Электростатическая зарядка проводящих и диэлектрических мишеней в электронно-пучковой плазме тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.08, кандидат наук Аунг Чжо У

• Аунг Чжо У
• кандидат наук
• 2021

Оглавление диссертации кандидат наук Аунг Чжо У

Введение

1. Свойства и методы генерации электронно-пучковой плазмы

2. Общие свойства электронно-пучковой плазмы (ЭПП)

3. Особенности генерации электронно-пучковой плазмы (ЭПП) в двухфразных и многофазных средах

Глава. 1. Физические и химические процессы в плотных средах под влиянием электронного пучка. Генерация и свойства ЭПП. Электрические явления при взаимодействии электронно-пучковой плазмы с поверхностью

1.1. Научные предпосылки

1.2. Тепловое и химическое взаимодействие плазмы с поверхностью

1.3. Электростатическая зарядка тел, помещенных в облако электронно-пучковой плазмы, электрический потенциал электропроводящей и диэлектрической мишени, дифференциальная зарядка диэлектриков

1.4. Электропроводность плазмы

1.5. Генерация электронно-пучковой плазмы в диэлектрическом контейнере

1.6. Производственные и аэрокосмические плазменные технологии

Глава 2. Цели и задачи диссертационного исследования

Глава Э.Экспериментальная установка и методика проведения эксперимента

3.1. Экспериментальная установка

3.1.1. Генератор электронно-пучковой плазмы

3.1.2. Система управления генератором электронно-пучковой плазмы

3.1.3. Функционирование экспериментальной установки

3.1.4. Формровиание реакционного объема

3.2. Методы измерений и процедуры проведения экспериментов

3.2.1. Измерение электрического потенциала мишеней и элементов конструкции реакционной камеры

3.2.2. Система измерения давления в рабочей камере экспериментальной установки

3.2.3. Система регистрации измеряемых величин

Глава 4. Результаты испытаний лабораторной установки и проведенных экспериментов

4.1. Исследование электростатической зарядки элементов конструкции реакционной камеры и макроскопических тел, помещенных в газофазный реакционный объем

4.2. Электростатическая зарядка твердых частиц в ЭПП аэрозоля

4.3. Исследование электростатической зарядки элементов конструкции реакционной камеры и макроскопических тел, помещенных в газожидкостных потоках ЭПП

4.4. Исследование электростатической зарядки элементов конструкции реакционной камеры планарной конфигурации

5.Выво д

6. Список литературы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Электростатическая зарядка проводящих и диэлектрических мишеней в электронно-пучковой плазме»

Введение

Актуальность работы. Электростатика является одной из основных проблем при эксплуатации оборудования, работающего в космосе. На текущий момент времени процессы, приводящие к появлению нескомпенсированного заряда на космическом летательном аппарате (КЛА) под влиянием факторов космического полета и, прежде всего, из-за облучения аппарата высокоскоэнергетичными заряженными частицами, входящими в состав солнечного ветра, изучены достаточно глубоко. Этой проблеме посвящены работы [1,2] и другие. Поток заряженных частиц, распространяющийся со стороны Солнца и падающий на поверхность КЛА [3], приводит к возникновению статических зарядов на внешних элементах конструкции, и возникновению значительной разности потенциалов между различными зонами аппарата. Последнее приводит к возникновению электрического пробоя и влиянию на работу электроники КЛА. Данные явления очень хорошо изучены как экспериментально, так и теоретически. Найден способ нейтрализации статического заряда космического аппарата как интегрально, так и локально [3].

Значительно меньшее внимание уделялось изучению внутренних электрофизических процессов бортовых систем, в которых наблюдается влияние потока заряженных частиц на жидкости, в первую очередь - на свободные струи и капли. Примером такой системы является капельный холодильник-излучатель энергоустановок, предназначенных для длительных космических полетов [4].

В пучково-плазменных системах технологического назначения также имеет место взаимодействие электронных пучков и/или возбуждаемой ими неравновесной плазмы с поверхностью твердого тела или частицами

конденсированной дисперсной фазы [5-7]. Такое взаимодействие характерно для плазмохимических реакторов, используемых для производства материалов, поверхностной обработки изделий, переработки порошков различной природы [8].

Применительно к пучково-плазменным плазмохимическим реакторам постановка задачи для диссертационного исследования выглядит следующим образом: электронный пучок инжектируется в плазмообразующую среду, находящуюся внутри некоторого контейнера, возбуждая неравновесную химически активную плазму. В качестве плазмообразующей среды могут использоваться чистые газы, газовые и парогазовые смеси, а также аэрозоли, содержащие диспергированные по плазменному объему частицы порошков или жидких капелек. Взаимодействие электронно-пучковой плазмы (или, как ее часто называют в англоязычной литературе, Electron-Beam-Generated Plasma) со стенками контейнера, макроскопическими объектами, расположенными внутри него, а также с мелкодисперсными твердыми и жидкими частицами является многофакторным и сопровождается самыми разнообразными физическими и химическими процессами [9]. В числе этих процессов заметную роль играет электростатическая зарядка, так как любые поверхности тел в плазме могут приобрести нескомпенсированный заряд [3, 10, 11]. Электростатическая зарядка может существенно повлиять на рабочие процессы в плазмохимических реакторах, на устойчивость реакционного объема, а также вызвать повреждение реактора или материалов при их обработке. Таким образом, накопление электростатического заряда объектами, контактирующими с электронно-пучковой плазмой, во многом определяет функционирование пучково-плазменных систем в целом. Экспериментальному исследованию процессов и явлений, связанных

электростатической зарядкой элементов конструкции пучково-плазменных реакторов и обрабатываемых в них материалов, посвящена настоящая работа.

Апpoбaция paбoты: Результаты диссертационной работы были представлены на следующих конференциях, симпозиумах и научных семинарах:

1. VIII Международный симпозиум "Теоретическая и прикладная плазмохимия", г. Иваново, Россия, 2018.

2. 61-ая Всероссийская научная конференция, Московский физико-технический институт, г. Долгопрудный, Россия, 2018.

3. 14-ая Международная научно-техническая конференция «Вакуумная техника, материалы и технология», г. Москва, 2019.

4. Ежегодного саммита молодых ученых и инженеров «Большие вызовы для общества, государства и науки», Университет СИРИУС (Сочи), 2019.

5. 62-ая Всероссийская научная конференция, Московский физико-технический институт, г. Долгопрудный, Россия, 2019.

6. 63-ая Всероссийская научная конференция, Московский физико-технический институт, г. Долгопрудный, Россия, 2020.

7. 27-я научно-техническая конференция с участием зарубежных специалистов «Вакуумная наука и техника» (ТОК «Судак», Республика Крым, 2020).

8. 15-я Международная выставка вакуумного и криогенного оборудования, Москва, Россия, 2020.

