Генерация плазмы и формирование ионных пучков в источнике с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.13, кандидат физико-математических наук Каменецких, Александр Сергеевич

  • Каменецких, Александр Сергеевич
  • кандидат физико-математических науккандидат физико-математических наук
  • 2006, Екатеринбург
  • Специальность ВАК РФ01.04.13
  • Количество страниц 159
Каменецких, Александр Сергеевич. Генерация плазмы и формирование ионных пучков в источнике с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем: дис. кандидат физико-математических наук: 01.04.13 - Электрофизика, электрофизические установки. Екатеринбург. 2006. 159 с.

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Каменецких, Александр Сергеевич

Введение.

Глава I. Особенности генерации плазмы в двухступенчатых газоразрядных системах.

1.1. Генерация плазмы в двухступенчатых газоразрядных системах.

1.2. Применение многополюсных магнитных систем в источниках ионов.

1.3. Свойства газоразрядного плазменного катода с сеточной стабилизацией.

1.4. Выводы и постановка задач исследований.

Глава II. Генерация плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе с многополюсным магнитным полем в области анода.

2.1. Принцип работы и конструкция газоразрядной системы.

2.2. Вольтамперные характеристики разряда с полым катодом.

2.3. Параметры и ионно-эмиссионные свойства анодной плазмы.

2.3.1. Параметры анодной плазмы.

2.3.2. Эмиссионные свойства анодной плазмы.

2.4. Особенности работы плазменного катода в двухступенчатой газоразрядной системе.

2.4.1. Потенциал катодной плазмы и режимы эмиссии плазменного катода.!.

2.4.2. Устойчивость биполярного диода между плазмой первой и второй ступени.

2.4.3. Влияние площади плазменного катода на эмиссионные и энергетические характеристики газоразрядной системы.

2.5. Выводы.

Глава III. Формирование пучка в ионно-оптических системах с протяжённым ионным слоем между плазмой и экранным электродом.

3.1. Конструкция ионно-оптической системы.

3.2. Угловая расходимость пучка ионов.

3.2.1. Зависимость угла расходимости от первеанса.

3.2.2. Зависимость оптимального значения первеанса от напряжения на ионном слое.

3.2.3. Влияние напряжения на ионном слое на эффективность извлечения ионов из плазмы и минимальный угол расходимости пучка.

3.2.4. Влияние давления газа на эффективность извлечения ионов.

3.3. Экспериментальное исследование процессов в области распространения ионного пучка.

3.3.1. Схема эксперимента.

3.3.2. Баланс токов на электроды модифицированного цилиндра Фарадея.

3.3.3. Результаты экспериментов с модифицированным цилиндром Фарадея.

3.4. Выводы.

Глава IV. Источник широких пучков ионов газов с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем в области анода.

4.1. Конструкция ионного источника.

4.2. Рабочие характеристики источника.

4.1. Выводы.

Рекомендованный список диссертаций по специальности «Электрофизика, электрофизические установки», 01.04.13 шифр ВАК

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Генерация плазмы и формирование ионных пучков в источнике с сетчатым плазменным катодом и магнитным мультиполем»

Разработка плазменно-эмиссионных устройств подразумевает поиск. наиболее эффективных способов генерации первичных электронов и формирования плазмы с требуемой концентрацией, зарядовым и массовым составом ионов, а также площадью эмиссионной поверхности и распределением плотности эмиссионного тока в характерных для работы устройства условиях.

Требования, предъявляемые к электронному эмиттеру и генератору плазмы в рамках конкретного технологического применения, накладывают ограничения на возможность использования тех или иных разрядных устройств и диапазон изменения их рабочих параметров. Преодолеть эти трудности и существенно расширить диапазон рабочих параметров ионных источников позволило использование двухступенчатых разрядных систем. В устройствах на основе двухступенчатого разряда первая ступень является плазменным катодом, во второй ступени создаются условия для наиболее полной энергетической релаксации инжектированных электронов и формирования ионного эмиттера. Оптимизация условий в каждой из ступени позволяет не только сформировать электронный и ионный эмиттер с требуемыми характеристиками, но и понизить рабочее давление, напряжение горения разряда, что способствует увеличению газовой экономности и энергетической эффективности ионного источника. Кроме того, образование первичных электронов, сопровождающееся распылением и испарением материала катода в результате ионной бомбардировки и нагрева, происходит в первой ступени, что обеспечивает значительное снижение примесей ионов металла в пучке.

