиолетовым излучением эксимерных лазеров. // Известия АН СССР, сер. физич., 1990, т. 54, № 8, с. 1594-1596.

103. Lantukh V.V., Pyatin М.М., Razhev A.M. / Clinical application of UV lasers. // J. De Physique IV, Colloque C7, 1991, v. 1, p. 232-234.

104. Razhev A.M. Lantukh V.V., Pyatin M M.,. / Ophthalmic devices for corneal microsurgery on excimer lasers. // J. De Physique IV, Colloque C7,1991, v. 1, p. 23 5-237.

105. Ахмаметьева E.M., Лебедева Л.И., Кочубей C.A., Ражев A.M., Рыданных О.В. / Цитогенетические эффекты УФ лазерных излучений с длинами волн 248, 223 и 193 нм на клетки млекопитающих. // Радиобиология, 1990, т. 30, вып. 6, с. 821-826.

106. Fedorov S.N., Lantukh V.V., Pyatin М.М., Razhev A.M., Ishchenko V.N., Kochubei S.A., Rydannykh O.V., Tsibisov A.V., Chebotayev V.P. / Device for correcting ocular refraction anomalies. // United States Patent № 4,953,969,1990.

107. Fedorov S.N., Lantukh V.V., Pyatin M.M., Razhev A.M., Ishchenko V.N., Kochubei S.A., Rydannykh O.V., Tsibisov A.V., Chebotayev V.P. / Un dispositivo de corrección de anomalías de refracción del ojo. // Patente de invención, España, № P89023371,1990.

108. Корниловский И.М., Ражев A.M. / Способ изменения биомеханических свойств роговичной ткани. // Авт. свидетельство № 1781875, 1992 г., СССР.

109. Федоров С.Н., Лантух В.В., Пятин М.М., Ражев A.M., Ищенко В.Н., Кочубей С.А., Рыданных О.В., Цибизов А.В., Чеботаев В.П. / Способ коррекции аномалий рефракции и устройство для его осуществления. // Авт. свидетельство № 1832479, 1992 г., СССР.

110. Kornilovsky I.M., Razhev A.M. / About the possibility of reprofiling a cornea by low-intensity UV laser radiation. // J. de Physique IV, Colloque C4,1994, v. 4, p. C4-271.

111. Razhev A.M. / Interaction of UV radiation excimer lasers with biological tissues. // Сб.докл. International sympos. "Modern problems of laser physics. MPLP-95", 28 aug.-2 sept. 1995, Novosibirsk, 1996, c. 468-476.

112. Bagayev S.N., Razhev A.M. / Photorefractive Keratectomy with the KrCl Laser (223 nm) a Comparative Study. // Digests Conf. CLEO/Europe 8-13 Sept., 1996, Hamburg, Germany, p. 292.

113. Жупиков А.А., Ражев A.M. / Эксимерный ArF лазер на основе буферного газа Не. // Квантовая электроника, 1997, т. 24, № 8, с. 683-687.

114. Лантух В.В., Искаков И.А., Гусаревич О.Г., Ражев A.M., Пятин М.М. / Способ хирургического лечения глаукомы. // Патент РФ, № 2072817, 1997.

115. Багаев С.Н., Жупиков А.А., Ражев A.M. / Увеличение эффективности эксимерных ArF и KrF лазеров на основе буферного газа Не. // Оптика атмосферы и океана, 1998, т. 11, № 2-3, с. 105-109.

116. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A. / Excimer laser ophthalmic devices for eye microsurgery. // Laser Physics, 1998, v. 8, № 3, p. 794-798.

117. Дерюгин A.A., Кочетов И.В., Ражев A.M. / Спектр излучения электроразрядного C1F лазера. // Квантовая электроника, 1998, т. 25, № 6, с. 501-504.

118. Жупиков А.А., Ражев A.M. / Эксимерный KrF лазер на основе буферного газа Не с энергией 0.8 Дж и КПД 2 %. // Квантовая электроника, 1998, т. 25, № 8, с. 687-689.

119. Bagayev S.N., Razhev A.M., Zhupikov A.A. / New 223 nm Excimer Laser Surgical System for Photorefractive Keratectomy. // SPIE, 1998, v. 3564, p. 94-100.

120. Richardson M.C., Leopold К., Alcock AJ. / Large aperture C02 large discharge. // IEEE Journ. Quant. Electron. 1973, v. QE-9, № 9, p. 934-939.

121. Chapovsky P.L., Lisitsyn V.N., Sorokin A.R. / High-pressure gas lasers on Ar I, Xe I and Кг I transitions. // Opt. Commun. 1976, v. 16, № 1, p. 33-36.

122. Burnham R., Powell F.X., Djeu N. / Efficient electric discharge lasers in XeF and KrF. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 29, № 1, p. 30-32.

123. Wang C.P. / Performance of XeF/KrF lasers pumped by fast discharge. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 29, № 2, p. 103-105.

124. Christensen C.P., Braverman L.W., Steier W.H., Wittig C. / Active mode locking of the XeF laser. // Appl. Phys. Lett., 1976, v. 29, № 7, p. 424-425.

125. Godard В., Vannier M. / Compact efficient discharge lasers in XeF, KrF and fluorine. // Opt. Commun., 1976, v. 18, № 2, p. 206-207.

126. McKee T.J., StoicheffB.P.,Wallace S.C. / Diffraction-limited KrF and XeF lasers with negative-branch unstable resonator. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 30, № 6, p. 278-280.

127. Kudryavtsev Yu.A., Kuzmina N.P. / Excimer gas-discharge tunable ArF laser. // Appl. Phys. 1977, v. 13, № 1, p. 107-108.

128. Sze R.C., Scott P.B. / Laser action in kripton fluoride and N2 in a fast pin laser. // Journ. Appl. Phys. 1976, v. 47, № 12, p. 5492-5493.

129. Sarjeant W.J., Alcock A.J., Leopold K.E. / A scalable multiatmosphere highpower XeF laser. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 30, № 12, p. 635-637.

130. Burnham R., Djeu N. / Ultraviolet-preionized discharge-pumped lasers in XeF, KrF and ArF. // Appl. Phys. Lett, 1976, v. 29, №11, p. 707-709.

131. В кн.: Баранов В.Ю, Борисов В.М, Степанов Ю.Ю. / Электроразрядные эк-симерные лазеры на галогенидах инертных газов. // Москва, Энершагомиздат. 1988 г.

132. Lamberton Н.М, Person P.R. / Improved excitation technics for atmosphere pressure C02 laser. //Electron. Lett. 1971, v. 7, № 5/6, p. 141-142.

133. Dumanchin R.D, Farcy J.C, Michan M, Rocca-Serra J. / High power density pulsed molecular laser. //Proc. VI Intern. Quant. Electron. Conf. Japan, Kyoto. 1970. p. 66.

134. В.Ю. Баранов, В.M. Борисов, A.A. Веденов и др. / Получение распределенного электрического разряда в импульсном С02 лазере и некоторые особенности лазерного излучения. // Препринт ИАЭ-2248. Москва., 1972.