Публикации:

По теме диссертационного опубликовано 10печатных научных работ, из них 5 - статьи в рецензируемых научных журналах, входящих в перечень

ВАК РФ, из них 1 - статей в изданиях, индексируемых в международных базах данных (SCOPUS), из них 4 - тезисы докладов российских и международных конференций.

Структура и объем диссертации

Диссертационная работа состоит из введения, четырех глав, заключения, списка литературы и приложений. Диссертация изложена на 113 страницах, содержит 33 рисунков и 4 таблиц. Список литературы включает 135 источников.

Во Введении кратко описаны техника генерации электронно-пучковой плазмы и ее основные свойства. Отражены особенности генерации электронно-пучковой плазмы в вблизи поверхности диэлектриков, а также генерации электронно-пучковой плазмы вдвухфазных и многофазных средах. Сформулирована общая направленность диссертационного исследования и обоснована его актуальность. Охарактеризована структура диссертации.

Первая глава содержит краткий обзор наиболее значимых работ, относящихся к тематике диссертационного исследования. Рассмотрены современное состояние задачи электростатической зарядки тел под влиянием электронно-пучковой плазмы или неподвижного плазменного облака. Дан обзор литературных данных по генерации электронно-пучковой плазмы в газожидкостных системах и в средах, содержащих конденсированную дисперсную фазу.

В главе 2 на основании проделанного анализа современного состояния научно-технических проблем, относящихся к тематике диссертационного исследования, и доступной литературы конкретизирована цель работы и сформулированы задачи, которые необходимо решить для достижения поставленной цели. Сформулированы практическая значимость и научная

новизна результатов диссертационного исследования. Приведены данные об апробации работы и публикациях автора, по теме диссертационного исследования.

В главе 3 описана экспериментальная установка, предназначенная для проведения экспериментовс пучково-плазменными реакторами, оснащенными реакционными камерами различной конструкции. Описаны методики проведения экспериментов по исследованию электростатической зарядки различных объектов для различных условий генерации плазмы.

В главе 4 рассмотрены экспериментальные результаты исследования электростатической зарядки конструктивных элементов реакционной камеры и макроскопических тел, помещенных в реакционный объем. Эксперименты проводились с различными плазмообразующими средами (неподвижными пучково-плазменными образованиями и плазменными потоками) для различных конфигураций реакционного объема.

В заключении подводятся итоги диссертационной работы.

1. Свойства и методы генерации электронно-пучковой плазмы

Методы генерации электронно-пучковой плазмы (ЭПП), возникающей в результате влияния непрерывного сфокусированного электронного пучка

(ЭП), достаточно подробно рассмотрена в [5-7, 12]. Когда ЭП проходит через плазмообразующий газ, он рассеивается в упругих и неупругих столкновениях с его молекулами. В результате неупругих столкновений электроны пучка тормозятся, а выделяющаяся при этом энергия идет на ионизацию, возбуждение и диссоциацию молекул газа. В результате формируется плазменное облако [3], форма и размеры которого определяются процессами рассеяния электронов (как упругого, так и неупругого). Релаксация возбужденных состояний плазмообразующего газа сопровождается эмиссией оптического излучения в УФ, видимом и ИК диапазонах спектра. Интенсивность свечения и другие свойства плазмы в различных точках плазменного облака зависят от пространственных координат х, у, z ^ - координата, отсчитываемая вдоль оси инжекции ЭП). Для цилиндрической геометрии задачи удобно пользоваться координатами z и г, где г отсчитывается в направлении, перпендикулярном z. В конечном итоге энергия ЭП идет на нагрев плазмообразующей среды и элементов конструкции плазменного генератора или излучается.

В состав ЭПП входят электроны первичного ЭП, вторичные электроны, образующиеся в результате ионизации плазмообразующего газа, ионы, часть из которых возбуждены [5], и продукты различных плазмохимических реакций [119], протекающих в плазменном объеме. Эти частицы присутствуют в ЭПП в сверхравновесных концентрациях.

Для вывода электронных пучков в плотный газ используются выводные окна различных конструкций. Наиболее известны и изучены выводные окна фольгового типа и шлюзовые системы с дифференциальной откачкой. Для проводки концентрированных электронных пучков дорелятивистских энергий из глубокого вакуума в плотный газ и аэрозоли

хорошо себя зарекомендовали газодинамические окна, принцип действия и различные конструкции которых подробно рассмотрены в [9].

Для выбранного плазмообразующего газа состав ЭПП, температура и форма плазменного облака, определяются параметрами первичного пучка (током пучка /¿и начальной энергией электронов давлением газа Рт и характеристиками выводного окна [13, 119]. Очевидно, что свойства ЭПП зависят от компонент плазмообразующего газа [3], а также от наличия в нем частиц конденсированной дисперсной фазы (КДФ).

Большое количество экспериментов проводилось с ЭПП, содержащей КДФ в виде порошков или капелек жидкости, которые распыливались в плазмообразующем газе [14-16]. В этих условиях взаимодействие ЭП с частицами конденсированной дисперсной фазы может существенным образом повлиять на все процессы в плазменном объеме, а возможная электростатическая зарядка частиц аэрозоля способна радикально изменить геометрию плазменного облака и при определенных условиях вызвать потерю его устойчивости.

Чрезвычайно важно, что ЭПП можно генерировать не только в неподвижной плазмообразующей среде, но и газовых потоках. При этом пространственные распределения давления и плотности газа в потоке, которые определяются газодинамическими процессами, могут оказать влияние на рассеяние электронов, а возникающие при этом температурные поля влияют на электрофизические и плазмохимические процессы в плазменном потоке.

По сравнению с традиционными способами генерации низкотемпературной плазмы ЭПП обладает рядом особенностей, которые

делают ее интересным объектом исследования и во многом определяют ее преимущества с точки зрения приложений.

2. Общие свойства электронно-пучковой плазмы

Как отмечалось выше, состав ЭПП является сложным. Как правило, она содержит электроны плазмы и электроны пучка, молекулы и атомы в основном и возбужденном состояниях возбужденное состоянии, атомарные и молекулярные ионы, которые также могут находиться в различных энергетических состояниях. В ЭПП молекулярных газов обычно происходит эффективная наработка радикалов.

Функция распределения электронов по энергиям (ФРЭЭ) ЭПП не является распределением Максвелла, а тяжелые частицы, как правило, присутствуют в ЭПП в сверхравновесных концентрациях [136]. Таким образом, ЭПП является неравновесной.

3. Особенности генерации электронно-пучковой плазмы в двухфразных и многофазных средах

В последнее время неравновесная плазма, содержащая частицы КДФ, привлекает все больше внимания, как в качестве предмета фундаментальных исследований, так и с точки зрения приложений. Одним из важных направлений исследования пылевой плазмы является получение и изучение характеристик регулярной пространственной структуры мелких частиц (так называемых плазменных пылевых кристаллов) в плазме [17]. Полагают, что такие системы найдут множество применений в технике и технологиях.