Важным шагом в развитии двухступенчатых систем было создание источников с сетчатым плазменным катодом, использование которого позволяет независимо изменять ток эмиссии и энергию быстрых электронов и открывает дополнительную возможность по управлению плотностью плазмы, зарядовым и массовым составом ионов. Для дальнейшего улучшения характеристик двухступенчатых источников ионов с сетчатым плазменным катодом целесообразно использовать электростатические и магнитные ловушки во второй ступени газоразрядной системы, что обеспечит эффективную энергетическую релаксацию электронов и генерации плотной плазмы. При этом важно, чтобы с использованием системы удержания электронов обеспечивалось извлечение значительной доли генерируемых ионов и равномерное распределение плотности тока эмиссии ионов. Указанные требования не допускают возможность эксплуатации ряда известных систем удержания электронов в источнике ионных пучков большого сечения, но могут быть выполнены при использовании у поверхности полого анода периферийного магнитного поля, создаваемого многополюсной магнитной системой.

Вышеизложенное позволяет сделать вывод о том, что тематика диссертационной работы, направленная на исследование генерации плазмы и формирования пучка ионов в двухступенчатом ионном источнике с сетчатым плазменным катодом и многополюсной магнитной системой удержания быстрых электронов, представляется актуальной.

Цель работы заключалась в исследовании генерации плазмы и формирования пучка в двухступенчатом ионном источнике с- сетчатым плазменным катодом и периферийным магнитным полем в области анода:

Научная новизна работы заключается в том, что:

1. Разработана двухступенчатая газоразрядная система, включающая в себя электронный эмиттер на основе тлеющего разряда с полым катодом и многополюсную магнитную систему удержания быстрых электронов в анодной ступени.

2. Определены условия, при которых обеспечивается устойчивая работа двухступенчатого газоразрядного устройства с сетчатым плазменным катодом и достигается наибольшая эффективность генерации ионов.

3. Показано, что в ионно-оптической системе с протяжённым ' слоем пространственного заряда между плазмой и экранным электродом независимое управление напряжением на слое в характерном для двухступенчатого источника диапазоне 50 - 200 В и током пучка позволяет уменьшить угловую расходимость пучка при постоянном значении первеанса и повысить эффективность извлечения ионов из плазмы за счёт оптимизации положения и формы эмитирующей поверхности.

4. Предложена методика, основанная на использовании неэквипотенциального цилиндра Фарадея с изменяемой полярностью потенциала стенок для исследования влияния процессов в области распространения пучка и на поверхности электродов на результаты электрических измерений тока в цепи коллектора ионов и ускоряющего электрода ионно-оптической системы.

Научная и практическая ценность работы состоит в том, что:

1. Результаты исследований генерации плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе, режимов эмиссии сетчатого плазменного катода при наличии интенсивного обратного потока ионов, формирования пучка ионно-оптической системой с протяженным слоем пространственного заряда между плазмой и экранным электродом открывают возможность существенного улучшения характеристик двухступенчатых ионных источников с сетчатым плазменным катодом.

2. С помощью предложенной в работе методики на основе модифицированного цилиндра Фарадея может быть оценен вклад вторичных электронов, ионов перезарядки и ионов, образованных в области распространения пучка, в токи, измеряемые в цепи коллектора пучка и ускоряющего электрода, а также в широком диапазоне энергий определены значения коэффициента ионно-электронной эмиссии коллектора и сечения резонансной перезарядки ионов пучка.

