Гетерогенная рекомбинация атомов хлора в плазме смесей хлора с инертными и молекулярными газами тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.04, кандидат физико-математических наук Кириллов, Юрий Владимирович

• Кириллов, Юрий Владимирович
• кандидат физико-математических наук
• 2003

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Кириллов, Юрий Владимирович

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.

1 Кинетика и механизмы образования и рекомбинации активных частиц в плазме хлора.

1.1 Образование и гибель электронов.

1.1 Образование и гибель ионов.

1.3 Образование и гибель атомов хлора.

2 Особенности образования и рекомбинации активных частиц в смесях газов.

2.1 Изменение электрофизических параметров плазмы.

2.2 Объемные процессы.

2.2.1 Влияние аргона.

2.2.2 Влияние кислорода.

2.2.3 Влияние азота.

2.2.4 Влияние водорода.

2.3 Гетерогенные процессы.

3 Рекомбинация атомов на стенке реактора и методы измерения коэффициента рекомбинации.

3.1 Обзор данных по вероятностям гибели атомов хлора в разряде и их температурным зависимостям.

3.2 Методы измерения коэффициента рекомбинации.

3.3 Релаксационная методика.

3.4 Использование релаксационной методики в диагностике плазмы

4 Концентрация атомов хлора в плазме чистого газа и смесях с инертными и молекулярными газами.

4.1 Методы измерения концентрации атомов хлора.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Гетерогенная рекомбинация атомов хлора в плазме смесей хлора с инертными и молекулярными газами»

Актуальность проблемы. Плазменная технология применяется в машиностроении (плазменная резка, сварка, наплавка, цементация, азотирование и др.), химии (плазменное производство ацетилена, синильной кислоты, оксидов азота, плазменный пиролиз углеводородов и др.), металлургии (плазменное восстановление металлов, плазменное получение карбидов, нитридов, силицидов, боридов, плазменная сфероидизация и металлизация порошков и др.). Процессы плазмохимического травления в неравновесной низкотемпературной плазме хлора и хлорсодержащих газов используются в технологии производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем, для формирования рисунка печатных плат [1]. Применение в качестве плазмообразующих сред хлора и его производных обусловлено, во-первых, получением более высокой анизотропии при травлении кремниевых структур по сравнению с традиционными фторсодержащими газами, и, во-вторых, возможностью плазмохимического травления ряда металлов (медь, алюминий) и сложных полупроводников (арсенид галлия и др.), которые не травятся во фторсодержащих средах.

Широкое применение хлора и его смесей с инертными и молекулярными газами в технологии плазмохимического травления сдерживается недостатком сведений о кинетике и механизмах протекающих реакций, данных по коэффициентам скоростей (вероятностям взаимодействия), позволяющих прогнозировать характер, направление и скорость процесса. Поэтому исследования кинетики и механизмов травления арсенида галлия, кремния и меди в плазме хлора и его смесях с инертными и молекулярными добавками представляют интерес не только с точки зрения их практического применения, но и способствуют развитию теории гетерогенных процессов в неравновесной плазме, что и определяет актуальность данной работы.

Интерес к смесям хлора с такими газами как аргон, кислород, азот и водород связан с экспериментально обнаруженным фактом увеличения скороста травления полупроводниковых материалов при значительном содержании в смеси второго газа [2 - 16]. Этот эффект позволяет снизить расход хлора, причем скорость травления останется такой же как в чистом хлоре. Кроме технологических преимуществ, использование смесей позволяет продлить срок службы откачных систем, уменьшить выброс токсичных веществ в атмосферу. В дальнейших исследованиях было обнаружено, что концентрация атомов хлора остается постоянной при почти 50 % содержании в смеси второго газа. Объяснению данного факта было посвящено много работ, но ни в одной из них не удалось полностью объяснить наблюдаемые эффекты. Более того, почти одинаковые для всех смесей явления (увеличения скорости травления и поддержания концентрации атомов на постоянном уровне) объяснялись вкладом совершенно разных процессов. Во всех исследованиях указывается на значительный вклад процессов гетерогенной рекомбинации атомов. В настоящее время имеется много работ, посвященных исследованию гетерогенной рекомбинации в зоне послесвечения. Но, как известно, в зоне послесвечения отсутствуют потоки ионов, и скорости рекомбинации оказываются значительно меньше, чем в зоне плазмы. С технологической точки зрения, наиболее интересны данные по рекомбинации именно в зоне плазмы. Однако в настоящее время сведения о коэффициентах гетерогенной рекомбинации в зоне плазмы в литературе практически отсутствуют. Таким образом, вопросы, связанные с прямыми измерениями коэффициентов гетерогенной рекомбинации и влиянием состава плазмы на поверхностные процессы, являются малоизученными и весьма актуальными.