К настоящему времени достаточно хорошо разработаны методы получения пылевых кристаллов в плазме высокочастотного газового разряда.

В то же время очень актуален поиск альтернатив генерации пылевой плазмы, в частности электронного пучка, когда пучки вводятся в облако мелкодисперсных аэрозолей. Комбинированный метод генерации плазмы также считается перспективным. Например, гетерогенная гибридная плазма, образуется, когда плазмообразующая среда (в данном случае мелкодисперсный аэрозоль) одновременно подвергается воздействию высокочастотного электрического поля и высокоскоростных электронов. В последнем случае ожидается, что электронный пучок может эффективно управлять генерацией пылевой плазмы и образованием пылевых структур.

ЭПП можно генерироватьне только в неподвижной плазмообразующей среде, но и в газожидкостных ситемах. Примером такой системы может быть аэрозоль, содержащий диспергированную жидкость. Распыливание жидкости может осуществляться как в неподвижном газе, так и в газовом потоке. Общим свойством двухфазных и многофазных систем является то, что частицы КДФ, диспергированные по плазменному объему подвергаются воздействию электронной компоненты ЭПП и контактируют с электропроводной средой, которой является окружающая их ЭПП. Кроме того, на поверхности частиц могут происходить различные химические превращения, с участием химически активных частиц ЭПП. И, наконец, частицы КДФ могут нагреваться за счет их облучения быстрыми электронами пучка и охлаждаться при теплообмене с окружающим газом, неподвижным или движущимся.

Таким образом, в многофазной ЭПП, содержащей твердую или жидкую КДФ, могут одновременно протекать электрофизические, тепловые и плазмохимические процессы. Это делает такую плазму весьма сложным объектом для исследования и описания. Отметим также, что перечисленные процессы характерны и для взаимодействия ЭПП с макроскопическими

телами, например во стенкой контейнера, в котором генерируется плазма, или образцами материалов, которые вводятся в ЭПП для пучково-плазменной обработки.

ГЛАВА 1. Физические и химические процессы в плотных средах под влиянием электронного пучка. Генерация и свойства ЭПП. Электрические явления при взаимодействии электронно-пучковой плазмы с поверхностью.

1.1. Научные предпосылки

Неравновесная холодная плазма, широко используется для модификации поверхности материалов. Она характеризуется относительно низкой степенью ионизации при пониженном, например - форвакуумном, давлении [18, 19]. Низкотемпературная плазма создается в результате ионизации плазмообразующей среды (газа или паров), когда к ней подводится энергия от электромагнитного поля (газоразрядная плазма) или

излучения (лазерного или УФ). Поток частиц высокой энергии, такой как электронный пучок, также можно использовать для генерации низкотемпературная плазмы. Кислород, азот, водород [20-22] и инертные газы чаще всего используются в качестве плазмообразующих сред в оборудовании, предназначенном для плазменной обработки материалов.

Твердость, устойчивость к химической коррозии и физическому износу, смачиваемость, водопоглощающая способность и сродство к определенным молекулам в окружающей среде материалов модифицируются под влиянием низкотемпературной плазмы [3, 23]. Для полимерных и биополимерных материалов наиболее известные эксперименты, расчеты и теоретические исследования сосредоточены на модификацииих поверхности и получении гибридных материалов [5].

1.2.Тепловое и химическое взаимодействие плазмы с поверхностью

Когда ЭПП входит в контакт с твердыми телами, энергия ЭП, падающего на поверхность, расходуется по трем основным каналам [7].

> поглощается материалом в виде тепла, идущего на нагрев и фазовые переходы [7];

^ расходуется на процессы, связанные со вторичной электронной эмиссией;

^ Тратиться в результате возникновения тормозного, переходного, характеристического и теплового излучения. Для ЭПП, возбуждаемой пучками дорелятивистских энергий, существенную роль играет только

тепловое излучение. При Еь > 100 кэВ значительную долю в общих потерях энергии начинает составлять тормозное излучение [7].

В фундаментальных работах [26-30] представлены результаты исследований фазовых переходов в различных материалах под влиянием концентрированного потока энергии, в том числе под воздействием лазерного излучения [29, 30]. Результаты работ [29, 30] можно обобщить на случай концентрированного воздействия ЭП невысоких энергий [7]. Важно отметить тот факт, что при превышении критического значения q > q* плотности падающего на поверхность потока энергии, в материале, образуется так называемый канал кинжального разрушения - отверстия с очень малым отношением диаметра к глубине. Это явление используется нами для создания ВУ с прижигающими вставками [31]. Подробные обзоры результатов исследований таких процессов приведены в работах [7, 32].

Электроны, движущиеся от поверхности твердого тела, возникают в результате упругого и неупругого отражения и электронов, возникающих в результате истинной вторичной электронной эмиссии. Соответственно, коэффициент вторичной электронной эмиссии можно определить как сумму коэффициентов упругой, неупругой и истинной вторичной эмиссии. Влияние на данные коэффициенты оказывают структура, свойства, температура поверхности и состояние облучаемого материала, и, в первую очередь, энергией Еь и углом падения на поверхность первичного электронного пучка. Указанные зависимости достаточно подробно приведены в работах [33-38] и справочной [7, 39] литературе, относящейся к разделам физической электроники.

Спектр вторичных электронов содержит содержит узкий и высокий пик при энергии Е < Еь, возникающий в результате упругого отражения [40],

широкий пик при энергии от единиц до 50 эВ, формируемым истинно вторичными электронами, и участок, в котором наблюдаются пики в диапазоне энергий от 100 до 400 эВ, возникающие в результате возникновения Оже-электронов. Для тяжелых материалов (например, Вольфрама или свинца) доля потерь энергии, связанной с вторичной эмиссией, может достигать 50% [7, 41]. Также вторичная эмиссия электронов может приводить к перераспределению электрического потенциала у поверхности материалов, в результате чего локально могут оказаться выполненным критерий электрического пробоя [7, 42].

Вторичная эмиссия, вызванная ударами тяжелых частиц (например, ионов [43]), не играет важной роли в условиях ЭПП, а проявляется как рекомбинация ион-радикалов и возбужденных молекул. Колебательная релаксация может приводить к нагреву и усилению испарения поверхностный слоя без повышения температуры всего газа на границе раздела [44]. Тонкодиспергированные среды обладают значительной поверхностью, даже если они занимают небольшой объем, поэтому для них влияние проверхностных эффектов проявляются наиболее заметным образом. Модификация поверхности в неравновесной плазме может происходить и без разогрева системы [45], особенно, если обработке подвергаются полимерные материалы [46].

