Разработка ионно-плазменных методов нанесения покрытий и азотирования перспективных конструкционных материалов тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.13, кандидат технических наук Мамаев, Александр Сергеевич

• Мамаев, Александр Сергеевич
• кандидат технических наук
• 2012

Оглавление диссертации кандидат технических наук Мамаев, Александр Сергеевич

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. Ионно-плазменные мсюды обрабо!ки поверхности.

1.1. Физическое I азофашое осаждение.

1.1.2. Токовый коллекюр 1вердооксидно1 о юплив1101 о элемента: принцип действия и применяемые ма1ериалы.

1.2. Плазмо-химическое осаждение из газовой фазы.

1.2.1. Осаждение алмазоподобных покрьпий.

1.3. Ионно-плазменпое азотирование.

1.3.1. Азотирование в плазме, 1снерируемой )лекфонным пучком.

Выводы к главе 1.

ГЛАВА 2. Нанесение Со-Мп-0 покрьпий матнефонным распылением металлических мишеней.

2.1. Ионно-плазменная сииема и меюд осаждения.

2.2. Изучение влияния параметров осаждения на с I рук гуру, фазовый и элементный сос1ав покрьпий.

2.2.1. Ренггеносфук1урный фазовый анализ.

2.2.2. Анализ микросфук1уры покрьпий и элементного состава.

2.3. Функциональные свойсжа юкоироходов с Со?МпО,| покрьпием.

Выводы к главе 2.

ГЛАВА 3. Получение алмазоподобных покрытий в разряде низкого давления с плазменным каюдом

3.1. Принцип работы газоразрядного устройства и меюдика нанесения АПП.

3.2. Импульсно-периодический режим работ.

3.3. Влияние параметров осаждения на микротвердость и микроструктуру

3.3.1. Особенности измерения микротвердости твердых пленок.

3.3.2. Исследование АПП методом рамановской спектроскопии.

3.3.3. Исследование микроструктуры ЛПГ1.

3.3.4. Расширение функциональных возможностей установок.

Выводы к главе 3.

ГЛАВА 4. Низкотемпературное азотирование сталей и сплавов в плазме электронного пучка.

4.1. Особенности метода и принцип работы источника электронов с плазменным каюдом.

4.2. Исследование состава азотированного слоя и скорости его формирования.

4.2.1. Азотирование ти тана.

4.2.2. Азотирование нержавеющей стали.

Выводы к главе 4.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Разработка ионно-плазменных методов нанесения покрытий и азотирования перспективных конструкционных материалов»

Совершенствование способов генерации плазмы и разработка новых ионно-плазменных устройств необходимы для повышения производительности процессов обработки изделий и получения материалов с новыми свойствами. Поскольку, в процессе эксплуатации деталей машин и приборов именно поверхностный слой подвергается наиболее сильному механическому и химическому воздействию, наиболее целесообразной представляется модификация свойс1в поверхности. Использование для этих целей объемнолегированных материалов часто экономически нецелесообразно, а в ряде случаев технологически невозможно.

Особенностью ионно-плазменных методов обработки, в основе которых лежит использование газоразрядной плазмы, является воздействие частиц с высокими энергиями (ионы, электроны, нейтральные атомы) на тонкий (десятки и сотни нм) приповерхностный слой материалов, что позволяет модифицировать его структурно-фазовый сос1ав, не изменяя объемных свойств материала, а также получать покрытия из оксидов, нитридов и карбидов металлов при существенно более низких температурах, чем температура, необходимая для получения этих соединений термохимическими методами. Конкретные условия эксплуатации изделий требуют направленного изменения физико-химических свойств поверхности материалов для достижения высокой износостойкости, коррозионной стойкости, усталостной прочности, электропроводное!и и др.

В данной работе решается актуальная проблема защиты от высокотемпературной коррозии изделий из нержавеющей стали, используемых для электрического соединения ячеек юпливного элемента с твердым электролитом между собой (токовых коллекторов). Наряду с высокой коррозионной стойкостью при 800°С в кислороде этот конструкционный элемент должен также сохранять высокую электронную проводимость в течение 40000 часов. Обеспечение этих свойств коллектора является необходимым условием развития 1ехники и 1ехнологии твердооксидных юпливных элемешов. Для решения посшвленной цели в работе предложен и исследован меюд ионно-плазменного нанесения электропроводящих оксидных покрытий с ионным сопровождением.

В медицине широко используюкя 1акие ма1ериалы, как гшан и нержавеющая С1аль. Повышение биосовмесшмосж и механической прочности этих материалов являе1ся ак1уалыюй задачей, которая в работе решается специально разработанными новыми методами нанесения алмазоподобных покрьний и ионным азо1 ированием в плазме электронного пучка. Для достижения высоких скоростей осаждения покрытий и диффузионного насыщения поверхности азотом необходимо обеспечить высокую плотность ионною юка, коюрая ограничивается предельно допуешмой темпера1урой обрабатываемых ма1ериалов Разработка способов генерации газоразрядной плазмы, позволяющих независимо изменять ток и напряжение горения разряда, плошоегь и )нер1 ию ионов, посыпающих на поверхность изделий необходима для изучения влияния этих параметров на свойства модифицированной поверхности и осаждаемых покрытий.

Цель работы заключалась в разработке методов ионно-плазменной модификации поверхности конструкционных материалов, обеспечивающих высокие скорости нанесения электропроводящих оксидных Со-Мп-0 покрытий со С1рук1урой шпинели, нанесения сверх¡вердых алмазоподобных покрытий, упрочнения поверхносш мешллов и сплавов азотированием Для достижения этой цели в работе поставлены следующие задачи-1 Исследовать способ нанесения (Со,Мп)30| покрьиий со структурой шпинели реактивным мате тройным распылением металлических Со/Мп мишеней в системе с замкнушм магнишым полем и дополнительным источником ионов, предназначенным для ионного ассистирования и предварительной очистки подложки 01 загрязнений

2. Исследован, способ осаждения аморфных углеводородных покрытий (а-С:Н) в несамосIоя 1ельном импульсно-иериодическом газовом разряде низкого давления с полым ка годом, который поддерживается дополнительной эмиссией элек фонов, в широком диапазоне изменений тока и напряжения юрения разряда, давления и соства 1азовой смеси, а также изучение влияния изменения параметров юрения разряда на микротвердость осаждаемых покрытий

3 Исследовать способ безводородного низкотемпературного азотирования метллов и сплавов в плазме, генерируемой низкоэнергетичным электронным пучком, в широком диапазоне давлений и состава газовой АгЖ2 смеси, энергии электронов, тока пучка, плотности ионного тока и провес ж анализ влияния данных параметров на скорость формирования, фазовый состав и твердое¡ь упрочненного слоя

Научная новизна рабо1ы:

1 Установлено, чю метод реакжвною магнегронного распыления двухкомпонентных Со-Мп металлических мишеней в сочетании с формированием потока ионов кислорода, посыпающих на поверхность подложки в процессе роста покрьпия, позволяет снизить парциальное давление кислорода, при котором формируется структура шпинели (Со,Мп)304, и повысить скорость нанесения покрытия в 2,5 раза

2 Показано, чю импульсно-периодический (50 кГц) несамостоятельный разряд с полым каюдом, поддерживаемый эмиссией плазменного катода с сеточной стабилизацией, устойчиво функционирует в условиях формирования диэлекфических а-С Н покрьпий на поверхности катода и обеспечивает осаждение твердых (до 80 ГПа) покрытий разложением ацетилена в плазме, оптимизация параметров которой обеспечивается независимой регулировкой напряжения и тока разряда в широком диапазоне давлений и сос1ава 1азовой смеси

3. Установлено, что источник элекфонов с плазменным катодом и односеточной системой формирования пучка, обеспечивает генерацию газовой плазмы и азотирование пометенных в нес изделий, нагрев которых осуществляется электронами пучка и/или извлекаемыми из плазмы ионами, причем повышение плотности ионного юка приводит к снижению энергии активации диффузии и увеличению скорости роста упрочненного слоя.

Практическая значимость и реализация результатов работы заключается в том, что:

1. Создано лабораторное оборудование для ионно-плазменного реактивного нанесения покрытий с ионным сопровождением, разработана методика нанесения сложного оксида Со-Мп-0 в кислород-аргоновой среде низкого давления на нержавеющие стали (12X17, А181430, СгоГег 22 АРи), обеспечивающая формирование однофазного покрытия со структурой шпинели (Со,Мп)30;| и реализованы способы повышения скорости роста покрытия на подложке. Работа была выполнена в рамках договора №29/05(2005 - 2007 г.) с Институтом высокотемпературной электрохимии УрО РАН «Разработка усюйчивых к высокотемпературной коррозии металлических токопроходов ТОЭ с использованием плазменных и ионно-лучевых технологий», договора №7/07 (2007 г.) с Национальной инвестиционной компанией «Новые энер1 стические проекты» «Создание защитных покрытий на металлическом юкопроходс ТОТЭ», проекта РФФИ №09-08-00707-а (2009 - 2011 г.) «Исследование свойств покрытия на основе марганец-кобальтовой шпинели, применяемого для защиты токопроходов твердооксидных топливных элементов» и проекта «Формирование защитных электропроводящих покрытий для токопрохода топливного элемента с твердым электролитом ионно-плазменными методами», выполненного в рамках Соглашения РФЯЦ-ВНИИТФ и ИЭФ УрО РАН о проведении совместных исследований в области создания энергетических установок на основе твердооксидных топливных элементов (2010 г.).