135. В.Ю. Баранов, В.М. Борисов, Ю.А. Сатов, Ю.Ю. Степанов. / Получение однородного разряда для импульсного лазера большого объема. // Квантовая электроника, 1975, т. 2, № 9, с. 2086-2087.

136. Haruta К., Saito Y., Inoue M., Sato Y., Fujikawa s., Suzuki A., Nagai H. / High-efficiency 2 kW XeCl excimer laser. // Appl. Phys. B, 1999, v. 68, p. 663-669.

137. Borisov V.M., Bragin. I.E., Khristoforov O.B.,Kirykhin Yu. В., Vinokhodov A.Yu. / Development of 1 kW average power excimer laser with UV preioniza-tion. // Proc. Conf. CLEO/EUROPE 94, 1994, p. 80.

138. Timmermans J.C.M., Goor F.A., Witteman WJ. / Cathode hot spot and their influence on the discharge in a XeCl laser. // Proc. Conf. CLEO/EUROPE 94,1994, p. 81.

139. В kh: Месяц Г.А., Осипов B.B., Тарасенко В.Ф. / Импульсные газовые лазеры. // Москва, "Наука", 1991.

140. Ищенко В.Н. / Импульсные газовые лазеры высокого давления. // Дисс. на соискание, учен. степ. канд. физ.-мат. наук.(01.04.04).- Новосибирск, Б.И., 1977, -123 с. В надзаг.: Институт физики полупроводников СО АН СССР.

141. Ражев A.M., Телегин Г.Г. / Импульсные ультрафиолетовые лазеры на молекулярном азоте. // Зарубежная радиоэлектроника, 1978, № 3, С. 76-94.

142. Gilmore F.R. / Potential Energy Curves for N2, NO, 02 and Corresponding Ions. // Journ. QRST, 1965, v. 5, № 2, p. 369-389.

143. Jeunehomme M., Duncan A.B.F. / Lifetime Measurements of Same Excited States of Nitrogen, Nitric Oxide and Formaldehyde. // Journ. Chem. Phys.1964, v. 41, № 6, p. 1692-1699.

144. Cartwright D.C. / Total Cross-Sections for the Excitation of the Triplet States in Molecular Nitrogen. // Phys.Rev., 1970, v. 2A, № 4, p. 1331-1348.

145. Nickolls R.W. / Franck-Condon Factors to High Vibrational Quantum Numbers I: N2 and N2+. // J. Res. NBS-A, 1961, v. 65A, № 5, p. 451-460.

146. Burns D.J., Simpson F.R., McConkey J.W. / Absolute Cross-Sections for Electron Excitation of the Second Positive Bands of Nitrogen. // J. Phys. B, 1969, v. 2, ser. 2, p. 52-64.

147. Скубенич B.B., Запесочный И.П. / Возбуждение двухатомных молекул при столкновениях с моноэнергетическими электронами. // Химия высоких энергий. 1975, т. 9, № 5, с. 387-395.

148. Gerry Е.Т. / Pulsed-Molecular-Nitrogen Laser Theory. // Appl. Phys. Lett., 1965, v. 7, № l,p. 6-8.

149. Ali A.W., Kolb A.C., Anderson A.D. / Theory of the Pulsed Molecular Nitrogen Laser. // Appl. Optics, 1967, v. 6, № 12, p. 2115-2119.

150. Ali A.W. / A Study of the Nitrogen Laser Density and Some Design Considerations. // Appl.Optics, 1969, v. 8, № 5, p. 993-996.

151. Gundell H., Ross W. / Zur Anregung und Emission im N2 Impulsgaslaser. // Annalen der Physik, 1974, v. 31, № 7, p. 263-276.

152. Shipman J.D., Jr. / Travelling Wave Excitation of High Power Cas Lasers. // Appl. Phys. Lett., 1967, v. 10, № 1, p. 3-4.

153. Heard H.G. / Ultra-Violet Gas Laser at Room Temperature. // Nature, 1963, v. 200, № 4907, p. 667.

154. Hodgson R.T. / Vacuum-Ultraviolet Laser Action Observed in the Lyman Bands of Molecular Hydrogen. // Phys. Rev. Lett., 1970, v. 25, № 8, p. 494-497.

155. Leonard D.A. / Saturation of the Molecular Nitrogen Second Positive Laser Transition. // Appl. Phys. Lett., 1965, v. 7, № 1, p. 4-6.

156. Girardeau-Mountaunt J.F., Roumy M., Hamelin J. / Laser Pulse a Asote Moleculiare Emettant dans l'ultraviolet. // С. R. Acad. Sci. Paris, 1971, v. B273, № 16, p. 725-728.

157. Godard В. / Simple High-Power Large Efficiency N2 Ultraviolet Laser. // IEEE J. Quantum Electronics, 1974, v. QE-10, № 2, p. 147-153.

158. Suchard S.N., Galven L., Sutton D.G. / Quasi-cw Laser Emission from the Second Positive Band of Nitrogen. // Appl.Phys.Lett.,1975, v. 26, № 9, p. 521-523.

159. Levatter J.J., Shao-Chi Lin. / High Power Generation from a Parallel Plates-Driven Pulsed Nitrogen Laser. // Appl. Phys. Lett.,1974, v. 25, № 12, p. 703-705.

160. Willet C.S., Litynsky D.M. / Power Increase of N2 UV and IR Lasers by Addition of SF6. // Appl. Phys. Lett., 1975, v. 26, № 3, p. 110-120.

161. Jtani J., Kagawa N., Kimura Y. / Intense Laser Emission at 3577 A0 Using N2-SF6 Mixtures in а ТЕ Nitrogen Laser. // Appl. Phys. Lett. 1975, v. 27, № 9, p. 503-504.

162. Seikan S. / Subnanosecond Nitrogen Laser. / Japan J. Appl. Phys.,1975, v. 15, № 1, p. 187-188.

163. Schmidt H., Salzmann H., Strohweld H. / Interferometry Using Subnanosecond Pulsed from TEA Nitrogen Laser. // Appl.Optics, 1975, v. 14, № 9, p. 2250-2251.

164. Knyasev I.N., Letokhov V.S., Movshev V.A. / ТЕ N2 UV Laser with Reduced Spectra. // Opt. Commun. 1972, v. 6, № 3, p. 250-252.

165. Ищенко B.H., Лисицын B.H., Сорокин A.P. / Спектр импульсного сверхизлученияазота при высоких давления газа. // Опт. и спектр. 1975, т. 39, № 1, с. 190-192.

166. Dumanchin R., Rocca-Serra J. / Augmentation de 1 Energie et de la Puissance Fournie Parunite de Volume Dens un Laser a C02 en Regime Pulse. // C.R.Acad.Sci., 1969, v. 269B, №18, p. 916-917.