Исследованиям плазмохимических процессов в гетерогенных средах посвящена обширная литература [7], в основном связанная с квазиравновесной плазменной дугой и высокотемпературной обработкой дисперсных материалов [47-50]. В литературе можно найти большое количество обзорных работ, затрагивающих вопросы плазменной обработки

поверхности различных тел. Одна из наиболее полных обзорных работ -монография [7, 51].

I 3

\л 5 1 2 I 4 д Е .

50эВ Еъ

Рис. 1.1.1. Схематическое изображение спектра вторичных электронов

по энергии [7]

1 - упруго отраженные электроны; 2 - неупруго отраженные электроны; 3 -истинно-вторичные электроны, 4 - характеристические электроны; 5 - Оже-электроны [7].

Практически все известные работы, посвященные многофазной плазме, относятся к газоразрядной плазме, содержащей КДФ. Неравновесные неоднородные плазменные системы исследованы намного слабее [52-54]. В работах [55, 56] выполнен теоретический расчет пространственно однородного и неограниченного заряда ЭП плазмозоля и КДФ в широком диапазоне давлений газа, плотностей тока ЭП и полных коэффициентов вторичной электронной эмиссии а. В частности, показано, что при а < 1 заряд аэрозоля всегда отрицательный, а при а > 1 существует критическое значение плотности тока ЭП }ъ*, такое, что при }ъ < }ъ* заряд аэрозоля отрицателен и заведомо ограничен энергией первичных электронов, а при }ъ > }ъ* заряд аэрозоля положителен и ограничен характерной энергией истинно-вторичных электронов [7]. Также были учтены эффекты фотоэлектрического эффекта и теплового излучения от поверхности частиц КДФ, и было

показано, что при умеренных температурах и достаточно высоких плотностях тока электронного пучка эти эффекты незначительны по сравнению с вторичной эмиссией.

Во многих исследованиях, докладывавшихся на конференциях по проблеме низкотемпературной плазмы с КДФ [57, 58], рассматривался аэрозольный заряд под воздействием УФ и рентгеновских лучей, а также методы диагностики плазмы с КДФ. В обзоре [59] указали, что до сих пор нет надежных экспериментальных методов для измерения заряда частиц КДФ, и, что является наиболее важным, параметры плазмы зависят от физико-химических свойств КДФ.

1.3. Электростатическая зарядка тел, помещенных в облако электронно-пучковой плазмы. Электрический потенциал электропроводящей и диэлектрической мишени, дифференциальная зарядка диэлектриков

Электростатическая зарядка макроскопических тел, помещенных в облако ЭПП; случай электропроводной мишени

Рис. 1.1.2. Взаимодействие электронного пучка с проводником Для исследования процессов зарядки/разрядки различных объектов, находящихся в неподвижном облаке ЭПП или в плазменном потоке обычно используют схему, которую можно проиллюстрировать на примере измерителя потенциала плоской проводящей (например, металлической) мишени. Мишень размещается в рабочей камере установки (см. Рис. 1.1.2), стенки которой заземлены, а сама мишень полностью или частично находится в плазменном облаке и является коллектором быстрых электронов пучка. Определенная часть этих электронов упруго или неупруго отражается поверхностью мишени; остальные электроны поглощаются мишенью и

наводят в ней электрический потенциал. Если коэффициент истинной вторичной эмиссии материала мишени меньше единицы, что типично для большинства металлов, то потенциал имеет отрицательную полярность. Эффективные эмиттеры вторичных электронов, у которых коэффициент вторичной эмиссии больше единицы, могут накапливать положительный потенциал.

Рассмотрим простейший случай, когда истинно-вторичная эмиссия не влияет на процесс накопления электростатического заряда. Физически абсолютная величина потенциала (Ц) мишени ограничена энергией быстрых электронов (Еъ), т.е. ускоряющим напряжением электронной пушки: когда величина и приближается к Еъ, все меньшее количество быстрых электронов достигает поверхности мишени из-за электростатического отталкивания. На практике и редко превышает нескольких сотен вольт по следующим причинам:

• Накапливаемый мишенью электростатический заряд стекает по плазме, образующейся в рабочей камере, на «землю». Весьма существенным каналом стекания заряда является плазма, которая образуется на трассе распространения ЭП.

• Всегда имеет место стекание заряда по элементам конструкции камеры, на которых крепится мишень. На схеме сопротивление этой цепи утечки обозначено (К). В предельных случаях:

- если К = 0, то потенциал и = 0;

- если К = да, то схема измеряет истинное значение потенциала и. Практика показала, что для корректных изменений и, достаточно,

чтобы величины К > 1 Мом. Таким образом, в реальных ситуациях величина и определяется преимущественно характеристиками облака ЭПП,

окружающего мишень, а именно электропроводностью плазмы (см раздел 1.4) и геометрией плазменного объема. Важно также и то, как мишень расположена в этом объеме и с помощью каких держателей.

Электрический потенциал поверхности диэлектрической мишени, дифференциальная зарядка диэлектриков

В диэлектриках все заряды «привязаны» к покоящимся атомам и не могут перемещаться. Поэтому единственным механизмом стекания заряда, накапливаемого диэлектрической мишенью, на «землю» является его утечка по плазменному облаку или по плазме, образующейся на трассе распространения ЭП (см. выше). При достаточно низких давлениях плазмообразующего газа Рт потенциал диэлектрических мишеней обычно выше, чем потенциал металлических мишеней, однако по мере повышения Рт это различие уменьшается, а при Рт порядка нескольких Торр практически исчезает [60, 61].

Важно, что различные зоны диэлектрической мишени могут заряжаться по-разному, особенно при малых Рт. В этих условиях возникает дополнительная разность потенциалов различных участков поверхности и наблюдается эффект дифференциальной зарядки.

Для КЛА электростатическая зарядка играет ключевую роль с точки зрения обеспечения работоспособности бортовых систем: вследствие электризации возникают электрические разряды, создающие интенсивные электромагнитные помехи, а в некоторых случаях приводящие к повреждению и разрушению элементов аппаратуры [1]. Подавляющее большинство солнечных элементов КЛА имеют непроводящие терморегулирующие покрытия, которые представляют собой защитное

Список литературы диссертационного исследования кандидат наук Аунг Чжо У, 2021 год

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Аппаратура, приборы, устройства и оборудование космических аппаратов. Методы расчёта радиационных условий на борту космических аппаратов и установления требований по стойкости радиоэлектронной аппаратуры космических аппаратов к воздействию заряженных частиц космического пространства естественного происхождения // Нормативный документ стандартизации РКТ № ОСТ 134-1044-2007.- 2007.- 182 с.

2. Акишин А.И. Космическое материаловедение. Методическое и учебное пособие.- М: НИИЯФ МГУ, 2007, 209 с.

