Зависимость совершенства структуры, состава и электрических свойств оксида цинка от условий кристаллизации тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.04, кандидат физико-математических наук Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб

  • Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб
  • кандидат физико-математических науккандидат физико-математических наук
  • 2004, Махачкала
  • Специальность ВАК РФ01.04.04
  • Количество страниц 149
Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб. Зависимость совершенства структуры, состава и электрических свойств оксида цинка от условий кристаллизации: дис. кандидат физико-математических наук: 01.04.04 - Физическая электроника. Махачкала. 2004. 149 с.

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. Структура, основные свойства и методы получения оксида цинка.

1.1 Общая характеристика и структура оксида цинка.

1.2. Методы выращивания монокристаллов ZnO.

1.3. Получение пленок.

1.4. Характерные монокристаллическому состоянию оксида цинка основные электрические и оптические свойства.

1.5. Основные области применения оксида цинка в монокристаллическом состоянии.

ГЛАВА 2. Описание установки, методики получения пленок

ZnO, подготовки поверхности подложек к их нанесению, изучения совершенства структуры и их некоторых свойств.

2.1. Описание установки для получения пленок ZnO.

2.2. Определение совершенства структуры и ориентации растущего слоя ZnO электронографическим методом.

2.3. Методика предварительной подготовки и очистки поверхности подложек.

2.4. Методика измерения электрических и люминесцентных свойств пленок и слоев оксида цинка.

ГЛАВА 3. Анализ процесса восстановления и транспорта оксида цинка в водороде и определение условий его кристаллизации.

3.1 .Анализ условий восстановления ZnO водородом и его транспорта. 59 3.2. Влияние температуры и общего давления в системе на равновесие реакции, парциальные давления её компонентов.

3.3. Влияние параметров реакции на относительной выход цинка в газовую фазу.

3.4. Степень дефектности ZnO, полученного из газовой фазы в атмосфере водорода.

Выводы к главе 3.-.

ГЛАВА 4. Зависимость электрических свойств пленок ZnO от условий получения.

4.1. Степень влияния основных технологических параметров на электрические свойства пленок оксида цинка.

4.2. Электрические свойства монокристаллического оксида цинка.

Ш 4.3. Характеристика электрических свойств оксида цинкаполикристаллической структуры, получаемого из газовой фазы в различных условиях.

Выводы к главе 4.

Рекомендованный список диссертаций по специальности «Физическая электроника», 01.04.04 шифр ВАК

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Зависимость совершенства структуры, состава и электрических свойств оксида цинка от условий кристаллизации»

Актуальность проблемы. Известно, что научно-технический прогресс обеспечивается внедрением последних достижений фундаментальной науки в соответствующие отрасли современного производства. В качестве примера можно указать на темпы развития микроэлектроники. В данной области успех обеспечивается благодаря всестороннему исследованию физико-химических свойств кремния, электронных процессов в нем, разработки технологии его получения с необходимыми свойствами.

Однако в современной радиоэлектронной, вычислительной аппаратуре, созданной повышением интеграции и функциональной сложности традиционных микросхем, основная часть стоимости производства и отказов в работе приходится на долю традиционных активных элементов. С другой стороны, техника использующая традиционную логику (счет количества заданной порции электрического заряда) на базе элементов в кремнии, магнитной памяти и проводной связи между самыми элементами и исполнительной аппаратурой, близка к достижению своих предельных возможностей, как по быстродействию, так и по массе и габаритам. Поэтому радикальное решение данной проблемы, как показывают современные достижения физики и квантовой оптики, можно ожидать на основе использования оптоэлектронных и акустоэлектрон-ных систем.

Опто- и акустоэлектронная техника, созданная путем синтеза передовых достижений физики, включая квантовую оптику, должна обладать «неограниченными» возможностями повышения рабочих частот приема, передачи и обработки информации.

На данном этапе развития физики полупроводников имеются достаточно результатов, на основании которых можно утверждать, что будущая техника должна быть многофункциональной и в ней наряду с другими активными материалами должны быть использованы широкозонные полупроводниковые со

2 6 единения типа А В , относящиеся к классу прямозонных полупроводников. Как показывает практика, в них велика вероятность квантового выхода реком-бинационного излучения, кроме того, на их основе могут быть созданы р-n переходы, поскольку часть из них обладает n-типом проводимости, а другая часть - р-типом.

В настоящее время основные трудности реализации перспектив применения данных соединений в первую очередь связаны с отсутствием технологии синтеза их «чистых» и несамокомпенсированных кристаллов, эпитаксиальных слоев и пленок, обладающих высоким совершенством структуры.

Также известно, что для синтеза соединений типа А2В6 не может быть использован опыт кристаллизации элементарных полупроводников (Si, Ge), соединений типа А3В5. И это подтверждено длительной научной практикой.