167. Basting D., Schafer F.P., Steyer B. / Simple High Power Nitrogen Laser. // OptoElectronics, 1972, v. 4, p. 43-44.

168. Collins C.B., Cunningham A.J. Сипу S.N., Johnson B.W., Stockton M. / Stimulated emission from charge-transfer reactions in the afterglow of an E-beam discharge into high -pressure He-N2 mixture. //Appl. Phys. Lett., 1974, v. 24, № 10, p. 477478.

169. Collins C.B., Cunningham A.J., Stockton M. / A nitrogen ion laser pumped by charge transfer // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 25, № 6, p. 344-345.

170. Кочубей C.A., Чаповский П.Л. / Уширенпе и сдвиг линии I" полос азота. // Опт. и спектр., 1979, в. 6, с. 1061-1065.

171. Чаповский П.Л. / Исследования импульсных лазеров на переходах аргона и молекулы азота. // Дис. на соискание учен. степ. канд. физ.- мат. наук (01.04.05).- Новосибирск, Б.И., 1977, -150 с. В надзаг.: ИФП СО АН СССР.

172. Бурштейн А.И., Стрекалов МЛ., Томкин С.И./ Спектральный обмен при уширении столкновении вращательной структуры. //ЖЭТФ, 1974, т. 66, в. 3, с. 894-906.

173. Алексеев В.А., Собельман Н.И. / О влиянии столкновений на вынужденное комбинационное рассеяние в газах. // ЖЭТФ, 1968, т. 55, в. 5, с. 1874-1880.

174. Михайлов Г.В. / Исследование структуры и ширины линий комбинационное рассеяние газов при высоких давлениях. // Труды ФИАН, 1964, т. 27, с. 150-188.

175. Бажулин П.А. / Исследование вращательных и вращательно-колебательных спектров газов методом комбинационного рассеяния света. // УФН, 1962, т. 77, в. 4, с. 639-647.

176. Бразовский В.Б. / Исследование характеристик импульсной сверхсветимости газового разряда. // Дис. на соискание учен. степ. канд. физ.- мат. наук (01.04.04).- Новосибирск, Б.И., 1977, -138 с. В надзаг.: НГУ Мин ВиССО СССР.

177. Leventhal J.J.,Earl J.D., Harris Н.Н. / Anomalous vibrational-state distribution in N2+(B2Eu+) after charge exchange of He2+ with N2. II Phys. Rev. Lett., 1975, v. 35, № 11, p. 719-722.

178. В кн.: Смирнов Б.М. / Ионы и возбужденные атомы в плазме. // Атомиздат, М., 1974.

179. Judd О.Р. / An efficient electrical С02 laser using preionisation by UV radiation. // Appl. Phys. Lett., 1973, v. 22, № 3, p. 95-96.

180. Sequin H., Tulip J. / Photoinitiated and photosustained laser. // Appl. Phys. Lett., 1972, v. 21, № 9, p. 414-415.

181. Homman Ch., Hubner H. / Glow discharge in superatmospheric C02-N2-He gas mixtures in a Lamberton-Pearson device. // Phys. Lett. A, 1975, v. 55A, № 5, p. 287-288.

182. Richardson M., Alcock A.J., Leopold K., Burtyn P. / A 300-J multigigawatt C02 laser. // IEEE J. Quantum Electron., 1973, v. QE-9, № 2, p. 236-243.

183. Оришич А.М., Пономаренко А.Г., Солоухин Р.И. / О предельных энергетических характеристиках импульсных ТЕА-лазеров на С02. //ЖПМТФ, 1975, № 1, с. 3-12.

184. Hsia J. / A model for UV preionisation in electric-discharge-pumped XeF and KrF lasers. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 30, № 2, p. 101-103.

185. Rice J.K., Hays A.K., Woodworth JJR. / Vuv emissions from mixtures of F2 and the noble gases-A molecular F2 laser at 1575 A.//Appl. Phys. Lett. 1977, v. 31,№ l,p. 31-33.

186. Schatslein E., Walter W., Sauerbrey R., Langhoff H. / The He/Cl2 laser at 258 nm. // Appl. Phys. B, 1982, v. 27, № 1, p. 49-55.

187. Ewing J.J., Jacob J.H., Mangano J.A., Brown H.A. / Discharge pumping of the Br2 laser. // Appl. Phys. Lett. 1976, v. 28, № 11, p. 656-657.

188. Bradford R.S., Ault E.R., Bhaumik M.L. / High-power I2 laser in the342-nm band system. // Appl. Phys. Lett., 1975, v. 27, № 10, p. 546-548.

189. Ewing J.J., Brau C.A. / Laser action on the 342-nm molecular iodine band. // Appl. Phys. Lett. 1975, v. 27, № 10, p. 557-559.

190. Pummer H., Hohla K., Diegelmann M., Reilly J.P. / Discharge pumped F2 laser at 1580 A0.1 I Opt .Comm., 1979, v. 28, № 1, p. 104-106.

191. Diegelmann M., Proch D., Zhensheng Zhao. / Discharge Pumped C1F Laser at 285 nm. // Appl. Phys. B, 1986, v. 40, p. 49-58.

192. Diegelmann M., Hohla K., Kompa K.L. / Interhalogen UV laser on the 285 nm of С IF. // Opt. Commun. 1979, v. 29, № 3, p. 334-338.

193. Hohla K., Diegelmann M., Pummer H., Kompa K.L. / C1F and F2: two new ultraviolet laser systems. // Optics and Laser Technology, 1979, December, p. 305-310.

194. Diegelmann M., Grieneisen H.P., Hohla K., Xue-Jing Hu, Krasinski J., Kompa K.L. / New TEA-Lasers Based on D A Transitions in Halogen Monofluoride Compounds: C1F (284.4 nm), BrF (354.5 ran), IF (490.8 nm). // Appl. Phys., 1980, v. 23, p. 283-287.

195. McCusker M.V., Lorents D.C., Huestis D.L., Hill R.M., Nakano H.H., Margevi-cius J.A. / New Electronic Transition Laser Systems. // Tech. Rpt. № 4A, Contr. DAAH 01-74-C-0624, SPI Mp 76-46, Stanford Res. Inst., 1976.

196. Tellinghuisen J. / The ultraviolet laser transitions in J2 and Br2. // Chem. Phys. Lett., 1977, v. 49, № 3, p. 485-490.

197. Heaven M.C., Clyne M.A.A. / Interpretation of the spontaneous predissociation of Cl2 B 3n (0+u). // J. Chem. Soc., Faraday Trans. 2,1982, v.78, № 8, p. 1339-1343.

198. Tellinghuisen J. / Resolution of an ancient spectroscopic puzzle: The D X spectrum of I2. // Chem. Phys. Lett., 1983, v. 99, № 5,6, p. 373-376.

199. Tellinghuisen J., Chakraborty D.K. / Identificationand analysis of the D A transition in the emission spectrum of Cl2. // Chem. Phys. Lett., 1987, v. 134, № 6, p. 565-570.