3. Йе Хлаинг Тун, Аунг Чжо У, Зин Мин Маунг, Яр Зар Аунг, М.Н.Васильев. Управление электростатической зарядкой твердых тел в каналах, заполненных электронно-пучковой плазмой // ТРУДЫ МФТИ. 2021. Том 13, № 1. C. 65 - 70.

4. Safronov A.A., Filatov N.I., Koroteev A.A., Bondareva N.V. Temperature stabilization in dispersed flows of frameless heat removal system in space. Thermophysics and Aeromechanics. 2017. Т. 24. № 6. С.957-960.

5. Т.М.Васильева. Получение биоактивных соединений и материалов на основе процессов, стимулированных пучково-плазменным воздеиствием на вещество : Ди^^^докт. техн. Наук : 01.04.08. Москва. - 2016. - C. 348.

6. Аунг Мьят Хеин. Гибридная плазма газовых смесей как инструмент комбинированного воздействия на полимерные материалы с целью повышения биосовместимости : Дис^... канд. тех. наук : 01.04.08 Москва. - 2019. - C. 123.

7. Васильев.М.Н. Экспериментальное исследование генерации и приложений неравновесной низкоэнтальпийной электронно-пучковой плазмы : Ддос.... докт. техн. наук : 01.04.14. Москва. - 1998. - C. 347.

8. Roth J.R. Industrial Plasma Engineering // Principles. Institute of Physics Publishing. - Volume 1. - Bristol, UK. - 1995.

9. Hippler R., Kersten H., Schmidt M., Schoenbach K.H. Low temperature plasma physics: Fundamental aspects and applications // Wiley-VCH. - Weinheim, Germany. - 2008.

10.К.Г. Гордеев, А.А. Остапущенко, В.Н. Галайко, М.П. Волков. Системы питания и управления электрореактивными двигательными установками автоматических космических аппаратов // Известия Томского политехнического университета.- 2009.- Т. 315.- № 4.- с. 131-136.

11.Юшков Юрий Георгиевич Форвакуумный импульсный плазменный источник электронов для модификации поверхности диэлектрических материалов : диссертация ... кандидата технических наук : 01.04.20 Томск 2012.

12.В.Л. Бычков, М.Н. Васильев, А.С. Коротеев. Электронно-пучковая плазма: генерация, свойства, применение. М., изд-во МГОУ а/о Росвузнаука, 1983, 167 с.

13.Аунг Чжо У, Йе Хлаинг Тун, Васильев.М.Н. Генерация электронно-пучковой плазмы вблизи поверхности проводящих и диэлектрических дисков // ТРУДЫ МФТИ. 2020. Том 12, № 1. C. 5 - 11.

14.Eung-seok Lee, Choong-hyun Lee, Yoon-Soo Chun, Chang-ji Han, Dae-Soon Lim. Effect of hydrogen plasma-mediated surface modification of carbon fibers on the mechanical properties of carbon-fiber-reinforced polyetherimide composites // Composites Part B. - 2017. - V. 116. - P. 451-458.

15. Syed Z. Islam, Allen Reed, Suraj Nagpure, Namal Wanninayake, James F. Browning, Joseph Strzalka, Doo Young Kim, Stephen E. Rankin. Hydrogen incorporation by plasma treatment gives mesoporous black TiO2 thin films with

visible photoelectrochemical water oxidation activity // Microporous and Mesoporous Materials. - 2018. - V. 261. - P. 35-43.

16.Meichsner J., Schmidt M., Wagner H.E. Non-thermal Plasma Chemistry and Physics // Taylor & Francis. - London, UK. - 2011.

17.Рьпсалин H.H и др. Лазерная и электронно-лучевая обработка материалов. Справочник. М: Машиностроение, 1985.

18.Roth J.R. Industrial Plasma Engineering // Principles. Institute of Physics Publishing. - Volume 1. - Bristol, UK. - 1995.

19.Hippler R., Kersten H., Schmidt M., Schoenbach K.H. Low temperature plasma physics: Fundamental aspects and applications // Wiley-VCH. - Weinheim, Germany. - 2008.

20.Mathias Mews, Erhard Conrad, Simon Kirner, Nicola Mingirulli, Lars Korte. Hydrogen plasma treatments of amorphous/crystalline silicon heterojunctions // Energy Procedia. - 2014. - V. 55. - P. 827-833.

21.Eung-seok Lee, Choong-hyun Lee, Yoon-Soo Chun, Chang-ji Han, Dae-Soon Lim. Effect of hydrogen plasma-mediated surface modification of carbon fibers on the mechanical properties of carbon-fiber-reinforced polyetherimide composites // Composites Part B. - 2017. - V. 116. - P. 451-458.

22. Syed Z. Islam, Allen Reed, Suraj Nagpure, Namal Wanninayake, James F. Browning, Joseph Strzalka, Doo Young Kim, Stephen E. Rankin. Hydrogen incorporation by plasma treatment gives mesoporous black TiO2 thin films with visible photoelectrochemical water oxidation activity // Microporous and Mesoporous Materials. - 2018. - V. 261. - P. 35-43.

23.Meichsner J., Schmidt M., Wagner H.E. Non-thermal Plasma Chemistry and Physics // Taylor & Francis. - London, UK. - 2011.

24.Рьпсалин H.H . и др. Лазерная и электронно-лучевая обработка материалов. Справочник. М: Машиностроение, 1985.

25.Картавый С.К., Смирнов В.В. Современный уровень зарубежного оборудования для лучевых методов обработки материалов // Сварочное производство. 1986. №6. С. 41 - 44.

26. Зуев И.В., Родякина Р.В., Пиголкин Г.М. Новые расчетные модели теплового источника при сварке электронным лучом // Прикладная физика. 1996. № 4. С. 8 -12.

27. Зуев И.В. Синергетика как фундамент для создания самоорганизующихся технологий обработки и сварки материалов концентрированными потоками энергии // Прикладная физика. 1994. Вьш. 1. С.26 - 32.

28.Модифицирование поверхности лазерными, электронными и ионными пучками / Под ред. Поута и др. М: 1987. 320 с.

29. Willibald U. Platzer K.-H. , Wittig S. Optimization of Removal Efficiency and Energy Consumption at the ITS-Facility // Ibid. P. 422 - 426.

30.Platzer K.-H. , Willibald U. Gottstein J. e. a. Recent Activities at the RDK- 7 Pilot Plant, Karlsruhe // Ibid. P. 427 - 431.

31.Белков П.В., Васильев М.Н., Голубков Е.Е., Коротеев A.C . Окно для вывода сфокусированного электронного пучка в газовую среду. Авт. свид. СССР № 105174. Зарегистрировано 01.07.83.