Из этого правила не является исключением и оксид цинка, являющийся наиболее перспективным материалом для использования его электрических, люминесцентных, опто- и акустоэлектронных, поверхностных свойств. Степень проявления данных и многих других свойств ZnO находятся в прямой зависимости от совершенства его структуры и состава. Поэтому разработка метода получения его образцов с воспроизводимыми физико-химическими свойствами является актуальной научно-технической проблемой.

В настоящей работе данная проблема нами решена на основе осуществления термохимической реакции восстановления ZnO водородом и транспорта ее продуктов в зону кристаллизации. Путем анализа условий восстановления ZnO водородом определены основные технологические параметры, позволяющие в контролируемых условиях осуществить формирование монокристаллической структуры получаемых образцов в виде кристаллов и эпитаксиальных слоев. Можно сказать, что в работе реализован самый распространенный вариант газофазной кристаллизации - метод прямого температурного градиента между зонами реактора, определяющий образование газовой фазы исходного вещества в одних температурных условиях и рост образцов этого же вещества в других условиях.

Выбор объекта исследований осуществлен исходя из научных и практических целей, поскольку ZnO обладает уникальным набором свойств.

Целью настоящей работы являлась разработка технологии получения многокристаллического ZnO с учетом его структурной особенности, исследование ее совершенства и ориентации относительно ориентации подложки, исследование его электрических свойств в зависимости от условий получения образцов моно- и поликристаллической структуры.

Поставленная цель достигнута:

1. Расчетом основных параметров осуществления обратимой термохимической реакции восстановления оксида цинка водородом, созданием аппаратуры для его кристаллизации в контролируемых условиях.

2. Установлением механизма ориентированного зарождения и роста ZnO на подложках различной ориентации и химической природы. Определением ориентаций роста и ориентационных соотношений для значительного количества систем типа подложка- ZnO.

3. Исследованием электрических свойств эпитаксиальных и поликристаллических пленок и слоев ZnO в зависимости от условий их получения, а также температурной зависимости данных свойств.

Научная новизна работы заключается:

1. В доказательстве того, что известные трудности кристаллизации ZnO обусловлены анизотропией его структуры и того, что необходимым условием формирования его монокристаллической структуры является уменьшение внутреннего потенциала между подслоями ионов цинка и кислорода его двойных слоев, параллельных плоскости базиса (0001). Также доказывается то, что эффективными методами снижения степени анизотропности структуры ZnO являются: введение в ее междоузлия сверхстехиометрического цинка, водорода в условиях образования комплексов типа (О-Н) и (V„ - Н), легирование растущих образцов трехвалентным металлом, обладающим в ZnO донорными свойствами и могущим быть в нем в состоянии замещения цинка;

2. В установлении возможности целенаправленного изменения природы и ^ концентрации дефектов в структуре ZnO, как в процессе получения, так и последующей термообработки его в атмосфере водорода в интервале температур от 600 до 980 К;

3. В демонстрации того, что осуществлением реакции восстановления ZnO водородом можно управлять стадиями зарождения ориентированных зародышей на подложке известной ориентации и роста его в монокристаллическом виде в атмосфере влажного водорода со скоростью до 8 мм/мин.

Практическая ценность работы определяется совокупностью расчетных Ш параметров условий получения монокристаллического ZnO с воспроизводимыми свойствами, аппатурного исполнения метода, обработки практических приемов управления процессами зарождения ориентированных зародышей и их роста, определением ориентации и ориентационных соотношений для большого количества систем типа подложка — ZnO, а также исследований электрических свойств моно- и поликристаллических пленок в зависимости от условий их получения.

Моно- и поликристаллической структуры слои и пленки ZnO могут быть успешно использованы для проведения научных исследований в области физики твердого тела и его поверхности, а также для изготовления преобразователей физических величин различного назначения.

Легированные пленки ZnO могут быть применены в качестве отражающих или поглощающих покрытий, пленочных световолноводов, а более толстые слои - для приготовления сцинтиляторов, позволяющих обеспечить счет fy импульсов от 106 до 108 с"1. "Чистая" поверхность ZnO является уникальным объектом для исследования адсорбции и сопровождающих ее различных физических явлений.

Пленки и структуры, изготовленные по данной технологии, используются в постановке учебного процесса на физическом факультете Даггосуниверсите-та.

На защиту выносятся следующие положения:

1. Полный анализ условий восстановления ZnO в атмосфере водорода и определение механизма зарождения ориентированных зародышей и роста его пленок и слоев монокристаллической структуры.

2. Создание аппаратуры для практического получения ZnO с воспроизводимыми свойствами, установление зависимости степени дефектности его структуры от условий получения.

3. Определение ориентаций и ориентационных соотношений для большого количества систем типа подложка-оксид цинка.