200. Baochuan Guo, Tellinghuisen J. / The D A transition in the emission spectrum of IBr. // J. Molecular Spectroscopy, 1988, v. 127, p. 222-231.

201. Tellinghuisen P.C., Baochuan Guo, Chakraborty D.K., Tellinghuisen J. / The D A transition in Cl2. // J. Molecular Spectroscopy, 1988, v. 128, p. 268-277.

202. Tellinghuisen J., Narayani R.I. / The D A transition in BrF. // J. Molecular Spectroscopy, 1990, v. 141, p. 79-90.

203. Child M.S., Bernstein R.B. / Diatomic interhalogens: Systematics and implications of spectroscopic interatomic potentials and curve crossings. // J. Chem. Phys., 1973, v. 59, №11, p. 5916-5925.

204. White J.C., Craighead H.G., Howard R.E., Jackel L.D., Behringer R.E., Epworth R.W., Henderson D., Sweeney J.E. / Submicron vacuum ultraviolet contact lithography with an F2 excimer laser. // Appl. Phys. Lett., 1984, v. 44, № 1, p. 22-24.

205. Kligler D J., Rhodes C.K. / Observation of two-photon excitation of the H2E, ¥%+ state. // Phys. Rev. Lett, 1978, v. 44, № 5, p. 309-313.

206. Ohwa M, Obara M. / Theoretical evaluation of high-efficiency operation of discharge-pumped vacuum-ultraviolet F2 lasers. // Appl. Phys. Lett, 1987, v. 51, № 13, p. 958-960.

207. Glownia J.H, Gnass D.R, Sorokin P.P./ An optical scheme for enhancing the performance of the F2 (157 nm) laser; A possible F2 two-photon femtosecond pulse generator. // Appl. Phys. B, 1996, v. 63, № 2, p. 421-424.

208. McKee T.J. / Excimer Laser. An Ultraviolet Revolution. // La Physique au Canada, 1980, v. 36, № 1, p. 41-50.

209. Kovach M.A, Ultee C.J. / Visible laser action in fluorine. // Appl. Phys. Lett, 1970, v. 17, № 1, p. 39-40.

210. Bigio I.J, Begley R.F. / High-power visible laser action in neutral atomic fluorine. // Appl. Phys. Lett, 1976, v. 28, № 5, p. 263-264.

211. Hocker L.O, Phi T.B. / Pressure dependence of the atomic fluorine transition intensities. // Appl. Phys. Lett, 1976, v. 29, № 8, p. 493-494.

212. Sumida S, Obara M, Fujioka T. / Novel neutral atomic fluorine laser lines in a high-pressure mixtures of F2. // J. Appl. Phys, 1979, v. 50, № 6, p. 3884-3887.

213. О.Г. Беспалов, B.B. Веселовский, А.И. Настюха, O.A. Кушлянский. / Лазер на красных линиях атомарного фтора с накачкой импульсным тлеющим разрядом с полым катодом. // Письма в ЖТФ, 1980, т. 6, вып.24, с. 1487-1490.

214. Sze R.C, Scott Р.В. / High-energy lasing of XeBr in an electric discharge. // Appl. Phys. Lett, 1978, v. 32, № 8, p. 479-480.

215. Balog G, Sander R.K, Seegmiller E. / The mechanism of energy decrease in the XeBr laser. // Appl. Phys. Lett, 1979, v. 35, № 10, p. 727-728.

216. Murray J.R, Powell H.T. / KrCl laser oscillation at 222 nm. // Appl. Phys. Lett, 1976, v. 29, №4, p. 252-253.

217. Eden J.G, Searles S.K. / Observation of stimulated emission in KrCl. // Appl. Phys. Lett, 1976, v. 29, № 6, p. 350-352.

218. Seery D.J, Britton D. / The continuous absorption spectra of chlorine, bromine, bromine chloride, iodine chloride, and iodine bromide. // J. Phys. Chem, 1964, v. 68, № 8, p. 2263-2266.

219. В кн.: Энергии разрыва химических связей. Потенциалы ионизации и сродство к электрону. // Изд. "Наука", Москва, 1974.

220. Sze R.C., Scott Р.В. / Intense lasing in discharge excited noble-gas monochlorides. // Appl. Phys. Lett., 1978, v. 33, № 5, p. 419-421.

221. Luches A, Nassini V, Perrone M.R. / Performance study of the KrCl discharge laser with liquid chlorine donors. // Opt. Commun, 1984, v. 51, № 5, p. 315-318.

222. Andrew J.E, Dyer P.E, Roebuck P.J. / Improved energy output from discharge pumped ArF and KrCl lasers. // Opt. Commun, 1984, v. 49, № 3, p. 189-194.

223. Пеэт В.Э, Сливинский E.B, Трещалов А.Б. / Диагностика электроразрядного KrCl лазера. // Кв. электроника, 1990, т. 17, № 4, с. 438-443.

224. Armandillo Е, Luches A, Nassini V, Perrone M.R. / Gain measurements in the KrCl discharge laser. // Opt. Commun, 1984, v. 51, № 5, p. 319-321.

225. Борисов B.M, Виноходов А.Ю, Кирюхин Ю.Б, Кузнецов С.Г, Молчанов Д.Н, Морозов А.Н, Христофоров О.Б. / Импульсно-периодический электроразрядный ХеС1 лазер. // Квантовая электроника, 1990, т. 17, № 2, с. 164-165.

226. Бычков Ю.И, Винник M.JI, Макаров М.К. / Широкоапертурный электроразрядный ХеС1 лазер с энергией генерации 15 Дж, работающий в бескоммутаторном режиме. // Квантовая электроника, 1992, т. 19, № 6, с. 542-543.

227. Long W.H, Plummer MJ, Stappaerts Е.А. / Efficient discharge pumping of an XeCl laser using a high-voltage prepulse. // Appl. Phys. Lett, 1983, v. 43, № 8, p. 735-737.

228. Басов В.А, Коновалов И.Н. / Электроразрядный XeCl лазер с кпд 4% и энергией 14 Дж. // Квантовая электроника, 1996, т. 23, № 9, с. 787-789.

229. Burlamacchi L., Burlamacchi P., Salimbeni R. / Long-life operation of a XeCl excimer laser. // Appl. Phys. Lett., 1979, v. 34, № 1, p. 33-35.

230. Burnham R. / Improved performance of the discharge-pumped XeCl laser. // Opt. Comm. 1978, v. 24, N 2, p. 161-163.

231. Maeda M., Nishitarumizu Т., Miyazoe Y. / 1.2-J XeCl laser excited by electric discharge. // Review Laser Engin., 1979, v. 7, № 2, p. 169-171.

232. Баранов В.Ю., Борисов B.M., Давидовский A.M., Христофоров О.Б. Использование разряда по поверхности диэлектрика для предыонизации в эк-симерных лазерах. Кв. электроника, 1981, т. 8, N 1, с. 77-82.