3. На основании проведённых исследований создан двухступенчатый источник, генерирующий пучки ионов газа с площадью поперечного сечения 50 л см и током до 420 мА при рекордно высоком для источников на основе тлеющего разряда значении энергетической эффективности до 0,5 А/кВт. Устройство отвечает современному уровню требований, предъявляемых к источникам газовых ионов, что обеспечивает возможность его практического применения в ионно-лучевых технологиях нанесения покрытий.

Работа была выполнена в рамках Федеральной целевой научно-. технической программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития науки и техники» по контракту с Министерством промышленности, науки и технологии РФ № 40.030.11.1126.

Диссертационная работа состоит из четырёх глав.

В первой главе рассмотрены особенности генерации плазмы в двухступенчатых газоразрядных системах и устройствах с многополюсными магнитными системами удержания быстрых электронов, обоснована целесообразность совместного использования электронного эмиттера на основе тлеющего разряда с полым катодом в первой ступени и полого анода с периферийным магнитным полем во второй ступени, сделан вывод о необходимости исследования условий устойчивой работы и режимов эмиссии сетчатого плазменного катода, ионно-эмиссионных свойств анодной плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе.

Вторая глава посвящена исследованиям генерации плазмы в двухступенчатой газоразрядной системе с многополюсным магнитным полем в области анода. В главе представлена конструкция экспериментального макета, определены условия, при которых происходит переход сетчатого плазменного катода в режим эмиссии с открытой плазменной поверхности при наличии интенсивного обратного потока ионов, и условия, при которых нарушается устойчивость биполярного диода между катодной и анодной плазмой.

В третьей главе приведены результаты экспериментов по исследованию формирования пучка газовых ионов ионно-оптической системой с протяжённым слоем пространственного заряда между плазмой и экранным электродом; предложена основанная на использовании неэквипотенциального цилиндра Фарадея методика исследования процессов в области дрейфа пучка и их влияния на электрические измерения тока в цепи коллектора пучка и ускоряющего электрода.

Четвёртая глава посвящена описанию конструкции двухступенчатого ионного источника с сетчатым плазменным катодом, и многополюсной магнитной системой в области анода, созданного на основе проведённых исследований, и его рабочих характеристик.

Полученные результаты позволяют сформулировать следующие научные положения:

1. Использование в источнике газовых ионов двухступенчатой газоразрядной системы с сетчатым плазменным катодом на основе тлеющего разряда и многополюсным магнитным полем в области анода второй ступени обеспечивает высокую эффективность (0,5 А/кВт) генерации широких ионных пучков с равномерным (степень неоднородности не более 10%) распределением плотности тока (до 8 мА/см ) по сечению пучка.

2. Вклад в увеличение частоты ионизации и тока ионов из плазмы анодной ступени с магнитным мультиполем с ростом давления газа обусловлен повышением тока эмиссии электронов в результате увеличения плотности обратного потока ионов, изменения величины и знака анодного падения потенциала в тлеющем разряде с полым катодом и перехода плазменного катода в режим эмиссии электронов с открытой плазменной границы.

3. В двухступенчатой газоразрядной системе увеличение площади сетчатого плазменного катода и соответствующее повышение потенциала катодной плазмы обеспечивает снижение давления газа, при котором происходит переход в высокоэффективный режим эмиссии электронов, а уменьшение плотности обратного ионного потока способствует повышению величины предельного давления, ограничивающего диапазон устойчивости биполярного диода между плазмой первой и второй ступени.

4. Использование неэквипотенциального цилиндра Фарадея с изменяемой полярностью потенциала стенок позволяет определить в широком диапазоне значений энергии ускоренных ионов и давления газа значение коэффициента ионно-электронной эмиссии материала коллектора ионного пучка и сечения перезарядки ускоренных ионов, а также оценить вклад процессов ионизации газа быстрыми вторичными электронами и ускоренными ионами и перезарядки ионов пучка в частоту генерации медленных ионов в области дрейфа пучка.