2. Реализован способ нанесения углеводородных покрытий разложением ацетилена в импульсно-периодическом несамостоятельном разряде с полым кагодом, который позволяет проводить в едином вакуумном цикле этапы ионной очистки поверхности и иммерсионной ионной имплантации для повышения прочности соединения покрытия с основой. Получены высокие скорости осаждения покрытий (до 8 мкм/ч), при этом температура обрабатываемых изделий не превышала 150°С. Определены оптимальные режимы осаждения, в которых достигаются высокие твердости алмазоподобных покрытий и прочность их соединения с основой. Выполнен Государственный контракт №16-ГК/08 от 26 мая 2008 г. с Институтом физики металлов УрО РАН «Разработка и изготовление опытного образца газоразрядного устройства (источника плазмы) для нанесения углеводородных покрытий». Получен патеш РФ па изобретение №23821 16: «Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий». Созданы газоразрядные модули, которыми доукомплектованы установки УВНИПА-1-001 для нанесения алмазоподобных покрытий вакуумно-дуговым (PVD) методом, что расширило функциональные возможности установок, позволив проводить комплексную обработку изделий PVD и PECVD методами. Установки функционируют в Институте физики металлов УрО РАН, а также в компаниях «Argor-Aljba» (Mendrisio, Switzerland) и ITAC Ltd. (Tokio, Japan),

3. Реализован способ азотирования металлов и сплавов в плазме низкоэнергетичного электронного пучка и создано экспериментальное оборудование: источник электронов с плазменным катодом и односеточной системой формирования пучка, вакуумно-плазменная установка для низкотемпературного ионного азотирования. Проведено азотирование титана с нагревом изделий электронным пучком при низком (0 - 50 В) и плавающем потенциале, что позволило избежать развития рельефа поверхности и провести обработку в глубоких и узких пазах. Реализован режим низкотемпературного (400°С) азошрования нержавеющей стали с высокой скоростью (7 мкм/ч0^), обеспечивающий увеличение микротвердости поверхности в 4 - 5 раз при сохранении ее коррозионной стойкости. Работа выполнена по проеюу РФФИ № 10-08-00085-а (2010 - 2012 г.) «Низкотемпературное азошрованис мешллов и сплавов в плазме низкоэнергегического электронного пучка». Получен патеш РФ на изобретение №2413033. «Способ плазменною азошрования изделия из стали или цветного сплава».

Научные положения, выносимые на заши1у:

1.Сис1ема реакшвною импульсного ма1 нефонного распыления с замкнутой конфигурацией магнитного поля, в которой для ионного сопровождения использован холловский ионный источник, обеспечивает распыление метллических Со/Мп мишеней, поступление электронов из плазмы магнефопных разрядов в анодную область ионного источника и эффективную ионизацию кислорода, увеличенное отношение потока ионов и распыленных атомов N,/N¿=2/1 на поверхносж обрабатываемого изделия, что позволяет снизить с 0,03 до 0,01 Па парциальное давление кислорода, при котором формируется (Со,Мп)30,| покрытие с однофазной структурой шпинели, и увеличить скорость осаждения покрытия (до 2,5 раз) в результате изменения режима рабо1ы ма1 нефонов.

2. Применение несамостоя1елыю1 о импульсно-периодического (50 кГц) разряда с полым каюдом, поддерживаемого эмиссией плазменного катода с сеточной С1абилизацией, обеспечивает стабильную генерацию плазмы в аргон-аце1иленовой газовой смеси в условиях формирования на имеющих катодный по1енциал поверхностях диэлектрических алмазоподобных покрытий в широком диапазоне изменения давления газа (0,06 - 0,6 Па) и напряжения горения разряда (100 - 600 В), при этом микротвердоегь формируемого покрьпия определяйся энергией ионов, бомбардирующих повсрхнос1Ь обраба1ываемо1 о изделия, и достигает максимума (80 ГПа) при энер! ии ионов ~ 300 эВ

3. Широкий (080 см2) пучок электронов низких энергий (0,1-1 кэВ) с током 1 - 6 А, генерируемый источником электронов с плазменным эмиттером, обеспечивает ионизацию газовой (Ar+N?) смеси низкого давления (0,01 - 3 Па) и изменение соотношения вкладов электронов и ионов в нагрев изделий, что позволяет проводить низкотемпературное (400 - 600°С) безводородное азотирование гитана и снизи1ь интенсивность ионного распыления поверхности в результате уменьшения напряжения смещения до 0 - 50 В, а также повысить до 7 мкм/ч0э скорость роста слоев с повышенной микротвердостыо (14 ГПа) при низкотемпературном (400°С) азотировании нержавеющей стали 12Х18Н10Т в результат увеличения плотности ионного у тока до 5 мА/см .

Содержание диссертационной рабо i ы.

Диссертация состоит из введения, четырех глав с краткими выводами по каждой главе, заключения, списка используемых литературных источников. Общий обьем диссер1ации сос1авляе1 174 страницы, включает в себя 62 иллюстрации, список используемых литературных источников из 296 наименований.

Заключение диссертации по теме «Электрофизика, электрофизические установки», Мамаев, Александр Сергеевич

Результаты работы докладывались и обсуждались на 14 Российской конференции с международным участием «Физическая химия и электрохимия твердых электролитов» (Екатеринбург, 2007), 10 международной конференции rio плазме газового разряда и ее технологическом применении (Томск, 2007), 9 международной конференции по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы (Томск, 2008), 3 международном Крейнделевском семинаре «Плазменная эмиссионная электроника» (Улан-Удэ, 2009), 10 международной конференции по модификации материалов пучками заряженных частиц и потоками плазмы (Томск, 2010), Всероссийской конференции с международным участием «гвердооксидные топливные элементы и энергоустановки на их основе» (4epnoi оловка, 2010) и представлены в сборниках докладов конференций [276 - 285] По результатам работы получено 2 naieHia на изобре1ение [286, 2871 и опубликовано 9 статей в рецензируемых журналах [288 - 296]

Личный вклад соискателя сосюит в создании экспериментального оборудования (усшновка нанесения покрьпий реактивным магнетронным распылением с ионным сопровождением, устройство для нанесения алмазоподобных покрытий разложением углеводородсодержащего газа в импульсно-периодическом несамостоятельном разряде с полым катодом, источник электронов с сеточной стабилизацией плазменного катода на основе тлеющего разряда и одноэлек! родной системой ускорения), исследовании влияния параметров процесса ионно-плазменной обработки на структуру, фазовый состав, физико-химические и механические свойства поверхностных слоев и основы, а также, в непосредственном участии в выполнении всех этпов работы. Определение целей и задач исследований, обсуждение полученных резулыаюв, их анализ и обобщение, редакция основных выводов и научных положений проводились совместно с научным руководителем чл.-корр. РАН, дл.н. Н. В. Гавриловым.

В заключение автор выражает искреннюю благодарность чл.-корр. РАН, д.т.н. Н. В. Гаврилову, под руководспюм коюрого была выполнена данная работа, а также сотрудникам лаборатории пучков частиц ИЭФ УрО РАН и соавюрам pa6oi за помощь, оказанную при проведении экспериментов и обсуждении резулыаюв исследований

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Мамаев, Александр Сергеевич, 2012 год

1. Ивановский Г.Ф. Ионно-плазменная обработка материалов / Г. Ф. Ивановский, В. И. Петров. М. : Радио и связь, 1986. - 232 с.

2. Mattox D. М. Particle bombardment effects on thin-film deposition: A review / D. M. Mattox // J. Vac. Sci. Technol. A Vol. 7. - 1989. - p. 1105-1114.

3. Mattox D. M. Handbook of physical vapor deposition (PVD) processing / D. M. Mattox. New Jersey: Noyes Publications, 1998. - 945 p.

4. Yang J. Evolution of self-assembled Ge/Si island grown by ion beam sputtering deposition / J. Yang, Y. Jin, C. Wang, L. li, D. tao, Y. Yang // Appl. Surf. Sci. Vol. 258. - No. 8. - 2012. - p. 3637-3642.

5. Хокинг M. Металлические и керамические покрытия / М. Хокинг, В. Васантасри, П. Сидки. М.: Мир, 2000. - 516 с.

6. Данилин Б. С. Магнетронные распылительные системы / Б. С. Данилин,

7. B. К. Сырчин. М.: Радио м связь, 1982. - 70 с.

8. Christou С. Ionization of sputtered material in a planar magnetron discharge /

9. C. Christou, Z. H. Barber, // Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films. Vol. 18. - No. 6. - 2000. - p. 2897-2907.

10. Chapman B. Glow Discharge Processes / B. Chapman. New York: Wiley & Sons, 1980.-406 p.

11. Coatings Technology: Fundamentals, Testing, and Processing Techniques / под ред. A. A. Tracton. New York: CRC Press, 2007. - 370 p.

12. Кузьмичев А. И. Магнетронные распылительные системы. Книга 1.

13. Введение в физику и технику магнетронного распыления / А. И. Кузьмичев. Киев: «Аверс», 2008. - 246 с.

14. Bogaerts A. Gas discharge plasmas and their applications / A.Bogaerts, E.Neyts, R.Gijbels, J. van der Mullen // Spectrochimica Acta Part B. Vol. 57. - 2002. - p. 609-658.

15. Roth J. R. Industrial Plasma Engineering, Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing / J. R. Roth. London: IOP Publishing Ltd., 2001. - 645 p.