32.Колесник В.Ф. Экспериментальное исследование особенностей нестационарного разрушения материалов электронным пучком / Дисс. На соискание уч. степени канд. физ.-мат. наук. М.: МФТИ, 1987.

33.Бронштейн И.М., Фрайман Б.С Вторичная электронная эмиссия. М: Наука, 1969. 308 с.

34. Добрецов Л.Н., Гомоюнова М.В. Эмиссионная электроника. М: 1966.

35. Тилинин И. С Коэффициент неупругого отражения быстрых электронов от поверхности вещества // Поверхность. 1984. № 2.С.31- 37.

36. Тилинин И. С Отражение быстрых электронов при нормальном падении на поверхность вещества // ЖЭТФ. 1982. Т. 82. Вып 4. С 1291 - 1305.

37.Корпускулярно-фотонная технология / Под ред. О.Г. Вендика. М: 1984.

38.Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И. Физические основы электронной и ионной технологии. М.; Высшая школа, 1984. 320 с.

39. Физические величины: справочник / Бабичев А.П., Бабушкина H.A., Братковский A.M . и др.; Под ред. И.С. Григорьева, Е.З. Мейлихова. М: Энергоатомиздат, 1991. 1232 с.

40.Корпускулярно-фотонная технология / Под ред. О.Г. Вендика. М: 1984.

41.Моссэ А.Л., Буров И.С. Обработка дисперсных материалов в плазменных реакторах. Минск: Наука и техника, 1980. 206 с.

42.Коновалов В.П., Сон Э.Е. Численный расчет энергетического распределения электронов в азотной, кислородной и воздушной плазме, создаваемой пучком электронов, и исследование химической кинетики в молекулярной плазме воздуха. НТО МФТИ. Долгопрудный, 1979. 49 с.

43.Черепин В. Т., Васильева М.А. Вторичная ионно-ионная эмиссия материалов и сплавов. Киев: Наукова думка, 1981.

44.Русанов В.Д., Фридман A.A . Физика химически активной плазмы. М.: Наука, 1984.415 с.

45.Кальдераццо Ф., Эрколи Р., Натта Д. // В кн. Органические синтезы через карбонилы металлов. М: Мир, 1970. С.11 - 211.

46.Гильман А.Б., Потапов В.К. Плазмохимическая модификация поверхности полимерных материалов // Прикладная физика. 1995. Вып. 3 - 4. С.14 - 22.

47.Моссэ А.Л., Буров И.С. Обработка дисперсных материалов в плазменных реакторах. Минск: Наука и техника, 1980. 206 с.

48.Цветков Ю.В., Панфилов CA . Низкотемпературная плазма в процессах восстановления. М: Наука, 1980. 359 с.

49.Кудинов В,В-, Пекшев П.Ю., Белащенко В.Е. и др. Нанесение покрытий плазмой. М.: Наука, 1990. 408 с.

50.Бодяко М.Н., Вурзель Ф.Б., Кремко Е.В. и др. Газотермическая обработка керамических оксидов. Минск: Наука и техника, 1988. 223 с.

51.Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов.М.: Радио и связь, 1986. 230 с.

52.Легасов В.А., Русанов В.Д., Фридман А.А. Неравновесные плазмохимические процессы в гетерогенных системах. Химия плазмы. Вып. 5. М: Атомиздат, 1978. С.116 - 147.

53. Петров О.Ф. Диагностика низкотемпературной плазмы с КДФ при наличии примеси щелочного металла. Дисс. на соискание уч, степени канд. физ.-мат. наук.МФТИ. Долгопрудный, 1988.

54.Карачевцев Г.В., Фридман А.А. Электрический пробой аэрозолей // ЖТФ. 1976, Т. 46№ 11.С. 2355- 2361.

55.Карачевцев Г.В., Фридман А.А. Ионизационные процессы в гетерогенной среде. М: МФТИ, 1976. 40 с.

56. Фридман А.А. Расчет концентрации электронов, ионов и среднего заряда макрочастиц при прохождении пучка электронов через гетерогенную среду. М. МФТИ, 1980.

57.XV Всесоюзная конф. "Актуальные вопросы физики аэродисперсных систем. Одесса, 1989. Тезисы докл.

58. 3-е Всесоюзное совещ. по физике низкотемпературной плазмы с конденсированной дисперсной фазой. Одесса, 1988. Тезисы докл.

59.Вишняков В.И., Драгин Г.С. Межфазные взаимодействия в низкотемпературной плазме. Химия плазмы. М: Атомиздат, 1990. С.98 -109.

60.Panos Lazarou, Nikos A. Aspragathos, in Mechatronics and Manufacturing Engineering, 2012.

61. V.E. Fortov, A.P. Nefedov, V.I. Molotkov, M.Y. Poustylnik, and V.M. Torchinsky, Phys. Rev. Lett. 87, 205002 (2001).

62.B. Kakati, D. Kalita, S.S. Kausik, M. Bandyopadhyay, and B.K. Saikia, Phys. Plasmas 21, 083704 (2014).

63.R. Yousefi, A.B. Davis, J. Carmona-Reyes, L.S. Matthews, and T.W. Hyde, Phys. Rev. E 90; 033101 (2014).

64. T.S. Ramazanov, N.Kh. Bastykova, Y.A. Ussenov, S.K. Kodanova, K.N. Dzhumagulova, and M.K. Dosbolayev, Contrib.Plasma Phys. 52, 110 (2012).

65. Дорофеев Р. Ю, Повышение энергоэффективности системы электропитания космического аппарата за счет использования энергии электростатического заряда поверхности космического аппарата в орбитальных условиях эксплуатации, «Российские космические системы», ул. Авиамоторная, 53, Москва, 111250, Россия, (2013).

66.Московский физико-технический институт (государственный университет), ГАЗОВЫЙ РАЗРЯД ПЛАЗМА, Лабораторные работы № 4.16, 4.16А, 46(2006).

67.Burdovitsin V.A., Oks E.M. Fore-vacuum plasma-cathode electron sources // Laser and Particle Beams. 2008. T. 26. № 4. p. 619 - 635.

68.Климов А.С. О возможности применения электронного пучка для обработки диэлектрических материалов // Международная научно практическая конференция студентов, аспирантов и молодых ученых «Современные техника и технологии», 2008. Сборник трудов в 3-х томах. Томск: Изд-во ТПУ. 2008. Т.З. С. 66 - 68.

69.Барков А.В., Климов А.С. Электронно-лучевая обработка диэлектриков // Материалы докладов Всероссийской научно-технической конференции

студентов, аспирантов и молодых ученых «Научная сессия ТУСУР 2008»: Томск. Изд-во «В-Спектр». 2008. Ч. 1. C.220 - 222.

70.Борисова М., Койков С. Физика диэлектриков. Л.: Изд-во ЛГУ, 1979. 239с.

