Кинетика и механизмы образования и гибели атомов водорода в низкотемпературной водород-аргоновой плазме тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.04, кандидат химических наук Исляйкин, Андрей Михайлович

• Исляйкин, Андрей Михайлович
• кандидат химических наук
• 2000

Оглавление диссертации кандидат химических наук Исляйкин, Андрей Михайлович

Введение.

1. Литературный обзор.

1.1. Некоторые прикладные аспекты применения водородной и водородсодержащей плазмы.

1.2. Методы измерения концентрации атомов и вероятностей их гйбели в плазме и послесвечении.

1.3. Обзор экспериментальных данных по концентрациям атомов водорода и кинетике их гибели в плазме чистого водорода и его смесях с другими газами.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Кинетика и механизмы образования и гибели атомов водорода в низкотемпературной водород-аргоновой плазме»

Актуальность проблемы. Химия электрических разрядов насчитывает более чем вековую историю, но особенно сильно возрос интерес к этой области знания в конце шестидесятых годов, что было обусловлено бурным развитием лазерной техники и полупроводниковой электроники. Сегодня уникальные возможности низкотемпературной плазмы, как среды для проведения химических реакций, проявились в разнообразных областях ее применения, и она явилась основой новых перспективных технологий.

В последнее время особенно интенсивно проводятся исследования разряда пониженного давления в атмосфере смесей различных газов. Как показывают современные разработки, использование многокомпонентных плазменных систем во многих случаях позволяет повысить одновременно эффективность и экологическую безопасность производства. Вполне очевидно, что простое увеличение количества газов, составляющих плазменную смесь, существенно усложняет проведение оптимизации технологических условий и режимов, зачастую вынуждая ограничиваться лишь эмпирическим подходом. Как правило, подобная сложность вызвана недостатком информации о механизмах и кинетических характеристиках процессов, протекающих в объеме плазмы и на ограничивающих ее поверхностях.

Выполненное в настоящей работе комплексное исследование позволяет выявить основные закономерности влияния добавки инертного газа на концентрации активных частиц, механизмы и кинетику их взаимодействия между собой и с материалом стенки реактора, а также электрофизические параметры низкотемпературной водородной плазмы, что является основой при разработке ее математической модели в контексте самосогласованной системы.

Целью работы являлось выяснение основных механизмов и кинетических характеристик процессов образования и гибели атомов водорода в условиях неравновесной газоразрядной плазмы смеси Н2-Аг переменного состава.

Научная новизна.

1. Исследованы закономерности процессов гетерогенной рекомбинации атомов водорода на поверхности электровакуумного стекла в зоне плазмы и ее потоковом послесвечении в широком диапазоне составов плазмооб-разующей смеси (объемное содержание Аг от 0 до 90 %). Показано, что во всем исследованном диапазоне условий рекомбинация атомов идет по первому кинетическому порядку относительно их концентрации.

2. Впервые измерены вероятности гетерогенной рекомбинации атомов Н на поверхности стекла и медной фольги непосредственно в зоне разряда при различных составах плазмообразующей смеси. Обнаружено, что вероятность процесса как в зоне разряда, так и в послесвечении в значительной степени зависит от состава газовой смеси.

3. Показана возможность применения модуляционного метода для определения времени жизни радикалов в плазме водорода. Предложено схемотехническое решение установки для его реализации.

4. Измерены концентрации атомов водорода в плазме в широком диапазоне составов плазмообразующей смеси. Показано, что с увеличением содержания инертного газа степень диссоциации молекулярного водорода увеличивается.

5. Проанализировано влияние добавки инертного газа на кинетику образования атомов водорода в плазме смеси Н2-Аг. Показано, что во всем исследованном диапазоне составов смеси (0-90% об. Аг) определяющим механизмом является диссоциация молекул под действием прямого электронного удара.

6. Впервые в широком диапазоне составов плазмообразующей смеси рассчитаны функции распределения молекул водорода по колебательным уровням основного электронного состояния, показана роль инертной добавки в процессе их формирования.

Практическая ценность работы. Полученные результаты могут быть использованы в дальнейших фундаментальных исследованиях механизмов образования и гибели активных частиц в низкотемпературной плазме водорода, его смесей с аргоном и более сложных многокомпонентных плазменных системах. Кроме того, представленные в работе данные могут быть полезны при разработке новых и оптимизации существующих плазмохимиче-ских процессов и реакторов для их реализации.

