Вопросы теории образования и формирования анодных оксидов тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.05, доктор технических наук Аверьянов, Евгений Ефимович

• Аверьянов, Евгений Ефимович
• доктор технических наук
• 2004

Оглавление диссертации доктор технических наук Аверьянов, Евгений Ефимович

ВВЕДЕНИЕ.

Г Л А В А 1. ОБОСНОВАНИЕ ЦЕЛЕЙ И ЗАДАЧ ИССЛЕДОВАНИЯ.

§1.1. Анодирование в водных растворах электролитов.

§1.2. Плазменное анодирование.

§1.3. Свечение анода при формировании окисной пленки.

§1.4. Токовые шумы и газовыделение.

§1.5. Методы измерения электрофизических параметров.

§ 1.6. Применение анодирования в резисторостроении.

ГЛАВА 2. О РОЛИ ПЛАЗМЫ В ПРОЦЕССЕ АНОДНОГО ОКИСЛЕНИЯ МЕТАЛЛОВ.

§2.1. Плазменное анодирование.

§2.2. Свечение анода при анодировании в водных растворах электролитов.

§2.3. Плазменная теория анодного окисления.

ГЛАВА 3. ПЛАЗМЕННО-ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ АНОДИРОВАНИЕ (ТЕОРИЯ).

§3.1. Общая характеристика процесса.

§3.2 Механизм плазменно-электролитического анодирования.

§3.3. О механизме возникновения микротрещин при анодировании.Л

§3.4. Результаты исследования токовых шумов и акустичеких шумов пены электролита.

§3.5. Влияние давление газовой среды на процесс анодирования.

ГЛАВА 4. ПЛАЗМЕННО-ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОЕ АНОДИРОВАНИЕ (ПРАКТИКА).

§4.1. Установка для анодирования.

§4.2. Измерение электрофизических параметров оксидов (методы измерения).

§4.3. Измерение электрофизических параметров оксидов (результаты измерений).

§4.4. Анодирование резисторов.

Г Л А В А 5. СТРУЙНО-ИМПУЛЬСНОЕ АНОДИРОВАНИЕ.

§5.1. Струйно-импульсное анодирование.

§5.2. Анодирование в переохлажденном электролите.

§5.3. Абразивные свойства анодного оксида алюминия.

§5.4. Антипригарные свойства оксидов на алюминии.

ГЛАВА 6 . МЕТОДЫ ИССЛЕДОВАНИЯ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ ОКСИДОВ.

§6.1. Измерение электросопротивления и емкости.

§6.2. Исследование вольт-амперных характеристик и вольт-амперных характеристик пробоя.

§6.3. Измерение токовых шумов в процессе циклического нагрева.

§6.4. Измерение токовых шумов в предпробойном режиме.

§6.5. Обработка результатов измерений э.д токовых шумов.

§6.6. О некоторых аспектах приложения метода "сила-длительность" к описанию кинетики процессов деструктурирования. t)

§6.7. 11сследование ампер-секундных характеристик.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Вопросы теории образования и формирования анодных оксидов»

Разработанный в 1877 году талантливым русским ученым , профессором Казанского университета Н.П.Слугиновым метод анодного окисления металлов широко применяется в современной промышленности. О масштабах использования анодирования можно судить по тому факту, что только в нашей стране по оценке академика Я.М.Колотыркина стоимость соответствующих работ составляет несколько миллиардов рублей в год [1].

Анодирование металлов широко применяется во всех тех случаях, когда на поверхности металла необходимо получить тонкие диэлектрические или полупроводниковые пленки с высокими значениями электрофизических параметров (защита металлов от коррозии и термического воздействия, полупроводниковые переходы, антифрикционные покрытия, повышение износостойкости и твердости поверхности и т.д.).

Значительный вклад в развитие теории и практики анодирования внесли Келлер, Хантер, Робинзон (США), Лихтенбергер (Венгрия), Г.В.Акимов, А.Ф.Богоявленский, Л.И.Каданер, А.И.Красильщиков, В.А.Лабунов, А.Н.Пилянкевич, Н.Д.Томашов, И.Н.Францевич, А.В.Шрейдер.

Разработанный Н.П.Слугиновым способо анодирования металлов в водных растворах электролитов был в дальнейшем дополнен анодированием в расплавах солей и плазменным анодированием.

По своему значению и изученности первое место занимает способ анодирования в водных растворах кислот или щелочей. В настоящее время он успешно применяется для формирования оксидов толщиной от тысячных до десятых долей миллиметра. Российскими и зарубежными исследователями получено большое количество авторских свидетельств и патентов на усовершенствование способа (анодирование в электролитах различного состава и комбинированных электролитах различного состава и комбинированных электролитах, анодирование с применением импульсов тока различной формы и скважное III, применение ультразвука и низких температур) и последующую обработку оксида (окрашивание оксида, наполнение пор в оксиде специальными составами, термообработка оксида). Не меняя сущности метода, эти усовершенствования позволяют получать оксиды со специфичными электрофизическими параметрами.

Несмотря на то, что технологии получения оксидов анодированием в водных растворах электролитов, в плазме и в расплавах солей резко отличаются, обращает на себя внимание однотипность кинетических характеристик роста оксида. В то же время единой теории образования оксида до сих пор не существует. Наиболее просто объясняется процесс образования и роста оксида для плазменного анодирования-. Значительные трудности встречаются в объяснении механизма анодирования в расплавах солей и в электролитах, ионы которых не содержат кислорода.

Механизм анодирования в водных растворах электролитов также имеет много неясного. Имеющиеся воззрения на этот процесс часто противоречивы.

Наиболее полно особенности кинетики роста и структуры оксида объясняет коллоидно-электрохимическая теория (Мерфи, Майкельсон, А.Ф.Богоявленский). По этой теории анодный оксид представляет собой ориентированный электрическим полем гель оксида металла. Но, и эта теория не объясняет многие процессы, сопровождающие анодирование (свечение анода, быструю полимеризацию оксида, трещинообразование оксида, характер флуктуации тока в цепи формирования при анодировании и т.д.).

Наибольший интерес представляет свечение анода при анодировании. Это свечение характерно для всех способов анодирования. О природе свечения высказываются различные предположения: электролюминесценция , хемилю-минесценция, субискрение, возникающее на дефектных местах оксида. Но эти гипотезы были разработаны только как попытки объяснить природу свечения. Они не показывают взаимосвязь явления с особенностями кинетики формирования, структуры и электрофизических параметров оксидов.

Известные способы анодирования не всегда удовлетворяют запросам промышленности. Получение оксидов толщиной больше 150 мкм анодированием в водных растворах электролитов связано со значительными затратами времени и применением специального оборудования для охлаждения электролита и изделия. Способы плазменного анодирования в расплавах солей для получения толстослойных фазовых оксидов малопригодны.

Помимо отсутствия достаточно разработанной теории анодирования, прогресс в области разработки новых способов в значительной мере сдерживается недостатком надежных экспресс-методов контроля электрофизических параметров оксидов. Особенно это относится к бездефектным методам контроля электрофизических параметров в процессе формирования пленки.

Вполне естественно, что решение изложенных выше проблем вызовет значительный экономический эффект для народного хозяйства.

Цель работы состояла в: а) разработке теории формирования анодного оксида, удовлетворяющей накопленному наукой комплексу экспериментальных и теоретических данных; б) применении результатов теории для разработки высокоэффективного способа анодирования; в) разработке новых методов контроля электрофизических параметров оксидов.

В ходе выполнения поставленной задачи были впервые

- разработана теория формирования анодного оксида, предполагающая наличие вблизи анода слоя плазмы (совместно с А.Ф.Богоявленским)

- выполнена экспериментальная проверка основных положений теории и показана пригодность разработанной теории для всех известных способов анодирования; в процессе экспериментальной проверки получены яркостные и колориметрические характеристики свечения и исследованы характеристики токовых шумов для различных материалов анода, электролитов, значений формирующего напряжения.

- в процессе экспериментальной проверки разработанной теории проведены обширные исследования по анодированию ряда металлов в плазме тлеющего разряда постоянного тока,

- на основе разработанной теории предложен новый плазменно-электролитический способ анодирования металлов, который по сравнению с известными способами позволяет резко увеличить скорость анодирования (в 510 раз) и достижимые толщины оксидов (в 2-4 раза),

- с целью применения плазменно-электролитического анодирования для формирования пленок на деталях сложной конфигурации предложено проведение процесса при пониженном давлении,

- выполнены теоретические исследования механизма плазменно-электролитического анодирования, оценена вероятность протекания различных реакций образования отрицательных ионов кислорода в межэлектродном промежутке в зависимости от режимов окисления,

- исследованы физические процессы в межэлектродном промежутке при плазменно-электролитическом анодировании,

- исследована кинетика роста оксидов при плазменно-электролитическом анодировании,

- исследованы электрофизические параметры оксидов, полученных плазменно-электролитическим анодированием и оценена область их применения,

- рассмотрены факторы, влияющие на трещинообразование оксида и намечены пути уменьшения трещинообразования,

- разработана схема установки для плазменно-электролитического анодирования тонкопленочных керметных резисторов с целью подгонки их электросопротивления, выполнены значительные экспериментальные исследования по подгонке резисторов, показавшие высокую эффективность плазменно-электролитического анодирования,

- разработана установка для исследований флуктуаций тока в цепи формирования, исследованы флуктуационные характеристики,

- показано, что совместное рассмотрение характеристик токовых шумов и акустических шумов пены электролита может быть использовано для контроля процесса анодирования,

- разработан ряд ускоренных методов оценки однородности структуры оксидов (по вольт-амперным характеристикам фриттинга, по ампер-секундным характеристикам пробоя, по токовым шумам при циклическом нагреве, по токовым шумам в экстремальном режиме).