71. С.Г. Боев, В.Я. Ушаков. Радиационное накопление заряда в твердых диэлектриках и методы его диагностики. Энергоатомиздат, М. (1991). 240с.

72.A.I.A. Salama, in Encyclopedia of Separation Science, 2000.

73. V.E. Fortov, O.S. Vaulina, O.F. Petrov, M.N. Vasiliev, A.V. Gavrikov, I.A. Shahova, N.A. Vorona, Yu. V. Khrustalev, A.A. Manohin, A.V. Chernyshev. Experimental study of the heat transport processes in dusty plasma fluid // Phys. Rev., 2007, E 75, 1. 026403 (2007).

74. V. E. Fortov, A. V. Gavrikov, O. F. Petrov, V. S. Sidorov, M. N. Vasiliev and N. A. Vorona. Superhigh dust charging by high-voltage electron beam // EPL (Europhysics Letters), 2011, V. 94, No. 5, P 55001. doi:10.1209/0295-5075/94/55001.

75. Московский физико-технический институт (государственный университет), ГАЗОВЫЙ РАЗРЯД ПЛАЗМА, Лабораторные работы № 4.16, 4.16А, 46(2006).

76. Лысенко С.Л. Численное моделирование электронно-пучковой плазмы в объеме, ограниченном твердыми стенками : Диса...канд.физ.-мат. наук : 01.04.08. Москва. - 2005. - C. 118.

77.Major R, Lackner J M, Gorka K, Wilczek P and Major B 2013, RSC Adv. 3 11283.

78.Deilmann M, Theiss S and Awakowicz P 2008 Surf. Coat.Technol. 202 19117.

79.Deilmann M, Halfmann H, Steves S, Bibinov N and Awakowicz P 2009 Plasma Process. Polym. 6 S695-9.

80. Sakudo N, Ikenaga N, Ikeda F, Nakayama Y, Kishi Y and Yajima Z 2011 AIP Conf. Proc. 1321 266-9.

81. Sakudo N, Shinohara T, Amaya S, Endo H, Okuji S and Ikenaga N 2006 Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 242 349-52.

82.Major R, Lackner J M, Gorka K, Wilczek P and Major B 2013 RSC Adv. 3 11283.

83.Perez-Roldan M J, Debarnot D and Poncin-Epaillard F 2014 RSC Adv. 4 64006-13.

84.Deilmann M, Halfmann H, Bibinov N, Wunderlich J and Awakowicz P 2008 J. Food Prot. 71 2119-23.

85. Conrads H and Schmidt M Plasma Sources Sci. Technol. 20009 441-54.

86.Manheimer W M, Fernsler R F, Lampe M and Meger R A.

87.Baraket M, Walton S G, Lock E H, Robinson J T and Perkins F K 2010 Appl. Phys. Lett. 69 231501.

88.Leonhardt D, Walton S G and Fernsler R F 2007 Phys.Plasmas 14 057103.

89.Leonhardt D, Walton S G, Muratore C, Fernsler R F and Meger R A 2004 J. Vac. Sci. Technol. A 22 2276.

90.Muratore C, Leonhardt D, Walton S G, Blackwell D D,Fernsler R F and Meger R A 2005 Surf. Coat. Technol.191 255.

91.Leonhardt D, Muratore C, Walton S G, Blackwell D D, Fernsler R F and Meger R A 2004 Surf. Coat. Technol.177-178 682.

92.Burdovitsin V A, Klimov A S, Medovnik A V and Oks E M 2010 Plasma Sources Sci. Technol. 19 20-6.

93. Oks E 2006 Plasma Cathode Electron Sources: Physics, Technology, Applications (Weinheim: Wiley).

94.D.B. Zolotukhin, V. A. Burdovitsin, and E. M. Oks, Tech. Phys. 60(5), 772 (2015).

95.D.B. Zolotukhin, V. A. Burdovitsin, and E. M. Oks, Plasma Sources Sci. Techonol. 25 (1), 015001 (2016).

96.Аунг Чжо У, Йе Хлаинг Тун, Васильев.М.Н. Генерация электронно-пучковой плазмы вблизи поверхности проводящих и диэлектрических дисков // ТРУДЫ МФТИ. 2020. Том 12, № 1. C. 5 - 11.

97.В.Л. Бычков, М.Н. Васильев, А.С. Коротеев. Электронно-пучковая плазма: генерация, свойства, применение. М., изд-во МГОУ а/о Росвузнаука, 1983, 167 с.

98.М.Н. Васильев. Применение электронно-пучковой плазмы в плазмохимии / В кн. Энциклопедия низкотемпературной плазмы под ред. В.Е. Фортова. Т. IX. М.: Наука, 2001, С. 236-245.

99.М.Н. Васильев, А.Х. Махир. Электронно-пучковые плазмохимические реакторы: опыт разработки и оптимизации // Горение и плазмохимия. 2003, Т.1, № 2, С. 141-152.

100. А.А. Ильин. Экспериментальное исследование потока электронно-пучковой плазмы в плотном газе. Дисс. на соиск. уч.степени канд.физ.-мат.наук. М., 2003, 79 с.

101. S. Jordan. On the State of the Art of Flue Gas Cleaning by Irradiation with Fast Electrons // Radiat. Phys. Chem. 1990. V. 35. # 1 - 3. Р.409 - 415.

102. N.W. Frank. Electron-Beam FGT-Process // Ibid. P. 416 - 426.

103. Н.В. Третьякова. Опытная электронно-лучевая установка для очистки дымовых газов ТЭС // Прикладная физика. 1994. № 1. С.45 - 49.

104. Ranieri P, Sponsel N., Kizer J at al. Plasma agriculture: Review from the perspective of the plant and its ecosystem. Plasma Process Polym. 2021;18: e2000162. https://doi.org/10.1002/ppap.202000162.

105. M G Kong, G Kroesen, G Morfill, T Nosenko, T Shimizu, J van Dijk and J L Zimmermann. Plasma medicine: an introductory review. New Journal of Physics 11 (2009) 115012 (35pp), doi: 10.1088/1367-2630/11/11/11012.

106. David B. Gravesb. Low temperature plasma biomedicine: A tutorial review. Physics of Plasmas 21, 080901 (2014); https://doi.org/10.1063/L4892534.

107. Tatiana Vasilieva, Oscar Goni, Patrick Quille, Shane O'Connell, Dmitry Kosyakov, Semen Shestakov, Nikolay Ul'yanovskii and Michael Vasiliev. Chitosan Plasma Chemical Processing in Beam-Plasma Reactors as a Way of Environmentally Friendly Phytostimulants Production. Processes 2021, 9, 103. https://doi.org/10.3390/pr9010103.