Цель работы. Разработка метода определения коэффициента гетерогенной рекомбинации атомов хлора непосредственно в зоне плазмы и исследование влияния состава смеси хлора с инертными и молекулярными газами на коэффициент гетерогенной рекомбинации.

Научная новизна. В работе впервые:

1. Разработана уникальная релаксационная методика определения коэффициента гетерогенной рекомбинации в условиях плазмы.

2. Разработано программное обеспечение для автоматизации анализа исходных экспериментальных данных и определения коэффициента рекомбинации.

3. Впервые получены зависимости коэффициента гетерогенной рекомбинации от состава смеси.

4. Проведено математическое моделирование газоразрядной плазмы хлора и его смесей с аргоном, кислородом, азотом и водородом с целью получения коэффициентов скоростей процессов с участием электронов, рассчитаны концентрации ионов, электронов, и их потоки на стенку реактора.

5. Предложен механизм влияния потока ионов на зависимость коэффициента гетерогенной рекомбинации от состава смеси.

Практическая значимость работы. Разработанная релаксационная методика позволяет получать коэффициент гетерогенной рекомбинации атомов в плазме хлора, и может быть использована для анализа состояния поверхности обрабатываемых материалов. Методика может быть применена для исследования кинетики гибели атомов хлора на поверхности различных образцов, вводимых в зону плазмы. Сведения о значениях коэффициентов гетерогенной рекомбинации, и их зависимости от состава плазмы могут использоваться в математическом моделировании, взамен коэффициентов, полученных расчетным путем. Результаты работы могут быть использованы при разработке и реализации промышленных плазмохимических процессов и установок.

Апробация работы и публикации. По результатам работы опубликовано 5 статей и тезисы 8 докладов. Основные положения, результаты и выводы докладывались на III Всероссийской научной конференции "Молекулярная физика неравновесных систем". (28 мая - 1 июня 2001г., ИГХТУ); 1-ой Международной научной конференции "Молекулярная биология, химия и физика неравновесных систем". (27 мая - 2 июня 2002 г., ИГХТУ); 3-ем Международном симпозиуме по теоретической и прикладной плазмохимии. (16 -21 сентября 2002 г., Плес).

Структура и объем работы. Работа состоит из введения, трех глав и списка литературы. Объем диссертации составляет 120 страниц, и включает 14 таблиц и 45 рисунков. Список литературы содержит 120 наименований.

Заключение диссертации по теме «Физическая химия», Кириллов, Юрий Владимирович

1. Впервые получены данные по коэффициенту рекомбинации атомов хлора на стекле, непосредственно в зоне плазмы, при разряде в чистом хлоре и его смесей с аргоном, кислородом, азотом и водородом. Полученное значение коэффициента рекомбинации для чистого хлора (10 1/с) хо рошо согласуется с данными, полученными расчетным путем.2. Установлено, что при изменении состава смеси коэффициент рекомбина ции атомов хлора на стекле проходит через максимум, соответствую щий 65 % содержанию аргона для смеси СЬ - Аг, и 40 % содержанию кислорода для смеси СЬ - О2. Положение максимума для смеси СЬ - Аг соответствует максимуму скорости травления меди и золота в этой смеси.3. Показано, что коэффициент скорости образования атомов хлора увеличи вается с увеличением содержания второго газа в смеси, в то время как сама скорость образования уменьшается.4. Из решения балансных уравнений образования и гибели заряженных час тиц вычислены концентрации и потоки ионов на стенку, величина ко торых достигает до 910^^ M ' V ^

5. Предложен механизм влияния состава смеси на коэффициент рекомбина ции атомов хлора на стекле, связанный с изменением состава и величи ны потока ионов и нейтральных активных частиц на поверхность.

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Кириллов, Юрий Владимирович, 2003 год

1. У.Моро. Микролитография. М.: Мир, 1990, 2 т., 605 с.