Инициированная необходимостью разработки более четких представлений о механизме образования анодного оксида работа выходит за рамки тематики исследований по теории анодирования. Ее результаты могут найти применение при разработке еще более общей теории, включающей процессы анодирования, электрохимической обработки и электрополировки. Полученные результаты могут быть использованы при изучении процессов, происходящих при электрическом разряде между металлическим и электролитным электродами.

Результаты выполненных исследований позволяют наметить пути разработки высокоэффективных способов анодирования.

Плазменно-электролитическое анодирование значительно расширяет возможности известных способов. Электроизоляционные, коррозионностойкие, термостойкие и антифрикционные покрытия, полученные этим способом, не имеют себе равных по многим электрофизическим параметрам и могут быть использованы в различных областях техники. На плазменно-электролитический метод разработана полная конструкторская документация и изготовлены установки для анодирования.

На основе плазменной теории сделан вывод о целесообразности применения импульсных методов анодирования - это нашло практическое применение в виде разработки струйно-импульсного анодирования. Для практическом реализации этого метода также разработана полная конструкторская документация и изготовлена установка.

Предложенный метод анодирования в переохлажденном электролите позволяет получать толстослойные оксиды с очень высокой однородностью микротвердости по толщине.

Наконец, новые области применения анодных оксидов в резисторостроении и в качестве антифрикционных покрытий значительно расширяют возможности применения оксидов в технике.

Основное содержание диссертации опубликовано в 76 научных работах (из них 5 книг и 10 изобретений). Материалы диссертации докладывались на 16 всероссийских и международных конференциях. Практические результаты диссертации использовались при выполнении хоздоговорных работ с предприятиями г. Казани, Чистополя, Нижнего Новгорода, Москвы. С плазменной теорией анодирования общественность широко ознакомлена, например, после выхода книг [249, 251], а с методом плазменно-электролитического анодирования после выхода книг [2, 250]. Книги [2, 250, 251] написаны без участия автора диссертации. На книгу "Справочник по анодированию" имеется рецензия, опубликованная в журнале "Коррозия и защита от коррозии", написанная д.т.н. А.В.Шрейдером, одним из основных специалистов по анодированию. Предисловие к книге "Н.П.Слугинов" написал академик Я.М.Колотыркин. Он же дал отзыв на конкурс по книге "Анодирование металлов в плазме". Некоторые из статей автора перепечатаны в журнале "Surface engineering and applied electrochemistry".

Заключение диссертации по теме «Электрохимия», Аверьянов, Евгений Ефимович

Основные результаты и выводы.

Комплексный характер выполненных исследований позволил оценить возможность применения плазмы тлеющего разряда постоянного тока для формирования оксидов с высокими электрофизическими параметрами и наметить пути значительного увеличения толщины и скорости формирования оксидов. Анализируя эффекты, сопровождающие анодирование в водных растворах электролитов, автор обратил внимание на малоизученные и неоднозначно трактуемые явления, сопровождающие процесс анодирования (свечение анода, характер флуктуации токовых шумов в цепи формирования, особенности полимеризации фазового анодного оксида и др.). Все это в совокупности позволило сделать вывод о присутствии вблизи анода в период формирования оксида тонкого слоя плазмы, определило стратегию дальнейших исследований и наметило пути разработки высокоэффективных методов анодного оксидирования. Основным результатом, сделанным в направлении увеличения скорости формирования и достижимой толщины оксида, было то, что необходимо увеличить плотность плазмы вблизи анода и улучшить охлаждение окисляемого изделия. Это было достигнуто в новом плазменно-электролитическом методе анодирования, где один из электродов находился в электролите, а другой над ним вне электролита. Плотная плазма, непрерывное охлаждение анода, участие в процессе анодирования анионов электролита из ат-мосферного воздуха и электролита обеспечили достижение нужного эффекта.

1. Исследовано анодное оксидирование алюминия, меди, железа и никеля в монолитном и напыленном состояниях в тлеющем разряде в среде атмосферного воздуха. Установлено, что оптимальной областью для анодного оксидирования является положительный столб тлеющего разряда. С применением современных методов физико-химического анализа показано, что оксидные пленки получаются с очень малым содержанием примесей. Установлено, что толщина и скрость роста пленок зависят от положения образца в тлеющем разряде, напряжения формирования тока тлеющего разряда, времени анодирования. Определены электрофизические параметры полученных оксидов. Показано, что трехэлектродный процесс анодирования очень хорошо совместим с технологией получения тонкопленочных элементов в микроэлектронике и легко может быть объединен в единый непрерывный технологический процесс с остальными операциями по созданию гибридных интегральных микросхем. На площади в 1 см2 в однослойных структурах толщиной около 1 мкм удалось получить конденсаторные структуры с величиной емкости до 1,5 мкф с очень высокими характеристиками. Попытки автора и зарубежных исследователей вести анодирование в аномальном или дуговом разряде окончились неудачей: разряд трудноуправляем, в том числе и из-за образования оксида на аноде, анод нагревается, реактивнораспыленный материал катода, внедряяясь в пленку ухудшает ее парметры. Таким образом получить высококачественные толстослойные оксиды чисто плазменным анодированием затруднительно.

2. Анодирование в водных растворах электролитов является широко распространенным процессом. Стоимость соответствующих работ по этому методу анодирования по оценке академика Я.М.Колотыркина в предперестро-ечный период составляла несколько миллиардов рублей в год. Но, этим методом сложно, даже при охлаждении изделия, получать оксиды значительной толщины, процесс длителен, микротвердость полученных оксидов в ряде случаев недостаточна для целей техники. Теория процесса недостаточно разработана, а значит и пути улучшения метода неясны. Многие эффекты, сопровождающие процесс анодирования трактовались неоднозначно, в частности, процесс свечения анода. Проведя комплексные исследования с применением современной аппаратуры нам удалось установить, что свечение имеет четко выраженный потенциал зажигания, что характерно для плазмы: спектр свечения непрерывен, что характерно для низкотемпературной плазмы; токовые шумы имеют постоянную амплитуду до высоких частот, что характерно для плазмы. Было установлено, что свечение происходит под образующимся оксидом. Только плазменные процессы способны обеспечить необыкновенно быструю полимеризацию оксида и ориентацию полионов пленки по нормали к поверхности металла. Наконец, аномальное увеличение микротвердости металла под пленкой также свидетельствует в пользу наличия очень тонкого плазменного слоя вблизи металла в процессе формирования оксида. Разработанная совместно с профессором А.Ф.Богоявленским плазменная теория окисления в настоящий момент является общепринятой.

3. Появление теории, удовлетворяющей всему комплексу накопленных наукой данных, позволило наметить пути разработки высокоэффективных методов анодирования. Первым по значимости является плазменно-электроли-тический метод анодированияя. Его особенностью является то, что один из электродов (обычно это анод) помещают в электролит, другой над ним вне электролита и прикладывают напряжение, достаточное для прохождения процесса. Наличие в межэлектродном промежутке электролита позволило резко снизить температуру анода и увеличить плотность плазмы. За 10 минут удается получить анодные оксиды толщиной около 300 мкм со значением пробивного напряжения выше 4кВ.

На способ плазменно-электролитического анодирования диссертантом было получено (без соавторов) авторское свидетельство № 607852, затем на этот же метод, но проводимый при пониженном давлении получено авторское свидетельство № 885366 и на применение этого метода в радиоэлектронике авторское свидетельство № 1101905.

4. Плазменно-электролитическое анодирование. будучи новым процессом, было тщательно изучено. Исследовались процессы в межэлектродном промежутке, кинетика формирования и электрофизические параметры оксидов. Оксиды изучались методами электронной микроскопии, ИК-спектрос-копии, электронографии. Отличительной особенностью плазменно-электролитического анодирования является то, что трещинообразование оксидов наступает только при плотностях тока 25-35 А/дм:, что примерно в 5 раз больше, чем для анодирования с погруженными в электролит электродами. Теоретический расчет показал, что все дело в неглубоком погружении анода в электролите и, соответственно, меньшем гидростатическом давлении в порах оксида. Применение фотоаппаратуры с электронным затвором позволило лучше понять характер процессов в межэлектродном промежутке.

5. Плазменно-электролитическое анодирование было широко применено для получения толстослойных оксидов на деталях вакуумной аппаратуры (цилиндры и крышки вакуумных и механических насосов, элементы клапанов и затворов). В радиоэлектронике, благодаря значительной окислительной способности этот метод применялся для подгонки, доводки и создания защитных покрытийна поверхности цилиндрических резисторов, основным компонентом высокоомного покрытия которых, является напыленный хром. Эта технология была применена на предприятии А-3312 г. Н.Новгород. Эта же технология применялась для создания оснований тонкопленочных резисторов из алюминия, покрытых оксидным слоем (вместо керамики) с целью увеличения допустимой мощности рассеяния. Плазменно-электролитическое анодирование получило широкое применение. Коллективом авторов по описанию этой методики издана книга в СО издательства "Наука"; описание этого метода опубликовано во всех изданных в последнее время монографиях, по этому методу защищаются кандидатские диссертации.