4. Установление возможности целенаправленного изменения природы и концентрации дефектов по ходу получения ZnO, а также в процессе последующей термообработки в атмосфере водорода в интервале температур от 600 до 980 К.

5. Исследование зависимости электрических свойств пленок ZnO от условий получения и их температурной зависимости.

Публикации. Результаты проведенных исследований по теме диссертации опубликованы в следующих работах:

1. Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб, Рабаданов М.Р., Исмаилов А.М. Механизм формирования толщины монокристаллических пленок ZnO на подложках различной ориентации получаемых из газовой фазы .//Материалы 8-й Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых (с 29 марта по 4 апреля 2002 г.). -Екатеринбург. -2002. -С.228-229.

2. Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб, Рабаданов М.Р., Исмаилов А.М. Зависимость примесной и собственной люминесценции оксида цинка от природы примеси и режима последующей термообработки.//Материалы 8-й Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых (с 29 марта по 4 апреля 2002 г.) -Екатеринбург. -2002. -С.230-231.

3. Рабаданов Р.А., Казимагомедов P.M., Гарунов А.И., Хадж Исмаиль Му-хаммад Басель Адиб. Зависимость интенсивности видимой люминесценции ZnO от совершенства его структуры и состава.// Материалы П-й Всероссийской конференции по физической электронике 2003 (с 23 по 26 сентября 2003г.).-Махачкала. -2003. -С.259-259.

4. Рабаданов Р.А., Рабаданов М.Р., Исмаилов А.М., Хадж Исмаиль Му-хаммад Басель Адиб. Зависимость интенсивности зеленой люминесценции ZnO от условий его синтеза и механизм ее возникновения//Вестник ДГУ (Естественные науки).-Махачкала. -2002. Вып. 1. -С.5-9.

5. Темиров А.Т., Исмаилов А.М., Рабаданов М.Р., Рабаданов Р.А., Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб. Структура легированных пленок ZnO, полученных магнетронным методом.//Вестник ДГУ (Естественные науки).-Махачкала. -2002. Вып. 1.-С.20-23. ?

Кроме того, содержание исследований докладывалось и обсуждалось на: 8-й Всероссийской научной конференции студентов-физиков и молодых ученых (Екатеринбург. 2002), П-й Всероссийской конференции по физической электронике (Махачкала, 2003), ежегодных научных конференциях профессорско-преподавательского состава физического факультета Даггосуниверси-тета с 2001 по 2004 гг., научных семинарах кафедры физической электроники физического факультета ДГУ (2001-2004 гг.).

Личный вклад соискателя. Диссертационная работа представляет собой итог самостоятельной работы автора. Задачи исследования ставились руководителем. Он же принимал участие в выборе методов исследований, модернизации экспериментальной аппаратуры и обсуждении полученных результатов. В отдельных случаях автор работы прибегал и к помощи сотрудников лаборатории, в которой он выполнял работу.

Объем и структура диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав и основных выводов (заключения). Содержание диссертации изложено на .страницах машинописного текста. Иллюстрационный материал

Похожие диссертационные работы по специальности «Физическая электроника», 01.04.04 шифр ВАК

Заключение диссертации по теме «Физическая электроника», Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб

Выводы и рекомендации, имеющие частное научное значение, приведены в конце соответствующих глав данной работы. Наиболее общими, имеющими принципиальное значение выводами считаем следующие:

1. Осуществлением обратимой реакции восстановления оксида цинка водородом могут быть получены кристаллы, пленки и слои монокристаллической структуры с воспроизводимыми от опыта к опыту свойствами со скоростью роста до 8 мкм/мин.

Требования, вытекающие из структуры монокристаллического ZnO, могут быть максимально удовлетворены, осуществлением его кристаллизации в пределах температурной зоны тигля Т2 от 970 — 101 К, температуры зоны подложки Ti от 860 до 890 к, перепада температуры между данными зонами реакций от 90 до 120 К и давлении водорода в системе р = 1,8-105 Па.

2. Исследован механизм формирования монокристаллической структуры ZnO на подложках различной природы и ориентаций. Для роста ZnO на листочках слюды (мусковит, фторфлогонит), гранях (111) Ge, GaAs, GaP и (0001) А12Оз при Ti < 870 К характерен дислокационный механизм формирования толщины слоя. На гранях (1010), (1120),(1011), (1012) А1203 и (100), (110) Ge, GaAs, GaP толщина растущего слоя формируется по слоистому механизму роста. При этом призматические кристаллы ZnO преимущественно растут в направлениях [0001].

Конечным результатом роста таких кристалликов является формирование ступеней роста. Геометрия и высота ступеней роста определяется величинами ДТ и Tj при фиксированных давлении паров воды в водороде и общем давлении в системе (р = 1,8 • 105 Па).