2. Светцов В.И., Ефремов A.M. Плазмохимическое травление меди в хлорном разряде // Тезисы докладов научно - практического семинара "Плазмохимическая технология для изделий электронной техники", Киев, 12-13.03.1991, с.5.

3. Ефремов A.M., Светцов В.И, Исследование закономерностей травления меди в плазме хлора и его смесей с аргоном // Элементарная база микро-и наноэлектроники: физика и технология. Сб. научн. Трудов, М.: МГИЭТ(ТУ), 1994,с.110.

4. Winters H.F. Etch products from the reaction on Cb with Al(lOO) and Cu(lOO) and XeF2 with W(l 11) and Nb. // J.Vac.Sci.Technol. B, 1985,3(1), p. 9.

5. Hu C.-K., Canney В., Pearson D.J., Small M.B. A process for improved Al(Cu) reactive ion etching // J.Vac.Sci.Technol. A, 1989,7(3), p. 682

6. Kang-Sik Choi, Chul-Hi Han Low-temperature plasma etching of copper films using ultraviolet irradiation. // Jpn. J. Appl. Phys., 1998, vol.37, N 11, p. 5945.

7. Miyazaki H., Takeda K., Sakuma N. et. al. Copper dry etching with precise wafer-temperature control using СЬ gas as a single reactant. // J.Vac.Sci.Technol. B, 1997,15(2), p. 237.

8. Hampden-Smith M.J., Kodas T.T. Copper Etching: New Chemical Approaches // Materials Research Society (MRS) Bulletin, 1996, N 6, p.39

9. Ефремов A.M., Светцов В.И. Закономерности травления меди в плазме смеси хлора с аргоном // Химия высоких энергий, 1995, т.29, N 4, с.ЗЗО.

10. Ефремов А.М., Светцов В.И., Куприяновская А.П., Чеснокова Т.А, Плазмохимическое травление металлов при разряде в СЬ // Труды Международного симпозиума по теоретической и прикладной плазмохимрга (ISTAPC - 91), Рига, 1991, с.370. no

11. Светцов В.И., Чеснокова Т.А. Об эффективности взаимодействия хлора с различными металлами //ЖФХ, 1984, т.58, N 14, с. 2706.

12. Ефремов A.M., Светцов A.M. Травление меди в хлоре. // Микроэлектроника. Т.31, N 3,2002, с. 211-226.

13. Светцов В.И., Ефремов A.M., Магаанов К.А. Исследование распыления меди при разряде в парах тетрахлорметана спектральным методом // ФХОМ, 1995,N4,c.80.

14. Светцов В.И., Ефремов A.M. Параметры плазмы и травление материалов в смесях хлора с инертными и молекулярными газами. // Материалы 9 школы по плазмохимии для молодых ученых России и стран СНГ. Иваново 1999, с. 89.

15. А. Efremov, V, Svettsov, C.-I. Kim. Volume and heterogeneous chemistry in Cb/Ar inductively coupled plasma. Abstracts of International Conference "Micro- and nanoelectronics - 2003", Moscow, Russia, 6-10.10.2003.

16. A. Efremov, V. Svettsov, C.-I. Kim. Etching mechanism of Au thin films in СУАг inductively coupled plasma. Abstracts of International Conference "Micro- and nanoelectronics - 2003", Moscow, Russia, 6-10.10.2003.

17. Куприяновская А.П., Светцов В.И., Диссоциация молекул и концентрация заряженных частиц при разряде в хлоре. - Изв. ВУЗов. Химия и хим. технология, 1987, т. 30, вып. 9, с, 71 - 74.

18. Горохов А.В., Максимов А.И., Сизов В.Д., Степанова А.А. Ионизационные процессы и диссоциация молекул в столбу тлеющего разряда в хлоре и парах воды. - ЖТФ., 1972, т. 42, N 10, с. 2176 - 2179.

19. Хаксли Л., Комптон Р. Диффузия и дрейф электронов в газах. М.: Мир, 1977. 672 с.

20. Виноградов Г.К., Словецкий Д.И., Федосеева Т.В. Экспериментальное исследование параметров плазмы тлеющего разряда в тетрафторметане. - Теплофизика высоких температур, 1983, т.21, N 6, с. 1083 - 1090. I l l

21. Donelly V.M., Flamm D.L., Collins G. Laser diagnostiks of plasma etching: measurement of C^^ in a chlorine discharge. - J. Vac. Sci. Technol., 1982, v. 21, N3, p. 817-823.