Струйно-импульсное анодирование и анодирование в переохлажденном электролите создавались, как методы, основанные на применении импульсного характера процесса и больших плотностей тока. Предназначены для получения оксидов на сравнительно больших площадях поверхности. Как для плазменно-электролитического анодирования, так и для этих методов изготовлены установки промышленного и полупромышленного назначения с полной конструкторской и технологической документацией. Методы применялись для анодирования деталей вакуумной аппаратуры, абразивного инструмента, созданного на основе анодного оксида алюминия (Свидетельство на полезную модель № 135630). Предложена и запатентована методика получения анодного оксида без микротрещин (патент № 2039850), пригодного для получения антипригарных покрытий. Предложена методика заполнения пор в оксиде (Свидетельство на полезную модель № 13605) и методика анодирования в замороженном электролите (Свидетельство на полезную модель № 13606).

7. Разработано большое количество методов измерения электрофизических параметров оксида и контроля технологического процесса анодирования. а) Способ измерения удельного сопротивления диэлектрических пленок (а.с. № 365665). Особенностью способа является то, что контактирование с поверхностью оксида осуществляется плазмой. Метод является неразрушающим и обеспечивает высокую точность измерений, т.к. контакт осуществляется по всей площади образца. б) Метод, основанный на исследовании вольт-амперных характеристик пробоя. Дает значительную информацию о структуре исследуемого образца, в отличие от просто измерения напряжения пробоя. Основан на применении скоростной осциллографии. в) Метод, основанный на исследовании токовых шумов процесса, формирования пленки в совокупности с акустическими шумами пены электролита (свидетельство на полезную модель № 13703). Предназначен для контроля технологического процесса анодирования. г) Метод контроля токовых шумов в процессе циклического нагрева изделий. Позволяет резко увеличить вероятность выявления неоднородностей в структуре исследуемого объекта.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Диссертация посвящена решению одной из важнейших народнохозяйственных задач по созданию теории анодирования и разработке принципиально новых технологических процессов получения покрытий с широким спектром электрофизических параметров.

В результате выполненных исследований была разработана (совместно с А.Ф.Богоявленским) плазменная теория формирования анодного оксида, которая на сегодняшний день наиболее полно соответствует накопленному наукой комплексу теоретических и экспериментальных данных.

Плазменная теория анодирования получила признание в работах других авторов.

Результаты теории нашли применение при разработке высокоскоростного способа анодирования, получившего в научной литературе название плазменно-электролитического. Были изучены кинетика роста оксидов и их электрофизические параметры. Это позволило оценить область практического применения плазменно-электролитического анодирования. Особенности разра-ботанного способа позволили применить его в некоторых новых областях, например, для подгонки и доводки тонкопленочных керметных резисторов.

Значительная теоретическая ценность изучения плазменно-электролитического анодирования заключается в том, что этот процесс занимает промежуточное положение между анодированием в плазме и анодированием в водных растворах электролитов. Это позволяет как на модели проследить постепенный переход одного вида анодирования в другой.

Будучи интересным в теоретическом и прикладном аспектах, плазменно-электролитическое анодирование вызывает значительный интерес и в настоящее время по данной теме подготавливаются к защите кандидатские диссертации под руководством не автора данной диссертации.

Мы рассмотрели широкий круг вопросов, относящихся к теории анодирования, электрохимии плазмы, методам измерения электрофизических параметров оксидов и т.д. Естественно, что в ряде случаев это привело к конспективному изложению части выполненных исследований или даже только к ссылкам на опубликованный материал.

Объем некоторых разделов далеко непропорционален их значимости. Это вызвано тем, что по теме диссертации автором опубликован ряд книг, где эти вопросы рассмотрены более подробно.

Так, в диссертации почти не рассматривается история развития методов анодирования. Однако, значительный материал по этому вопросу содержится в [1].

В диссертации почти отсутствует описание особенностей протекания процессов в плазме (взаимодействие частиц в плазме, процессы на поверхностях и т.д.), мало внимания уделяется рассмотрению процессов в плазме тлеющего разряда постоянного тока, в очень краткой форме изложены результаты анодирования в плазме. Именно эти разделы представляют большой интерес как при трактовке отдельных положений общей плазменной теории анодирования, так и при характеристике плазменно-электролитического аноди-рования при пониженном давлении. Однако, автор считает, что нет необходимости вводить данный материал в текст диссертации, так как он достаточно подробно изложен в книге [25], написанной с его участием. Этой же тематике и плазменно-электролитическому анодированию посвящена книга автора [27].

Точно также, в сравнительно кратком виде изложены результаты плазменно-электролитического анодирования резисторов, хотя материалы эксперимента составляют том, по объему почти равный диссертации.

Методы измерения электрофизических параметров более подробно описа-ны в ряде статей и книге [204]. Основное внимание уделялось разработке универсальных методов, пригодных для изучения широкого класса диэлектрических, полупроводниковых и резистивных пленок. Большинство разработанных методов было применено для ускорения отработки оптимальных технологий анодирования.

В вышеупомянутых работах содержатся также сведения, относящиеся к статистической обработке результатов эксперимента.

Некоторые другие дополнительные сведения содержатся в работах автора [1,25,27, 194-205,210-219,230,234-248].

Вполне естественно, что хотя метод плазменно-электролитического анодирования может быть применен для решения многих задач, он не является универсальным и способным полностью заменить уже известные методы. Для полной оценки возможностей метода предстоит выполнить значительный комплекс исследований, вряд ли подсильный одному человеку или коллективу. Так, например, необходимо исследовать возможность применения широкого класса электролитов, изучить возможность анодирования ряда металлов, решить техническую задачу получения покрытий на больших площадях и т.д. Вполне вероятно, что для плазменно-электролитического анодирования при пониженных давлениях целесообразно будет использовать некоторые разработки плазменного анодирования (многоэлектродные системы, системы с вынесенными источниками плазмы и т.д.).

Основная ценность плазменной теории анодирования заключается в том, что она открывает новые научнообоснованные пути разработки скоростных методов анодирования. Отмеченное в последнее время, часто интуитивное внимание к анодированию при больших плотностях тока (плотная плазма вблизи металла) уже принесло ощутимые результаты для практики. Разработка плазменно-электролитического анодирования подтвердила правильность выбранного подхода к решению важной народно-хозяйственной задачи скоростного получения толстослойных оксидов.

Автор хотел бы отметить постоянное внимание Заслуженного деятеля науки и техники ТАССР профессора А.Ф.Богоявленского к проделанной работе.

Автор также глубоко благодарен сотрудникам Казанского государственного университета и лично профессору У.Ш.Ахмерову за содействие в проведении вышеизложенных исследований.

Список литературы диссертационного исследования доктор технических наук Аверьянов, Евгений Ефимович, 2004 год

1. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. Николай Петрович Слугинов.-Казань: Изд-во КГУ, 1981.-72с.

2. Анодные оксидные покрытия на металлах и анодная защита. Изд. 2е. под ред. И.Н.Францевича.-Киев: Наукова думка, 1985.-С. 198-199.

3. Богоявленский А.Ф. О механизмах образования анодной окисной пленки на алюминии.- В кн. Анодная защита металлов / Под ред. А.Ф.Богояв-ленского.-М.: Машиностроение, 1964.-С.22-34.

4. Томашов Н.Д., Тюкина М.Н., Заливалов Ф.П. Толстослойное анодирование алюминия и его сплавов.- М.: Машиностроение, 1968. 156с.

5. Тареев Б.М., Лернер М.М. Оксидная изоляция.- М.: Энергия, 1975.208с.

6. Шрейдер А.В. Оксидирование алюминия и его сплавов.-М.: Металлург-издат, 1980.-242с.

7. Верник С., Пиннер Р. Химическая и электрохимическая обработка алюминия и его сплавов.- М.: Судпромгиз, I960.- 218с.

8. Каданер Л.И. Защитные пленки на металлах.- Харьков: Изд-во ХГУ, 1956.- 256с.

9. Голубев А.И. Анодное окисление алюминиевых сплавов,- М.: Изд-во АН СССР, 1980.-215с.

10. Mason R. Effect Aluminum Sulfate in the Sulfuric Acid Electrolyte on Anodic Polarization //j. Electrochem Soc., 1956, v. 103, №8. p. 425-429.

11. Ведерников А.П., Богоявленский А.Ф. Особенности внедрения анионов электролита в анодную окисную пленку на алюминии.- В кн.: Анодная защита металлов / Под ред. А.Ф.Богоявленского. М.: Машиностроение, 1964.-С.145-155.

12. Богоявленский А.Ф. О теории анодного окисления алюминия// Изв. ВУЗов СССР. Сер. химия и хим. технология. 1971, т!4.№5,- С. 712-717.

13. Богоявленский А.Ф. Пути получения фазовых анодных оксидов на "вентильных" металлах.- В кн.: Анодное окисление металлов/ Под ред. А.Ф.Богоявленского. Казань: Изд-во КАИ, 1974.-С 3-10.

14. Богоявленский А.Ф. О механизме образования анодноокисных покрытий на алюминии // Журнал прикладной химии АН СССР, 1972, т. 14.-С.62-65.