Апробация работы и публикации. По результатам работы опубликовано 2 статьи и 7 тезисов докладов. Основные положения, результаты и выводы докладывались и обсуждались на I Региональной межвузовской конференции "Актуальные проблемы химии, химической технологии и химического образования" (Иваново, 1996г.), итоговой научной конференции ИвГУ (Иваново, 1997г.), XI международной конференции молодых ученых по химии и химической технологии МКХТ-97 (Москва, 1997г.), I Международной научно-технической конференции "Актуальные проблемы химии и химической технологии" (Иваново, 1997г.), IX Всероссийской конференции по физике газового разряда ФГР-98 (Рязань, 1998г.). II Международной научно-технической конференции "Актуальные проблемы химии и химической технологии" (Иваново, 1999г.), XIV Международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью" (Звенигород, 1999г.).

Структура и объем работы. Диссертационная работа состоит из введения, 4 глав, выводов и библиографии. Общий объем диссертации составляет 138 страниц, включая 6 таблиц и 57 рисунков. Список литературы содержит 146 наименований.

Заключение диссертации по теме «Физическая химия», Исляйкин, Андрей Михайлович

Основные результаты и выводы

1. Получены систематические данные о характеристиках плазмы положительного столба тлеющего разряда в смеси Н2-Аг. Измерены напряженность продольного электрического поля, газовая температура, концентрации атомов водорода, а также потоки положительных ионов на стенку реактора. Показано, что с увеличением содержания инертного газа степень диссоциации молекулярного водорода увеличивается.

2. Измерены значения вероятности гетерогенной рекомбинации атомов водорода на поверхности электровакуумного стекла в послесвечении плазмы Н2-Аг (ун) в зависимости от состава плазмообразующего газа, давления и разрядного тока. Установлено, что во всем исследованном диапазоне условий гибель атомов протекает по реакции первого кинетического порядка относительно их концентрации; увеличение доли аргона в составе смеси приводит к уменьшению величины унп, рост давления сопровождается ростом вероятности гетерогенной рекомбинации атомов Н, и значение унп не зависит от величины разрядного тока.

3. Получены зависимости вероятности гетерогенной рекомбинации атомов водорода на поверхности электровакуумного стекла и меди в зоне разряда от состава плазмообразующей газовой смеси. Установлено, что эти зависимости имеют сходный характер и на них четко прослеживается минимум в области объемного содержания аргона -25%. При этом вероятность рекомбинации радикалов на поверхности металла на три порядка величины превосходит вероятность рекомбинации на стекле; реакция гетерогенной гибели атомов протекает по первому кинетическому порядку относительно их концентрации во всем исследованном диапазоне составов газовой смеси.

4. В ходе работы была показана возможность применения модуляционного метода для определения времени жизни радикалов в низкотемпературной водородной плазме. Предложено схемотехническое решение уста

125 новки для его реализации. При помощи данного метода определена энергия активации процесса гетерогенной гибели атомов Н в плазме чистого водорода.

5. Исследовано влияние концентрации аргона на кинетику образования атомов водорода в плазме смеси Н2-Аг по различным каналам. Показано, что во всем исследованном диапазоне составов смеси (0-90% об. Ar) определяющим механизмом является диссоциация молекул под действием прямого электронного удара.

6. В широком диапазоне составов плазмообразующей смеси рассчитаны функции распределения молекул водорода по колебательным уровням основного электронного состояния. Показано, что добавка инертного газа оказывает как непосредственное влияние на формирование ФРКВМ, особенно ее высокоэнергетичной части (за счет эффективных процессов V-T-релаксации), так и опосредованное, благодаря высокой степени влияния на вид ФРЭЭ и концентрацию электронов.

7. Увеличение степени диссоциации молекулярного водорода в плазме смеси Н2-Аг с ростом содержания инертного газа объясняется увеличением частоты диссоциации молекул под действием прямого электронного удара, а также повышением эффективности объемных процессов с участием метаста-бильных частиц.

Заключение.

Из анализа экспериментальных и расчетных данных по концентрациям и механизмам образования атомов водорода в плазме смеси водород - аргон можно сделать следующие выводы:

1. При увеличении содержания инертного газа в составе плазмообра-зующей смеси концентрация атомов водорода падает гораздо медленнее, чем это можно было бы объяснить простым разбавлением.

2. Во всем исследованном диапазоне составов (объемное содержание

Аг от 0 до 90 %) и внешних условий (давление от 66 до 400 Па, разрядный ток от 10 до 90 мА) превалирующим механизмом образования атомов Н является диссоциация молекул Н2 под действием прямого электронного удара.

3. Скорость диссоциации, вызванной взаимодействием молекул водорода с метастабильными частицами, с ростом содержания инертного газа в составе смеси монотонно увеличивается. Этот эффект обусловлен значительным повышением концентрации последних. Как показывают результаты расчетов, скорости рассматриваемых процессов при содержании Аг в составе смеси более 90%об. имеют тот же порядок величины, что и скорость диссоциации под действием прямого электронного удара. Кроме того, общая тенденция представленных на рис. 4.21 зависимостей позволяет утверждать, что при разбавлении водорода аргоном более чем на 95% определяющую роль в процессе распада молекул Н2 будет играть их взаимодействие с метастабильными атомами Агт.