22. Bruce R.H., Flamm D.L., Donelly V.M., Duncan B.D. Electrochemical Societi Meeting: Denver Colorado., Oct. 11-16,1981, Abstract, N 260.

23. Смирнов Б.М. Ионы и возбужденные атомы в плазме. М.: Атомиздат, 1974.420 с.

24. Радциг А.А., Смирнов Б.М. Справочник по атомной и молекулярной физике. М.: Атомиздат, 1980. 240 с.

25. Davis С., King Т.А., Process in electronegative iodine-helium gas laser discharges. 2-nd International Conference on Gas Discharges, London, 1972, p. 127 - 129.

26. Kurepa M.B., Belie D.S. Electron-chlorine molecula total ionisation and electron attachment cross section. - J. Phys. B: Atom and Molec. Phys., 1978, V. 11, N21, p. 3719-3731.

27. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. М.: Наука, 1971,543 с.

28. Зимина И.Д., Максимов А.И., Светцов В.И. Диссоциация брома в тлеющем разряде. -Изв.ВУЗов. Химия и хим.технология, 1975, т.18, N12, с.1906-1909.

29. Зимина И.Д., Максимов А.И., Светцов В.И. Исследование диссоциации амиака, хлора и брома в разрядах в смеси с инертными газами. -Ж.Ф.Х., 1975, Т.49, N6,0.1468-1471.

30. Зайцев В.В., Зверевская Е.Ю., Климов В.Д., Божко Н.В., Нетягов П.Д. Диссоциация молекул и параметры положительного столба тлеющего разряда во фторе. -Химия высоких энергий, 1978, т. 12, N6, с.516-520.

31. Зимина И.Д., Максимов А.И., Светцов В.И. Диссоциация хлора в тлеющем и высокочастотном разрядах. -Химия высоких энергий, 1973, т.7, N6, с.486-490.

32. Зимина И.Д., Максимов А.И., Светцов В.И. О сравнении диссоциации аммиака, хлора и брома в тлеющем и высокочастотном разрядах. -Ж.Ф.Х., 1976,T.50,N5, с.1209-1211.

33. Зимина И.Д., Илюшенко Н.И., Максимов А.И., Светцов В.И. Влияние добавок аргона и гелия на диссоциацию хлора в тлеющем и высокочастотном разрядах. -Ж.Ф.Х., 1973, N9, с.2377-2378.

34. Куприяновская А.П., Светцов В.И. Механизм образования и разрушения активных частиц в галогенной плазме. -Изв.ВУЗов. Химия и хим.технология, 1983, т.26, N12, с. 1440-1444.

35. Bosin S.E., Goodyeer С. Measurement of ionization and attachment coefficient in chlorine. - Brit. Appl. Phys., 1967, v. 18, p. 49 - 57.

36. Светцов В.И., Чеснокова T.A. Сухое травление меди. - Изв. ВУЗов. Химия и хим. технология, т. 31, 1988, N 10, с. 3 - 13.

37. Ogryslo Е.А. Surface recombination of chlorine and bromide atoms. - J Phys. Chem., 1961, v. 65, N 1, p. 191 - 192.

38. Полак Л.С., Овсянников A.A., Словецкий Д.И., Вурзель Ф.В. Теоретическая и прикладная плазмохимия. М.: Наука, 1975. 304 с.

39. Ogryslo Е.А. Halogen atom reactions. 1. The electrical discharge as a som^ce of halogenatoms. - Canad. J. Chem., 1961, v. 39, N 12, p. 2556 - 2562.

40. Clune M.M.A., Smith D.J. Non-reverse sourse of Br atomresonance radiation and to the measurement of Br atom concentration. - J. Chem. Soc. Faraday Trans., 1978, Part 2, v. 77, N 2, p. 263 - 279.

41. Poulet G., Le Bras G., Combourieu J. Kinetics study of the reactions of CI atom with HNO3, H2O2, and NO2. - J. Chem. Phys., 1978, v.69, N 2, p. 767 -773.