15. Богоявленский А.Ф. Структура и механизм образования анодноокисных покрытий на легких металлах с позиций коллоидно-электрохимической теории.- В кн.: Металлические и неметаллические покрытия легких металлов и сплавов/ М., МДНТП, 1972.-С. 3-11.

16. Розенбойм Г.Б. Эматалирование в судовом машиностроении.- Л.: Судостроение, 1976.- 280с.

17. Сузуки Т. Способ обработки металлов в электролите.- Пат. 57391 (Япония). Опубл. 12.05.75. Бюлл. №3.

18. Марков Г.А., Маркова Г.В. Способ формовки анодов электролитических конденсаторов.-А.С. № 526961, опубл 09.08.76. Бюлл. № 32.

19. Данков П.Д., Игнатов Д.В., Шишаков Н.А. Электронографические исследования окисных и гидроокисных пленок на металлах.- М.: Изд-во АН СССР, 1953.- 212с.

20. Назарова Р.И. Окисление металлов в условиях тлеющего разряда//Журнал физической химии, 1958, т.32, № 1 .-С. 79.

21. Miles J.L., Smith Р.Н. The Formation of Metal Oxide Films. Using Gaseous and Solid Electrolites //j. Electrochem Soc., 1963, v. 110, № 12, p. 12401245.

22. Miles J.L Method of Anodiring by Applying a Positive Potential to a Body Immersed in a Plasma.- Пат.(США) №3394066. Опубл. 13.05.68. Бюлл. № 3.

23. O'Hanlon J.F. Plasma Anodisation of Metals and Semiconductors // J.Vac. Sci. and Technology, 1970, v.7, № 2, p.330-338.

24. Дель'Ока С.Д., Пулфри Д.Л., Янг Л. Анодные окисные пленки.- В кн.:

25. Физика тонких пленок, т.6./ под ред. М.Х. Франкомба и Р.У. Гофмана.- М.: Мир, 1973.-С. 48-65.

26. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодирование металлов в плазме.-Казань: Изд-во КГУ, 1977,- 128с.

27. Лабунов В.А., Пархутик В.П. Окисление металлов и полупроводников в низкотемпературной кислородной плазме // Обзоры по электронной технике. Сер. Микроэлектроника, 1978, вып.1.-70с.

28. Аверьянов Е.Е. Плазменное анодирование в радиоэлектронике.-М.: Радио и связь, 1983.- 112с.

29. Михалкин B.C. Одынец Л.Л. Окисление тантала в кислородной плазме высокочастотного разряда // Электрохимия, 1971, т.7, № З.-С. 359-361.

30. Михалкин B.C. Гальваностатический режим анодного окисления алюминия в плазме высокочастотного разряда / Деп. в ВИНИТИ, № 2819 -76Деп.-С.1-6.

31. O'Hanlon J.F. Factors Affecting the Growth Rate of Plasma Anodized АЬОз // J. Electrochem. Soc., 1971, v. 118, № 2, p.270-273.

32. W.L. Lee, G. Olive, D.L. Pulfrey, L.Young. Ionic Current as a Function of Field in the Oxide during Plasma Anodization of Tantalum and Niobium // J. Electrochem. Soc., 1970, v. 117, № 9, p. 1172.

33. Винников И.Р., Иванов B.C., Лаврентьев K.A. Исследование кинетики анодирования кремниевых пластин в плазме с помощью автоматического элли-псометра // Электронная техника. Сер. Микроэлектроника, 1977, вып.-С. 105.

34. С.А. Акулинин, А.Н. Ерашов, В.В. Маркин, В.П. Торопцев, М.И. Ще-велев. Электрофизические свойства пленок Si02, ТЮг и АЬОз, полученных плазменной анодизацией.- В кн.: Тонкие диэлектрические пленки. т.З.-Л., 1973.-С. 139-140.

35. Айвазов В.Я., Тараненко О.Ф. Получение пленок окиси алюминия методом плазменного анодирования // Электронная техника. Сер. Микроэлектроника, 1968, вып.5.- С. 35-38.

36. Горохов В.Н. Исследование процесса плазменного анодирования гаф-ния, циркония, титана и ниобия // Электронная техника. Сер. Полупроводнико- вые приборы, 1975, вып.З, С.25.

37. Северденко В.П., Лабунов В.А., Воробей З.Ф., Стельмах В.Т. // Доклады АН БССР, 1972, т. 16, №11.- С. 995-997.

38. Горохов В.Н., Грузин П.П., Петрикин Ю.В. Особенности процесса роста окисных пленок, получаемых плазменным анодированием.- В кн.: Материаловедение. Физика и химия конденсированных сред. Вып.З.-Воронеж, 1975.-С. 109-114.

39. Ando К., Matsumura К. Forming Voltage in the Plasma Anodization of Alu-minium //Mem. Fac. Eng. Osaka City Univ., 1978, v.19, p. 107-109.

40. Кондратьев B.H., Никитин E.E. Кинетика и механизм газофазных реакций.- М.: Наука, 1974.- 558с.

41. Смирнов Б.М. Отрицательные ионы.- М.: Атомиздат, 1978.- 176с.

42. Месси Г. Отрицательные ионы: Пер. с англ. / Под ред. Е.З. Мейлихова и А.А. Радцига.- М.: Мир, 1979.- 754с.

43. Мак-Таггарт Ф. Плазмохимические реакции в электрических разрядах.- М.: Атомиздат, 1972.- 256с.

44. Макара Э.В., Михалкин B.C., Одынец Л.Л. Кинетика окисления Nb в плазме высокочастотного разряда // Электрохимия, 1971. т. 7, № 8.-С. 1096.

45. Михалкин B.C. Анодирование металлов в плазме высокочастотного разряда. Автореф. канд. дисс.- Свердловск, 1974. 25с.

46. O'Hanlon J.F., Sampogna М. A New Technique for High Speed. Anodization in a d.c. Oxygen Discharge // J. Vac. Sci. and Techn., 1973, v. 10, № 3, p. 450-452.

47. Иванов-Есипович H.K. Физико-химические основы прогизводства радиоэлектронной аапаратуры.- 2е изд.- М.: Высшая школа, 1979.- 208с.

48. Иванов-Есипович Н.К., Рубан Ю.В. Инвариантность процесса плазменного анодирования при изготовлении микросхем // Технология судостроения, 1974, №3.- С. 50-53.

49. Половняк В.К. Некоторые электрохимические процессы в плазме высокочастотного тлеющего разряда. Автореф. канд. дисс.- Казань, 1968. 26с.

50. Технология тонких пленок. Справочник, т.2: Пер. с англ./ Под ред. Л.Майселла и Р.Гленга.- М.: Советское радио. 1977.- С.644.

51. Jennings Т.А., Мс Neil W. Sputtering due to negative Oxygen Ions in Oxygen Discharges // Appl. Phys. Lett., 1968., 1978, v. 32, № 1, p.58-60.

52. Yokoyama N., Mimura Т., Odani K., Fukuta M. Low-temperature Plasma Oxidation of Ga As // Appl. Phys. Lett., 1978, v. 32, № 1, p. 58-60.

53. O'Hanlon J.F., Pannebarer W.B. Low-temperature Plasma Anodization Apparatus / Пат. 3863074 (США). Опубл. 6.10.80. Бюлл. № 25.

54. Северденко В.П., Лабунов В.А., Стельмах В.Т. Кинетика окисления алюминия в кислородной плазме.- В кн.: Химико-термическая обработка металлов и сплавов. Минск, Изд-во МПИ,1971.- С. 154-156.

55. Лабунов В.А., Стельмах В.Т., Кравченко A.M. Влияние токов формовки при плазменном анодировании алюминия на структуру и электрические свойства пленок AL2O3.- В кн.: Тонкие диэлектрические пленки. т.З, Л., 1973.-С. 258-259.

56. Ligenza J.R., Kuhn М. DC anodic plasma oxidation new vacuum process for solid state device fabrication // Sol. St. Techn., 1970, № 12, p. 33.

57. Tajima S. Luminescence, Breakdown and Colouring of Anodic Oxide Films on Aluminium // Electrochimica Acta, 1977, v.22, № 9, p. 995-1011.

58. Одюбер P. Излучение при химических реакциях // Успехи химии. 1938, т. 6, вып. 12.-С. 1858-1883.

59. Хемилюминесцентные методы исследования медленных химических процессов / В.Я.Шляпинтох и др. М.: Наука, 1966.- 300с.

60. Ivey H.F. Electroluminescence and Related Effects.- New York, Academic Press, 1963.- 112p.

61. Ikonopisov S. A comprehensive literature survey on galvanoluminescence

62. Electrochim Acta, 1975, v.20, p.783.

63. Михо В.В., Левковцева Л.В. О спектре приэлектродного свечения алю-миния в электролитической ванне // Оптика и спектроскопия, 1962, т. 12, вып. 5.-С.651-652.

64. Михо В.В. О спектрах анодной и катодной вспышек приэлектродного свечения в электролитической ванне // Оптика и спектроскопия, 1962, т. 13, вып.4.- С.604-605.

65. Михо В.В. О приэлектродном свечении в электролитической ванне // Изв. ВУЗов СССР, Физика, 1962, № 6.- С.99-104.

