Струйный высокочастотный разряд пониженного давления в процессах модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.02.05, доктор технических наук Сагбиев, Ильгизар Раффакович

• Сагбиев, Ильгизар Раффакович
• доктор технических наук
• 2009

Оглавление диссертации доктор технических наук Сагбиев, Ильгизар Раффакович

Основные условные обозначения и сокращения.

Введение.

Глава 1. Струйные ВЧ разряды — ключевой элемент финишной обработки поверхности.

1.1. ВЧ струйные разряды пониженного давления и их свойства.

1.2. Нанослои на поверхности материалов и методы их модификации

1.3. Традиционные и электрофизические методы модификации поверхности.

1.4. Цели и задачи диссертации.

Глава 2. Характеристики струйных ВЧ разрядов пониженного давления в процессах обработки конструкционных материалов.

2.1. Методика и аппаратура для экспериментальных исследований характеристик струйных ВЧ разрядов пониженного давления.

2.2. Характеристики потоков ВЧ плазмы пониженного давления в области генерации разряда.

2.3. Характеристики струйных ВЧ разрядов пониженного давления.

2.4. Характеристики потока ВЧ плазмы пониженного давления в области взаимодействия с поверхностью конструкционных материалов.

2.5. Обобщение результатов экспериментальных исследований струйных ВЧ разрядов пониженного давления и выводы.

Глава 3. Математическая модель взаимодействия плазмы струйного ВЧ разряда с конструкционными материалами.

3.1. Методика математического моделирования.

3.2. Физическая модель взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью твердых тел.

3.3. Развитие математических моделей потока ВЧ плазмы пониженного давления.

3.4. Математическая модель взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с конструкционными материалами.

3.5. Численное исследование взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с конструкционными материалами.

Выводы по третьей главе.

Глава 4. Нанополировка поверхностей конструкционных материалов потоком ВЧ плазмы пониженного давления.

4.1. Материалы и методики исследования состава и структуры поверхностных слоев конструкционных материалов.

4.2. Проникновение плазмообразующего газа в поверхность обрабатываемого материала.

4.3. ВЧ плазменная нанополировка и финишная очистка поверхности конструкционных материалов.

4.4. Структура поверхностных слоев конструкционных материалов после полировки потоком ВЧ плазмы пониженного давления инертного газа

4.5. Физико-механические и эксплуатационные свойства поверхностей металлов, модифицированных потоком ВЧ плазмы пониженного давления инертного газа.

Выводы по четвертой главе.

Глава 5. Формирование нанодиффузных покрытий в поверхностных слоях конструкционных материалов с помощью струйного ВЧ разряда пониженного давления в атмосфере химически активных газов.

5.1. Результаты экспериментальных исследований влияния воздействия потока ВЧ плазмы пониженного давления на поверхностные слои вольфрамово-кобальтового сплава ВК-бОМ.

5.2. Изменение состава поверхностных слоев.

5.3. Изменение физико-механических и физико-химических свойств поверхности.

5.4. Обработка потоком ВЧ плазмы пониженного давления армирующего корда автомобильной шины.

5.5. Влияние обработки потоком ВЧ плазмы пониженного давления катализаторов на высокопористых носителях.

5.6. Плазмохимическая переработка битуминозной породы.

Выводы по пятой главе.

Глава 6. Технологические процессы модификации поверхности изделий потоком ВЧ плазмы пониженного давления.

6.1. Типовые представители изделий, подвергаемых ВЧ плазменной обработке.

6.2. Технологические процессы модификации поверхности металлических изделий.

6.3. Технологический способ обработки металлокордов шинной промышленности потоком ВЧ плазмы пониженного давления.

6.4. Комплексная технология территориального и технологического совмещения добычи и переработки высоковязких нефтей с попутным плазмохимическим извлечением металлов.

6.5. Методы математического планирования эксперимента.

Выводы по шестой главе.

Выводы.!.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Струйный высокочастотный разряд пониженного давления в процессах модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов»

В последнее время во всем мире много внимания уделяется созданию и исследованию свойств таких наноматериалов, как консолидированные нано-материалы, нанополупроводники, нанополимеры, нанобиоматериалы, фулле-рены и тубулярные наноструктуры, катализаторы, нанопористые материалы и супрамолекулярные структуры. В создании таких материалов широко используется низкотемпературная плазма различных видов газового разряда.

Плазма струйного высокочастотного (ВЧ) разряда пониженного давления (13,3 - 133 Па) обладает уникальными возможностями модификации поверхности различных материалов. Она позволяет эффективно обрабатывать порошковые материалы, малогабаритные изделия, внутренние и наружные поверхности изделий сложной конфигурации, органические и неорганические материалы с различными внутренним составом и структурой. Однако, воздействие плазмы струйного ВЧ разряда на нанослои - слои материала толщиной 10-100 нм, непосредственно образующие поверхность материала,-в настоящее время изучено недостаточно, не установлено влияние параметров плазменного потока на свойства поверхностных слоев материала, не исследованы структурно-фазовые изменения в поверхностных слоях. Все это сдерживает разработку технологических процессов и плазменных установок для модификации нанослоев и внедрение этих процессов и технологий в производство.