16. Advanced Plasma Technology / под ред. R. d'Agostino, P. Favia, Y. Kawai, H. Ikegami, N. Sato, F. Arefi-Khonsari. WILEY-VCH, 2008. - 457 p.

17. Thin Film Processes / под ред. J.L. Vossen, W. Kern. New York: Academic Press, 1978. - 335 p.

18. Abe Y. Target-Surface Compound Layers Formed by Reactive Sputtering of Si Target in Ar+02 and Ar+N2 Mixed Gases / Y. Abe, T. Takisawa, M. Kawamura, and K. Sasaki // Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 46. - 2007. - p. 67786781.

19. Xu Y. Hard nanocomposite Ti-Si-N films prepared by DC reactive magnetron sputtering using Ti-Si mosaic target / Y.Xu, L. Li, X. Cai, P. K. Chu // Surface and Coatings Technology. Vol. 201. - No. 15. - 2007. - p. 6824-6827.

20. Joelsson T. Deposition of single-crystal Ti2AlN thin films by reactive magnetron sputtering from a 2Ti:AI compound target / T. Joelsson, A. Flink, J. Birch, and L. Hultman // J. Appl. Phys. Vol. 102. - 2007. - p. 074918.

21. Гончаров А. А. Характеристики цилиндрического магнетрона и реактивное напыление в нем пленок бинарных соединений / А.А. Гончаров, А. В. Демчишин, А. А. Демчишин, Е.Г. Костин, В. А. Миченко, Б.В. Стеценко // ЖТФ. Т. 77. - В. 8. - 2007. - с. 114-119.

22. Kim D. Low temperature deposition of transparent conducting ITO/Au/ITOfilms by reactive magnetron sputtering / D. Kim // Applied Surface Science. -Vol. 256. No. 6. - 2010. - p. 1774-1777.

23. Kleinhempel R. Properties of ITO films prepared by reactive magnetron sputtering / R. Kleinhempel, G. Kaune, M. Herrmann, H. Kupfer, W. Hoyer, F. Richter // Microchimica Acta. Vol. 156. - No. 1 -2. - 2006. - p. 61 -67.

24. Lifshitz Y. Subplantation model for film growth from hyperthermal species: Application to diamond / Y. Lifshitz, S. R. Kasi, and J. W. Rabalais // Physical Review Letters. Vol. 62. - No. 11,- 1989. - p. 1290-1293.

25. Janssen G. Stress in hard metal films / G. C. A. M. Janssen, J.-D. Kamminga //Applied Physics Letters. Vol. 85. - No. 15. - 2004. - p. 3086-3088.

26. Pauleau Y. Generation and evolution of residual stresses in physical vapour-deposited thin films / Y.Pauleau // Vacuum. Vol. 61. - No. 2-4. - 2001. - p. 175-181.

27. Windischmann H. Intrinsic stress in sputter-deposited thin films /

28. H.Windischmann // Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences. -Vol. 17. No. 6. - 1992. - p. 547-596.

29. Davis C. A. A simple model for the formation of compressive stress in thin films by ion bombardment / C.A. Davis // Thin Solid Films. Vol. 226. - No.1. 1993. - p. 30-34.

30. Koch R. The intrinsic stress of polycrystalline and epitaxial thin metal films /

31. R. Koch // Journal of Physics: Condensed Matter. Vol. 6. - No. 45. - 1994. -p. 9519-9550.

32. Kouznetsov V. A novel pulsed magnetron sputter technique utilizing very high target power densities / V. Kouznetsov, K. MacAk, J. M. Schneider, U. Helmersson, I. Petrov // Surface and Coatings Technology. Vol. 122. -No. 23,- 1999.-p. 290-293.

33. Mozgrin D. V. Pulsed probe technique for determining the plasma parameters of a high-current low-pressure diffuse discharge / D. V. Mozgrin, I. K. Fetisov, G. V. Khodachenko // Plasma Physics Reports. Vol. 25. - No. 3. -1999. - p. 255-260.

34. Brenning N. A bulk plasma model for dc and HiPIMS magnetrons / N. Brenning, I. Axnas, M. A. Raadu, D. Lundin, U. Helmerson // Plasma Sources Science and Technology. Vol. 17. - No. 4. - 2008. - p. 045009.

35. Münz W.-D. HIPIMS: The new PVD-technology / W.-D.Münz // Vakuum in Forschung und Praxis. Vol. 19. - No. 1. - 2007. - p. 12-17.

36. Ochs D. HIPIMS Power for Improved Thin Film Coatings / D.Ochs // Vakuum in Forschung und Praxis. Vol. 20. - No. 4. - 2008. - p. 34-38.

37. Benzeggouta D. Study of a HPPMS discharge in Ar/02 mixture: I.Discharge characteristics with Ru cathode / D. Benzeggouta, M. C. Hugon, J. Bretagne, M. Ganciu // Plasma Sources Sei. Technol. Vol. 18. - 2009. - p. 045025.

38. Alami J. On the deposition rate in a high power pulsed magnetron sputtering discharge / J. Alami, K. Sarakinos, G. Mark, M. Wuttig // Applied Physics Letters. Vol. 89. - 2006. - p. 154104.

39. Window B. Charged particle fluxes from planar magnetron sputtering source /

40. B. Window, N. Savvides // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 4. - No. 2. - 1986. -p. 196-200.

41. Savvides N. Unbalanced magnetron ion-assisted deposition and property modification of thin films / N. Savvides, B. Window // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 4. - No. 3. - 1986. - p. 504-508.

42. Wang C.-S. Unbalanced Magnetron Sputtering Using Cylindrical Target for Low-Temperature Optical Coating / C.-S. Wang, K. Sasaki, Y. Yonezawa and T. Hata // Japanese Journal of Applied Physics. Vol. 44. - No. IB. - 2005. -p. 669-672.

43. Kelly P. J. Magnetron sputtering: a review of recent developments and application / P. J. Kelly, R. D. Arnell // Vacuum. Vol. 56. - 2000. - p. 159172.

44. Kelly P. J. The production of porous and chemically reactive coatings by magnetron sputtering / P. J. Kelly, J. O'Brien, R. D. Arnell // Vacuum. Vol. 74. -2004. - p. 1-10.

45. Rohde S. L. Dual-unbalanced magnetron deposition of TiN films / S. L. Rohde, L. Hultman, M. S. Wong, W. D. Sproul // Surface and Coatings Technology. Vol. 50. - No. 3. - 1992. - p. 255-262.

46. Yao Z. Q. Fabrication and sutface characterization of pulsed reactive closed-field unbalanced magnetron sputtered amorphous silicon nitride films // Surface and Coatings Technology. Vol. 200. - 2006. - p. 4144-4151.

47. Lideroth S. Investigations of metallic alloys for use as interconnects in solid oxide fuel cell stacks / S. Lideroth, P. V. Hendriksen, M. Mogensen, N. Langvad // J. Mat. Sci. Vol. 31.-1996. - p. 5077-5082.

48. Yang Z. Selection and evaluation of heat-resistant alloys for SOFC interconnect applications / Z. Yang, K. S. Weil, D. M. Paxton, J. W. Stevenson // J. Electrochemical Society. Vol. 150. - No. 9. - 2003. - p. A1188-A1201.

49. Chen X. Protective coating on stainless steel interconnect for SOFCs: oxidation kinetics and electrical properties / X. Chen, P. Y. Hou, C. P. Jacobson, S. J. Visco, L. C. De Joghe // Solid State Ionics. Vol. 176. - 2005. -p. 425-433.

50. Badwal S.P.S. Interaction between chromia forming alloy interconnects and air electrode of solid oxide fuel cells / S. P. S. Badwal, R. Deller, K. Foger, Y. Ramprakash, J. P. Zhang // Solid State Ionics. Vol. 99. - 1997. - p. 297-310.

51. IUe4)Tejib H.T. TepMope3HCrropbi / H. T. LLIe^rejib. M.: FlayKa, 1973. - 397 c.

52. Stevenson J. W. SOFC Interconnects & Coatings / J. W. Stevenson, Z. G. Yang, G. G. Xia, G. D. Maupin, X. S. Li, P. Singh // 7th Annual SECA Workshop and Peer Review, Philadelphia, 2006.

53. Yang Z. (Mn,Co)304 spinel coatings on ferritic stainless steels for SOFC interconnect applications / Z. Yang, G.-G. Xia, X.-FI. Li, J. W. Stevenson // International Journal of Hydrogen Energy. Vol. 32. - No. 16. - 2007. - p. 3648-3654.

54. Бобров Г. В. Нанесение неорганических покрытий / Г.В.Бобров, А.А.Ильин. М.: Интермет Инжиниринг, 2004. - 623 с.

55. Костржицкий А. И. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме / А.И.Костржицкий, В.Ф.карпов, М.П.Кабанченко,

56. Н.Соловьева, и др. М.: Машиностроение, 1991. - 176 с.

57. Устройства магнетронного распыления АВ 5100/ АВ 5200: Техническое описание и инструкция по эксплуатации. ООО «АВАКС», г. Санкт-Петербург, 2011.

58. Martin P. М. Handbook of Deposition Technologies for Films and Coatings / P.M.Martin. William Andrew, 2010. - 912 p.

59. Sen D. Reference Book on Chemical Engineering / D. Sen. New Delhi: New Age International (P) Ltd, 2005. - 352 p.

60. Han S. M. Study of surface reactions during plasma enhanced chemical vapor deposition of Si02 from SiH4, 02, and Ar plasma / S. M. Han, E. S. Aydil // Journal of Vacuum Science and Technology A. Vol. 14. - No. 4. - 1996. - p. 2062-2070.