4. Диссоциация молекул путем ступенчатого возбуждения высоколе-жащих колебательных состояний дает наименьший вклад в процесс образования атомов Н(18): ее скорость во всем исследованном диапазоне условий ~ на 6 порядков величины ниже скорости прямой диссоциации.

5. Замедленное по отношению к линейному уменьшение концентрации атомов Н в плазме смеси Н2-Аг с ростом содержания инертного газа объясняется увеличением частоты диссоциации молекул под действием прямого электронного удара, а также повышением эффективности объемных процессов с участием метастабильных частиц.

Список литературы диссертационного исследования кандидат химических наук Исляйкин, Андрей Михайлович, 2000 год

1. Bardos L., Barankova H., Berg S. Microwave sulfatron system for diamond film depositions // Materials of 12th 1.ternational Symposium On Plasma Chemistry. -Minneapolis, 1995. - V.4. - P.2179-2184.

2. Hhassouni K., Farhat S., Scott C.D., Gicquel A. ID diffusion model for moderate pressure H2 plasmas used for diamond films deposition // Materials of 12th International Symposium On Plasma Chemistry. Minneapolis, 1995. - V.4.-P.2221-2226.

3. Matsumoto S., Chattopadhyay K.K. A new RF+DC plasma CVD method for diamond deposition // Materials of 12th International Symposium On Plasma Chemistry. Minneapolis, 1995. - V.4. - P.2315-2321.

4. Yasui Т., Tahara H., Yoshikawa T. Microwave CH4/H2 plasma composition• th analisis for diamondlike carbon film synthesis // Materials of 12 International

5. Symposium On Plasma Chemistry. Minneapolis, 1995. - V.4. - P.2285-2290.

6. Ken-ichi Itoh and Osamu Matsumoto. Diamond deposition from Ar-C02-CH4 plasmas // Materials of 12th International-Symposium On Plasma Chemistry. -Minneapolis, 1995. V.4. - P.2227-2232.

7. Shirafuji Т., Tachibana K., Morita T. Roles of H radicales in the low temperature growth of poly-Si films by plasma CVD using SiF4/SiH4/H2 // Materials of 12th International Symposium On Plasma Chemistry. Minneapolis, 1995. - V.4. -p.2125-2130.

8. Nomoto K., Urano Y., Guizot J.L., Ganguly G., Matsuda A. Role of hydrogen atoms in the formation process of hydrogenated microcristalline silicon // Jpn. J. Appl. Phys. 1990. - V. 29. - L1372-1375.

9. Shirai H. Surface morphology and crystallite size during growth of hydrogenated microcrystalline silicon by plasma-enchanced chemical vapor deposition // Jpn. J. Appl. Phys. 1995 - V.34. - L450-458.

10. Nagayoshi H., Yamaguchi M., Kamisako К., Horigome Т., Tarui Y. High-rate selective etching of a-Si:H using hydrogen radicales // Jpn. J. Appl. Phys.- 1994.-V.33.- L621-623.

11. Татаринов В.И., Матюшин В.М. Влияние атомарного водорода на структуру поликристаллических тонких пленок // Материалы 14-й международной конф. "Взаимодействие ионов с поверхностью". Звенигород, 1999. - Т.2. -С.287-289.

12. Матюшин В.М. Низкотемпературная диффузия золота в германии под воздействием атомарного водорода // ЖТФ. 1999. - Т.69, вып.7. - С.73-76.

13. Chu J., Tang С.С., Hess D.W. Plasma enchanced chemical vapor deposition of tungsten films // Appl. Phys. Lett. 1982. - V.41. - P.'75-77.

14. Tang C.C., Chu J.K., Hess D.W. Plasma enhanced deposition of tungsten, molybdenium, and tungsten silicide films // Solid State TechnoL 1983. - V.26, №3. -P.125-128.

15. Плазменная технология в производстве СБИС: пер. с англ. / Под ред. Н. Айнспрука и Д. Брауна. М.: Мир, 1987. - 470 с.

16. Horiike Yoshiro, Shibagaki Masahiro, Kadono Katsuo. Silicon and silico dioxide etching characteristics by fluorocarbon ion beam // Jpn., J. Appl. Phys. -1979. V. 18, № 12. - P.2309-2310.

17. Robb F.Y. Hydrogen-plasma etching of organics // Proc.-Electrochem. Soc. -1983, V.83, №10 (Proc. Symp. Plasma Process., 4th). P.382-392.