66. Ruziewicz Z. Widma electro-i fotoluminescencji warstw tlenkowych powstajacych podezas anodowego ulteniania glinu w roztworach kwasu szczawiowego// Roczniki chemii, 1957, r.31 s.731-734.

67. Ruziewicz Z. Investigation on the Emission-Spectra oof Formed Aluminium Electrodes and photoluminescence Spectra of Anodic Oxide Films // Bulletin de l'Academic Polonaise, 1960, v.8, № 11-12.- p. 661-666.

68. Wesolowski J., Jachimowski M., Dragon R. Luminescence in Electric Fields of "Dry" Oxide Films on Aluminium // Acta. Physica Polonica, 1961, v.20, № 4. p.303-311.

69. Шимура M., Таджима С. Органические соединения в анодированных пленках алюминия. Часть 2. Люминесценция и окрашивание и их связь с анодным восстановлением.- Денки кагаку (пер. с яп.) 1976, т.44, №1.- С.39-45.

70. Shimura М. Behaviour of Oxalic Acid in the Anodic Oxidation of Aluminium// Transaction of Faraday Society, 1976, v.72.- p.2248.

71. Лазаренко Б.Р., Фурсова С.П., Факторович A.A., Галанина Е.К., Дураджи В.Н. -Коммутация тока на границе металл-электролит / Кишинев.: Штиинца, 1971.- 76с.

72. Факторович А.А., Галанина Е.К. Электрические разряды в электролитах.- В кн. Электрохимическая обработка металлов / Кишинев: Штиинца, 1971.- С.122-130.

73. Гардин Ю.Е., Одынец Л.Л., Тумаков B.C. Гальванолюминесценция при электрохимическом окислении тантала и алюминия // Электрохимия, 1970, т.6, вып. 10. С. 1562-1564.

74. Гардин Ю.Е. Мощность и энеретический выход гальванолюминесценции анодно-поляризованных МОЭ систем.- В кн.: Анодные окисные пленки / Петрозаводск: Изд-во ПГУ, 1978.- С. 124-128.

75. СССР ГОСТы. Резисторы,- М.: Изд-во государственного комитета стандартов, мер и измерительных приборов СССР. ГОСТ 7113-63, 1965.-235с.

76. Гальперин Б.С. Непроволочные резисторы.- Л.: Энергия, 1968.- 284с.

77. Мартюшов К.И., Зайцев Ю.В. Технология производства резисторов.-М.: Высшая школа,1972.- 312с.

78. Мартюшов К.И., Зайцев Ю.В. Резисторы.- М.-Л.: Энергия, 1966.-216с.

79. Стальбовский В.В., Четвертков И.И. Резисторы.- М.: Советское радио, 1973.- 63с.

80. Фролов А.Д. Радиодетали и узлы.- М.: Высшая школа, 1975.- 175с.

81. Ван-дер-Зил А. Шум.- М.: Советское радио, 1973.- 229с.

82. Гальперин Б.С. О токовых шумах в неметаллических резистивных материалах // Электронная техника, сер.8 (радиодетали), 1967, вып.4.-с.43.

83. Гольдберг Н.И. Шумы в непроволочных сопротивлениях и их измерение // Радиоэлектронная промышленность, 1959, вып.19.-С.З.

84. Златоустов С.В., Острова С.О., Асадуллина В.Р. Измерение токовых шумов как метод контроля качества микропленочных резисторов // Изв. ВУЗов СССР. Радиоэлектроника, 1970, т. 13, № 9.-С.1124.

85. Горенский Б.М. Исследование флуктуаций напряжения на электролитической ванне.- В кн.: Стандартизация и измерительная техника. Вып.1 / Красноярск, 1975. С.46-50.

86. Electrochemical noise generated by anodic dissolution or diffusion process / G.Blanc, I. Epelboin, C. Gabrielli, M. Keddam.- J. Electroanal. Chem. 1977, v.75, №1, p.97-124.

87. Тягай В.А. электрохимические шумы.- В кн.: Итоги науки и техники (сер. Электрохимия), ч.2 / М.: Изд-во ВИНИТИ, 1976.- С. 136.

88. Okamoto Go, Sugita Tohru, Nishigama Sadao, Tachibana Koji // Boshoku gijutsu, Corros. Eng., 1974, v.23, № 9, p. 439-444.

89. Nisbiyama Sadao, Tachibana Koji, Okamoto Go, Sugita Tohru // Boshoku gijutsu, Corros. Eng., 1974, v.23, № 9, p. 445-451.

90. Александров Я.И., Богоявленский А.Ф. Некоторые закономерности процесса анодного окисления алюминия и ультрамикроскопия прианодного пространства.- В кн.: Анодная защита металлов / Под ред. А.Ф. Богоявленского М.: Машиностроение, 1964.- С.73-88.

91. Красильщиков А.И. Об анодном выделении кислорода .- В кн.: Анодная защита металлов / Под ред. А.Ф. Богоявленского М.: Машиностроение, 1964.-С.73-88.

92. Наугольных К.А., Рой Н.А. Электрические разряды в воде.- М.: Наука, 1971.- 275с.

93. Ушаков В.Я. Импульсный электрический пробой жидкостуй.- Томск, Изд-во ТГУ, 1975.-175с.

94. Гринберг Г.А., Конторович М.И., Лебедев Н.Н. Электрический пробой жидкостей // Журнал технической физики, 1940, т.19.-с.199.

95. Ledinegg М. Blasenverdampfung // Atomkernenergie, 1967, Bd 12, № 1112, s. 428-432.

96. Скрипов В.П., Чуканов В.Н. Давление пара в микроскопичных равновесных пузырьках.- В кн.: Труды Уральского политехнического института / Свердловск, Изд-во УПИ,1969, №172.- С.129.

97. Mamoru A. Fujio Т., Norihiro О. Effect of pressure on bubble growth inpool boiling // Bull. IJME, 1969, v. 12, №53, p. 1121.

98. Blander M., Katz J. Bubble nucleation in Liquids // AIChE Journal, 1975, v.21, №5, p.833-848.

99. Добротворцев B.B. Зарождение паровой фазы при закипании жидкости в области пониженных давлений / Деп. в ВИНИТИ, № 1953-77 от 19.08.77.

100. Londhey M.D. Electrolitic process under electrode glow conditions // Indian J. Pure and Appl. Phys., 1975, v. 13, № 9, p.647-649.

101. Blander M. Bubbl nucleation in liquids // Adv. Colloid and Interface Sci., 1979, v. 10. № 1-4, p.1-39.

102. Матов Б.М. К определению электрического заряда газовых пузырьков, выделяющихся при электролизе // Электрохимия, 1973, т.9, №10.-С.1495-1498.

103. Бегунов А.И., Аюшин Б.И. Динамика выброса газовых пузырей при электролизе с горизонтально расположенными электродами // Изв. ВУЗов СССР, Цветн. металлургия, 1975, №6.-С.54-57.

104. Гегузин Я.Е. Капля.- М.: Наука, 1973.-72с.

105. Левич В.Г. Физико-химическая гидродинамика.- М.: Физматгиз, 1959.-700с.

106. Несис Е.И., Озерецковский Г.А. // Изв. ВУЗов СССР. Физика, 1965, №1.- С.39-41.

107. Гайсин Ф.М., Сон Э.И., Шакиров Ю.И. Объемный разряд в парогазовой среде между твердыми и жидкими электродами.- М.: Изд-во ВЗПИ, 1990.-88с.

108. Неймарк А.В., Письмен Л.М., Хейфец Л.И. Об электрохимических реакциях с газовыделением в пористой среде // Электрохимия, 1975, т.2, №4.-С.623-626.

109. Okuyama Masataka, Zung Joseph Т. Evaporation- Condensation coefficient for small droplets // J. Chem. Phys., 1967, v.46, № 5, p. 1580-1585.

110. Tolfo F., Saudt Ph. Photomiorographic analysis of a spray. Determination of droplet size and velocity spectra by means of Diamants rotating mirror micros -cope // J.Aerosol Sci., 1976, v.7, №6, p. 497-506.

111. Распределение по размерам частиц тумана фосфорной кислоты / А.А.Бродский, Н.Н.Постников, М.Г. Френкель и др. // Коллоидный журнал, 1973, т.35, №2.-С.ЗЗ 1-332.

112. Ильин С.П. Методика определения диаметра капель искусственного тумана // Труды Московского гидромелиоративного института, 1973, Т.35.-С. 67-71.

113. Ross Sudney. Cohesion of bubbles in foam // Amer. J.Phys., 1978, v.46, №5, p.513-516.

114. Духин С.С. Разделение ионов вторичного двойного слоя при разрыве пузырей на границе электролит-газ // Коллоидный журнал, 1974, т.36, №3.-С.547-549.

115. Разделение ионов при разрыве пузырей на границе раздела растворов электролит-газ / В.В. Крыжановская, В.В.Хентов, И.В.Горбов // Труды Новочеркасского политехнического института, 1973, т.27,- С.92-95.

116. Paucek М., Veber V. Ranscheigenschaften von Schaumen.- Acta Fac. Pharm. Univ. comen, 1972, Bd. 22, S.171-201.

117. Paucek M., Veber V. Vessung und Auswertung der Rauscheigenschaften von Schaumen.- Tenside, 1972. p. 18.

118. Горбатов A.B., Самуйлов E.B. Определение проводимости аэрозольной плазмы // Теплофизика высоких температур, 1978, т.16, №2.-С.225-230.