10

Похожие диссертационные работы по специальности «Электрофизика, электрофизические установки», 01.04.13 шифр ВАК

Заключение диссертации по теме «Электрофизика, электрофизические установки», Каменецких, Александр Сергеевич

Результаты работы докладывались и обсуждались на 10 Международной конференции по ионным источникам (Дубна, 2003), 7 Международной конференции по модификации материалов пучками частиц и потоками плазмы (Томск, 2004 г.), 13 Международном симпозиуме по сильноточной электронике (Томск, 2004 г.) и представлены в сборниках докладов конференций [103, 109] и статьях [101, 102, 104, 105, 110, 111]. По результатам работы получено 2 патента на изобретение [100, 114].

Личный вклад соискателя состоит в создании экспериментального макета двухступенчатой газоразрядной системы, выборе методик исследования, непосредственном участии в выполнении всех этапов работы. Определение целей и задач исследований, обсуждение полученных результатов, их анализ и обобщение, редакция основных выводов и научных положений проводились совместно с научным руководителем д.т.н. Н. В. Гавриловым.

В заключение автор выражает искреннюю благодарность д.т.н. Н. В. Гаврилову, под руководством которого была выполнена данная работа, и сотрудникам лаборатории пучков частиц ИЭФ УрО РАН за помощь, оказанную при создании ионного источника и проведении экспериментов.

153

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Каменецких, Александр Сергеевич, 2006 год

1. Gavrilov N. V., Mesyats G. A., Radkovski G. V., Bersenev V. V. Development of technological sources of gas ions on the basis of hollow-cathode glow discharges. // Surface and Coating Technology, 1997, V.96, p.81.

2. Габович M. Д. Физика и техника плазменных источников ионов. М.: Атомиздат, 1972.

3. Каминский М. Атомные и ионные столкновения на поверхности металла. М.: Мир, 1967.

4. The physics and technology of ion sources. / edited by Brown I. G. Wiley-VCH Verlag Weinheim, 2004.

5. Райзер Ю. П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987.

6. Грановский В. А. Электрический ток в газе. Установившийся ток. М.: Наука, 1971.

7. Месси Г., Бархоп Е. Электронные и ионные столкновения. М.: Изд. Иностранной литературы, 1958.

8. Andrews J. G., Allen J. E. Theory of double sheath between two plasmas. // Proc. Roy. Soc. Lond. A., 1971, V.320, p.459.

9. Goertz С. K., Joyce G. Numerical simulation of the plasma double layer. // Astrophysics and space science, 1975, V.32, p.165.

10. Joyce G., Hubbard R. F. Numerical simulation of the plasma double layers. // J. Plasma. Physics, 1978, V.20, p.391.1.. Block L. P. A double layer review. // Astrophysics and space science, 1978, V.55, p.59.

11. Langmuir I. The interaction of electron and positive ion space charge in cathode sheaths. // Phys. Rev., 1929, V.33, p.954.

12. Метель А. С. Расширение рабочего диапазона давлений тлеющего разряда с полым катодом. // ЖТФ, 1984, Т.54, В.2, с.241.

13. Kelley G. G., Lasar N. Н., Morgan О. В., A source for the production of large dc ion currents. // Nucl. Instr. Methods, 1961, V. 10, p.263.

14. Bacon F. M. Gas Discharge ion source 1. Duoplasmatron. // Rev. Sci. Instrum., 1978, V.49, №4, p.427.

15. Morgan О. В., Kelley G. G., Davis R. C. Technology of intense dc ion beam. // Rev. Sci. Instrum., 1967, V.3 8, №4, p.467.

16. Демирханов P. А., Курсанов IO. В., Благовещенский В. M. Источник протонов высокой интенсивности. // ПТЭ, 1964, №1, с.ЗО.

17. Davis R. С., Morgan О. В., Stewart L. D., Stiring W. L. A multiaperture duopigatron ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1972, V.43, №2, p.278.