18. Webb A.P.,Veprek S. Reactivity of solid silicon with hydrogen under conditiones of a low-pressure plasma // Chem. Phys. Lett. 1979. - V.62. - P. 173177.

19. Heinecke R.A.H. Control of relative etch rates of silicon dioxide and silicon in plasma etching // Solid-State Electron. 1975. - V. 18, №12. - P. 1146-1147.

20. Heinecke R.A.H. Plasma reactor desigh for the selective etching of silicon dioxide on silicon // Solid-State Electron. 1976. - V. 19, №12. - P. 1039-1040.

21. Yeprek S., Oswald H.R. Transport of phosphorus in a low presure hydrogen plasma//Z. Anorg. Allg. Chem.- 1975. №415. - 190-192.

22. Veprek S. Theoretical approch to heterogeneous reactions in nonisothermal low-pressure plasma // Top. Curr. Chem. 1975. - V.56. - P.139-159.

23. Efremov N.N., Geis M.W., Mountain R.W. Anisotropic etching of A1 by a directed C\2 flux // J. Vacuum Sci. Technol. 1986. - V.b4, №1. - P.337-339.

24. Geis M.W., Efremov N.N.,Lincoln G.A. Hot yet etching of Ga As and Si // J. Vacuum Sci. Technol. 1986. - V.b4, №1. - P. 315-317.

25. Данилин B.C., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат, 1987. - 264 с.

26. Yoshiro Н. Dry etching technology for LSI fabrication processing // Kinzoku Hyomen Gijutsu. 1979. - V.30, №5. -P.256-268.

27. Ефремов A.M., Куприяновская А.П., Светцов В.И. О механизмах влияния аргона на скорость плазмохимического травления металлов и полупроводников в плазме хлора//ХВЭ. 1993. - Т.27, №1. - С.88-91.

28. Светцов В.И., Шикова Т.Г., Чеснокова Т.А. Травление арсенида галлия в хлоре и его смесях с инертными газами // Физика и химия обраб. материалов. 1990. - №1. - С.90.

29. Врублевский В.Э., Гусев А.В., Жидков А.Г. Химический состав и скорости травления монокремния в плазме бинарной смеси Аг-СЬ // ХВЭ. 1990. -Т.24, №4. - с. 356-360.

30. K.RJennings. The production detection and estimation of the gaseous phase. // Quart. Rev. J. Chem. Soc. 1961. - V.15, №3. - P.237-258.

31. L.Elias. Measurements of atomic consentrations in discharged nitrogen, oxygen, and hydrogen // J. Chem. Phys. 1966. - V.44, №10. - P.3810-3815.

32. Левитт Б.П. Физическая химия быстрых реакций. М.: Мир, 1976, 394с.

33. Образование и стабилизация свободных радикалов / Под ред. А.Басса и Г.Бройда. М.: Иностранная литература, 1962. - 622 с.

34. Сысоев А.А. Физика и техника масс-спектрометрических приборов и электромагнитных установок. М.: Энергоатомиздат, 1983. - 367с.

35. Вилков А.В., Пентин Ю.А. Физические методы исследования в химии. -М.: Высшая школа, 1987. 367с.

36. Светцов В.И. Кинетика и механизм взаимодействия неравновесной плазмы молекулярных газов с твердыми неорганическими материалами. Дисс. на соискание степени док. хим. наук. Иваново, ИХТИ, 1986. - 415 с.

37. L.Tomasini, A.Rousseau, G.Gousset, P.Leprince. H atom density measurements in a H20 microwave discharge // Materials of 12th international symposium on Plasma Chemistry proceedings.- Minneapolis, August 21-25, 1995. V.l. -p.45 7-463.

38. M.P.S.Nightingale, A.J.T.Holmes, M.J.Forrest, D.D.Burgess. Spectroscopic measurements of neutral hydrogen level populations in a multipole plasma H" source // J. Phys. D.: Appl. Phys. 1986. - V.l9. - P. 1707-1722.

39. J.Amorin, G.Baravian, A.Ricard. Production of N, H, and NH active species in N2-H2 d.c. flowing discharges // Plasma Chem. Plasma Process, (to be published), 1995.

40. Shotzau H.J., Kneubuhl F. Parameters and chemistry of the HCN-laser plasma // Appl. Phys. 1975. - № 6. - P.25-30.

41. H.G.Poole. Atomic hydrogen // Proc. Roy. Soc. 1937. - A163. - P.404-447.

42. Лавренко В.А. Рекомбинация атомов водорода на поверхностях твердых тел. Киев: Наукова думка, 1973. - 203с.

43. Ф.МакТаггарт. Плазмохимические реакции в электрических разрядах. Перев. с англ. / Под ред. И.А.Маслова. М.: Атомиздат, 1972. - 256 с.