119. Gosho Y. Anomalous increase in prebreakdown currents in non-uniform fields gaps by adding water vapour.- 3rd Int. Conf. Gas Discharg. London, 1974, p.284-288.

120. Hackam R. Breakdown potential of water vapour between plane parallel electrodes// J. Phys.D: Appl. Phys., 1971, v.4, № 8, p. 1134-1139.

121. Бровикова Н.Н., Максимов А.И., Светцов В.И. Электрический пробой паров. / Журнал физической химии, 1973, т.47, № 5.- С. 1259-1261.

122. Карачевцев Г.В., Фридман А.А. Электрический пробой аэрозолей // Журнал технической физики, 1976, т.46, № 11.-С.2355-2361.

123. Нигматуллин Р.И., Хабеев Н.С. Теплообмен газового пузырька с жидкостью // Изв. АН СССР. Механика жидкости и газа, 1974, №5.- С.94-100.

124. Ренне В.Т. Электрические конденсаторы.- J1: Энергия, 1969.-592с.

125. Закгейм J1.H. Электролитические конденсаторы.- JL: Госэнергоиздат, 1963.- 284с.

126. Юнг Л. Анодные окисные пленки.- Л.: Энергия, 1967.- 232с.

127. Одынец Л.Л., Ханина Е.Я. Физика окисных пленок.- Петрозаводск: Изд-во ПТУ, 1981.- 76с.

128. Шнаревич Е.И., Рыбинский О.А., Злобин В.А. Диэлектрики интегральных схем.- М.: Энергия, 1975.- 120с.

129. Одынец Л.Л., Платонов Ф.С., Райкерус П.А. Электрическая прочность оксидных пленок на алюминии.- В кн.: Пробой диэлектриков и полупроводников / Л.: Энергия,1964.-С.323-326.

130. Лиховецкий Б.П. Высокочувствительный индикатор начала пробоя изоляции // Радиотехническая промышленность, 1959, № 9.-С.35.

131. Уайтхед С. Пробой твердых диэлектриков.- М.-Л.: Госэнергоиздат, 1957.-257с.

132. Albella J.M., Montero I., Martinez-Duart J.M. Scintillation in anodic ТагОз films.-Thin Solid Films, 1979, v.58, № 2, p.307-311.

133. Чернышев B.B., Лебедев B.H. Амплитудный спектр импульсов при искрении в процессе роста анодных оксидных пленок,- В кн.: Тонкие диэлектрические пленки. т.З / Л.: Изд-во ЛПИ, 1973.- С.254.

134. Привер П.С. Способ контроля качества токопроводящего слоя и контактного узла непроволочных сопротивлений.- А.с. №149821. Опубл. 15.07.62, Бюлл. №17.

135. Юнусов Д.М. Разработка технологии плазменно-электролитической подгонки пленочных резисторов при изготовлении функциональных узлов радиотехнических систем. Автореф. канд. дисс.- Казань, 1998.-24с.

136. Готра З.Ю. Тонкопленочные резисторы микросхсем.- Львов: Каменяр,1976.- С.80.

137. Справочник по элементам радиоэлектронных устройств / Под ред. В.Н.Дулина и М.С. Жука.- М.: Энергия, 1988.- С.204.

138. Кошкина Л.П. Способ точной подгонки пленочных резисторов к номиналу.- А.с. № 382152. Опубл. 6.03.73. Бюлл. № 13.

139. Зорин В.Ф., Фоменко П.А. Подгонка резисторов путем механической обработки слоя.- Электронная техника. Сер. 3, 1973, вып.2 (42).- С.54.

140. Чернобровкин Д.И., Пиганов М.А. Устройство для подгонки сопротивления пленочных резисторов.- А.с. № 477473. Опубл. 15.07.75. Бюлл. №26.

141. Чистяков Ю.Д., Ермолов П. А. Устройство для подгонки тонкопленочных прецизионных резисторов.- А.с. № 371621. Опубл. 07.05.73. Бюлл. № 12.

142. Пиганов М.И., Меркулов А.И., Чернобровкин Д.И. Разработка и исследование способа подгонки тонкопленочных резисторов.- В кн.: Микроэлектроника / Под ред. Ю.П.Ермолаева. Казань: Изд-во КАИ, 1977.-С.99.

143. Лопухин В.А., Шеханов Ю.Ф. Устройство подгонки пленочных резисторов.- А.с. № 477472. Опубл. 17.05.75. Бюлл. № 26.

144. Бурекин А.Н. Устройство для подгонки пленочных цилиндрических резисторов.- А.с. № 543992. Опубл. 25.01.77. Бюлл. № 13.

145. Подгонка резисторов прожиганием отверстий с помощью лазера (обзор) / Изд-во ЦНИИ "Электроника", 1972, № 20.-С.8.

146. Таипов Р.А. Термообработка пленочного резистора лучем лазера // Тр. Ленингр. ин-та точной механики и оптики, 1968, вып.65.-С.44.

147. Подгонка прецизионных цилиндрических резисторов в номинал оптическими квантовыми генераторами / А.С.Гудков, И.Н.Калвина, B.C. Ларин и др. // Электронная техника, Сер. 7,1975, вып.1 (65).-С.6.

148. Панин Б.В., Атабек Б.А., Вассерман Ю.С. Способ получения резисти-вного слоя.-А.с. № 395906. Опубл. 23.10.73. Бюлл. № 35.

149. Подгонка резисторов в гибридных интегральных схемах (обзор) // Ра-диоэлектроника за рубежом, 1971, № 27.-С43.

150. Одинцов М.А., Кутлин Н.Х., Гайнуллин И.И. Устройство для подгонки сопротивления пленочных резисторов.-А.С. № 476609. Опубл. 05.07.75. Бюлл. №25.

151. Руднев А.Н., Третьяков Ю.В., Соколов Н.А. Способ подгонки тонкопленочных резисторов в номинал.- А.с. № 402073. Опубл. 22.11.73. Бюлл. №31.

152. Соколовский А. Устройство для подгонки тонкопленочных резисторов.- Пат. № 84971 (ПНР). Опубл. 15.06.76. Бюлл. № 12.

153. Максидонов А.Г., Стародумов М.Н., Тифлов В.И. Устройство для юстировки пленочных резисторов.- А.с. № 326645. Опубл. 7.15.72. Бюлл. № 45.

154. Гречухин П.Ф., Коржиков В.В. Простой способ юстировки пленочных резисторов.- В кн.: Микроэлектроника / Таганрог: Изд-во ТРТИ, 1973.-С.198.

155. Грамм С.А., Монтвилло Б.К. Об одном способе корректировки пленочных резисторов // Электронная техника. Сер.6, 1968, вып. 6 (14).-С.32.

156. Постнов А.И., Папировский А.В., Нурищенко И.К. Устройство для электрической тренировки пленочных сопротивлений.- А.с. № 100128. Опубл. 5.03.53. Бюлл. № 7.

157. Сергеев В.П., Мурадян Э.К. Подгонка тонкопленочных резисторов // Вопросы радиоэлектроники. Сер. Технология производства и оборудования,1974, вып. 4.-С.95.

158. Усышкин П.А., Рубинов A.J1., Яковлев В.И. Импульсная токовая доводка тонкопленочных резисторов // Вопросы радиоэлектроники. Сер. Технология производства и оборудования, 1975, вып.1.-С.52.

159. Колесников Д.П. Электроимпульсный метод подгонки сопротивления тонкопленочных резисторов.- В кн.: Микроэлектроника. Вып.4/ Под ред. Ю.П.Ермолаева. Казань: Изд-во КАИ, 1969.-С.232.

160. Кандыба П.Е., Фоменко П.А. Импульсная юстировка величины сопротивления тонкопленочных резисторов // Электронная техника. сер.З, 1972, вып. 2.- С.56.

161. Кутлин В.И. Анализ точностных свойств технологического процесса электротермического юстирования резисторов // Вопросы радиоэлектроники. Сер. техника проводной связи, 1975, вып.9.- С. 134.

162. Колесников Д.П., Орешной Ю.Е., Дубровский В.Г. Устройство для подгонки величины сопротивления тонкопленочных резисторов.- А.с. № 338923. Опубл. 8.05.73. Бюлл. № 6.

163. Елескин B.J1. Способ юстировки пленочных резистивных углеродистых элементов.- А.с. № 233779. Опубл. 12.05.68. Бюлл. № 3.

164. Соболев В.Н., Григорьев А.Н., Сластин В.Р., Александров В.И. Устройство для подгонки сопротивления пленочных резисторов под номинал.- А.с. № 286022. Опубл. 10.09.70. Бюлл. № 34.

165. Luby S., Chromik S. Justovanie tenkorstvovych odpornikov z nitridu tantaly anodickum okyslicovamim // Electrotechn. cas, 1977, v.28, № 2, s.140.

166. Мошитц Г.С. Фильтры с избирательными цепями на танталовых и кремниевых интегральных схемах // Тр. ТИИЭР, 1970, т. 58, №4.-С.39.

167. Васильев Г.Ф., Корнеева Г.В. Способ юстировки тонкопленочных резисторов.- А.с. № 287163. Опубл. 21.11.70. Бюлл. № 35.