233. Ефимовский С.В., Жигалкин А.К., Сидоров Ю.Л. О разрядных и энергетических характеристиках электроразрядного ХеС/-лазера с литровым активным объемом. Письма в ЖТФ, 1979, т. 5, № 11, с. 664-668.

234. Ищенко В.Н., Лисицын В.Н., Старинский В.Н. / Генераторы импульсных напряжений для поперечного разряда. // ПТЭ, 1974, № 3, с. 108-110; ПТЭ, 1977, №3, с. 103-105.

235. Kawamura Y., Toyoda К., Namba S. / Deep UV submicron lithography by using a pulsed high power excimer laser. // J. Appl. Phys., 1982, v.53, № 9, p. 6489-6490.

236. Efthimiopoulos T. / Passive mode locking of a XeCl laser. // Appl. Phys. Lett., 1984, v. 45, №4, p. 346-348.

237. Shao-Chi Lin, Levatter J,I. / X-ray preionization for electric discharge lasers. // Appl. Phys. Lett., 1979, v. 34, № 8, p. 505-508.

238. Maeda M., Nishitarumizu Т., Miyazoe Y. / Electrical Circuit Design of FastDischarge System for High-Power Rare-Gas Halide Lasers. // Jap. J. Appl. Phys. 1981, v. 20, № l,p. 129-131.

239. Watanabe S., Alcock A.J., Leopold K.E., Taylor R.S. / Spatially resolved gain measurements in UV preionized homogenous discharge XeCl and KrF laser. // Appl. Phys. Lett., 1981,v. 38, № 1, p. 3-6.

240. Карнюшин B.H., Малов A.H., Солоухин Р.И. / Распределенный искровой разряд для объемной фотоионизации газа. // ЖТФ, 1978, т. 48, № 3, с. 510-513.

241. Акилов Р., Беков Г.И., Летохов B.C. и др. / Определение содержания алюминия в германии высокой чистоты методом лазерной ступенчатой фотоионизации атомов. // Квантовая электроника, 1982, т. 9, № 9, с. 1859-1862.

242. Lee Chi Н., Ricard D. / Coherent excitation of vibration and direct measurement of the dephasing time with synchronously mode-locked dye lasers. // Appl. Phys. Lett., 1978, v. 32, № 3, p. 168-171.

243. Jain RK., Haritage J.P. / Generation of synchronized CW trains of picosecond pulses of two independently tunable wavelengths. // Appl. Phys. Lett., 1978, v. 32, № 1, p. 41-44.

244. Ищенко B.H., Кочубей C.A., Ражев A.M. / Перестраиваемые KrCI и XeCl лазеры с узкой линией генерации. // Тр. XI Всес. конф. по когерентной и нелинейной оптике. Ереван, 1982, с.836.

245. Nakamura S., Нага Н., Umezu К., Takuma Н. / An oscillator-amplifier laser system in the 337 nm N2 band. // Jap. J. Appl. Phys. 1976, v. 15, № 12, p. 2491-2492.

246. Малов AH. / Ac. 775802 (СССР). Импульсный газовый лазер. Опубл. в Б Л, 1980,№40.

247. Searles S.K. / Superfluorescent laser emission from electron-beam-pumped Ar-N2 mixtures. // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 25, № 12, p. 735-737.

248. McKee T.J., Stoicheff B.P., Wallace S.C. / Dif&action-limited KrF and XeF lasers with a negative-branch unstable resonator. // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 30, № 6, p. 278-279.

249. Bourne O.L., Alcock A.J. / Simplified technique for subnanosecond pulse generation and injection mode-locking ofaXeCl laser.//Appl. Phys.B, 1985,№ l,p. 181-185.

250. Tomov I.V., Fedosejevs R., Richardson M.C., Sarjeant W.J., Alcock A.J., Leopold K.E. // // Appl. Phys. Lett., 1977, v. 30, № 6, p. 278-279.

251. Franz L.M., Nodvik J.C. / Theory of pulse propagation in laser amplifier. // J. Appl. Phys., 1963, v. 34, № 8, p. 2346-2349.

252. Ernst G.J., Nieuwenhuis A.B.M., Abranski K.M. / Output characteristics of a corona-preionized XeCl laser. // IEEE J. Quantum Electronics, 1985, QE-21, № 8, p. 1127-1130.

253. Hokazono H., Midorikawa K., Obara M., Fudjioka T. / Theoretical analysis of a self-sustained discharge pumped XeCl laser. // J. Appl. Phys., 1984, v. 56, № 3, p. 680-690.

254. Ломаев М.И., Мельченко С.В., Панченко А.Н., Тарасенко В.Ф. / Нестационарный режим возбуждения электроразрядных эксимерных лазеров. // Изв. АН СССР, сер. физич, 1984, т.48, № 7, с. 1385-1388.

255. Багинский В.М., Головинский П.М., Щедрин А.И. / Влияние концентрации гологеноносителя на устойчивость разряда и энергетические характеристики лазеров на смеси Не/Хе/НС1. // ЖТФ, 1986, т. 56, вып. 12, с. 2340-2345.

256. Osborne M.R., Hutchinson M.H.R. / Long pulse and premature termination of a highpower discharge-pumped XeCl laser. // J. Appl. Phys., 1986, v. 59, № 3, p. 711-715.

257. Coutts J., Webb C.E. / Stability of transverse self-sustained discharge-excited long-pulse XeCl lasers. // J. Appl. Phys., 1986, v. 59, № 3, p. 704-710.

258. B.M. Борисов, Ф.И. Высикайло, Е.Г. Иванова, И.В. Кочетов и др. Препринт ИТЭФ, М., 1985, №2.

259. Lewin L.A., Moody S.E., Klosterman E.L., Center R.E., Ewing J.J. / Kinetic model for long-pulse XeCl laser performance. // IEEE J. Quantum Electronics, 1981, v. QE-17, № 12, p. 2282-2289.

260. Greene A.E., Brau C.A. / Theoretical studies of UV -preionized transverse discharge KrF and ArF lasers. // IEEE J. Quantum Electronics, 1978, v. QE-14, № 12, p. 951-957.

261. Kannari F., Suda A., Obara M., Fudjioka T. / Theoretical simulation of electron-beam-excited xenon-chloride (XeCl) lasers. // IEEE J. Quantum Electronics, 1983 v. QE-19, № 10, p. 1578-1600.

262. Смирнов Б.М. / Возбужденные атомы. // М.: Энергоиздат, 1982.

263. Биберман Л.М., Воробьев B.C., Якубов Н.Т. / Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. // М.: Наука, 1982.

264. Смирнов Б.М., Елецкий А.В. / В кн.: Основы физики плазмы. Т. 1./ Под ред. Сагдеева Р.З. и Резенблюта М. // М.: Энергоиздат, 1983.

265. Dickinson A.S., Roberts R.E., Bernstein R.B. / Ion-atom association reactions in the rare gases. // J. Phys. B, 1972, v. 5, № 2, p. 355-365.