44. P.Michel, S.Pfau, A.Rutsher, R.Winkler. Diffusionstheoretische Beschreibung der dissoziation und des Ionenhaushaltes im schwachionisierten

45. Saulenplasma der Wasserstoffentladung. //Beitr. Plasmaphys. 1980. - V.20, №4. - p.425-433.

46. Шехтер А.Б. Химические реакции в электрическом разряде. M.-JL, 1935.

47. Проблемы кинетики и катализа. Химические реакции в электрическом разряде. Сб. статей под ред. С.З.Рогинского и А.Б.Шехтер. JL, 1935.

48. Smith W. V. // J. Chem. Phys. 1943. - № 11. - p. 110.

49. Мясников И.А., Болыпун E.B. Методы исследования гетерогенной рекомбинации свободных радикалов и их взаимодействия с адсорбированным слоем // Кинетика и катализ. 1965. - Т.6, №6. - С.997.

50. Гордон Е.Б., Пономарев А.Н., Тальрозе B.J1. Изучение вероятности рекомбинации атомарного водорода на различных поверхностях при низких концентрациях в газовой фазе // Кинетика и катализ- 1966.- Т.7, № 4. -С.577.

51. Невзоров П.И., Словецкий Д.И., Шелыхманов Е.Д. Исследование кинетики химических реакций с помощью релаксационной методики // Химия высоких энергий. 1987. - Т.21, №2. - с.458.

52. Волынец В.И., Строчков А.Я., Трофимов В.Н. Исследование механизмов гибели радикалов в плазме тлеющего разряда в тетрафторметане. Сб. науч трудов "Плазмотехнология". Киев: УМК ВО, 1990. - с.22-27.

53. Светцов В.И., Рыбкин В.В., Чеснокова Т.А. Концентрация атомов в тлеющем разряде при пониженных давлениях // Химия высоких энергий. -1988. Т.32, №6. - С.525-531.

54. Абрамов B.JI. Исследование плазмы тлеющего разряда в аммиаке и азо-товодородной смеси методом ЭПР // Тезисы докладов IV Всесоюзного симпозиума по плазмохимии. Днепропетровск, 1984. - С. 19-20.

55. W.V.Smith. The surface recombination of H atoms and OH radicals // J. Chem. Phys.- 1943.-V.ll.-P.l 10-123.

56. B.J.Wood, H.Wise. Kinetics of hydrogen atom recombination on surfaces // J. Phys. Chem. 1961. - V.65. - P.1976-1983.

57. В J.Wood, H.Wise. Diffusion and heterogeneous reaction III.// J. Phys. Chem.-1962.-V.66. -P.1049-1052.

58. Бровикова И.Н., Максимов А.И. Диссоциационно-рекомбинационные процессы в плазме некоторых молекулярных газов. Деп. в ОНИИТЭХИМ, 1979.-№2752.

59. H.G.Poole. Atomic hydrogen // Proc. Roy. Soc., A163. 1937. - P. 404-447.

60. J.Wood, H.Wise. Diffusion and heterogeneous reaction II. // J. Phys. Chem. -1958. V.29, №6. - P.1416-1417.

61. Лавровская Г.К., Воеводский B.B. Рекомбинация атомов водорода на твердых поверхностях // Журнал физической химии. 1952. - Т.26, вып.8. -С.1164-1166.

62. Корнич В.Г. Определение коэффициента рекомбинации атомарного водорода на поверхности твердых тел // Журнал физической химии. 1976.-Т.50, №2. - С.324-329.

63. Васильев В.В., Лавренко В.А., Мардерер Г.Г. Методика исследования температурной зависимости коэффициента гетерогенной рекомбинации атомарных газов. Журнал физической химии, т.44, вып.7, 1970, с. 1832-1834.

64. Тальрозе // Кинетика и катализ. 1964. - Т.5, №11. - С. 11.

65. Gomer R., Wortman R., Lundy R. Mobility and adsorption of hydrogen on tungstem // J. Chem. Phys. 1957. - V.26, №5. - P.l 147-1164.

66. Gomer R., Wortman R., Lundy R. Mobility and adsorption of hydrogen on nickel // J. Chem. Phys.- 1957. V.27, №5. - P.1099-1100.

67. Wittke I.P., Dicke R.H. Redetermination of the hyperfine splitting in the ground state of atomic hydrogen. // Phys. Rev. 1956. - V. 103. - P.620-631.

68. Shaw T.M. Dissociation of hydrogen in a microwave discharge. // J. Chem. Phys. 1959. - V.30, №5. - P.1366-1367.

69. Абрамов B.JL, Галиаскаров Э.Г. Взаимодействие водородной плазмы с поверхностью неорганических материалов // Материалы 12 Международной конференции "Взаимодействие ионов с поверхностью". Звенигород, 5-8 сентября 1995.-Т.2. - С.126-128.