18. Ruffel J. P., Douglas-Hamilton D. H., Kaim R. E., Izumi K. A high current, high voltage oxygen ion implanter. //Nucl. Instrum. Methods B, 1987, V.21, p.229.

19. Bacon F. M., Bickes R. W., O'Hagan J. B. Gas discharge ion source. II. Duopigatron. // Rev. Sci. Instrum., 1978, V.49, №4, p.435.

20. Stirling W. L., Tsai С. C., Ryan P. M. 15 cm Duopigatron ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1977, V.48, p.533.

21. Menon M. M., Tsai С. C., Whealton J. H. et. all. Quasi-steady-state multimegawatt ion source for neutral beam injection. // Rev. Sci. Instrum., 1985, V.56, №2, p.242.

22. Завьялов M. А., Крейндель Ю. E., Новиков JI. П., Шатурин Л. П. Плазменные процессы в технологических электронных пушках. М.: Энергоатомиздат, 1989.

23. Ивлев А. М., Коржавый А. П., Москвина А. И. Долговечность алюминиевых катодов при малых давлениях газа. // Электронная техника, сер. Электровакуумные и газоразрядные приборы, 1979, В.8(77), с.67.

24. Абрамович Л. Ю., Клярфельд Б. Н., Настич Ю. Н. Сверхплотный тлеющий разряд с полым катодом. // ЖТФ, 1966, Т.36, В.4, с.714.

25. Форрестер А. Т. Интенсивные ионные пучки. М.: Мир, 1992.

26. Вишневский А. И., Зильберберг В. Г., Карпинос Д. М. и др. Холодные катоды для газоразрядных высоковольтных устройств из керметов на основе двуокиси циркония. // Порошковая металлургия, 1968, №11(71), с.ЗЗ.

27. Новиков А. А., Мельник В. И., Морозов В. В., Бесов А. В. Разработка и исследование новых катодных материалов для устройств высоковольтного тлеющего разряда. // Электронная техника, сер. Материалы, 1983, В. 10(183), с.23.

28. Москалёв Б. И. Разряд с полым катодом. М.: Энергия, 1969.

29. Крейндель Ю. Е. Плазменные источники электронов. М.: Атомиздат, 1977.

30. Мартене В. Я., Белюк С. И., Посохов В. Н. Источник газовых ионов непрерывного действия с пучком большого сечения. // ПТЭ, 1992, №2, с. 194.

31. Журавлёв Б. И., Прилепский В. В., Горлатов В. С. Технологический источник ионов. // ПТЭ, 1993, №3, с.215.

32. Луценко Е. И., Середа Н. Д., Концевой Л. М. Двойные электрические слои в прямом разряде. // ЖТФ, 1975, Т.45, В.4, с.789.

33. Johnson J. С., Merlino R. L., D'Angelo N. Double layers formed by ion-beam injection in a double-plasma device. // J. Phys. D.: Appl. Phys., 1989, V.22, p.1456.

34. Визирь А. В., Оке E. M., Щанин П. M., Юшков Г. Ю. Несамостоятельный тлеющий разряд с полым катодом для широкоапертурных ионных источников. // ЖТФ, 1997, Т.67, В.6, с.27.

35. Limpaecher R., MacKenzie К. R. Magnetic multipole containment of large uniform collisionless quiescent plasmas. // Rev. Sci. Instrum., 1973, V.44, №6., p.726.

36. Leung K. N., Hershkowitz N., MacKenzie K. R. Plasma confinement by localized cusps. // Phys. Fluids., 1976, V.19, №7, p.i045.

37. Holmes A. J. T. Role of the anode area in the behavior of magnetic multipole discharges. // Rev. Sci. Instrum., 1981, V.52, №12, p. 1814.

38. Leung K. N., Kribel R. E., Goede A. P. H., Green T. S. Primary electron confinement measurement in a multipole device. // Phys. Lett., 1978, V.66A, №2, p.112.