42. Мак-Таггарт Ф. Плазмохимические реакции в электрических разрядах. - М.: Атомиздат, 1972,256 с.

43. Ефремов A.M. Кинетика взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы хлора и смесей хлор - аргон с медью и излучение разря-да. Автореферат дисс. ... кандидата химических наук. Иваново: ИГХТА, 1994,179 с.

44. Кириллов Ю.В., Ситанов Д.В., Светцов В.И. Исследование механизма образования атомов хлора в плазме смеси хлора с водородом. - ХВЭ, т. 34, N3, с. 147-151.

45. Врублевский Э.М., Гусев А.В., Жидков А.Г. Релаксационные процессы и скорость травления монокремния в смеси Аг - СЬ. - Труды ФИАН, 1989, вып. 10, с. 3 - 7.

46. Врублевский Э.М., Гусев А.В., Жидков А.Г. Химический состав и скорости травления монокремния в плазме бинарной смеси Аг - О2. - ХВЭ, 1990, т. 24, N4, с. 356-360.

47. Новиков И.В. Моделирование высокочастотного разряда низкого давления в смеси R - СЬ. - Электр, техн., 1992, N 2 (147) - 3 (148), с. 23 - 26.

48. Словецкий Д.И. Механизмы химических реакций в неравновесной плазме. - М.: Наука, 1980. 310 с.

49. Виноградов Г.К., Словецкий Д.В., Федосеева Т.В. Исследование механизмов возбуждения частиц - Тепл. Вые. Темп. 1983. т. 21, N 4, с. 652 -660.

50. Ефремов A.M., Куприяновская А.П., Светцов В.И. О механизмах влияния аргона на скорость плазмохимического травления металлов и полупроводников в плазме хлора. -ХВЭ, 1993, т.27, N 1, с. 88 - 91.

51. Кондратьев В.Н., Никитин Е.Е. Кинетика и механизм газофазных реакций. М.: Наука, 1975, 560 с.

52. Бессараб А.Б. Самосогласованный анализ физико-химических процессов в плазме кислорода. Автореферат дисс. ... кандидата химических наук. Иваново: ИГХТА 1996.177 с.

53. Ситанов Д.В. Кинетика образования и гибели атомов хлора в неравновесной плазме хлора и его смесях с инертными и молекулярными газами. Автореферат дисс. ... кандидата химических наук. Иваново: ИГХТА 1996. 206 с.

54. Волькенштейн Ф.Ф., Горбань A.M., Соколов В.А. Радикало- рекомбинационная люминесценция полупроводников. М.: Наука, 1976.

55. G Cartry, L Magne, G Cemogora. Atomic oxigen recombination on fused silica: experimental evidence of the surface state influence. J. Phys. D: Appl. Phys.32(1999)L53-L56.

56. G Cartry, L Magne, G Cemogora. Atomic oxygen recombination on fused silica: modelling and comparison to low-temperature experiments (300 K). J. Phys. D: Appl. Phys. 33 (2000) p 1303 -1314.

57. Словецкий Д.И. Гетерогенные реакции в неравновесной галогеносодер- жащей плазме // Сборн. стат. Химия плазмы, 1989. вып. 15, стр. 83.

58. Howard B.J., Wolterman S.K., Yoo W.J. et. al. // Surface Chemistry and Beam-Solid Interactions (edited by Atwater H., Houle F.A., Lownders D.), Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 201, Pittburgh, PA, 1991, p. 129.

59. Овчинников Н.Л. Кинетика взаимодействия неравновесной плазмы хлора и смесей хлора с аргоном, азотом, кислородом, водородом с кремнием, арсенидом галлия и медью. Автореферат дисс. ...кандидата химических наук. Иваново: ИГХТА 1997.

60. Словецкий Д.И. Гетерогенные реакции в неравновесной галогеносодер- жащей плазме // Сборн. стат. Химия плазмы, 1989. вып. 15, стр. 83.

61. Ефремов A.M., Светцов В.И., Овчинников Н.Л. Суммарные вероятности взаимодействия хлора с медью в низкотемпературной плавзме // Изв. ВУЗов, Химия и хим. технология, 1995, т.38, N 1-2, с.45.

62. Светцов В.И., Ситанов Д.В., Исляйкин A.M. Измерение вероятности гибели атомов на стекле в плазме хлора. Деп. в отд. ВНИИТЭХИМА, г. Черкассы, N 21-хп94.