168. Берри. Р., Холл П., Гаррис М. Тонкопленочная технология.- М.: Энергия, 1972.- С.309.

169. Симонова Р.И., Жаринов А.А. Резисторы в микроэлектронике.- В кн.: Обзоры по электронной технике. Сер. Радиокомпоненты / М.: ВИНИТИ, 1970, № 13.

170. Швецкий Б.И., Сас С.Е., Васильев Г.Ф. Устройство для подгонки сопротивления резисторов к номиналу.- А.с. № 300894. Опубл. 27.06.71. Бюлл. №13.

171. Бобров А.Н., Власенко B.C. Устройство для подгонки величины сопротивления тонкопленочных резисторов методом анодного оксидирования.-А.с. № 351250. Опубл. 15.08.72. Бюлл. № 25.

172. Таторчук К.В. устройство для юстировки пленочных резисторов .-А.с. № 434489. Опубл. 17.09.74. Бюлл. № 24.

173. Шепрут Ю.А. Способ подгонки тонкопленочного резистивного делителя.- А.с. 319962. Опубл. 21.09.74. Бюлл. № 33.

174. Концур В.В., Таторчук К.В., Галитей Н.Н. Устройство для юстировки пленочных резисторов анодным окислением.- А.с.№ 354354. Опубл. 09.10.72. Бюлл. №30.

175. Таторчук К.В., Ряжков В.А. Установка юстирования резистров.-Информационный листок № 76-1652. М.: ЦНТИ, 1976.-3с.

176. Lubu Stefan, Sumbalova, Kopecek Jindrich. Zariadenie na justovanie tenkovrstvovych onpornicov lokalnum anodickum okyslico vanim s gelovou electrodou / A.c. № 167713 (ЧССР). Опубл. 17.05.78.Бюлл. №11.

177. Грищук С.А., Сенишин Я.М., Фабрикант Б.А. Устройство для подгонки сопротивления пленочных резисторов. А.с. № 511634. Опубл. 23.05.76. Бюлл. № 15.

178. Перцев А.В., Киселев B.C., Башавников В.А. Юстировка пленочных танталовых резисторов // Изв. ВУЗов СССР. Сер. Радиоэлектроника, 1975, т. 15, № 5, 1972.-С.626.

179. Колбутов В.А. Исследование временной стабильности тонкопленоч -ных резисторов, юстированных методом локального анодирования //

180. Физическая электроника, 1974, вып.9.- С.77.

181. Матусевич Э.И., Дмитраков Д.Г. Электролит для прецизионной электролитической доводки резисторов.- А.с.№ 322415. Опубл. 6.08.71. Бюлл. №36.

182. Мелиоранская С.В., Ревелева J1.M., Сыноров В.Ф. Изготовление керметных тонкопленочных резисторов методом анодирования.- Электронная техника. Сер.5, 1975, вып. 4(10).-С.43-45.

183. Кикути Дзюро. Тонкопленочный металлокерамический резистор. Пат. № 46-81699 (Япония). Опубл. 13.06.76. Бюлл. № 5.

184. Важенин И.Н., Егорова Н.М., Кондыба П.Е., Фоменко П.А. Способ юстировки номиналов пленочных резисторов.- А.с. № 261521. Опубл. 26.08.70. Бюлл. № 27.

185. Baranska Е., Licanerski B.,Osadnik S., Szeloch P., Пат. № 65878 (Польша). Опубл. 12.03.78. Бюлл. №11.

186. Подгонка резисторов. Оборудование для подгонки. Тематический указатель литературы / М.: ЦНИИ "Электроника", 1974, вып. 2 (104).-48с.

187. Подгонка резисторов. Оборудование для подгонки. Тематический указатель литературы / М.: ЦНИИ "Электроника", 1989, вып. 2 (264).- 64с.

188. Михалкин B.C. Анодное окисление металлов в плазме высокочастотного разряда. Автореф. канд. дисс.- Свердловск, 1974.- 20с.

189. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодное окисление алюминия и меди в газообразном электролитте.- В кн.: Сборник аспирантских работ (естеств. науки) / Казань: Изд-во КГУ, 1972, С.31.

190. Ведерников А.П., Аверьянов Е.Е. Анодное окисление алюминия и меди в низкотемпературной плазме.- В кн.: Тонкие диэлектрические пленки / Л.: Изд-во ЛПИ, 1973.-С.262-263.

191. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодное окисление некоторых металлов в плазме тлеющего разряда // Изв. ВУЗов СССР. Химия и хим. технология, 1973, т.16, вып.7.- С.1023-1025.

192. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодное окисление алюминия в газообразном электролите "высокого" давления.- В кн.: Исследования по электрохимии, магнетохимии и электрохимическим методам анализа. ч.2 / Казань: Изд-во КГУ, 1974.- С.147-158.

193. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодное окисление некоторых металлов в газообразном электролите.- В кн.: Исследования по электрохимии, магнетохимии и электрохимическим методам анализа. ч.2 / Казань: Изд-во КГУ, 1974.- С. 158-166.

194. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодное окисление алюминия, напыленного в вакууме, в плазме тлеющего разряда // Изв. ВУЗов СССР. Химия и хим. технология, 1975, т. 18, вып.11.-С. 1751-1753.

195. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. Исследование прианодного плазменного слоя при анодировании алюминия и его сплавов.- В кн.: Анодное окисление один из методов защиты металлов от коррозии / Казань: Изд-во КАИ, 1981.-С.94-96.

196. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. О роли плазмы в процессе анодного окисления металлов.- В кн.: Анодное окисление один из методов защиты металлов от коррозии / Казань: Изд-во КАИ, 1981.-С,94-96.

197. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. К вопросу о теории образования анодного оксида.- В кн.: Тезисы докладов Всесоюзной конференции "Физика окисных пленок" / Петрозаводск: Изд-во ПТУ, 1982.-С.20.

198. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. Анодированные металлы // Наукаи жизнь, 1981, № 11.-С.58-63.

199. Аверьянов Е.Е., Юнусов Д.М. Диагностика дефектов в высокоомных пленках.- Деп. в ВИНИТИ, № 3564-76 от 5.10.76.

200. Аверьянов Е.Е. О флуктуациях тока в цепи формовки при плазменно-электролитическом анодном окислении алюминия / Деп. в ВИНИТИ, № 2389-76 от 29.06.76.

201. Курс астрофизики и звездной астрономии, т. 1 / Под ред. Михайлова А.А.- М.: Наука, 1973.- 608с.

202. Петров Г. П. Оксидирование алюминия в плазменном приэлектродном слое.- В кн.: Плазменная техника, технология и их применение на предприятиях республики / Под ред. Г.Ю. Даутова. Казань: Изд-во КАИ,1981.-С. 63-64.

203. Имамура Т., Хосино С., Мацумото С. Влияние электролиза на возникновение явления пригорания при анодировании алюминия.- Киндзоку Хёмен гидзюцу (русский перевод), 1977, т.28, № 1.-С.22-26.

204. Аверьянов Е.Е. Способ анодирования металлов.- А.с. № 607852. Опубл. 25.05.78. Бюлл. № 19.

205. Аверьянов Е.Е., Файзуллин Ф.Ф. Исследование процесса анодного плазменно-электролитического окисления алюминия // Электронная обработка материалов, 1978, № 4.-С.23-25.

206. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. Процессы газовыделения и токовые шумы при плазменно-электролитическом анодировании.- В кн.: Коррозия и защита металлов / Пермь: Изд-во ПТУ, 1979.- С.31-32.

207. Аверьянов Е.Е. Плазменно-электролитическое анодирование металлов.- В кн.: Тезисы докладов Всесоюзной конференции "Физика окисных пленок"/ Петрозаводск: Изд-во ПТУ, 1982.-С.З.

208. Аверьянов Е.Е. Плазменно-электролитическое анодирование металлов. Информационный листок № 286-82 Татарского межотраслевого территориального центра научно-технической информации и пропаганды / Казань: Изд-во ЦНТИ, 1982.- 4с.

209. Аверьянов Е.Е. О возможных механизмах образования анодныхокисных пленок на алюминии, полученных плазменно-электролитическим методом / Деп. в ВИНИТИ, № 1613-76 от 10.05.76.

210. Аверьянов Е.Е. Изучение кинетики формовки и электрофизических параметров анодных окисных пленок на алюминии, полученных плазменно-эле-ктролитическим методом / Деп. в ВИНИТИ, № 1615-76 от 10.05.76

211. Аверьянов Е.Е. Некоторые особенности плазменно-электролитическ,ого анодного окисления металлов / Деп. в ВИНИТИ, № 2388-76 от 29.06.

212. Аверьянов Е.Е., Меркурьев Г.А. Способ анодирования металлов.-А.с. № 885366. Опубл. 30.11.81. Бюлл. № 44.

213. Аверьянов Е.Е. Анодное оксидирование металлов в низкотемператур-ной кислородсодержащей плазме. Автореферат кан.дисс.-Казань, 1972.- 16с.

214. Физика и техника низкотемпературной плазмы / Под ред. С.В. Дреевина. М.: Атомиздат, 1968.- С. 18.

215. Retting T.W., Felsen M.J. Acoustic emission method for monitoring corrosion reaction.- Corrosion (USA), 1976, v.32, № 4, p. 121-126.

216. Яснргорский И.З. Нагрев металлов и сплавов в электролите.- М.: Машгиз, 1949.- С. 18.