3. Наибольшей дефектностью обладает слой ZnO, который граничит с подложкой. Для системы слюда — ZnO толщина такого слоя составляет 0,8 мкм. Концентрация дислокаций несоответствия в таком слое ZnO оказывается в пределах от 10 до 10 м' . Эффективная плотность дислокаций уменьшается с увеличением толщины пленок, что подтверждено нами снятием электронограмм на отражение, измерением зависимости подвижности электронов от толщины пленок и подвержением их газовому травлению.

Для значительного количества гетероэпитаксиальных систем типа подложка-пленка ZnO определены ориентации роста, ориентационные соотношения и кристаллографические несоответствия методом дифракции быстрых электронов.

4. Изучены структурное совершенство и электрические свойства образцов ZnO, полученных в известных условиях, и их температурная зависимость. Результаты данных исследований позволили заключить, что с наименьшей концентрацией структурных и примесных дефектов кристаллы, эпитаксиальные слои ZnO могут быть получены при Т2 = 990 К, Ti = 880 К, давлении водорода в системе р = 1,8 • 105 Па и парциаль^рг^, давлении воды в водороде в пределах 13-14 %.

В образцах «чистого» ZnO, полученных в указанных выше условиях, основными электроактивными донарами являются междоузольные атомы цинка и растворенный водород. Их энергия ионизации одинакова, при Nd = 2-1022 м"3 она равна ~ 0,05 эВ. С увеличением их концентрации

OA. 1 до 4-10 м' оксид цинка оказывается в вырожденном состоянии.

5. Подвижность электронов в ZnO зависит не только от температурных и других условий реализации его монокристаллического состояния, но и от ориентации подложки и скорости его осаждения.

6. По изучению температурной зависимости параметров ZnO установлено, что в области температур до 115 К основной вклад в рассеяние электронов вносят ионизационные и нейтральные примеси (растворенные цинк и водород), а в области температур Т>115 К уменьшение подвижности электронов объясняется их рассеянием акустическими фононами и атомами нейтрального цинка, обладающего тенденцией накопления в местах дефектов структуры (дислокации, границы блоков).

7. Крупноблочные поликристаллические слои ZnO, полученные в известных условиях, также как ориентированные, могут быть применены для изготовления сцинтилляторов и источников излучения, поскольку они по электрическим и люминисцентным свойствам существенно не отличаются от ориентированных слоев.

Заключение

Известная практика изучения оксида цинка, можно сказать, состоит из предложенных методов синтеза его кристаллов, монокристаллических слоев и пленок. До работы [13] на основе анализа ранее выполненных исследований нельзя было сказать, что таким-то методом можно осуществить формирование монокристаллической структуры, обладающей воспроизводимыми электрическими, оптическими и пьезоэлектирическими свойствами. Как теперь нам представляется, такого типа трудности в основном были обусловлены анизотропией структуры оксида цинка, состоящей из подслоев ионов цинка и кислорода, образующих двойные слои, которые параллельны базисной плоскости (0001) кристалла ZnO.

В условиях соблюдения стехиометрического состава формирование монокристаллической структуры будет сопровождаться не уменьшением свободной энергии кристалла, а ее возрастанием за счет электростатистического взаимодействия подслоев структуры кристалла. Энергию электростатического взаимодействия двойных слоев ZnO можно довести до минимума путем осуществления обратимой реакции, позволяющей ввести в состав растущего кристалла донорные примеси. Как мы теперь знаем, такими примесями в ZnO могут быть: сверхстехиометрический цинк в междоузлиях, растворенный водород, галлий в состоянии замещения цинка в решетке ZnO. При этом суммарная концентрация доноров в растущем ZnO должна

J | л быть больше ~ 2-10 м". В таком случае не возникает необходимости в генерации границ фаз, т.е. в пределах отдельных кристалликов, отделенных друг от друга внутренними и внешними границами фаз, а также разориен-тации одного кристаллика относительно других кристалликов с целью уменьшения энергии растущего кристалла до минимального значения.

Приведенные в работе результаты по получению пленок на слюде, гранях (111) Ge, GaAs, GaP и (0001) А12Оз, а также результаты по исследованию пленок, полученных в различных условиях, показывают, что осуществление реакции восстановления порошка ZnO в водороде, могут быть получены образцы ZnO совершенной монокристаллической структуры, их свойства можно изменять по ходу получения изменением парциального давления окислителя, температур зоны тигля и подложки, введением в исходный порошок ZnO донорной примеси и т.п.

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб, 2004 год

1. Brown Н.Е. Zinc oxide: Properties and application.-N.Y.: Pergamon press. 1976. 112p.

2. Теоргибиани A.H. Широкозонные геолупроводники А В и перспективы их применения. //УФИ. 1974, Т. 113, с. 129-155.