63. Clyne М.А.А., Stedmane D.H. Recombination of ground state halogen atoms. Part 2. Kinetics of overall recombination of chlorine atoms. -Trans.Faraday Soc, 1988, V.64, N550, part.lO, p.2968-2975.

64. Hutton E. Recombination of chlorine atoms. -Nature, 1964, v.203, N 4977, p.835-836.

65. Хаксли Л., Кромтон P. Диффузия и дрейф электронов в газах. // М.: Мир, 1977,672с.

66. Куприяновская А.П. Закономерности образования активного хлора и его взаимодействия со стеклом и некоторыми металлами. Автореферат дисс. ... канд. химических наук. Иваново: ИХТИ, 1985,233с.

67. Smith W.V. J. Chem. Phys. 11,110 (1943)

68. Linnett J.W., Mardsen D.G. Proc. Roy. Soc. A234,489, 504 (1954)

69. Кондратьева Е.И., Кондратьев В.Н. ЖФХ 20,1231 (1946)

70. Невзоров П.И., Словецкий Д.И., Шелыхманов Е.Ф. Исследование возбуждения частиц и химических реакций в ВЧ-разряде в галогенсодержа-щих газах релаксационным методом. - РЖХ. Плазмохимия, 1987. ч. 1, с. 37 - 74.

71. Иванов Е.Е., Ионих Ю.З. Пенкин Н.П., Чернышева Н.В. Вестник ЛГУ, 1981, N10, с. 123-126.

72. Словецкий Д.И. - в кн.: Химия плазмы (под ред. Б.М. Смирнова), М.: Энергоатомиздат, 1983, вып. 10, с. 108 - 145.

73. Кравченко Ю.С, Осадчук B.C., Сергиенко А.Ф., Словецкий Д.В. - ХВЭ. 1985, Т. 19, с. 548 - 554.

74. Никифоров Н.Н., Лабуда А.А., Босяков М.Н. - ЖПС, 1979, Т. 30, с. 622 - 624.

75. Breibrat T.W., Tiller H.J., Reinbardt R. - Plasma Chem. and Plasma Proc, 1985. V. 5, N4, p. 293-316.

76. Кравченко Ю.С, Осадчук B.C., Словецкий Д.И. Кинетика образования и гибели атомов и молекул хлора, хлоруглеродных радикалов в тлеющем разряде в тетрахлорметане. ХВЭ. 1983, Т. 23, N 6, с. 539 - 544.

77. Волынец В.Н., Словецкий Д.И., Строчков А.Я., Трофимов В.Н. Исследование механизмов гибели радикалов в плазме тлеющего разряда в тетрахлорметане. ЖПС, 1991, Т. 54, N 6.

78. Лопаев Д.В., Смирнов А.В. Неравновесные гетерогенные процессы в плазме с участием атомов кислорода на кварце: экспериментальные результаты и моделирование. 16 - 21.09.2002. Тезисы доклада. Плес, Россия, том 1, с 213 - 216.

79. Clyne М.А.А., Stedman D.H. Recombination of ground state halogenatoms. Part 1. Radiativ recombination of chlorine atoms. - Trans Faraday Soc, 1968, V. 64, N547, p. 1-20.

80. Nordine P.C Posner D.E. Chemiluminescent titration of F with СЬ and microwave production of atomic chlorine, - J. Chem. Soc. Faraday Trans., 1976, N172, p. 1526-1533.

81. Vitec C.J., Bonczuk P.A. F-atom concentration measurement HCl titration. - Chem. Phys. Lett. 1977, V. 46, p. 576 - 578.

82. Bozzelli J.H., Kaufman M. Kinetics and mechanismes of the reactions of atomic fluorine with CF3 and CCUBr. - J. Phys. Chem., 1973, V. 77, p. 1748 -1752.

83. Canduli P.S. Kaufman M. The role of homogeneous recombination of fluorine atoms. - Chem. Phys. Lett., 1974, V. 25, p. 221 - 224.

84. Clyne McCaney D.Y., Walker K.F. Reactions kinetics of ground state fluorine, F2p atoms. Part 1. - Canade J. Chem., 1973, V. 51, p. 35 - 46.