70. Абрамов B.JL, Галиаскаров Э.Г., Светцов В.И. Математическое моделирование состава смеси H2-H-N2 на кинетику диссоциации молекул водорода в тлеющем разряде // Изв. вузов, сер. Химия и хим. технология. 1993. - Т.36, вып.5. - С.65-68.

71. B.N. Ganguly, P. Bletzinger. Fractional dissociation measurements of H2 and D2 in molecular gas mixtures in RF discharges. // Materials of 12th International Symposium on Plasma Chemistry Proceedings, Minneapolis, August 21-25, 1995.- V.I.- P.391-396.

72. Wood R.W. Phil. Mag. 1922. - V.44. - P.538.

73. Светцов В.И., Соколова И.Н., Максимов А.И. Влияние водяного пара на диссоциацию водорода в разряде // Журнал физич. химии. 1966. - Т.40. -С.2636-2637.

74. Зимина И.Д., Максимов А.И., Светцов В.И. Исследование диссоциации аммиака, хлора и брома в разрядах в смесях с инертными газами // Журн. физ. химии. 1975.-Т.49, №6.-С. 1468.

75. Куприяновская Д.П., Светцов В.И. Влияние добавок кислорода и гелия на степень диссоциации молекул хлора в тлеющем разряде // Журн. физ. химии.-1984. Т.58, №9. - С.2031.

76. Lavrov В.Р., Melnikov A.S., Kaning М., Ropcke J. UV continuum of H2 and diagnostics of non-equilibrium plasmas // Мат конф. по физике газового разряда ФНТП-98, Петрозаводск, 22-27 июня 1998. 4.1. - С.79-83.

77. Rosseau A., Granier A., Gousset G., Leprince P. Microwave discharge in H2: influence of H-atom density on the power balance // J. Phys. D.: Appl. Phys. -1994.-V.27.-P. 1412-1422.

78. Capezutto P., Cramarossa F., d'Agostino R., Molinari E. Dissociation of molecular hydrogen in gas discharges of moderate pressure. The role of vibro-rotational excitation // J. Phys. Chem. 1975. - V.79, № 15. - P.1487-1496.

79. Pfau S., Rutsher A. Electric Characteristic and degree of dissociation in the positive column in Ne-H2 glow discharges // Scripta Fac. Sei. Nat, Univ. Purk. Brun. 1980. - V. 10, №3-4. - P. 105-112.

80. Hilderbraudt A.F., Borth C.A., Booth F.H. Neasurements of atom density by ESR technique // Phys. Chem. Aerodyn. and Spase Fligft. 1961, №3. - P.194-203.

81. Shaw T.M. Effect of water vapor on the dissociation of hydrogen in an electrical discharge. // J. Chem. Phys. 1959. - V.31, №4. - P. 1142-1143.

82. Goodyear C.C., Engel A. Dissociation of hydrogen in electical discharge // Proc. Roy. Soc. 1962. - V.79. - P.732-740.

83. Wise H., Ablow C.M., Sencier K.M. Diffusion and heterogeneous reaction VI. Surface recombination in the presence of distributed atom sources // J. Chem. Phys. 1964. - V.41, №11. - P.3569-3578.

84. Masek K., Sternberg Z. Measurement of dissociation in a hydrogen glow discharge // 10th ICPIG, Oxford. 1974. - P.34.

85. Beringer R., Heold M.A. Electron spin magnetic moment in atomic hydrogen // Phys. Rev. 1954. - V.95, №6. - P. 1474-1481.

86. Иванов Ю.А., Лебедев Ю.А., Полак Л.С. Методы контактной диагностики в неравновесной плазмохимии. М.: Наука. 1981.-144 с.

87. Максимов А.И., Сергиенко А.Ф., Словецкий Д.И. Измерение температуры газа в тлеющем разряде термопарным методом // Физика плазмы. 1978. - Т.4, вып.2. - С.347-351.

88. Тычинский В.П. Мощные газовые лазеры // Успехи физических наук. -1967.-Т.91,№3.-С.389-424.

89. Елецкий A.B., Мищенко А.Г., Тычинский В.П. О тепловом режиме положительного столба газового разряда. // ЖПС. 1968. - Т.8, №3. - С.425-428.

90. Варгафтик Н.Б. Справочник по теплофизическим свойствам газов и жидкостей.- М.: Физматгиз, 1963. С.23.

91. Bell А.Т. A model for the dissociation of hydrogen in an electric discharge // Ind. Eng. Chem Fundam. 1972. - V.l 1, №2. - P.209-215.