108. T.Vasilieva , I. Naumova , O. Galkina , E. Udoratina , L. Kuvschinova , M. Vasiliev , Khin Maung Htay , Htet Ko Ko Zaw. Electron-Beam Plasma for Biomass Modification. IEEE Transactions on Plasma Science. 2020. DOI: 10.1109/TPS.2020.2980200.

109. N.N. Drozd, B.Ts. Shagdarova, Y.V. Zhuikova, A.V. Il'ina, M.N. Vasiliev, T.M. Vasilieva, Aung Myat Hein, V.P. Varlamov. Thromboresistant silicon plates modified with chitosan and heparin by the layer-by-layer assembly method. Progress on Chemistry and Application of Chitin and its Derivatives, Volume XXIV, 2019. DOI: 10.15259/PCACD.24.001.

110. M. Vasiliev, T. Vasilieva, Aung Myat Hein. Hybrid plasma-chemical reactors for bio-polymers processing // Journal of Physics D: Applied Physics. 2019. - V.52, N. 33. - P.335202.

111. V.E. Fortov, O.S. Vaulina, O.F. Petrov, M.N. Vasiliev, A.V. Gavrikov, I.A. Shahova, N.A. Vorona, Yu. V. Khrustalev, A.A. Manohin, A.V. Chernyshev. Experimental study of the heat transport processes in dusty plasma fluid // Phys. Rev., 2007, E 75, 1. 026403 (2007).

112. V. E. Fortov, A. V. Gavrikov, O. F. Petrov, V. S. Sidorov, M. N. Vasiliev and N. A. Vorona. Superhigh dust charging by high-voltage electron beam // EPL (Europhysics Letters), 2011, V. 94, No. 5, P 55001. doi:10.1209/0295-5075/94/55001.

113. Васильев М.Н. Применение электронно-пучковой плазмы в плазмохимии / Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Под ред. В.Е. Фортова. Т. XI. М.: Наука, 2001. С. 436-445.

114. M. Vasiliev, T. Vasilieva. Materials production with Beam Plasmas / In Encyclopedia of Plasma Technology (Ed. J.L. Shohet, Taylor & Francis), 2017, P 152-166.

115. Хтет Вэй Ян Чжо. Воздействие электронно-пучковой и гибридной плазмы на целлюлозу и целлюлозосодержащие материалы: Дис^ ... канд. тех. наук : 01.04.08 Москва. - 2020. - C. 82.

116. Кхин Маунг Хтау. Риформинг лигнина и лигноцеллюлозной массы в электронно-пучковой плазме: Дис^ ... канд. тех. наук : 01.04.08 Москва. -2020. - C. 57.

117. Зау Йе Мьинт. Экспериментальное исследование функционализации хитозана в электронно-пучковой плазме: Дис^ ... канд. тех. наук : 01.04.08 Москва. - 2020. - C. 72.

118. Васильев М.Н. Применение электронно-пучковой плазмы в плазмохимии / Энциклопедия низкотемпературной плазмы. Под ред. В.Е. Фортова. Т. XI. М.: Наука, 2001. С. 436-445.

119. Т.М. Васильева., С.Л. Лысенко., В.А. Кукареко. Плазменно-стимулированный синтез оксидов на внутренней поверхности титановых труб // Физика и химия. M. 2010.C29-36.

120. Юшков Юрий Георгиевич Форвакуумный импульсный плазменный источник электронов для модификации поверхности диэлектрических

материалов : диссертация ... кандидата технических наук : 01.04.20 Томск 2012.

121. Хтет Ко Ко Зау. Исследование нестационарных процессов в пучково-плазменных реакторах, применяемых для обработки материалов и изделий медико-биологического назначения: Дис^ ... канд. тех. наук : 01.04.08 Москва. - 2021. - C. 113.

122. Йе Хлайнг Тун. Генерация и свойства электронно-пучковой плазмы вблизи поверхности твердых тел и жидкости ограниченном твердыми стенками : Дис^ ... канд. техн. наук : 01.04.08. Москва. - 2021.

123. Аброян И. А., Андронов А. Н., Титов А. И. Физические основны электронной и ионной технологий. - М.: Высшая школа, 1984, 320 с.

124. Рыкалин Н. Н., Зуев И. В., Углов А. А., Основный электронно-лучевой обработки материалов. - М.: Машиностроение, 1978, 240 с.

125. Миглад А. Б. Качественные методы в квантовой теории. - М.: Наука, 1975, 46 с.

126. Алямоский И. В. Электронные пучки и электронные иушки. - М.: Совеское радио, 1996.

127. Васильев.М.Н. Физические основы применения электронно-пучковой плазмы: Учебное пособие. - М.: МФТИ, 2001, 64 с.

128. Gavikov A.V., Fortov, V. E. Petrov, O. F., Vorona N.A., Vasiliev M.N. Experimental Studying of Dust Particles Charging by Electron Beam // AIP Conference Proceedings, 9/7/2008, Vol. 1041 Issue 1, p337.

129. Vorona N.A., Gavrikov, A.V., Petrov, O.F., Vasiliev M.N. Ultrahigh charging of particles and coulomb explosion in dusty plasma induced by electron beam // Phys. of Ehtreme States of Matter - 2009. Chernogolovka: 2009, P. 218-220.

130. Васильев М.Н., Ворона Н.А., Гавриков А.В., Петров О.Ф., Сидоров В.С., Фортов В.Е. Аномально высокая зарядка дисперсных частиц электронным пучком энергией 25 кэВ // Письма в ЖЭТФ. 2010. Т. 36, № 24. С. 54-60.

131. Mathias Fontell. Dusty transport model for non-relativistic electron beam plasmas: Diss.... Candidate of technical sciences: Moscow. 2017.

132. Cazaux J. // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. 2006. Vol. B 244. P. 307.

133. В. А. Бурдовицин, Д. Б. Золотухин, К. И. Карпов, Е. М. Окс. О возможности оценки коэффициента вторично-электронной эмиссии металлов и диэлектриков в среднем вакууме. Прикладная физика, 2019, № 6, С. 11-17.

134. Бронштейн И. М., Фрайман Б. С. Вторичная электронная эмиссия. - М.: Наука, 1969.

135. Т.М. Васильева., Плазмохимические технологии в биологии и медицине: современное состояние проблемы // Том: 10; Номер: 2; Год: 2015; Страницы: 5-19.

136. Васильев М.Н., Васильева Т.М. Модификация биологических свойств аминокислот и белков под действием электронно-пучковой плазмы // Химия высоких энергий. - 2006, Т. 40, №6. - сс. 470-474

Отпечатано с оригинал-макетов Заказчика в типографии "Переплетофф" Адрес: г. Долгопрудный, ул. Циолковского, 4. Тел: [phone]. www.perepletoff.ru Формат 210 х 297 мм. Бумага офсетная. Печать цифровая. Тираж 11 экз. Твердый переплет. Заказ № . 23.08.21 г.