61. Hsieh W. Characteristics of low-temperature and low-energy plasma-enhanced chemical vapor deposited Si02 / W. Flsieh, C. Y. Chang, S. C. Hsu // J. Appl. Phys. Vol. 74. - 1993. - p. 2638-2648.

62. Rats D. Mechanical properties of plasma-deposited SiOxNy coatings on polymer substrates using low load carrying capacity techniques / D. Rats, L. Martinu, J. von Stebut // Surface and Coatings Technology. Vol. 123. - No.1.- 2000.-p. 36-43.

63. Martinu L. Plasma deposition of optical films and coatings: A review / L.

64. Martinu, D. Poitras // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 18. - No. 6. - 2000. - p. 2619-2645.

65. Kim J.-K. Characterization and preparation of Si02 and SiOF films using an RF PECVD technique from TE0S/02 and TE0S/02/CF4 precursors / J.-K. Kim, S.-H. Jeong, B.-S. Kim, S.-H. Shim // Journal of Physics D. Vol. 37. -No. 17. -2004. - p. 2425-2431.

66. Lee H. Radio frequency source power-induced ion energy impact on SiN films deposited by using a pulsed-PECVD in SiH4-N2 plasma at room temperature / H. Lee, B. Kim, S. Kwon // Current Applied Physics. Vol. 10. -No. 3.-2010.-p. 971-974.

67. Choi D. The Study of dielectric constant change of a-SiC:H films deposited by remote PECVD with low deposition temperatures / D. Choi, S. Cho // Journal of the Korean Physical Society. Vol. 55. - No. 5. - Part 1. - 2009. - p. 1920-1924.

68. Wang M. Influence of substrate bias on the composition of SiC thin films fabricated by PECVD and underlying mechanism / M. Wang, X. G. Diao, A. P. Huang, P. K. Chu, Z. Wu // Surface and Coatings Technology. Vol. 201. -No. 15.- 2007. - p. 6777-6780.

69. Fourches N. Influence of hydrocarbon gasses on PECVD a-C:H film deposition / N. Fourches, G. Turban // Plasmas and Polymers. Vol. 1. - No. 1. - 1996. - p. 47-64.

70. De Barros M. I. Plasma-assisted chemical vapor deposition process for depositing smooth diamond coatings on titanium alloys at moderate temperature / M.I. De Barros, L. Vandenbulcke // Diamond and Related

71. Materials. Vol. 9. - 2000. - p. 1862-1866.

72. Borges C. F. M. A novel technique for diamond film deposition using surface wave discharge / C. F. M. Borges, M. Moisan, A. Gicquel // Diamond and Related Materials. Vol. 4. - 1995.-p. 149-154.

73. Konyashin I. Plasma-Assisted CVD of Cubic Boron Nitride / I. Konyashin, J. Bill, F. Aldinger // Chem. Vap. Deposition. Vol. 3. No. 5. - 1997. - p. 239255.

74. Szymanowski H. Optical properties and microstructure of plasma deposited Ta205 and Nb205 films / FI. Szymanowski, O. Zabeida, J. E. Klemberg-Sapieha, L. Martinu // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 23. - No. 2. - 2005. - p. 241-247.

75. Itoh K.-I. Deposition process of metal oxide thin films by means of plasma CVD with (3-diketonates as precursors / K.-I. Itoh, O. Matsumoto // Thin Solid Films. Vol. 345. - No. 1. - 1999. - p. 29-33.

76. Patscheider J. Plasma-induced deposition of thin films of aluminum oxide / J. Patscheider, S. Veprek // Plasma Chemistry and Plasma Processing. Vol. 12. -No. 2,- 1992.-p. 129 - 145.

77. Henley W. B. Deposition of Electrochromic Tungsten Oxide Thin Films by Plasma-Enchansed Chemical Vapor Deposition / W. B. Henley, G. J. Sacks // J. Eclectrochem. Soc. Vol. 144. - No. 3. - 1997. - p. 1045-1050.

78. Струнин В. И. Моделирование процесса разложения силана в высокочастотной плазме / В. И. Струнин, А. А. Ляхов, Г. Ж. Худайбергенов, В. В. Шкуркин // ЖТФ. Т. 72. - № 6. - 2002. - с. 109-114.

79. Hellmich A. CVD-process by hollow cathode glow discharge / A. Hellmich,

80. Т. Jung, A. Kielhorn, М. Ribland // Surf. Coat. Technol. Vol. 98. - 1998. - p. 1541-1546.

81. Gorczyca Т. B. Plasma-enchanced chemical vapor deposition of dielectrics / Т. B. Gorczyca, B. Gorowitz // VLSI Electronics, Microstructure Science. -Vol. 8. 1984. - p. 69-88.

82. Leonhardt D. Plasma enhanced surface treatment using electron beam-generated plasmas / D. Leonhardt, C. Muratore, S. G. Walton, R. A. Meger // Surf. Coat. Technol. Vol. 188-189. - 2004. - p. 299-306.

83. Handbook of thin film deposition: process and techiques / под ред. К. Seshan. New York: NoyesPublications, 1988. - 413 p.

84. Zaharia T. Fast deposition of diamond-like hydrogenated carbon films / T. Zaharia, J. L. Sullivan, S. O. Saied, R. С. M. Bosch, M. D. Bijker // Diamond & Related materials. Vol. 16. - 2007. - p. 623-629.

85. Donnet C. tribochemistry of diamond-like carbon coatings in various environments / C. Donnet, M. Belin, J. C. Auge, J. M. Martin, A. Grill, V. Patel // Surface and Coatings Technology. Vol. 68-69. - 1994. - p. 626-631.

86. Oliver W. C. Improved technique for determining hardness and elastic modulus using load and displacement sensing indentation experiments / W. C. Oliver, G. M. Pharr//J. Mater. Res. Vol. 7. - No. 6. - 1992. - p. 1564-1580.

87. Sepold G. Influence of UV-laser radiation on the synthesis of DLC films by ECR-plasma-CVD / G. Sepold, A. Stephen, S. Metev // Diamond and Related Materials. Vol. 8. - No. 8-9. - 1999. - p. 1677-1681.

88. Koskinen J. Wear and hardness of diamondlike coatings prepared by ion beam deposition / J. Koskinen, J.-P. Hirvonen, A. Anttila // Appl. Phys. Lett. Vol. 47. - No. 9. - 1985. - p. 941.

89. Dai M. The cutting performance of diamond and DLC-coated cutting tools / M. Dai, K. Zhou, Z. Yuan, Q. Fu Ding // Diamond and Related Materials. -Vol. 9. 2000. - p. 1753-1757.

90. Sato T. Anti-galling property of a diamond-like carbon coated tool in aluminium sheet forming / T. Sato, T. Besshi, I. Tsutsui, T. Morimoto // J. Mater. Proc. Technol. Vol. 104. - 2000. - p. 21-24.

91. Azzi M. Corrosion performance and mechanical stability of 316/DLC coating system: Role of interlayers / M. Azzi, P. Amirault, M. Paquette, J. E. Klemberg-Sapieha, L. Martinu // Surface & Coatings Technology. Vol. 204 -2010.-p. 3986-3994.

92. Sheeja D. Feasibility of diamondlike carbon coatings for orthopaedic applications / D. Sheeja, B. K. Tay, L. N. Nung // Diamond and Related Materials. Vol. 13. - 2004. - p. 184-190.

93. Shi B. Tribological performance of some alternative bearing materials for artificial joints / B. Shi, O. O. Ajayi, G. Fenske, A. Erdemir, Fl. Liang // Wear. -Vol. 255.- 2003.-p. 1015-1021.

94. Roy R. K. Biomedical Applications of Diamond-Like Carbon Coatings: A Review / R. K. Roy, K.-R. Lee // J. Biomed. Mater. Res. Part B. Vol. 83B. -2007. - p. 72-84.

95. Nitta Y. Development of Novel DEC Film using Plasma Tecnique for Medical Material / Y. Nitta, K. Okamoto, T. Nakatani, A. Mochizuki // J. Potopolymer Sci. and Technol. Vol. 23. - No. 2. - 2010. - p. 245-250.

96. Bobzin K. Plasma coatings CrAIN and a-C:Fl for high efficient power train in automobile / K. Bobzin, N. Bagcivan, S. Theiss, K. Yilmaz // Surface & Coatings Technology. Vol. 205. - 2010. - p. 1502-1507.

97. Kano M. Super low friction of DLC applied to engine cam follower lubricated with ester-containing oil / M. Kano // Tribology International. Vol. 39. - No. 12.-2006. - p. 1682-1685.

98. Hershberger J. Evaluation of DLC coatings for spark-ignited direct-injected fuel systems / J. Hershberger, O. Ozturk, J. B. Ajayi, J. B. Woodford, A. Erdemir, R. A. Erck, G. R. Fenske // Surface and Coatings Technology. Vol.179.- 2004.-p. 237-244.

99. Franklin S. E. Conditions affecting the sliding tribological performance of selected coatings for high vacuum bearing applications / S. E. Franklin, J. Baranowska // Wear. Vol. 263. - 2007. - p. 1300-1305.