92. Словецкий Д.И. Механизмы химических реакций в неравновесной плазме.- М.: Наука, 1980.-310 с.

93. Абрамов В.Л., Бровикова И.Н., Галиаскаров Э.Г. Рекомбинация атомов водорода на поверхности кварцевого и электровакуумного стекла // Физика и химия обработки материалов.- 1993. Т.З. - С. 87-91.

94. Абрамов В.Л., Афанасьева Н.В., Лохова М.Н., Светцов В.И. Спектральные исследования очистки титана в тлеющем разряде // Электронная техника. 1990. - вып.7 / 252. - С.77 -78.

95. Галиаскаров Э.Г. Образование и гибель атомов водорода в тлеющем разряде пониженного давления в водороде и его смесях с азотом: Дис. работа на соискание ученой степени канд. хим. наук. Иваново, 1997. - 182 с.

96. Волынец В.И., Строчков А.Я., Трофимов В.Н. Исследование механизмов гибели радикалов в плазме тлеющего разряда в тетрафторметане . В сб.

97. Плазмотехнология. Киев: УМК ВО, 1990. - С.22-27.

98. Penkin N.P., Smirnov V.V., Tsygir O.D. Electrokinetic Characteristics And Dissociation of 02 In Oxygen Glow Discharge // Proc. 15th Int. Conf.: Phenom. Ioniz. Gases. Minsk, 1981. - Contrib. Pap. Part2. - P.751-752.

99. Бровикова И.Н. Диссоциация неорганических молекул и рекомбинация атомов в неравновесной газоразрядной плазме: Дис. работа на соискание ученой степени канд. хим. наук. Иваново: ИХТИ, 1980. - 161 с.

100. Плазма в лазерах / Под ред. Дж. Бекефи. М.: Энергоатомиздат, 1982.-412с.

101. Касабов Г.А., Елисеев В.В. Спектроскопические таблицы для низкотемпературной плазмы. М.: Атомиздат, 1982. - 232 с.

102. Иванов Ю.А., Солдатова И.В., Сечения возбуждения, ионизации и тушения возбужденных состояний атомов инертных газов в плазме тлеющих разрядов. В сб. Физико-химические процессы в низкотемпературной плазме. -M., 1985.-С.5-54.

103. Бессараб А.Б. Самосогласованный анализ физико-химических процессов в плазме кислорода. Автореферат дис. работы на соискание ученой степени кандидата хим. наук. Иваново: ИГХТА, 1996. - 16 с.

104. Гордиец Б.Ф., Осипов А.И., Шелепин А.А. Кинетические процессы в газах и молекулярных лазерах.- М.: Наука, 1980. С.53-157.

105. Радциг А.А. Двухатомные молекулы и молекулярные ионы // Химия плазмы / Под ред. Смирнова Б.М. М.: Атомиздат, 1975. - вып.2.- С.3-61.

106. J.Lourriero, A.Ricard. Electron and vibrational kinetics in an N2-H2 glow discharge with application to surface processes // J.Phys. D: Appl. Phys.- 1993. -V.26. P.163-176.

107. Радциг A.A., Смирнов Б.М. Справочник по атомной и молекулярной физике.- М.: Атомиздат, 1980.- 240 с.

108. Никитин Е.Е., Осипов А.И., Уманский С.Я. Колебательно поступательный обмен энергией при стокновении гомоядерных двухатомных молекул // Химия плазмы / Под ред. Смирнова Б.М. - М.: Энергоатомиздат, 1989.-ВЫП.15.-С. 3-43.

109. C.Gorse, M.Capettelli, I.Bretagne, M.Bacal. Vibrational excitation and negative-ion production in magnetic multicusp hydrogen discharges // Chem. Phys. -1985. V.93, №1. - P.1-12.

110. A.Rousseau, A.Granier, G.Gousset, P.Leprince. Microwave discharge in H2: influence of H-atom density on the power balance // J. Phys. D: Appl. Phys.-1994.- V.27. P.1412-1422.

111. Таблицы физических величин: Справочник / Под ред. И.К. Кикоина. -М.: Атомиздат, 1976. 1005 с.

112. Иванов Ю.А., Рытова Н.М., Солдатова И.В., Тимакин В.Н., Эпштейн И.Л. Механизм разложения Н2 в тлеющем разряде в Аг+Н2 // ХВЭ. 1988. -Т.22, № 2. - С. 152-157.

113. Иванов Ю.А., Рытова Н.М., Солдатова И.В., Тимакин В.Н., Эпштейн И.Л. Тлеющий разряд в Аг+Н2. Эксперимент и математическое моделирование // ХВЭ. 1988. - Т.22, № 4. - С.363-367.