3. Физика и химия соединений А В . /Пер. с англ. Под ред. Проф. С.А. Медведева. -М.: Мир. 1970. 626 с.

4. Калинкин И.П., Алесковский В.Б., Симашкевич А.В. Эпитаксиальные пленки соединений А2В6. -Ленинград: ЛГУ. 1978. 310 с.

5. Миркин Л.И. Справочник по рентгеноструктурному анализу поликристаллов. -М.: 1961. С. 371-374.

6. Шаскольская М.П. Кристфелография. М.: Высш шк. 1976. С. 164-167.

7. Киттель Ч. Введение в физику твердого тела. -М.: 1978. 790 с.

8. Вест А. Химия твердого тела. Теория и приложения. Ч.2./Под ред. акад. Ю.Д. Третьякова. -М.: Мир. 1998. 336с.

9. Нарои-Сабо Н. Неорганическая кристаллохимия. -Будапешт: АН Венгрии. 1969. С. 259-274.

10. Heiland G., Kustman Р and Prister Н. Polaro Eigenshoften von Zincoxyd kristallen // Ztsh. Phys./1963. V. 176. P. 483-497.

11. Mariano A.N., Hanneman R.E. Crystallographis polarity of ZnO cristals // J. Appl. Phys.1963. V. 34. № 2. P. 3647-388.

12. Kleber W., Mlodoch R. Uber die Synthese von Zinkit-Einkristallen. — Krist. und Ttechn. -1966. Bd. 1. P. 249-259.

13. Рабаданов P.А. Получение, реальная структура, некоторые объемные и поверхностные свойства монокристаллического оксида цинка. Махачкала: Диссерт. на соиск учен. ст. док.ф.-мат. наук. 1997. 358с.

14. Коффедат П. Отклонение от стехиометрии, диффузии и электропроводность в простых окислах металлов. -М.: Мир. 1995. 199 с.

15. Третьяков Ю.Д. Химия нестеохиометрических веществ. М.: МГУ. 1974. 70 с.

16. Крегер Ф. Химия несовершенных кристаллов. М.: Мир. 1969. 654 с.1. У Л

17. Георгибиани А.Н. Широкозонные полупроводники А В и кристаллы, их применения//УФН.- 1974. Т.113. С.129-155.

18. Никитенко В.А. Оптические свойства монокристаллов окиси цинка, полученных различными методами газотранспортных реакций: Дис. на со-иск. учен, степени канд. физ-мат.н. -М.: МИСиС. 1975.

19. Abrahams S.C., Bernstein I.L. Retmensurement of the structure of hexagonal ZnO. // Acta crystallogi. B. 1969. Vol. 25. p. 1233-1236.

20. Hirschwold W., Bonasewics P., Ernst L. Et al. Zinc oxide; properties and behaviour of the bul, the solid (vacuum and Solid) gas interface.// Curr. Top. Mater. Sci. 1981. Vol.7, p. 143-482.

21. Краткая химическая энциклопедия. -M.: Сов энциклопедия. 1967. Т.5. 866 с.

22. Костов И. Минералогия -М.: Мир. 1971. 261 с.

23. Физико-химические свойства полупроводниковых соединений (справочник). М.: Наука. 1979. С. 49-50.

24. Реми Г. Курс неорганической химии. Под ред. А.В. Новоселовой. -М.: Мир. 1966. Т.2 467с.

25. Корякин Ю.В., Ангелов И.И. Чистые химические вещества. Руководство по приготовлению неорганических реактивов и препаратов в лабораторных условиях. М.: Химия. 1974. С. 400-401.

26. Полупроводники. Под ред. Н.Б. Хеннея. М.: ИЛ. 1962. 667с.

27. Burmeister J. Schmelzen von Zinkoxyd Durch Hochfrequenzerhitzung. // Phys Status solidi. 1965. Vol. 10. №1, К.1.

28. Nielsen J.W., Dearborn E.F. The growt of large singe crybtaes of Zinc oxide // J. Phys. Chew. 1960 vol. 64. №11. P. 1762-1763.

29. Тимофеева В.А. Условия выращивания кристаллов А12Оз, ZnO, Са2Оз в кн.: Рост кристаллов. М.: Наука 1966. Т.6. С. 86-92.

30. Fischer К., Sinn Е. On the preparation of ZnO Single cristals. //Cryst. Res. Techn. 1961. Vol. 16. №6. P. 689-694.

31. Koshytp S.C. Growth of ZnO nudes grom molten hyrous KOH solutions. // J. Appe. Phys. 1973. Vol. 44. P. 4381-4384.

32. Kumar K. Croth of ZnO hollow crystals from flus methods. //J. Cryst. Crawth. 1974. Vol. 26. P. 200-202.

33. Scharowsty E. Optische und Electrische Eigenschodten von ZnO — Einkristallin mit Zn ubeschup. // Ztsch. Phys., 1953, Bd. 135. S. 318-339.