100. Kano M. Wear mechanism of high wear-resistant materials for automotive valve trains / M. Kano, I. Tanimoto // Wear Vol. 151. - No. 2. - 1991. - p. 229-243.

101. Cruz R. DLC ceramic multilayers for automotive applications / R. Cruz, J. Rao, T. Rose, K. Lawson, J. R. Nicholls // Diamond and Related Materials. -Vol. 15. 2006. - p. 2055-2060.

102. Jiang J. C. Structure and mechanics ofW-DLC coated spur gears / J. C. Jiang, W. J. Meng, A. G. Evans, C. V. Cooper // Surface and Coatings Technology. -Vol. 176. 2003. - p. 50-56.

103. Kalin M. The tribological performance of DLC-coated gears lubricated with biodegradable oil in various pinion/gear material combinations / M. Kalin, J. Vizintin // Wear. Vol. 259. - 2005. - p. 1270-1280.

104. Gahlin R. Me-C:FI coatings in motor vehicles / R. Gahlin, M. Larsson, P. Hedenqvist // Wear. Vol. 249. - 2001. - p. 302-309.

105. Patsalas P. Optical properties of amorphous carbons and their applications and perspectives in photonics // Thin Solid Films. Vol. 519. - 2011. - p. 39903996.

106. Tamuleciciene A. Multilayer amorphous hydrogenated carbon (a-C:H) and SiOx doped a-C:FI films for optical applications / A. Tamuleciciene, S. Meskinis, V. Kopustinskasm, S. Tamulevicius // Thin Solid Films. Vol. 519.-2011.-p. 4004-4007.

107. Semenenko M. Electrical conditioning of diamond-like carbon films for the formation of coated field emission cathodes / M. Semenenko, G. Okrepka, O. Yilmazoglu, H. L. Hartnagel, D. Pavlidis // Appl. Surf. Sci. Vol. 257. - 2010. -p. 388-392.

108. Wang S.-F., Investigation of nitrogen doped diamond-like carbon films as counter electrodes in dye sensitized solar cells / S.-F. Wang, K. Rao, T. Yang, H.-P. Wang// J. Alloys and Compounds. Vol. 509. - 2011. - p. 1969-1974.

109. Casiraghi C. Diamond-like carbon for data nad beer storage / C. Casiraghi, J. Robertson, A. C. Ferrari // Materialstoday. Vol. 10. - No. 1-2. - 2007. - p. 44-53.

110. Tan A. H. Corrosion and tribological properties of ultra-thin DLC films with different nitrogen contents in magnetic recording media // Diamond and Related Materials. Vol. 16. - 2007. - p. 467-472.

111. Numata T. Chemical analysis of wear tracks on magnetic disks by TOF-SIMS / T. Numata, H. Nanao, S. Mori, S. Miyake // Tribol. Int. Vol. 36. - 2003. -p. 305-309.

112. Yang L. The influence of the structures and compounds of DLC coatings on the barrier properties of PET bottles / L. Yang, Z.-D. Wang, S.-Y. Zhang, L.-Z. Yang, Q. Chen // Chinese Physics B. Vol. 18. - No. 12. - 2009. - p. 54015405.

113. Tsai P.-C. Evaluation of microstructures and mechanical properties of diamond like carbon films deposited by filtered cathodic arc plasma / P.-C. Tsai, K.-H. Chen // Thin Solid Films. Vol. 516. - No. 16. - 2008. - p. 54405444.

114. Park Y. S. Structural and tribological properties of nitrogen doped amorphous carbon thin films synthesized by CFUBM sputtering method for protective coatings / Y. S. Park, B. Hong // Applied Surface Science. Vol. 255. - 2009. -p. 3913-3917.

115. Yeldose B. C. Characterization of DC magnetron sputtered diamond-like carbon (DLC) nano coating / B. C. Yeldose, B. Ramamoorthy// Int. J. Adv. Manuf. Technol. Vol. 38. - 2008. - p. 705-717.

116. Bugaev S. P. Properties of diamondlike films obtained in a barrier discharge at atmospheric pressure / S. P. Bugaev, A. D. Korotaev, K. V. Oskomov, N. S. Sochugov // Technical Physics. Vol. 42. - No. 8. - 1997. - p. 945-949.

117. Grill A. Diamondlike carbon films by rf plasma assisted chemical vapor deposition from acetylene / A. Grill, B. S. Meyerson, V. V. Patel // IBM J. Res. Develop. Vol. 34. - No. 6. - 1990. - p. 849-857.

118. Veerasamy V. S. Diamond-like amorphous carbon coatings for large areas of glass / V. S. Veerasamy, H. A. Luten, R. H. Petrmichl, S. V. Thomsen // Thin Solid Films. Vol. 442. - 2003. - p.1-10.

119. Silinskas M. Hydrogen influence on the structure and properties of amorphous hydrogenated carbon films deposited by direct ion beam / M. Silinskas, A. Grigonis, V. Kulikauskas, I. Manika // Thin Solid Films. Vol. 516. - No. 8. -2008. - p. 1683-1692.

120. Pan Y.Q. Diamond-like carbon films with End-Hall ion source enhanced chemical vapour deposition / Y. Q. Pan, Y. Yin // Diamond and Related

121. Materials. Vol. 16. - 2007. - p. 220-224.

122. Laegreid N. Sputtering yields of metals for ar+ and ne+ ions with energies from 50 to 600 eV / N. Laegreid, G. K. Wehner // J. Appl. Phys. Vol. 32. -No. 3. - 1961. - p. 365-369.

123. Casiraghi C. Raman spectroscopy of hydrogenated amorphous carbons / C. Casiraghi, A. C. Ferrari, J. Robertson // Phys. Rev. B. Vol. 72. - No. 8. -2005. - p. 085401.

124. Ferrari A. C. Interpretation of Raman spectra of disordered and amorphous carbon / A. C. Ferrari, J. Robertson // Phys. Rev. B. Vol. 61. - No. 20. -2000. - p. 14095-14107.

125. Ferrari A. C. Diamond-like carbon for magnetic storage disks // Surface and Coatings technology. Vol. 180-181. - 2004. - p. 190-206.

126. Voevodin A. A. Pulsed laser deposition of diamond-like carbon wear protective coatings: A review / A. A. Voevodin, M. S. Donley, J. S. Zabinski // Surface and Coatings Technology. Vol. 92. - No. 1-2. - 1997. - p. 42-49.

127. Schwan J. Tetrahedral amorphous carbon films prepared by magnetron sputtering and dc ion plating / J. Schwan, S. Ulrich, FI. Roth, H. Ehrhardt, S.

128. R. P. Silva, J. Robertson, R. Samlenski, R. Brenn // J. Appl. Phys. Vol. 79. -No. 3. - 1996. - p. 1416-1422.

129. Anders S. Thermal stability of amorphous hard carbon films produced by cathodic arc deposition / S. Anders, J. Diaz, J. W. Agerlll, R. Y. Lo, D. B. Bogy//Appl. Phys. Lett. Vol. 71. - No. 23. - 1997. - p. 3367-3369.

130. Robertson J. Diamond-like amorphous carbon// J. Mater. Sci. Eng. R. Vol. 37.- 2002.-p. 4-6.

131. Tamor M. A. Atomic constraint in hydrogenated "diamond-like" carbon / M. A. Tamor, W. C. Vassell, K. R. Carduner // Appl. Phys. Lett. Vol. 58. - No. 6. - 1991. - p. 592-594.

132. Yoon S. F. Modeling and analysis of the electron cyclotron resonance diamond-like carbon deposition process / S. F. Yoon, K. H. Tan, J. Ahn. Rush // J. Appl. Phys. Vol. 91. - No. 3. - 2002. - p. 1634.

133. Schwarz-Selinger T. Plasma chemical vapor deposition of hydrocarbon films: Yhe influence of hydrocarbon source gas on the film properties / T. Schwarz-Selinger, A. Von Keudell, W. Jacob // J. Appl. Phys. Vol. 86. - No. 7. -1999. - p. 3988-3996.

134. Ferrari A. C. Elastic constants of tetrahedral amorphous carbon films by surface Brillouin scattering / A. C. Ferrari, J. Robertson, M. G. Beghi, C. E. Bottani, R. Ferulano, R. Pastorelli // Appl. Phys. Lett. Vol. 75. - No. 13.1999. p. 1893-1895.

135. Morrison N. A. High rate deposition of ta-C:H using an electron cyclotron wave resonance plasma source / N. A. Morrison, S. E. Rodil, A. C. Ferrari, J. Robertson, W. I. Milne // Thin Solid Films. Vol. 337. - No. 1-2. - 1999. - p. 71-73.

136. Weiler M. Deposition of tetrahedral hydrogenated amorphous carbon using a novel electron cyclotron wave resonance reactor / M. Weiler, K. Lang, E. Li, J. Robertson//Appl. Phys. Lett. Vol. 72. - No. 11. - 1998. - p. 1314-1316.

137. Popescu B. Hydrogen incorporation and its structural effect on a-C:H films deposited by magnetron sputtering / B. Popescu, A. Tagliaferro, F. De Zan, E. A. Davis // J. Non-Cristalline Solids. Vol. 266-269. - Part B. - 2000. - p. 803-807.

138. Adamopoulos G. Flydrogen content estimation of hydrogenated amorphous carbon by visible Raman spectroscopy / G. Adamopoulos, J. Robertson, N. A. Morrison, C. Godet // J. Appl. Phys. Vol. 96. - No. 11. - 2004. - p. 63486352.