217. Розенбойм Г.Б. Эматалирование в судовом машиностроении.- JL: Судостроение, 1976.- С.91-92.

218. Белов В.Т. Развитие взглядов на состав и строение анодного оксида алюминия // Журнал прикладной химии, 1974, вып.11.- С.2421-2422.

219. Основы повышения точности электрохимического формообразования / Ю.Н.Петров, Г.Н.Корчагин, Г.Н.Зайдман, Б.П.Саушкин. Под ред. И.И.Мороза.-Кишинев: Штиинца, 1977.-С.42.

220. Справочник по растворимости, т.1, кн.1 / Под ред. В.В.Кафарова.-М.-Л.: Изд-во АН СССР, 1961.-С.87.

221. Еремин Е.Н. Элементы газовой электрохимии.- М.: Изд-во МГУ, 1961.- 80с.

222. Аверьянов Е.Е. Коррозионнозащитные свойства анодных окисных пленок на алюминии, полученных плазменно-электролитическим методом / Деп. в ВИНИТИ, № 1372 от 23.04.76.

223. Аверьянов Е.Е. Исследование микроструктуры анодных окисных пленок на алюминии , полученных плазменно-электролитическим методом / Деп. в ВИНИТИ, № 1373-76 от 23.04.76.

224. Меркурьев Г.А., Дьячков Н.С. Установка для плазменно-электроли-тического анодирования металлов при пониженном давлении / Деп. в ЦНИИТЭИ приборостроения, № 1666 от 17.05.81.

225. Меркурьев Г.А., Файзуллин Ф.Ф. Плазменно-электролитическое анодирование металлов в производстве радиоэлектронной аппаратуры / Деп. в ЦНИИТЭИ приборостроения, № 1727 от 17.05.81.

226. Лабунов В.А., Белько В.В., Баранов И.Л., Кравченко В.М. Устройство для химической и электрохимической обработки.- А.с. № 712467. Опубл. 11.04.80. Бюлл. № 4.

227. Аверьянов Е.Е., Ведерников А.П. Некоторые особенности измерения вязкости водных растворов электролитов / Деп. в ВИНИТИ, № 680 от 24.02.77.

228. Ведерников А.П., Аверьянов Е.Е. Электросопротивление анодных окисных пленок на алюминии в процессе их формирования / Деп. в ВИНИТИ, №678 от 24.02.77.

229. Богоявленский А.Ф., Аверьянов Е.Е. Токовые шумы и газовыделение при плазменно-электролитическом анодировании.- В кн.: Анодное окисление металлов / Под ред. А.Ф.Богоявленского. Казань: Изд-во КАИ, 1981С.6-17.

230. Юнусов Д.М., Аверьянов Е.Е., Габидуллин З.Г. Исследование структуры и фазового состава тонких пленок металлокерамических композиций.- В кн.: Сборник аспирантских работ (точные науки) / Казань: Изд-во КГУ, 1976.- С.25-28.

231. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Исследование пленок потускнения на поверхности металлов, напыленных в вакууме.- В кн.: Сборник аспирантских работ (естественные науки) / Казань: Изд-во КГУ, 1973.-С. 18-24.

232. Аверьянов Е.Е., Юнусов Д.М., Габидуллин З.Г. Об адекватности режима работы резистора.- В кн.: Сборник аспирантских работ (точные науки) / Казань: Изд-во КГУ, 1974.- С.93.

233. Аверьянов Е.Е., Юнусов Д.М. Исследование температурных режимов тонкопленочных резисторов.- В кн.: Сборник аспирантских работ (точные науки) / Казань: Изд-во КГУ, 1974.-С.88.

234. Аверьянов Е.Е., Габидуллин З.Г., Юнусов Д.М. Распределение температуры по длине тонкопленочного резистора / Деп. в ВИНИТИ. Реферат опубл. в сб. ВИМИ "РИПОРТ", 1975, № 17.- С.5.

235. Файзуллин Ф.Ф., Аверьянов Е.Е. Способ измерения удельного сопротивления диэлектрических пленок.- А.с. № 365665. Опубл. 08.01.73. Бюлл. № 6.

236. Аверьянов Е.Е., Ведерников А.П. Выявление дефектов структуры диэлектрических и полупроводниковых пленок по вольт-ампернымхарактеристикам фриттинга // Электронная техника. Сер.5 (радиодетали). 1972, вып.2(27).-С. 89-93.

237. Эльстинг О.Г., Аверьянов Е.Е. Оценка качества контактных соединений в микросхемах по контактному сопротивлению.- В кн.: Микроэлектроника, вып.З / Казань: Изд-во КАИ, 1969.-С.44-51.

238. Аверьянов Е.Е., Башаров Ф.Р. Измерение шумов тонкопленочных резисторов в процессе циклического нагрева.- В кн.: Сборник аспирантских работ (точные науки) / Казань: Изд-во КГУ, 1977.- С.82-85.

239. Аверьянов Е.Е. Справочник по анодированию.- М.: Машиностроение, 1988.- 224с.

240. Баковец В.В., Поляков О.В., Долговесова И.П. Плазменно-электроли-тическая анодная обработка металлов.- Новосибирск: Наука, 1991.-168с.

241. Черненко В.И., Снежко J1.A., Папанова И.И. Получение покрытий анодно-искровым электролизом.-J1.Химия, 1991.- С. 15.

242. Аверьянов Е.Е., Галимзянов P.M., Гилязова К.З. и др. Применение плазменно-электролитического анодирования для получения толстослойных покрытий на сплавах алюминия // Химическое и нефтяное машиностроение, 1991, № 4.- С.34-35.

243. Давыдов А.Д., Энгельгардт Г.Р. Методы интенсификации некоторых электрохимических процессов // Электрохимия, т. XXIV, вып.1, 1988.- С.3-17.

244. Аверьянов Е.Е. Анодирование металлов струйно-импульсным методом // Электронная обработка материалов. 1994, № 6.- С.65-68.

245. Аверьянов Е.Е. Толстослойное анодирование и его применение в вакуумной технике // Вакуумная техника и технология, 1997, т.7, № 1С.42-45.

246. Аверьянов Е.Е., Шагиахметов Р.А. Новые разработки в области анодирования алюминия и его сплавов // Электронная обработка материалов. 1993, №4,- С.66-69.

247. Аверьянов Е.Е., Галимзянов P.M., Гилязова К.З. и др. Получение износостойких покрытий на деталях насосов и арматуры анодированием в пере-охлажденном электролите // Химическое и нефтяное машиностроение. 1990, № 9.- С.25-27.

248. Аверьянов Е.Е. Разработки по применению толстослойного анодирования в АО "Вакууммаш".- В кн.: Тезисы докладов международной научно-технической конференции "Состояние и перспективы развития вакуумной техники". Казань, 1996.- С.96.

249. Холодный С.Д. Алюминиевые провода с оксидной изоляцией // Электричество. 1962, № 3.- С.61-66.

250. Кадзами А. Способ изготовления подложки смешанной интегральной схемы.- Пат. 54-13967. (Япония, США) Опубл. 11.12.83. Бюлл. № 31.

251. Сокол В.А. Электролит для анодирования алюминия и его сплавов.-А.с. № 956631. Опубл. 11.05.82. Бюлл. № 33.

252. Лабунов В.А. Электролит для анодирования алюминия.- А.с. № 767239. Опубл. 6.11.80. Бюлл. № 36.

253. Аверьянов Е.Е., Смирнов JI.A., Тихонов В.И. и др. Исследование возможности применения анодированной алюминиевой проволоки в качестве оснований для постоянных непроволочных резисторов // Электронная обработка материалов, 1995, №2.- С.17-20.

254. Аверьянов Е.Е., Вагапова Н.Х., Александров С.Б., Матухнов В.М.

255. Исследование абразивных свойств анодного оксида алюминия // Электронная обработка материалов, 1999, № 1.- С.56.

256. Аверьянов Е.Е., Вагапова Н.Х., Александров С.Б., Матухнов В.М. Инструмент для шлифования, полирования и заточки. Свидетельство на полезную модель № 13630 (Россия). Опубл. 06.10.99. Бюлл. № 13.

257. Аверьянов Е.Е., Климовицкий А.Н., Кульков С.В. и др. Некоторые особенности применения анодированного алюминия для получения антипригарных покрытий // Электронная обработка материалов. 1994, № 5.-С.73-76.

258. Аверьянов Е.Е., Климовицкий А.Н., Кульков С.В. Способ, анодирования изделий из алюминиевых сплавов / Пат. № 2039850 (Россия). Опубл. 20.07.95. Бюлл. № 20.

259. Аверьянов Е.Е. Толстослойное анодирование алюминиевых сплавов // Изв. ВУЗов. Химия и химическая технология, 2004, вып. 2, С. 128 130.

260. Аверьянов Е.Е. Особенности плазменно-электролитического анодного окисления металлов // Изв. ВУЗов. Химия и химическая технология, 2004, вып. 2, С.134 136.

261. Аверьянов Е.Е. Анодное окисление титана и его сплавов // Изв. ВУЗов. Химия и химическая технология, 2004, вып.З, С. 35 37.

262. Аверьянов Е.Е. О механизме анодного окисления металлов // Изв. ВУЗов. Химия и химическая технология, 2004, вып.З, С.34 36.