114. Физические величины. Справочник / Под ред. И.С. Григорьева, Е.З. Мейлихова. М.: Атомиздат. 1991. - 1232с.

115. Loureiro J., Ferreira С.М. Electron and vibrational kinetics in hydrogen positive column // J. Phys. D.: Appl. Phys. 1989. - V.22. - P. 1680.

116. Shimamura J. Cross sections for collisions of electrons with atoms and molecules// Sci. Pap. Inst. Phys. and Chem. Res. 1989. - V.82. - P.l-51.

117. Ferreiro C.M., Loureiro J. Electron transport parameters and excitation rates in argon // J. Phys. D: Appl. Phys. 1983. - V.16, №9. - P.1611-1621.

118. Кочетов H.B. Расчет физических процессов в электроразрядных лазерах на окиси углерода: Дис. канд. физ.-мат. наук. М.: МФТИ, 1977. - 156с.

119. Галиаскаров Э.Г., Рыбкин В.В. Диффузионный режим однородного разряда при наличии двух сортов основных ионов // Материалы 14й Между-нар. конф. "Взаимодействие ионов с поверхностью". Москва, 1999 - Т.2. -С.271.

120. Wise W.L., Smith M.W. and Glennon B.M. Atomic transition probabilities. -New-York, Gov. Print. Off. 1966. - V.l, 2.

121. B.J. Wood, H. Wise. Kinetics of hydrogen atom recombination on pyrex glass and fused quartz // J. Phys. Chem. 1962. - v.66. - P. 1049-1053.

122. Авгуль H.H., Киселев A.B., Пошкус Д.П. Адсорбция газов и паров на однородных поверхностях. М.: Химия, 1975. - 314 с.

123. Томпкинс Ф. В кн.: Новое в исследовании поверхности твердого тела. Пер. с англ. М.: Мир, 1978. - С.235-284.

124. Green М., Lennings K.R., Linnett J.W., Schofield D. // Trans. Faraday Soc. -1959.- V.12,№55.-P.2152.

125. Киселев В.Ф., Крылов O.B. Адсорбционные процессы на поверхности полупроводников и диэлектриков. М.: Наука, 1978. - 256с.

126. Katz S., Kistianowsky G.B., Steiner R.T. J. Am. Chem. Soc. - 1949. -№71.- P.2258.

127. Волькенштейн Ф.Ф., Горбань A.H., Соколов B.A. Процессы рекомбинации свободных радикалов на поверхности полупроводников и их роль в люминесценции // Кинетика и катализ. 1963. - Т.4, №1. - С.24.

128. B.J. Wood, Н. Wise. The interaction of atoms with solid surfaces // Rarefied Gas. Dynam. New York-London, Acad. Press. — 1961. — P.51-59.

129. Lebedev Yu.A., Epstein I.L. Simulation of microwave plasma in hydrogen // J. Moscow Phys. Soc. 1995. - V.l. №1. - P.103.

130. Мак-Даниэль И., Мэзон Э. Подвижность и диффузия ионов в газах. М.: Мир, 1976.- 422с.

131. Мак-Даниэль И. Процессы столкновения в ионизованных газах. М.: Мир, 1967.- С.482.

132. Радциг А.А. Смирнов Б.М. Справочник по атомной и молекулярной физике. М.: Атомиздат, 1980. - 240с.

133. Glass-Maujean М. Collisional quenching of H(2S) atoms by molecular hydrogen. Two competive reactions // Phys. Rev. Lett. 1989. - V.62, № 2. - P. 144146.

134. Ионно-молекулярные реакции. / Под ред.А.И. Вирина. М.: Наука, 1979.548 с.

135. Смирнов Б.М. Возбужденные атомы.- М.: Энергоатомиздат, 1982.- 231с.

136. Протасов Ю.С., Чувашев С.Н. Физическая электроника газоразрядных устройств. Плазменная электроника. 4.2: Учеб. пособие. М.: Высш. шк., 1993.-496 с.

137. J. Loureiro, C.M.Ferreira. Electron and vibrational kinetics in the hydrogen positive column // J. Phis. D.: Appl. Phis. 1989. - V.22. - P. 1680-1691.

138. Matveyev A.A., Silakov V.P. Kinetic processes in highly ionized non-equilibrium hydrogen plasma // Plasma Sources Sci. Technol.- 1995.- V.4. P.606.

139. БамфордС.Н., Типпер С.Ф. Возбужденные частицы в химической кинетике. М.: Мир, 1973,- 320 с.

140. Гершензон Ю.М., Розенштейн В.Б., Уманский С .Я. Гетерогенная релаксация колебательной энергии молекул // Химия плазмы / Под ред. Б.М. Смирнова. М.: Атомиздат, 1977. - С.61.