85. Intyre M., McTaggart F.K. Fluorine atoms from RF-electric discharge. - Austral J. Chem., 1971, V. 24, N 12, p. 2683 - 2684.

86. Лебедев О.Г., Муранов M.B., Прусаков В.И. Исследование процесса получения потока атомарного фтора в ВЧ-разряде. - ХВЭ, 1978. Т. 12, N 6, с. 533 - 537.

87. Ogrislo Е.А. Halogen atom reaction. 1. The electrical discharges as a sourse and halogen atoms. - Canade J. Chem., 1961, V. 39, N 12, p. 2556 - 2562.

88. Горохов A.B., Максимов А.И., Сизов В.Д., Степанова Л.С. Ионизационные процессы и диссоциация молекул в столбе тлеющего разряда в хлоре в парах воды. - ЖТФ, 1972, Т. 12, N 10, с. 2176 - 2186.

89. Безмельницин В.Н., Сименский В.Ф., Чайванов Б.Б. Химия атомарного фтора. - В кн. Химия плазмы (под ред. Б.М. Смирнова), вып. 6, - М.: Атомиздат, 1979, с. 89 - 119.

90. Зимина И.Б., Куприяновская А.П., Светцов В.И. Измерение концентрации молекул и атомов хлора в разряде методом абсорбционной спектроскопии. - Изв. ВУЗов: Химия и хим. технология, 1985. Т. 28, вып. 6, с. 39 -42.

91. Richards A.D., Thompson В.Е., Allen K.D., Sawin H.H. Atomic chlorine concentration measurement in plasma etching reactor. 1. A comparison of infrared absorbtion and optical emission actinometry. - J. Appl. Phys., 1987, V. 62, N 3 , p. 792-807.

92. Ефремов A.M., Светцов В.И., Михалкин В.П. Уточнение сечений электронных состояний молекул при математическом моделировании плазмы хлора. ХВЭ, 1995, т. 22, N 6, с. 492 - 493.

93. Хаксли Л., Кромтон Р. Диффузия и дрейф электронов в газах. // М.: Мир, 1977,672с.

94. Исламов Р.Ш., Кочетов И.В., Ревнев В.Г., Анализ процессов взаимодействия электронов с молекулой кислорода. // Препринт N 169. М.: ФИАН СССР 1977, 27.

95. А.М.Ефремов, В.И.Светцов. Особенности математического моделирования плазмы хлора. // Тезисы докладов 1 Региональной межвузовской конференции «Актуальные проблемы химии, хим.технологии и хим.образов. «ХИМИЯ-96», Иваново 22-26.04.96, с.44.

96. Дьяконов В.П, Справочник по алгоритмам и программам на языке Бейсик для персональных ЭВМ // М.: Наука, 1987, с.231.

97. Г.Корн и Т.Корн. Справочник по математике для наз^ных работников и инженеров. // М.: Наука, 1977, с.832.

98. Ganas P.S. Electron impact excitation cros sections for chlorine. - J Appl. Phys., 1988, V. 63, N 2, p. 277 - 279.

99. Zakrzevski L., Tundak T. Effective electron collision frequences for calculation of the complex electric conductivity of weakly ionized noble gas plasmas. - Zesz. nawk. Inst. Masz. Prezephyvs RAN Gdansku Studii Mater., 1986, N232, p. 1-56.

100. Куприяновская А.П., Рыбкин B.B., Соколова Ю.А., Тростин А.Н. Компиляция данных по сечениям элементарных процессов для расчетов коэффициентов скоростей процессов в неравновесных системах. - Деп. ВИНИТИ, 1990, N 921 - В90, с. 2 - 60.

101. Lesley А. Morgan. А critical evaluation of low-energy impact cross sections for plasma processing modeling. I: СЬ, Рг, HCl. // Plasma Chemistry and Plasma Processing, vol.12, N 4,1992, p.213.

102. Volker Pless, Bemd M Nestmann and Sigrid D Peyerimhoff. Vibrational excitation and dissociative attachment in low-energy scattering from diatomic molecules. J. Phys. B: At. Mol. Opt. Phys. V.25,1992, p. 4649-4659.

103. Ситанов Д.В., Светцов В.И., Исляйкин A.M. Измерение вероятности гибели атомов на стекле в плазме хлора. - Деп. НИИТЭКИМ, 1994, N 5, с.20-27.