139. Moon M.-W. An experimental study of the influence of imperfections on the buckling of compressed thin films / M.-W.Moon, J.-W. Chung, K.-R. Lee, K. H. Oh, R. Wang, A. G. Evans // Acta Materialia. Vol. 50. - 2002. - p. 1219— 1227.

140. Horiuchi T. Evaluation of Adhesion and Wear resistance of DLC Films Deposited by Various Methods / T. Horiuchi, K. Yoshida, M. Капо, M. Kumagai, T. Suzuki // Plasma Process. Polym. Vol. 6. - 2009. - p. 410-416.

141. Robertson J. Deposition mechanisms for promoting sp3 bonding in diamondlike carbon // Diamond and Related Materials. Vol. 2. - No. 5-7. - 1993. - p. 984-989.

142. Utsumi T. Effect of a hard supra-thick interlayer on adhesion of DLC film prepared with PBIID process / T. Utsumi, Y. Oka, E. Fujiwara, M. Yatsuzuka // Nucl. I strum. Mech. Phys. res. B. Vol. 257. - No. 1-2. - 2007. - p. 706-709.

143. Fan Q. H. Adherent diamond coating on copper using an interlayer / Q. H. Fan, A. Fernandes, E. Pereira, J. Gracio // Vacuum. Vol. 52. - No. 1-2. -1999. - p. 193-198.

144. Wang P. Comparing internal stress in diamond-like carbon films with different structure / P. Wang, X. Wang, T. Xu, W. Liu, J. Zhang // Thin Solid Films. Vol. 515. - No. 17. - 2007. - p. 6899-6903.

145. Ali N. Chromium interlayers as a tool for enchancing diamond adhesion on copper / N. Ali, W. Ahmed, C. A. rego, Q. H. Fan // Diamond and Related Materials. Vol. 9. - No. 8. - 2000. - p. 1464-1470.

146. Wang D.-Y. Study on metal-doped diamond-like carbon films synthesized by cathodic arc evaporation / D.-Y. Wang, K.-W. Weng, S.-Y. Hwang // Diamond and related Materials. Vol. 9. - No. 9. - 2000. - p. 1762-1766.

147. Gerth J. The influence of metallic interlayers on the adhesion of PVD TiN coatings on high-speed steel / J. Gerth, U. Wiklund // Wear. Vol. 264. - No.9.10.- 2008. p. 885-892.

148. Pauleau Y. Residual stresses in DLC films and adhesion to various substrates / под ред. С. Donnet, A. Erdemir. Tribology of Diamond-Like Carbon Films. - Springer, 2008.- 664 p.

149. Liu D. G. Improving mechanical propeeties of a-CNx films by Ti-TiN/CNx gradient multilayer / D. G. Liu, J. P. Tu, C. F. Hong, C. D. Gu, Y. J. Mai, R. Chen // Appl. Surf. Sci. Vol. 251.- 2010. - p. 487-494.

150. Oka Y. Effect of ion implantation layer on adhesion of DLC film by plasma-based ion implantation and deposition / Y. Oka, M. Nishijima, K. Hiraga, M. Yatsuzuka // Surface and Coatings Technology. Vol. 201. - 2007. - p. 66476650.

151. Yatsuzuka M. Microstructure of interface for high-adhesion DLC film on metal substrates by plasma-based ion implantation / M. Yatsuzuka, Y. Oka, M. Nishijima, K. Hiraga// Vacuum. Vol. 83. - 2009. - p. 190-197.

152. Tiainen V.-M. In situ surface oxide reduction with pulsed arc discharge for maximum adhesion of diamond-like carbon coatings / V.-M. Tiainen, A. Soininen, E. Alakoski, Y. T. Konttinen // Diamond and Related Materials. -Vol. 17. 2008. - p. 2071-2074.

153. Chen K.-W. The study of adhesion and nonomechanical properties of DLC films deposited on tool steels / K.-W. Chen, J.-F. Lin// Thin Solid Films. -Vol. 517.- 2009.-p. 4916-4920.

154. Podgornik B. Friction and wear properties of DLC-coated plasma nitrided steel in unidirectional and reciprocating sliding / B. Podgornik, J. Vizintin, H. Ronkainen, K. Holmberg // Thin Solid Films. Vol. 377-378. - 2000. - p. 254260.

155. Ham M. Diamond-like carbon films grown by large-scale DC plasma CVD reactor: system, design, film characteristics and applications / M. Ham, K. A. Lou// J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 8. - No. 3. - 1990. - p. 2143-2149.

156. Anders A. Physics of arcing, and implications to sputter deposition // Thin Solid Films. Vol. 502. - No. 1-2. - 2006. - p. 22-28.

157. Sproul W. D. Control of reactive sputtering processes / W. D. Sproul, D. J. Christie, D. C. Carter // Thin Solid Films. Vol. 491. - 2005. - p. 1-17.

158. Jonsson L. B. Frequency response in pulsed DC reactive sputtering processes / L. B. Jonsson, T. Nyberg, I. Katardjiev, S. Berg // Thin Solid Films. Vol. 365.- 2000.-p. 43-48.

159. Kelly P. J. Pulsed DC titanium nitride coatings for improved tribological performance and tool life / P. J. Kelly, T. Braucke, Z. Liu, R. D. Arnell, E. D. Doyle // Surface and Coatings Technology. Vol. 202. - No. 4-7. - 2007. - p. 774-780.

160. Belkind A. Mid-frequency reactive sputtering of dielectrics: A1203 / A. Belkind, A. Freilich, G. Song, Z. Zhao, R. Scholl, E. Bixon // Surface and Coatings Technology. Vol. 174-175. - 2003. - p. 88-93.

161. Robertson J. Mechanism of sp3 bond formation in the growth of diamond-like carbon // Diamond & Related Materials. Vol. 14. - 2005. - p. 942-948.

162. Лахтин Ю. M. Химико-термическая обработка металлов / Ю. М. Лахтин, Б. Н. Арзамасов. М.:Металлургия, 1985. - 256 с.

163. Григорович В. К. Электронное строение и термодинамика сплавов железа. М.: Наука, 1970. - 292 с.

164. Панайоти Т. А. Создание максимальной насыщающей способности газовой среды при ионном азотировании сплавов // Физика и химияобработки материалов. Т. 4. - 2003. - с. 70-78.

165. Beer P. Low temperature ion nitriding of the cutting knives made of HSS / P. Beer, J. Rudnicki, S. Bugliosi, A. Sokolowska, E. Wnukowski // Surf. Coat. Technol. Vol. 200. - 2005. - p. 146-148.

166. Jie Z. Fabrication of functionally graded Ti(C,N)-based cermets by double-glow plasma carburization / Z. Jie, Z. Young, Y. Quan, Z. Yixin, Y. Lixin // Int. Journal of Refractory Metals & Hard Materials. Vol. 27. - 2009. - p. 642-646.

167. Ахмадеев IO. X. Азотирование технического чистого титана в тлеющем разряде с полым катодом / IO. X. Ахмадеев, И. М. Гончаренко, Ю. Ф. Иванов, Н. Н. Коваль, П. М. Щанин // Письма в ЖТФ. Т. 31. - В. 13. -2005. - с. 24-30.

168. Андреев А. А. Азотирование сталей в газовом дуговом разряде низкого давления / А. А. Андреев, В. М. Шулаев, JI. П. Саблев // ФИП. Т. 4. - № 3-4. - 2006. - с. 191-197.

169. Manova D. Influence of annealing conditions on ion nitriding of martensitic stainless steel / D. Manova, S. Mandl, H. Neumann, B. Rauschenbach // Surf. Coat. Technol. Vol. 200. - 2006. - p. 6563-6567.

170. Muratore С. Low-temperature nitriding of stainless steel ia an electron beam generated plasma / C. Muratore, D. Leonhardt, S. G. Walton, D. D. Blackwell, R. F. Femsler, R. A. Meger // Surf. Coat. Technol. Vol. 191. - 2005. - p. 255-262.

171. Zhecheva A. Enchancing the microstructure and properties of titanium alloys through nitriding and other surface engineering methods / A. Zhecheva, W. Sha, S. Malinov, A. Long // Surf. Coat. Technol. Vol. 200. - 2005. - p. 21922207.

172. Вульф Б. К. Термическая обработка титановых сплавов. М.:Металлургия, 1969. 376 с.

173. Пастух И. М. Теория и практика безводородного азотирования в тлеющем разряде. Харьков: ННЦ ХФТИ, 2006. - 304 с.

174. Лахтин Ю. М. Теория и технология азотирования: Монография / Ю. М. Лахтин, Я. Д. Коган, Г. Шпис, 3. Бемер М.: Металлургия, 1991. - 320 с.

175. Kolbel J. Die Nitridschitbildung beider Glimmnitricrung// Forschungsberichte des Landes Nordrhein-Westfalen. Bd. 1555.- 1965. - s. 1-19.

176. Keller K. Jonnitriren steurbare Oberflachcnver festigung durch Jonnitriren// Technishe Rundshau. Bd. 63. - №. 37. - 1971 - s. 33-39.

177. Edenhofer B. Physikalishe und metallkundlichhe Vorgange beim Nitriren in Plasma einer Glimmentladung // Harterci-Technishe Mitteilungen. Bd. 29. -№ 2,- 1974.-s. 105-112.