34. Драпак И.Т. Выращивание монокристаллов и пленок окиси цинка. // Изв. АН СССР. Неорганические материалы. 1980. Т. 16. С. 362-384.

35. Иванов Г.А., Савицкая Я.С. О зависимости свойств монокристаллов окиси кадмия и окиси цинка от условий их выращивания из газовой фазы. — В кн.: Рост кристаллов. -М: Наука. 1972. Т.9. С. 239-242.

36. Hebbig R. Uber die Zuchzung von Grosseren Zeinen und Dotierten ZnO Kristallen aus der Gasphase. //J. Cryst. Growth. 1972. Vol 15. P. 25-31.

37. Dietz R.E., Kamimura H., Sturge M.D, Bt. Al. Ebetro nic structure of cipper impurities in ZnO. //Phus. Rev. 1963. Vol 132. P. 1559-1569.

38. Sharma S.D., Kashyap S. Growth of ZnO whiskers platelets and dendrites. // J. , Appl. Phys. 1971. Vol. 42. P. 5302-5304.

39. Sharma R.B. Dislocation stucture and growth mechanism of Zinc oxide wistcers. //J. Arrl Phys. 1970. Vol. 41. P. 1866-1867.

40. Dodson E.M., Savage J.A. Vapour growth of single-srystel Zinc oxide. //J. Mater. Sci. 1968. Vol.3. P. 19-25.

41. Nielsen K.F. Growth of ZnO. Sindle-crystals by Vapour Phasereaction method. // J. Cryst. Growth. 1968. Vol. 3- 4. P.141-145.

42. Левицкая Т.Д., Паско П.Г., Кидяров Б.И. Выращивание кристаллов окиси цинка в системе ZnO Н2 - Н20 + N2. В кн:. Тез. докладов III симпозиумапо процессам роста и синтеза полупроводниковых кристаллов и пленок. -Новосибирск.: 1972. С. 62.

43. Pasko Р.С. Kidyarov B.Y. Unfluence of the vapor Phase composition and reagent flow on the growth mechanism and morfology of ZnO crystals. //J. Cryst. Crowth. 1976. Vol. 33. P. 298-302.

44. Пасько П.Т., Кидиячов Б.И. Выращивание кристаллов цинкита перекристаллизацией в парах воды и водорода. // Изв. Ан. СССР. Неорганические материалы. 1976. Т.12. С. 2228-2231.

45. Пасько П.Т., Кидиячов Б.И, Верман В.И., Цуркан А.Е. Влияние расхода реагентов на рост кристаллов цинкита из газовой фазы в системе ZnO -Н2 Н20 + N2 - 02. В кн. Кристаллические и стеклообразные полупроводники. -Кишинев: Штиинца, 1977. С. 175-181.

46. Weaver Е. Н. Vapour phase growth of ZnO single Crystals. // J. Cryst Growth. 1967. Vol. 1. P. 320-322.

47. Пасько П.Т., Кидиячов Б.И, Левицкая Т.Д. Невьянцева P.P. Выращивание кристаллов цинкиты методом парофазного гидролиза хлористого цинка. // Изв. Ан СССР. Неорг. материалы 1972. Т. 8. С. 424-425.

48. Невьянцева P.P., Кидиячов Б.И., Строителев С.А., Пасько П.Т. Исследование кристаллизации цинка из газовой фазы В кн. Механизм и кинетика кристаллизации. Минск.: Наука и техника, 1969. С. 123-132.

49. Кидичов Б.И., Кутузов A.M., Пасько П.Т. Термодинамический анализ процесса синтеза кристаллов цинкита из газовой фазы в системе ZnO -НС1 Н20. В кн.: Физика и химия сложных полупроводников. Кишинев.: Штиинца. 1975. С. 108-115.

50. Hirose М., Kubo I. Growth of ZnO single crystals by oxidation of Znl. // J. Appl. Phys. 1969. Vol. 8. P.402.

51. Hirose M., Furura Y. On the growth of ZnO Single crystal plates. // Jap. J. Appl. Phys. 1972. Vol 11. P. 423.

52. Hiroge M. Furura Y. Crowth of ZnO Single crystal from Zn Br. // Jap. J. Appl. Phys. 1970. Vol. 9. P. 726-727.

53. Kubo I. Crystal growth of Zinc oxide by chemical reaction of Zinc Fluoride P with air. // J. Phys Soci. Jap., 1961. Vol. 16. P. 2358-2359.