266. Баранов В.Ю., Борисов B.M., Виноходов А.Ю., Высикайло Ф.И., Кирюхин Ю.Б. / О причинах снижения мощности импульсного XeCl лазера в процессе работы. // Квантовая электроника, 1983, т. 10, № 11, с. 2336-2340.

267. Tittel F.K, Marowsky G, Wilson W.L, Smayling M.C. / Electron beam pumped broad-band diatomic and triatomic excimer lasers. // IEEE J. Quantum Electronics, 1981, v. QE-17, № 12, p. 2268-2281.

268. Maeda M, Takahashi A, Mizunami T, Miyazoe Y. / Kinetic model for self-sustained discharge XeCl laser. // Jap. J. Appl. Phys, 1982, v. 21, № 8, p. 1161-1169.

269. Marowsky G., Glass G.P, Smayling M., Tittel F.K, Wilson W.L. / Dominant formation and quenching kinetics of electron beam pumped Xe2Cl. // J. Chem. Phys, 1981, v. 75, № 3, p. 1153-1158.

270. Басов Н.Г, Данилычев B.A, Дудин А.Ю, Заярный Д.А, Устиновский Н.Н.Долин И.В, Чугунов А.Ю. / Электроионизационный ИК лазер на атомах Хе. // Квантовая электроника, 1984, т. 11, №9, с. 1722-1736.

271. Deloche R, Monchicourt Р, Cheret M, Lambert F. / High-pressure helium afterglow at room temperature. // Phys. Rev. A, 1976, v. 13, № 3, p. 1140-1176.

272. Дятко H.A, Кочетов И.В, Напартович А.П, Таран М.Д. / Препринт ИАЭ, М, 1983, № 3842/12.

273. Башнский ВМ., Басов НГ., Головинский ПМ, Данилычев В А., Миланич АН., Сорока AM, Щедрин АЛ. / Устойчивость однородной стадии накачки элекгроразрядных эк-симерньк лазеров.//Письма в ЖТФ, 1985,т. 11,вьш. 10,с. 627-631.

274. Демьянов А.В, Кочетов И.В, Напартович А.П, Старостин А.Н, Таран М.Д. / Расчетно-теоретическое исследование влияния электрон-электронных соударений и ударов второго рода на кинетику эксимерного XeCl лазера. // Препринт ИАЭ, М, 1985, № 4093/12.

275. Burlamacchi Р, Salimbeni R. / XeCl excimer laser using chlorinated hydrocarbons as CI donors. // Optics Communications, 1978, v. 26, № 2, p. 233-236.

276. Gower M.C., Kearsley A .J., Webb C.E. / Gas composition and lifetime studies of discharge excited rare-gas halide lasers. // IEEE J. Quantum. Electronics. 1980, v. 16, № 2, p. 231-235.

277. Fahlen T.S. / High-pulse-rate 10-W KrF laser. // J. Appl. Phys., 1978, v. 49, № 1, p. 455-456.

278. Tenant R. / Control of contaminants in XeCl lasers. // Laser Focus, 1981, № 10, p. 65-68.

279. Jursich G.M., Rufin D., Drasek W.A., Reid J., Znotins T. / Chemistry studies improve excimer gas lifetimes. // Laser Focus, 1989, № 6, p. 93-100.

280. Jursich G.M., Drasek WA, Mulderink K., Olchowka V., Reid J., Brimacombe RK. / Influence of gas composition on XeCl laser performance. // SPIE, 1991, v. 1412, p. 115-122.

281. В кн.: Кондратьев B.H. / Константы скорости газофазных реакций. // «Наука», М., 1971, с. 14, 88.

282. Ищенко В.Н., Новиков А.А., Ражев A.M. / Об эффективности XeCl лазера при повышенной частоте следования импульсов. // Тез. докл. III Всесоюзн. конф. «Оптика лазеров», Ленинград, 4-8 января 1982, с. 103.

283. Ishchenko V.N., Lisitsyn V.N., Razhev A.M. / On the mechanisms of lowering an efficiency of excimer lasers in increasing the repetition rate. // Digest V International Conf. "LASERS-82". USA, San-Francisco, 13-17 Dec. 1982.

284. Turner R.E., Remo J.L. / Gas handling technology for excimer lasers. // SPIE, 1990, v. 1377, p. 99-106.

285. Naylor G.A., Kearsley A.J. / Progress in gas purifiers for industrial excimer lasers. // SPIE, 1990, v. 1377, p. 107-113.

286. Tisone G.C., Hays A.K., Hoffman J.M. / 109 watt KrF and ArF molecular lasers. // Optics Communications, 1976, v. 18, № 1, p. 117.

287. Ищенко B.H., Кочубей C.A., Ражев A.M. / 30 МВт электроразрядный KrF лазер с кпд 2,5 %. // Квантовая электроника, 1986, т. 13, № 5, с. 1078.

288. Miyazaki К., Hasama Т., Yamada К., Fukatsu Т. / Efficiency of a capacitor-transfer-type discharge excimer laser with automatic preionization. // J. Appl. Phys., 1986, v. 60, № 8, p. 2721-2728.

289. Агеев В.П., Атежев В.В., Букреев B.C., Вартапетов С.К., Жуков А.Н., Конов В.И., Савельев А.Д. / Импульсно-периодический эксимерный лазер с магнитным звеном сжатия. // ЖТФ, т. 56, № 7, с. 1387-1389.

290. Борисов В.М., Брагин И.Е., Виноходов А.Ю., Водчиц В.А. / Об интенсивности накачки электроразрядных эксимерных лазеров. // Квантовая электроника, 1995, т. 22, № 6, с. 533-536.

291. Борисов В.М., Борисов А.В., Брагин И.Е., Виноходов А.Ю. / Эффекты ограничения средней мощности в компактных импульсно-периодических KrF-лазерах. // Квантовая электроника, 1995, т. 22, № 5, с. 446-450.

292. Sze R.C. / Rare-gas halide avalanche discharge lasers. // IEEE J. Quantum Electronics, 1979, v. QE-15, № 12, p. 1338-1347.

293. Ohwa M., Obara M. / Theoretical evaluation of the buffer gas effects for a self-sustained discharge ArF laser. // J. Appl. Phys., 1988, v. 63, № 5, p. 1306-1312.

294. Бойченко A.M., Держиев В.И., Жидков А.Г., Яковленко С.И. / Кинетическая модель ArF-лазера. //Квантовая электроника, 1992, т. 19, № 5, с. 486-491.

295. Armandillo Е., Bonanni F., Grasso G. / Compact, simple, high-energy, discharge-pumped rare gas halide laser. // Optics Communications, 1982, v. 42, № 1, p. 63-66.

296. Watanabe S., Endoch A. / Wide aperture self-sustained discharge KrF and XeCl lasers. // Appl. Phys. Lett., 1982, v. 41, № 9, p. 799-801.

297. Claassen H.H., Goodman G.L., Malm J.G., Schreiner F. / Infrared and raman spectra of krypton difluoride. // J. Chem. Phys., 1965, v. 42, № 4, p. 1229-1232.