39. Cope D., Keller J. H. Characterization of multipole ion source for ion implantation. // J. Appl. Phys., 1984, V.56, №1, p.96.

40. Глазунов В. H., Метель А. С. О механизме потерь быстрых электронов в тлеющем разряде с осциллирующими электронами. // Физика плазмы, 1982, Т.8, №5, с.1099.

41. Thorton J. A. Magnetron sputtering: basic physics and application to cylindrical magnetron. // J. Vac. Sci. Technol., 1978, V.15, №2, p. 171.

42. Оке E. M., Чагин А. А., Щанин П. M. Плазменный источник стационарных трубчатых электронных и ионных пучков. // ПТЭ, 1992, №2, с.183.

43. Клярфельд Б. Н., Неретина Н. А. Анодная область в газовом разряде при низких давлениях. // ЖТФ, 1958, Т.28, В.2, с.291.

44. Ehlers К. W., Leung К. N. Increasing the efficiency of multicusp ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1982, V.53, №9, p.1429.

45. Ehlers K. W., Leung K. N. Characteristics of the Berkeley multicusp ion source.//Rev. Sci. Instrum., V.50, №11, p.1353.

46. Lee Y., Gough R. A., Kunkel W. B. A compact filament-driven multicusp ion source. //Nucl. Instrum. and Methods in Phys. Res., 1996, В 119, p.543.

47. Ehlers K. W., Leung K. N. Further study on magnetically, filtered multicusp ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1982, V.53, №9, p. 1423.

48. Fumelli M., Valckx F. P. G. The periplasmatron, an ion source for intense neutral beams. // Nucl. Instrum. Methods, 1976, V.135, p.203.

49. Brainard J. P., O'Hagan J. B. Single-ring magnetic cusp ion source. // Rev. Sci. Instrum., 1983, V.54, №9, p.1497.

50. Wutte D., Freedman S., Gough R. et. all. Development of an rf driven multicusp ion source for nuclear science experiments. // Nucl. Instrum. Methods in Phys. Res., 1998, В 119, p.409.

51. Оке E. M. Источники электронов с плазменным катодом: физика, техника, применения. Томск: Изд-во HTJI, 2005.

52. Семёнов А. П., Нархинов В. П. Плазменный эмиттер на основе тлеющего разряда в электродной структуре сетчатого и пластинчатого катодов большой площади. // ПТЭ, 1996, №3, с.98.

53. Белюк С.И, Осипов И. В., Ремпе Н. Г. Промышленное применение электронных источников с плазменным эмиттером. // Изв. вузов. Физика, 2001, №9, с.77.

54. Семёнов А. П., Нархинов В. П. Плазменный источник электронов с радиально сходящимся пучком. // ПТЭ, 1993, №2, с. 131.

55. Мытников А. В., Оке Е. М., Чагин А. А. Источник электронов с плазменным катодом для генерации пучков в форвакуумном диапазоне давлений. //ПТЭ, 1998, №2, с.95.

56. Гаврилов Н. В., Осипов В. В., Буреев О. А. и др. Плазменный катод электронного ускорителя с большим сечением пучка. // ЖТФ, 2005, Т.31, В.З, с.72.

57. Галанский В. Л., Крейндель Ю. Е., Оке Е. М. и др. Эмиссионные свойства анодной плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления. // ЖТФ, 1987, Т.57, В.5, с.877.

58. Riemann К. U. The Bohm criterion and sheath formation. // J. Phys. D: Appl. Phys., 1991, V.24, p.492.

59. Жаринов А. В, Коваленко Ю. А., Роганов И. С., Тюрюканов П. М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. I. // ЖТФ, 1986, Т.56, В.1, с.66.

60. Жаринов А. В, Коваленко Ю. А., Роганов И. С., Тюрюканов П. М. Плазменный эмиттер электронов с сеточной стабилизацией. И. // ЖТФ, 1986, Т.56, В.4, с.687.