54. Schilon Mm., Gutman J. Crowth of ZnO Single crystal es by chemical vopour transport. //J. Crist. Growth. 1971. Vol. 11. P. 105-109

55. Park Y. S., Reynoeds D.C. Growth of ZnO Single crystales. // J. Appl. Phys. 1967. Vol. 36. P. 756-760.

56. Iwanage H., Shibata N. Hirose M., Suzuki K. Crowth mechanism of ZnO Zibbon Crystals from ZnS. // J. Cryst Growth. 1976. Vol 35. P. 159-164.

57. Лодиз P., Паркер P. Выращивание в гидротермальных условиях. В кн. fcfr Рост монокристаллов. -М: Мир. 1974. С. 292-311.

58. Кузьмина И.П., Никитенко В.А. Окись цинка. Получение и оптические свойства. -М.: Наука 1984. С. 20-30.

59. Рябова А.А., Савицкая Я.С., Шефталь Р.Н. Получение ориентированных пленок окиси цинка. // Изв. АН СССР. Неорганические материалы. 1968. С. 602-603.

60. Chandhi S.K., Field R.J. Highly orientid Zinc oxide films drowth by the oxidation of die thyn zinc. // Appl. Phys lett. 1980. Vol 37. P. 449-451.

61. Roth A.P., Webb J.B., Williams D.F. Absorption edge Shift in ZnO Flun

62. Films at high carries densities. // Solid State Communs, 1981. Vol. 59. P. 1269-1271.

63. Зеликин Я.М. Изготовление и свойства сублимированных слоев люми-ницирующей окиси цинка и сульфида цинка. //ПТЭ, 1961. Т.2. С. 130-132.

64. Вальнов П.Е., Зеликин Я.М. Изготовление сцинтилляторов из окиси цин-• ка. // ЖПС. 1967. Т.7. С. 709-713.

65. Рабаданов Р.А., Семилетов С.А. Магомедов З.А. Структура и свойства монокристаллических слоев окиси цинка. // ФТТ. 1970. Т.12. С. 14311436.

66. Рабаданов Р.А., Семилетов С.А. Микроаорфология и особенности роста эпитаксиальных пленок окиси цинка на слюде. // Кристаллография, 1971. Т. 16. С. 1012-1017.

67. Семилетов С.А., Рабаданов Р.А. Эпитаксиальные слои ZnO на Ge и CaAs. // Кристаллография. 1972. Т. 17. С. 434-435.

68. Багомедова A.M., Семилетов С.А., Рабаданов Р.А. Эпитаксиональные пленки окиси цинка на сапфире и других подложках — В кн. Процессы роста и синтеза полупроводниковых кристаллов и пленок. -Новосибирск: Наука, 1975. С. 188-194.

69. Рабаданов Р.А. Получение и исследование эпитаксиальных пленок окиси цинка. Диссерт. На соиск. учен. ст. канд. физ-мат. наук — Институт кристаллографии имни А.В. Шубникова. -М.: 1972. 186с.

70. Quon Н.Н., Malanka D.F. Chemical vapour deposition of epitaksial ZnO films. // Maxer. Res. Bule. 1975. Vol. 10. P. 349-354.

71. Tamura K., Ohnishi H., Yoshisawa M. ZnO films formed by oxidation of ZnSe films formed by oxidation of ZnSe films. // Jap. J. Appl. Phys 1974. Vol. 13. P. 939-943.

72. Димова Алякова Д.И., Никитенко B.A. Пленки окиси цинка, полученные окислением слоев сульфида цинка - Тр. МЭИ. 1947. Вып. 192. С. 8688.

73. Шермергор Т.Д., Стрельцова Н.Н. Пленочные пьезоэлектрики. -М.: Радио и связь. 1986. С. 23-30.

74. Получение пленок методом ионного распыления.- В кн. Технология тонких пленок. Пер. с англ. под ред. М.И. Елиинсона, Г.Г. Смолко. -М.: Сов. радио. 1977. С. 405-460.

75. Лабунов В.А., Данилович Н.И., Уксусов А.С., Минайчев В.Е. Современные магнитронные распылительные устройства — Зарубежная электронная техника. -М.: Электронника. 1982. №10. 100с.

76. Исмаилов A.M. Совершенство структуры и свойства пленок окиси цинка, получаемых ионным распылением. Дис. на соиск. уч. ст. к. ф-м. н. -Махачкала: 2000. 134о.

77. Hagemark К. I., Chacka L.C. Electrucal transport properties of Zn doped ZnO //J. Solid State Chem. 1975. Vol 15. P. 261-670.

78. Димова-Алякова Д.Н. Электрофизические свойства пленок окиси цинка, полученных различными методами. Автореферат дис. к. ф-м. наук -М.: МИС и С 1974. 164с.

79. Hutson A.R. Hall effect styedies of Zinc-oxide Single Crystals. // Phys. Rev. 1957. V. 108. №2. P. 222.

80. Кузьмина И.П., Никитенко B.A., Терещенко А.И. и др. Влияние условий выращивания и легирования на некоторые оптические свойства монокристаллов окиси цинка — В кн. Гидротермальный синтез и выращивание монокристаллов. -М.: Наука. 1982. С. 40-68.