298. Theard L.P., HildenbrandD.L. / Heat of formation of Be20(g) by mass spectroscopy. // J. Chem. Phys., 1964, v. 41, № 11, p. 3416-3420.

299. Ищенко B.H., Лисицын B.H., Ражев A.M. / О двух механизмах снижения энергии излучения в эксимерных лазерах на фторидах инертных газов. // Тез. докл. X Сибирского совещания по спектроскопии. Томск, 16-18 сентября 1981, с. 22.

300. Ultee CJ./ The homogeneous recombination rate constant of F atom at room temperature. //- Chem.Phys.Lett., 1977, v. 46, N 2, p. 366-367.

301. Chow W., Stuke M., Schafer F.P. Reaction kinetics of excimer laser using NF3. //Appl.Phys., 1977, v. 13, № , p. 1-3.

302. В кн.: Физическая химия быстрых реакций. //Пер. с англ. М.: Мир, 1976, с. 297-381.

303. Clyne М.А.А, Watson R.T./ Detection of the ground state FO radical in the gas phase. // Chem.Phys.Lett, 1971, v. 12, №2, p. 344-346.

304. Srinivasan R, Leigh W.J. / Ablative photodecomposition: Action of far-ultraviolet (193 nm) laser radiation on poly(ethylene terephthalate) films. // J. Amer. Chem. Soc, 1982, v. 104, p. 6784-6785.

305. Srinivasan R, Mayne-Banton V. / Self-developing photoetching of poly(ethylene terephthalate) films by far-ultraviolet excimer laser radiation. // Appl. Phys. Lett, 1982, v. 41, № 6, p. 576-578.

306. Srinivasan R. / Kinetics of the ablative photodecomposition of organic polimers in the far ultraviolet (193 nm). // J. Vac. Technol, 1983, v. Bl, № 4, p. 923-925.

307. Garrison B.J, Srinivasan R. / Microscopic model for the ablative photodecomposition of polimers by-far ultraviolet radiation (193 nm). // Appl. Phys. Lett, 1984, v. 44, №9, p. 849-851.

308. Andrew J.E, Dyer P.E, Forster D, Key P.H. / Direct etching of polymeric materials using a XeCl laser. // Appl. Phys. Lett, 1984, v. 43, № 8, p. 717-719.

309. Ражев A.M. / Новые теплофизические явления в конденсированных средах под действием мощного излучения. // Тез. докл XII Всесоюзн. конф. по ко-гер. и нелинейн. опт, Москва, 26-29 авг. 1985, с. 379.

310. Кочубей С.А, Ражев A.M., Рыданных О.В, Чеботаев В.П. / Исследование процесса фототравления полимерных пленок излучением эксимерных лазеров 193-353 нм. // Тез. докл XII Всесоюзн. конф. по когер. и нелинейн. опт, Москва, 26-29 авг. 1985, с. 393-394.

311. Brannon J.H, Lankard J.R, Baise A.J, Burns F, Kaufman J. / Excimer laser etching of polyimide. // J. Appl. Phys, 1985, v. 58, № 5, p. 2036-2043.

312. Валиев K.A, Беликов JIB, Душенков С.Д, Митрофанов A.B, Прохоров A.M. / Эффект фототравления полимеров под действием ультрафиолета. // Письма в ЖТФ, 1982, т.8, № 1, с. 36-36.

313. Parrish J.A, Deutsch T.F. / Laser photomedicine. // IEEE J. Quantum Electronics, 1984, v. QE-20, № 2, p. 1386-1396.

314. Midler D. / Exeimer lasers in medicine // Lasers and Applications, 1986, v. 5, № 5, p. 85-89.

315. Andrus W.S. / Laser angioplasty combat heart disease. // Lasers and Applications, 1985, February, p. 97-100.

316. Moriuchi M., Tobis J.M., Mcrae M. / A comparison of exeimer laser, thermal probe, and mechnical devices for recanalizing occluded human arteries. // Jpn. Circ. J. (KGN), 1991. Jun. 55, № 6, p. 591-600.

317. Taylor R.S., Leopold K.E., WalleyV.M. / XeCl laser ablation of cardiovascular tissue: Practical consideration. // Lasers in life Sciences, 1986, v. 2, № 3, p. 227-241.

318. Wollenek G., Laufer G. / Comparative study of different laser systems with special regard to angioplasty. // Thorac. cardiovasc. Surg. (VRO), 1988, v. 36, sup. 2, p. 126-132.

319. Trokel S.L., Srinivasan R., Braren B. / Exeimer laser surgery of the cornea. // Amer. J. Ophthalmology, 1983. v. 96, № 6, p. 710-715.

320. Puliafito C. A., Steinert R.F. / Lasers in ophthalmology : An update. // Laser Focus, 1985, №9, p. 84-102.

321. Puliafito C.A., Steinert R.F., Deutsch T.F. / Exeimer laser ablation of the cornea and lens. // Ophthalmology. 1985. v. 93, № 6, p. 741-748.

322. Болыпунов A.B., Георгиева В.Б., Четверухин А.П. / Применение углекислотою лазера в офтальмохирургии. //Вестник офтальмологии, 1986, т. 106, № 1, с. 56-58.

323. Гацу А.Ф., Симоненкова В.А., Волков В.В., Зайцева К.К., Березин Ю.Д. / Морфологические изменения роговицы после воздействия излучения иттер-бий-эрбиевого лазера. //Вестникофтальмологии, 1985, т. 101, № 6, с. 48-52.

324. Агамашева ФШ, Зиангирова ГГ. / Экспериментальное исследование разреза роговицы с помощью рубинового ножа. // Вестник офтальмологии, 1986, т. 102, № 2, с. 66-70.

325. Лебедева Л.И. / Цитогенетическое исследование динамики формирования перестроек хромосом. //Автореф. дис. докг.биол. наук. Новосибирск, ИЦИГ, 1983,32 с.

326. Лебедева Л.И., Чубыкин В.Л. / Особенности спонтанных и индуцированных радиацией разрывов хромосом. // Генетика, 1975, т. 11, с. 30-36.

327. Смит К., Хэнеуолт Ф. / Молекулярная фотобиология. // М.: Мир, 1972,272 с.

328. Haseltine W.A. / Ultraviolet light repair and mutagenesis revised. // Cell, 1983, v. 33, № l,p. 13-17.

329. Лебедева Л.И., Ермолаев B.H. / Сравнительное изучение перестроек хромосом и свободных радикалов в облученных семенах гороха. // Генетика, 1963, т. 5, с. 69-80.

330. Лебедева Л.И., Скорова С.В. / О предельных явлениях при мутагенезе. // ДАН СССР, 1985, т. 282, № 1, с. 173-176.

331. Бужиевская Т.И. / Вирус-индуцированный мутагенез в клетках млекопитающих. // Киев: Наукова думка, 1984, 134 с.