178. Арзамасов Б.Н. Ионная химико-термическая обработка сплавов: Монография / Б. Н. Арзамасов, А. Г. Братухин, Ю. С. Елисеев, Т. А. Панайоти. М.: Изд. МГТУ им Баумана, 1999. - 400 с.

179. Крейндель Ю. Е. Об азотировании анода в тлеющем разряде / Ю. Е. Крейндель, Л. П. Пономарёва, В. П. Пономарёв, А. И. Слосман // Электронная обработка материалов. № 4. - В. 118. - 1983. - с. 32-34.

180. Tibbetts G. G. Role of nitrogen atoms in "ion-nitriding" // J. Appl. Phys. Vol45.-No. П. 1974.-p. 5072-5073.

181. Андреев А.А. Азотирование стали в плазме модифицированного вакуумно-дугового разряда / А. А. Андреев, В. В. Кунченко, Л. П. Саблев, Р. И. Ступак, В. М. Шулаев // Технология машиностроения. № 5.- 2002.-с. 27-30.

182. Неровный Е. А. Азотирование поверхности титановых сплавов дуговой плазмой низкого давления / Е. А. Неровный, 13. В. Перемитько // ФХОМ. -Т. 3. 1995. - с. 49-54.

183. Cao Z. X. Effect of concurrent N2+ and N+ ion bombardment on the plasmaassisted deposition of carbon nitride thin film / Z. X. Cao, H. Oechsner // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 22. - No. 2. - 2004. - p .321-323.

184. Walton S.G. Electron-beam-generated plasmas for materials processing / S. G. Walton, C. Muratore, D. Leonhardt, R. F. Fernsler, D. D. Blackwell, R. A. Meger// Surface & Coatings Technology. Vol. 186. - 2004. - p. 40-46.

185. Oechsner H. Process controlled microstructural and binding properties of hard physical vapor deposition films // J.Vac.Sci.Technol. A. Vol. 16. - No. 3. -1998. - p. 1956-1962.

186. Szabo A. Zum Mechanismus der Nitrierung von Stahloberflachen in Gleichspannungsglimmentladungen / A. Szabo, H. Wilhelmi // HartereiTechnische Mitteilungen. Bd. 39. -№ 4. - 1984. - p. 148-154.

187. Lutz J. Nitrogen diffusion in medical CoCrNiW alloys after plasma immersion ion implantation / J. Lutz, A. Lehmann, S. Mandl // Surface & Coatings technology. Vol. 202. - 2008. - p. 3747-3753.

188. Колобов Ю. P. Технология формирования структуры и свойств титановых сплавов для медицинских имплантатов с биоактивными покрытиями / // Российские нанотехнологии. Т. 4. - № 9-10. - 2009. - с. 19-31.

189. Lo К. Н. Recent developments in stainless steels / К. H. Lo, С. H. Shek, J. К.

190. Lai // Materials Science and Engineering R. Vol. 65. - 2009. - p. 39-104.

191. Xi Y. Improvement of erosion and erosion-corrosion resistance of AISI420 stainless steel by low temperature plasma nitriding / Y. Xi, D. Liu, D. Han // Applied Surface Science. Vol. 254. - 2008. - p. 5953-5958.

192. Meletis E. I. Intensified plasma-assisted processing: science and engineering // Surf. Coat. Technol. Vol. 149. - 2002. - p. 95-113.

193. Ochoa E. A. The influence of tthe ion current density on plasma nitriding process / E. A. Ochoa, C. A. Figueroa, F. Alvarez // Surface & Coatings Technology. Vol. 200. - 2005. - p. 2165-2169.

194. Moller W. Surface processes and diffusion mechanisms of ion nitriding of stainless steel and aluminium / W. Moller, S. Parascandola, T. Telbizova, R. Gunzel, E. Richter// Surf. Coat. Technol. Vol. 136. - 2001. - p. 73-79.

195. Singh G. P. Effect of surface roughness on the properties of the layer formed on AISI304 sainless steel after plasma nitriding / G. P. Singh, J. Alphonsa, P.

196. К. Barhai, P. A. Rayjada, P. M. Raole, S. Mukherjee // Surface & Coatings Technology. Vol. 200. - 2006. - p. 5807-581 1.

197. Kwon S. C. Geometric Effect of Ion Nitriding on the Nitride Growth Behavior in Hollow Tube / S. C. Kwon, M. J. Park, W. S. Baek, G. H. Lee // Journal of Materials Engineering and Performance. Vol. 1. - No. 3. - 1992. - p. 353358.

198. Rolinski E. Negative Effects of Reactive Sputtering in an Industrial Plasma Nitriding / E. Rolinski, J. Armer, G. Sharp // Journal of Materials Engineering and Performance. Vol. 14. - No. 3. - 2005. - p. 344-350.

199. Pogrelyuk I. N. On the problem of intensification of nitriding of titanium alloys // Metal Science and Heat Treatment. Vol. 41. - No. 5-6. - 1999. - p. 242-245.

200. Szabo A. Mass Spectrometric Diagnosis of the Surface Nitriding Mechanism in a D.C. Glow Discharge / A. Szabo, H. Wilhelmi // Plasma Chemistry and Plasma Processing. Vol. 4. - No. 2. - 1984. - p. 89-105.

201. Визирь А. В. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных ионных источников / А. В. Визирь, Е. М. Оке, П. М. Щанин, Г. Ю. Юшков // ЖТФ. В. 67. - № 6. - 1997. - с. 27-31.

202. Гаврилов Н. В. Осаждение алмазоподобных покрытий в несамостоятельном разряде с плазменным катодом / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев, А. С. Кайгородов // Письма в ЖТФ. В. 35. - № 1. - 2009. - с. 69-75.

203. Мустафаев А. С. Динамика электронных пучков в плазме // ЖТФ. Т. 71.-В. 4.-2001.-с. 111-121.

204. Leonhardt D. Fundamentals and applications of a plasma-processing system based on electron-beam ionization / D. Leonhardt, S. G. Walton, R. F. Fernsler // Physics of Plasmas. Vol. 14. - 2007. - p. 057103.

205. Halas St. Cross sections for the production of N2+, N+ and N2 2+ from nitrogen by electrons in the energy range 16-600 eV / St. Halas, B. Adamczyk // Int. J. Mass Spectrometry and Ion Phys. Vol. 10. - 1972. - p. 157-160.

206. Schram B. L. Ionization cross sections for electrons (0,6-20 keV) in noble and diatomic gases / B. L. Schram, F. J. de Heer, M. J. Van der Wiel, J. Kistemaker // Physica. Vol. 31,- 1965. - p. 94-112.

207. Tian C. Electron impact ionization of N2 and 02: contributions from different dissociation channels of multiply ionized molecules / C. Tian, C. R. Vidal // J. Phys. B. Vol. 31. - 1998. - p. 5369-5381.

208. Abraha P. Surface modification of steel surfaces by electron beam excited plasma processing / P. Abraha, Y. Yoshikawa, Y. Katayama // Vacuum. Vol. 83. -2009. - p. 497-500.

209. Оке E. M. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск: изд-во НТЛ, 2005. - 216 с.

210. Thornton J. A. High rate thick film growth // Annual Review of Materials science. Vol. 7. - 1977. - p. 239-260.

211. Messier R. Revised structure zone model for thin film physical structure / R. Messier, A. P. Giri, R. A. Roy // J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 2. - No. 2. -1984. - p. 500-503.

212. Kelly P. J. Development of a novel structure zone model relating to the closed-field unbalanced magnetron sputtering system / P. J. Kelly, R. D. Arnell// J. Vac. Sci. Technol. A. Vol. 16. - No. 5. - 1998. - p. 2858-2869.

213. Musil J. Reactive sputtering of TiN films at large substrate to target distances / J. Musil, S. Kadlec // Vacuum. Vol. 40. - № 5. - 1990. - p. 435-444.

214. Spatenka P. A comparison of internal plasma parameters in a conventional planar magnetron and a magnetron with additional plasma confinement / P. Spatenka, I. Leipner, J. Vicek, J. Musil // Plasma Sources Sci. Technol. Vol. 6. - 1997. - p. 46-52.

215. Chen X. Cr-doped DLC multilayered thin films depositited using cathodic vacuum arc- and DC magnetron-assisted ion beam sputtering / X. Chen, Z. Peng, Z. Fu, C. Wang // Advanced Materials research. Vol. 105-106. - 2010. -p. 429-431.

216. Bather K.-FI. Ion-beam-assisted deposition of magnetron-sputtered metal nitrides / K.-H. Bather, U. Herrmann, A. Schroer // Surface anbd Coatings Technology. Vol. 74-75. - 1995. - p. 793-801.

217. Kaufman PI. R. End-Hall ion source / H. R. Kaufman, R. S. Robinson, R. Seddon//J. Vac. Sci. Technol A. Vol. 5. - No. 4. - 1987. - p. 2081-2084.

218. Свирин В. Т. Формирование пучка равномерной плотности в холловском ионном источнике с открытым торцом / В. Т. Свирин, А. И. Стогний // Приборы и техника эксперимента. Т. 5. - 1996. - с. 103-105.

219. Berg S. Fundamental understanding and modeling of reactive sputtering processes / S. Berg, T. Nyberg // Thin Solid Films. Vol. 476. - 2005. - p. 215-230.

220. Mohan G. Studies on glow-disacharge characteristics during DC reactive magnetron sputtering / G. Mohan, S. Mohan // J. Appl. Phys. Vol. 69. - No. 9. - 1991. - p. 6652-6655.