61. Крейндель Ю.Е. Разработка и применение источников интенсивных электронных пучков, Новосибирск.: Наука, 1976.

62. Gavrilov N.V., Kuleshov S.V. A source of ribbon gas ion beams. // Proc. of 5 Conference on Modiflcstion of Materials with Particle Beams and Plasma Flow, Tomsk. «Vodoley», 2000, p. 181.

63. Галанский В. JL, Крейдель Ю. Е., Оке Е. М. и др. Условия образования анодной плазмы дугового разряда низкого давления. // Теплофизика высоких температур, 1987, Т.25, № 5, с. 880.

64. Ионов Н. И. Исследование газоразрядной и космической плазмы с помощью многоэлектродных зондов. // ЖТФ, 1964, Т.34, В.5, с.769.

65. Удовиченко С. Ю. Электрическая прочность ускоряющего промежутка в плазменном источнике заряженных частиц. // ЖТФ, 2000, Т.70, В.З, с.19.

66. Крейндель Ю. Е., Никитинский В. А. Электрический пробой промежутка между плазмой и положительным электродом. // ЖТФ, 1971, Т.41, В.11, с.2378.

67. Клярфельд Б. Н., Тимофеев А. А., Неретина Н. А., Гусева JI. Г. Характеристики зондов при положительных потенциалах и измерение плотности газа в разряде. // ЖТФ, 1955, Т.25, В.9, с.1581.

68. Johnson Е. О., Malter L. A Floating Double Probe Method for Measurement in Gas Discharge. // Phys. Rev., 1950, V.80, №1, p.58.

69. Козлов О. В. Электрический зонд в плазме. М.: Атомиздат, 1969.

70. Бурачевский Ю. А., Бурдовицин В. А., Мытников А. В., Оке Е. М. О предельном рабочем давлении плазменного источника электронов на основе разряда с полым катодом. // ЖТФ, 2001, Т.71, №2, с.48.

71. Danilishin D. G., Burdovitsin V. A., Burachevskii Yu. A., Oks Е. М. Plasma expansion in the anode emission channel of an electron source. // Russian Physics Journal, 2001, V.44, №5, p.478.

72. Burachevskii Yu. A., Burdovitsin V. A., Kuzemchenko M. N., Mytnikov A. V., Oks E. M. Generation of electron beams in the range of forevacuum pressures. // Russian Physics Journal, 2001, V.44, №9, p.996.

73. Бурдовицин В. А., Куземченко M. H., Оке Е. М. Об электрической прочности ускоряющего промежутка плазменного источника электронов в форвакуумном диапазоне давлений. // ЖТФ, 2002, Т.72, №7, с.134.

74. Плешивцев Н. В., Бажин А. И. Физика воздействия ионных пучков на материалы. М.: Вузовская книга, 1998.

75. Гушенец В. И., Крейндель М. Ю., Оке Е. М. и др. К вопросу о зарядовой компенсации широкоапертурных ионных пучков. // Тез. докл. 9 Симпозиума по сильноточной электронике, (Научно-техническая редакция «Гиперокс», Россия, 1992, с. 117.

76. Габович М. Д. Ионно-пучковая плазма и распространение интенсивных компенсированных ионных пучков. // Успехи физических наук, 1977, Т. 121, В.2, с.259.

77. Оке. Е. М., Юшков Г. Ю. Влияние ионизации остаточного газа на электрические измерения тока ионного пучка. // Тез. докл. 9 Симпозиума по сильноточной электронике, (Научно-техническая редакция «Гиперокс», Россия, 1992, с.90.

78. Whealton J. Н., L. R. Grisham, Tsai С. С., Stirling W. L. Effect of preacceleration voltage upon ion-beam divergence. // J. Appl. Phys. 49(6), 1978, p.3091.

79. Medows G. A., Free B. A. Effect of a decel electrode on primary and charge-excharge ion trajectories. //AIAA Paper, 1975, №75 427.