332. Керкис Ю.Я., Скорова С.В. / Хромосомные нарушения в лейкоцитах у больных аллергией. // Бюлл. эксперим. биол. и мед., 1974, № 3, с. 101-103.

333. Munnerlyn C.R., Koons S.J., Marshall J. / Photorefractive Keratectomy: A Technique for Laser Refractive Surgery // J. Cataract. Refract. Surg., 1988, v. 14, № 1, p. 46-52.

334. Krauss J.M., Puliafito C.A. / Lasers in Ophthalmology // Lasers in Surgery and Medicine., 1995, v. 17, p. 102-159.

335. Forster W., Beck R., Busse H. / Design and Development of a New 193 nm Excimer Laser Surgical System // Refractive & Corneal Surgery., 1993, v. 9, № 7-8, p. 293-299.

336. L'Esperance F.A., Warner J.M., Telfair W.B., Yoder P.R., Martin C.A. / Excimer Laser Instrumentation and Technique for Human Corneal Surgery // Arch. Ophthalmol., 1989, v. 107,№ l,p.l31-139.

337. Trokel S., Munnerlyn C. / Excimer Lasers Ophthalmic Delivery Systems // Lasers and Light in Ophthalmology., 1989, v. 2, № 3, p. 157-161.

338. Van Saarlos P.P., Constable J.I. / Improved Excimer Laser Photorefractive Keratectomy System // Lasers in Surgery and Medicine, 1993, v. 13, p. 189-196.

339. Muller D., Doney K., Barra M. / SVS Apogee Redefines Excimer Laser Surgery // Focal Point, 1995, v.3, p. 1-3.

340. Gordon M., Brint S.F., Durrie D.S., Seiler Т., Friedman M.D. / Photorefractive Keratectomy (PRK) at 193 nm Using an Erodible Mask // SPIE, 1992, v. 1644, p. 11-19.

341. Lin J.T. / Mini- Excimer Laser Corneal Reshaping Using a Scanning Device // SPIE Proceedings "Medical Lasers & Systems III", 1994, v. 2131.

342. Krynetsky B.B., Mishin V.A., Prokhorov A.M., Savelyev A.D., Smirnov V.V. // Optics Communications, 1977, v. 20, p. 659-661.

343. Hygaard K.J., Hebner R.E., Jones J.D., Corbin R.S. / Photoionisation of the 6 2Pi/2,3/2 fine-structure levels in cesium. // Phys.Rev., 1972, v. A12, №4, p. 1440 -1447.

344. Ключарев A.H., Сепман Ю.В./ Двухступенчатая фотоионизация атома рубидия. // Оптика и спектроскопия, 1975, т. 36, в. 6, с. 1230-1231.

345. Marr G.V./ Photoionisation processes in gases. //N.Y.-London, Academic Press, 1967.

346. Козлов М.Г., Коточигова C.A., Николаев B.H. / Спектры поглощения редкоземельных элементов в шумановской области. Иттербий. // Оптика и спектроскопия, 1976, т. 41, в. 1, с. 10-14.

347. Schmidt R.V., Kaminov I.P. / Metal-diffused optical waveguides in LiNb03. // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 25, №8, p. 458-460.

348. Wei D.T.Y., Lee W.W., Bloom L.S. / Large refractive index change induced by ion implantation in lithium niobate. // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 25, № 6, p. 329-331.

349. В кн.: Борн M., Вольф Е. / Основы оптики. // М.: Наука, 1970, с. 87.

350. Ashkin I.A., Boyd G.D., Dziedzic J.M., Smith R.G., Ballman A.A., Levinstein J.J., Nassan K. / Optically-induced refractive index ingomogeneities in LiNb03 and LiTa03 // Appl. Phys. Lett, 1966, v. 9, № 1, p. 72-74.

351. Redfield D, Burke W.J. / Optical absorption edge of LiNb03 // J. Appl. Phys., 1974, v. 45, № 10, p. 4566-4571.

352. Glass A.M., von der Linde D., Negran T.J. / Hihg-voltage bulk photovoltagic effect and the photorefractive process in LiNb03. // Appl. Phys. Lett., 1974, v. 25, № 4, p. 233-235.

353. Баркан И.Б., Воробьев A.B., Маренников С.И. / Нестационарная оптическая память в кристалле ниобата лития. // Квантовая электроника, 1979, т. 6, № 4 с. 833-836.

354. Gotz G, Karge Н. // Nucl. Instr. and Meas, 1983, v. 209/210, p. 1079.

355. Ахманов C.A, Жданов Б.В, Ковригин А.И, Першин С.М. / Эффективное вынужденное рассеяние в ультрафиолете и дисперсия усиления в области 1,06 0,26 мкм. // Письма в ЖЭТФ, 1972, т. 35, с 185-187.

356. Зубов В.А, Крайский А.В, Прохоров КА, Сущинский М.М, Шувалов И.К. / Энергетические и временные характеристики вынужденного рамановского рассеяния света. // Пйсьма в ЖЭТФ, 1969, т. 28, с. 231-235.

357. Ахманов С.А, Дьяков Ю.Е, Павлов Л.И. / Статистические явления в вынужденном рамановском рассеянии при микроволновой накачке. // Письма в ЖЭТФ, 1974, т. 39, с 249-256.

358. Венкин Г.В, Кулик Л.Л, Малеев Д.И. / Исследование вынужденного рамановского рассеяния в возбужденных газах четвертой гармоникой неодимо-вого лазерного излучения. // Квантовая электроника, 1976, т. 5, с. 1348-1351.

359. Murray J.R, Goldnar J, Szoke A. / Backward Raman gain measurements for KrF laser radiation scattered by CH4. // Appl. Phys. Lett, 1978, v. 32, p. 551-553.

360. DeMartini F, Ducuing J. / Stimulated Raman scatering in nitrogen: A measurement of the vibrational lifetime. // Phys. Rev. Lett, 1966, v. 17, p. 117-119.

361. Falsini P, Pini R, Salimbeni R, Vannini M. / Simple and efficient H2 raman conversion of a XeCl laser with a variable numerical aperture coupling geometry. // Optics Communications, 1985, v. 53, № 6, p. 421-424.

362. Loree T.R, Sze RC, Barker D.L, Scott P.B. / New lines in the UV: SRS of excimer laser wavelengths. // IEEE J. Quantum Electronics, 1979, v. QE-20, № 5, p. 337-342.

363. Bischel W.K, Black G. / Wavelength dependence of raman scattering cross sections from 200-600 nm. // AIP Conf. Proc. № 100. Excimer lasers 1983, Nevada, N.Y, 1983, p. 181-187.

364. Godard B, De Witte O. / Efficient laser emission in paraterphenyl tunable between 323 and 364 nm. // Opt.Comm, 1976, v. 19, № 3, p. 325-328.

365. Sutton D.G, Capelle G.A. / KrF-laser-pumped tunable dye laser in the ultraviolet. // Appl.Phys.Lett, 1976, v. 29, № 9, p. 563-564.