221. Ball D. J. Plasma Diagnostics and Energy Transport of a DC Discharge Used for Sputtering // J. Appl. Phys. Vol. 43. - No. 7. - 1972. - p. 3047-3057.

222. Brylewski T. Application of Fe-16Cr ferritic alloy to interconnect for a solid oxide fuel cell / T. Brylewski, M. Nanko, T. Maruyama, K. Przybylski // Solid State Ionics.-Vol. 143. 2001. - p. 131-150.

223. Fergus J. W. Metallic interconnects for solid oxide fuel cells // Materials science and Engineering A. Vol. 397. - 2005. - p. 271-283.

224. Балакирев В. Ф. Маиганиты: равновесные и нестабильные состояния / В. Ф. Балакирев, В. FI. Бархатов, Ю. В. Голиков, С. Г. Майзель. -Екатеинбург: УрО РАН, 2000. 397 с.

225. Rossnagel S. М. Ion beam bombardment effects during film deposition / S. M. Rossnagel, J. J. Cuomo // Vacuum. Vol. 38. - No. 2. - 1988. - p. 73-81.

226. Musil J. Ion-assisted sputtering of TiN films / J. Musil, S. Kadlec, V. Valvoda, R. Kuzel, R. Cerny // Surf. Coat. Technol. Vol. 43-44. - 1990. - p. 259-269.

227. Палатник Л.С. Поры в пленках / Л. С. Палатник, П. Г. Черемской, Я. М. Фукс. Москва: Энергоиздат, 1982. - с. 92-100.

228. Кофстад П. Высокотемпературное окисление металлов. М.: Мир, 1969. - 392 с.

229. Фролов С. Вакуумная техника: Справочник / С. Фролов, В. Е. Минайчев, А. Т. Александрова и др. М.: Машиностроение, 1992. - 480 с.

230. Гаврилов H.B. Ионный источник с крупноструктурным сеточно-плазменным катодом / Н. В. Гаврилов, Д. Р. Емлин, А. С. Каменецких // Изв. вузов. Физика. Т. 50. - № 9. - 2007. - с. 149-153.

231. Grill A. Plasma-deposited diamondlike carbon and related materials // IBM J. Res. Develop.-Vol. 43.-No. 1/2,- 1999.-p. 147-161.

232. Bremond F. Test temperature effect on the tribological behaviour of DLC-coated 100C6-steel couples in dry friction / F. Bremond, P. Fournier, F. Platon// Wear. Vol. 254. - 2003. - p. 774-783.

233. Bull S.J. Nanoindentation of coatings // J. Phys. D: Appl. Phys. Vol. 38. -2005. - p. 393-413.

234. Паршев С.Н. Микротвердость материалов: Методические указания к лабораторной работе / С. Н. Паршев, Н. Ю. Полозенко. ВолГТУ, Волгоград, 2004. - 15 с.

235. Мощенок В. И. Размерный эффект в значениях твердости материалов / В. И. Мощенок, И. В. Дощечкина, А. А. Ляпин // Вестник Харьковского национального автомобильно-дорожного университета. Т. 41. - 2008. -с. 71-77.

236. Головин Ю. И. Размерные эффекты в твердости в поликристаллическом ниобии / Ю. И. Головин, М. Г. Исаенкова, О. А. Крымская, В. М. Васюков, Р. А. Столяров, А. В. Шуклииов, Л. Е. Поляков // Письма в ЖТФ. Т. 36. - В. 8. - 2010. - с. 48-51.

237. Головин Ю. И. Введение в нанотехнику. М.: Машиностроение, 2008. -496 с.

238. Chantidis С.A. Nanomechanical and nanotribological properties of carbon-based thin films: A review // Int. Journal of Refractory Metals & Hard Materials. Vol. 28. - 2010. - p. 51 -70.

239. Casiraghi C. Bonding in hydrogenated diamond-like carbon by Raman spectroscopy / C. Casiraghi, F. Piazza, A. C. Ferrari, D. Grambole, J. Robertson // Diamond & Related Materials. Vol. 14. - 2005. - p. 1098-1102.

240. Гаврилов H. В. Расширение рабочего диапазона давлений газа и увеличение ресурса сетки плазменного катода в ионном источнике / Н. В. Гаврилов, А. С. Каменецких // ЖТФ. Т. 77. - В. 3. - 2007. - с. 12-16.

241. Гаврилов Н. В. Высокоэффективная эмиссия плазменного катода с сеточной стабилизацией / Н. В. Гаврилов, Д. Р. Гмлин, А. С. Каменецких // ЖТФ. Т. 78. - В. 10. - с. 59-64.

242. Мартене Я. В. Потенциал изолированного электрода в системе плазма-электронный поток // ЖТФ. Т. 66. - В. 6. - 1996. - с. 70-76.

243. Месси Г. Электронный и ионный столкновения / Г. Месси, Е. Бархоп, под ред. С. М. Осовец. М: Издательство иностранной литературы, 1958.- 604 с.

244. Кашаев Н. Азотирование сплава Ti-6%A1-4%V в плазме интенсифицированного тлеющего разряда / Н. Кашаев, Х.-Р. Шток, П. Майр / Металловедение и термическая обработка металлов. Т.7. - 2004.- с. 28-32.

245. ASM Handbook, Volume 05: Surface Engineering / С. M. Cotell, J. A. Sprague, F. A. Smidt, Asm International Staff. ASM International (OH), 1994. - 1056 p.

246. Каминский M. Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967. - 506 с.

247. Физические величины: Справочник / под ред. И. С. Григорьев, Е. 3. Мейлихов. М.: «Энергоагомиздат», 1991. - 1232 с.

248. Марченко И. Г. Высокодозовая низкоэнергетичная ионная имплантация азота в сплавах / И. Г. Марченко, И. И. Марченко, И. М. Неклюдов // Вопросы атомной науки и техники. Т. 4. - 2006. - с. 182-184.

249. Riviere J. P. Chemical bonding of nitrogen in low energy high flux implanted austenitic stainless steel / J. P. Riviere, M. Chaoreau, P. Meheust // J. Appl. Phys.-Vol. 91.- 2002.-p. 6361.

250. Бокштейн Б.С. Термодинамика и кинетика диффузии в твердых телах / Б. С. Бокштейн, С. 3. Бокштейн, А. А. Жуховицкий. М., Металлургия, 1974.- 280 с.

251. Gavrilov N. V. Steel Interconnects with Magnetron-Sputtered Mn-Co-0 Spinel Coatings for Solid Oxide Fuel Cells / N. V. Gavrilov, A. S. Mamaev, A. I. Medvedev, A. M. Murzakaev // Известия вузов Физика, Приложение. - № 9. - 2007. - с. 288-291.

252. Plotnikov S. A. Properties of а-С:Н Films Obtained by Means of the Hydrocarbon Destruction in High-Frequency Impulse Discharge / S. A. Plotnikov, N. V. Gavrilov, A. S. Mamaev, I. Sh. Trakhtenberg, V. A. Ugov,

253. A. P. Rubshtein // Proc. of 5th International Conference on Tribochemistry, Lanzhou, China. 2009. - p. 41 -42.

254. Спирин А. В. Кислородный насос на гвердооксидном электролите / А. В. Спирин, А. С. Липилин, А. В. Никонов, С. Н. Паранин, В. Р. Хрустов, Н.

255. B. Гаврилов, А. С. Мамаев, А. В. Валенцев // Сборник докладов Всеросийской конференции с международным участием «Твердооксидные топливные элементы и энергоустановки на их основе», Черноголовка, Россия. -2010.-е. 105-106.

256. Патент РФ №23821 16. Способ нанесения аморфных углеводородных покрытий / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев. Заявл. 31.03.2008. - Опубл. 20.02.2010. -Бюл. № 5. -8 с.

257. Патент РФ №2413033. Способ плазменного азотирования изделия из стали или цветного сплава / FI. В. Гаврилов, А. С. Мамаев. Заявл. 11.01.2009. - Опубл. 27.02.2011. - Бюл. №6.-9 с.

258. Гаврилов Н. В. Разработка источников ионов для ионно-плазменных технологий нанесения покрытий / Н. В. Гаврилов, А. С. Каменецких, А. С. Мамаев // Вестник УГТУ-УПИ. № 5. - В. 5. - Часть 2. - 2004. - с. 188-194.

259. Гаврилов FI. В. Осаждение алмазоподобных а-С:Н покрытий в несамостоятельном разряде с плазменным катодом / Н. В. Гаврилов, А.

260. С. Мамаев, А. С. Кайгородов // Письма в Ж'ГФ. Т. 35. - В. 1. - 2009. -с. 69-75.

261. Гаврилов Н. В. Низкотемпературное азотирование титана в плазме низкоэнергетического электронного пучка // Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев / Письма в ЖТФ. Т. 35. - В. 15. - 2009. - с. 57-64.

262. Гаврилов Н. В. Азотирование аустенитной нержавеющей стали в низковольтном пучковом разряде / Н. В. Гаврилов, А. С. Мамаев, А. И. Медведев // Известия высших учебных заведений Физика. - № 11/2.2009. -с. 166-171.

263. Gavrilov N. V. Low-Temperature Nitriding of Titanium and Titanium Alloys by Electron-Beam-Generated Plasma / N. V. Gavrilov, A. S. Mamaev // Електротехника и Електроника "E+E". Vol. 5. -№ 6. - 2009. - p. 141148.