81. Thomas D.G. The exiton spectrum of ZnO oxide. // J. Phys. and Chem. Solids. 1960. V. 15. №1 P. 86-96.

82. Mimoto S. The origin of the ultraviolet emission in ZnO Phosphorus // Jap. J. Appl. Phys. 1978. Vol. 17. №16. P.l 129-1130.

83. Skettrup Т., Lidholt L.R. Decay times of the ultraviolet and green emission lines in ZnO // Solid State communic. 1968. Vol. 6. P. 589-592.

84. Зеликин Я.М., Жуковский А.П. Желтая люмиксиценция окиси цинка. // Оптика и Спектро. 1961. Т.П. С. 212-215.

85. Lower R.B. The J.R. Photoluminucence emission band in ZnO. // J. Phys and Chem. Solids. 1973. Vol. 34. P. 249-253.

86. Шнилькин А.Д., Магомедов 3.A., Семилетов C.A. Гиперзвуковые преобразователи на основе ZnO, полученные окислением селенида цинка. // Изв. АН СССР. Неорг. материалы, 1981. Т. 17. С. 1004-1007.

87. Гурилов В.П., Дьяченко О.Р., Стефко В.В. Области технического применения и гидротермальное выращивание кристаллов цинкита В кн. Синтез минералов и экспериментальные исследования. Под ред. А.А. Шапошникова, Ю.М. Бутилина. -М.: Наука. 1981. С. 24-28.

88. Погосян Ж.Р., Аратурян В.М., Саркисян А.Т. Эфекты отрицательной проводимости и электролюминесценции на переходе окись цинка — Электролит. // Поверхность. 1983. Т. 4. С. 147-149.

89. Шефер Г. Химические транспортные реакципи. -М.: ИЛ. -1964. 170с.

90. Рабаданов Р.А., Рабаданов М.Р., Исмаилов A.M., Хадж Исмаиль Мухам-мад Басель Адиб. Зависимость интенсивности зеленой люминесценции

91. ZnO от условий его синтеза и механизм ее возникновения//Вестник ДГУ (Естественные науки).-Махачкала. -2002. Вып. 1. -С.5-9.

92. Сангвал К. Травление кристалов. Теория, эксперимент, применение. Пер. с англ. -М.: Мир. 1990. 492с.

93. Reisman A., Berkenblit В., Chan S.A., Angillo J. The epitaxial of ZnO on sapphire AgAl spinel using the varor phase reaction of ZnO and H2O. // J. Eletron mater. 1973. Vol 2. №2 P. 177-189.

94. Магомедов З.А. Получение и исследование текстурированных пленок CdS. Канд.дис. Институт кристаллографии АН СССР М.: 1968.

95. Данлеп У. Введение в физику полупроводников. -М.: ИЛ. 1954. 430с.

96. Хауффе К. Реакция в твердых телах и на их поверхности. Ч. 2. -М.: ИЛ. 1963. С. 249.

97. Жуховицкий А.А., Шварцман Л.А. Физическая химия. -М.: Химия. 1968. С.3-68.

98. Корапетьянц А.А. Химическая термодинамика. -М.: Химия. 1975. 584с.

99. Свелин Р.А. Термодинамика твердого состояния. Пер. с англ. -М.: Металургия. 1968. 316с.

100. Уоикс К.Е., Блок Ф.Е. Термодинамические свойства 65 элементов, их окислов, галогенидов, карбидов и нитридов. -М.: Металлургия. 1965. 260с.

101. Физико-химические свойства полупроводниковых веществ (Справочник). -М.: Наука. 1939. С. 45.

102. Темиров А.Т., Исмаилов A.M., Рабаданов М.Р., Рабаданов Р.А., Хадж Исмаиль Мухаммад Басель Адиб. Структура легированных пленок ZnO, полученных магнетронным методом.//Вестник ДГУ (Естественные науки).-Махачкала. -2002. Вып. 1. -С.20-23.

103. Леонова В.Ф. Термодинамика. -М.: Высш. шк. 1968. 158с.

104. Маккей К. Водородные соединения металлов. -М.: 1968. 244с.

105. Tomas D.G., Lander Y.Y. Hydrogen as dovor in Zinc Oxide //J. Chem Phys. 1956. V. 25. P. 1126-1132.

106. Рид P., Шервуд Т. Свойства газов и жидкостей. 2-е издание. -Л.: Химия. 1977. 408с.

107. Медведев С.А. Введение в технологию полупроводниковых материалов. -М.: Высш. шк. 1970. С. 459-462.

108. Болтакс Б.И. Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках. -Л.: Наука 1972. С. 21-25.

Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.