80. Демирханов P. А., Курсанов Ю. В., Скрипаль JI. П. Эмиссия ионов из плазменного-пучкового разряда. //ЖТФ, 1970, т. XL, в. 7, с. 1351.

81. Мартене В. Я. Эмиссия ионов из неравновесной плазмы. //Известия высших учебных заведений, 2001, №9, с. 90.

82. Гаврилов Н. В., Никулин С. П., Радковский Г. В. Источник интенсивных широких пучков ионов газов на основе разряда с полым катодом в магнитном поле. //ПТЭ, 1996, №1, с.93.

83. Коваленко Ю. А. Физические принципы построения и методы расчёта газонаполненных ускоряющих систем с плазменными эмиттерами заряженных частиц. // Дисс. На соискание учёной степени доктора физ.-мат. Наук. Москва. 1995.

84. Смирнов Б. М. Асимптотические методы в теории атомных столкновений. //М.: Атомиздат, 1973, с. 185.

85. Дж. Хаствед. Физика атомных столкновений. // М.: Мир, 1965 / пер. с анг. Флакса И. П., под ред. Федоренко Н. В.

86. Патент РФ №2240627. Ионный источник с холодным катодом. / Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. / Заявл. 02.06.2003. Опубл. 20.11.2004. Бюл. №32.

87. Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. Ионно-эмиссионные свойства плазмы источника ионов газов с плазменным катодом. // ДАН, Физика, 2004, Т.394, №2, с.1.

88. Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. Характеристики источника , с плазменным катодом и многополюсной магнитной системой удержания быстрых электронов. // ЖТФ, 2004, Т.74, В.9, с.97.

89. Gavrilov N. V., Kamenetskikh A. S. The feature of gridded plasma cathodethoperation at ion sources. // Proc. of 13 International Symposium on High Current Electronics, Tomsk, 2004, p.45.

90. Гаврилов H. В., Каменецких А. С. Особенности функционирования плазменного катода с сеточной стабилизацией в двухступенчатом ионном источнике. //ЖТФ, 2006, Т.76, В.2, с.57.

91. Gavrilov. N. V., Kamenetskikh A. S. Glow-discharge-driven bucket ion source. // Rev. Sci. Instum., 2004, V.75, №5, p. 1875.

92. W. Ecktein. Calculated sputtering, reflection and range values. // IPP.9/117, 1998.

93. Визирь А. В., Оке E. M., Юшков Г. Ю. Ионно-эмиссионные свойства несамостоятельного разряда с полым катодом. // Известия вузов. Физика, 1999, №2, с. 14.

94. Vizir А. V., Oks Е. М., Shandrikov М. V., Yushkov G. Yu. Effective source of high purity gaseous plasma. // Proc. of 7th International conference on modification of material with particle beams and plasma flow, Tomsk, 2004, p.81.

95. Gavrilov N. V., Kamenetskikh A. S. A broad beam ion source with a gridthbounded plasma cathode. // Proc. of 7 International Conference on Modification of Material with Particle Beams and Plasma Flows, Tomsk, 2004, p.61.

96. Гаврилов H. В., Каменецких А. С., Мамаев А. С. Разработка источников ионов для ионно-плазменных технологий нанесения покрытий. // Вестник УГТУ-УПИ, 2004, №5 (35), 4.2, с.195.

97. Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. Источник ионов газов с сетчатым плазменным катодом. // ПТЭ, 2005, №2, с.107.

98. Маишев Ю. П. Источники ионов для реактивного ионно-лучевого травления и нанесения плёнок. // Электронная промышленность, 1990, №5, с. 15.

99. Маишев Ю. П. Источники ионов и ионно-лучевое оборудование для нанесения и травления материалов. // Вакуумная техника и технология, 1992, Т.2, №4, с.53.

100. Патент РФ №2250577 Газоразрядный плазменный катод. / Гаврилов Н. В., Каменецких А. С. / Заявл. 15.07.2003. Опубл. 20.04.2005. -Бюл. №11.

Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.