Диссертационная работа направлена на решение актуальной проблемы комплексного исследования плазмы струйного ВЧ разряда пониженного давления в процессах модификации нанослоев на поверхности конструкционных материалов.

В диссертации изложены результаты работы автора по исследованию характеристик плазмы струйного ВЧ разряда пониженного давления и процессов взаимодействия его с поверхностью конструкционных материалов в период 2000 - 2009 г.г.

Работа выполнялась в Казанском государственном технологическом университете в рамках программы Министерства образования РФ №417 "Взаимодействие атомных частиц с поверхностью — новые методы и технологии" по теме "Взаимодействие низкотемпературной плазмы с поверхностью твердых тел" 1992 - 2000 гг., Федеральной программы "Экологическая безопасность России" (шифр 8.1.38), при поддержке грантов АН РТ № 06-6.4-113 и № 06-6.4-299 по теме «Высокочастотная плазменная струйная обработка твердых тел компактной и капиллярно-пористой структур» 2002 - 2005 г., научно-исследовательской работы по Федеральной целевой программе «Исследования и разработка приоритетных направлений развития научно-технологического комплекса России на 2007-2012 г.г.» по теме «Развитие центра коллективного пользования научным оборудованием в области получения и исследования наночастиц оксидов металлов, металлов и полимеров с заданными химическим составом и формой».

В первой главе дан обзор известных экспериментальных и теоретических результатов, методов исследований и применений ВЧ разрядов пониженного давления. Проведен анализ наиболее распространенных методов модификации поверхности материалов и рассмотрены их возможности в формировании различных свойств изделий. Установлено, что наиболее перспективным методом модификации поверхностных слоев является воздействие потока плазмы струйного ВЧ разряда пониженного давления, позволяющего создавать поток ионов, обладающих энергией 10-100 эВ при плотности ионного тока 0,1-5 А/м .

На основе анализа литературных данных сформулированы цель и основные задачи работы.

Во второй главе приведены результаты экспериментальных исследований струйных ВЧ разрядов пониженного давления и слоя положительного заряда (СПЗ) в процессах модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов.

Исследования проводились на ВЧ плазменных установках, состоящих из ВЧ генератора, ВЧ индукционного или ВЧ емкостного плазмотрона, вакуумной системы, системы подачи плазмообразующего газа и комплекса диагностической аппаратуры. Потребляемая мощность генераторов варьировалась в диапазоне от 1,5 до 20 кВт. В качестве плазмообразующего газа в экспериментах использовался аргон высшего сорта и смеси аргона с воздухом, азотом, углекислым газом, пропан-бутановой фракцией.

Измерения параметров струйных ВЧ разрядов при модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов проводились с помощью разработанного исследовательского диагностического комплекса.

Характеристики плазмы струйных ВЧ разрядов пониженного давления исследовались в присутствии образцов из нержавеющих сталей типа XI3 и Х18Н9Т, меди М00, вольфрамо-кобальтового твердого сплава, алюминиевого сплава Д16Т, силумина, титановых сплавов, стали 3 с латунным и бронзовым покрытием, сыпучих материалов (катализатор на пористом носителе А1203).

В присутствии образцов материалов изучены энергетические, газодинамические и электрические параметры струйных ВЧ разрядов пониженного давления: скорость потока плазмы, мощность разряда, концентрация электронов, плотность ВЧ тока, напряженность магнитного поля, и положительный потенциал плазменного столба, плотность ионного тока и энергия ионов, бомбардирующих поверхность материалов.

В результате проведенных исследований установлен оптимальный диапазон изменения входных параметров ВЧ плазменной установки, в котором достигается максимальное значение отношения мощности разряда к потребляемой мощности. В этом диапазоне определены пределы изменения параметров плазмы струйных ВЧ разрядов пониженного давления.

Установлено, что плотность ионного тока на поверхность материала недостаточна для того, чтобы ВЧ распыление было преобладающим процессом при взаимодействии ВЧ плазмы пониженного давления (ВЧППД) с исследованными материалами. Таким образом, модификация поверхности материалов должна проходить с пониженным, по сравнению с аналогичными процессами, эффектом распыления поверхностных слоев.

С другой стороны, плотность ионного потока слишком мала, чтобы получить те результаты модификации, которые достигаются в ВЧППД. В связи с этим проведены теоретические исследования СПЗ, возникающего при модификации конструкционных материалов в плазме струйных ВЧ разрядов пониженного давления.

В третьей главе представлена математическая модель взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью образца в предположении, что рабочий газ является инертным и плазма состоит из частиц трех сортов: нейтральные атомы, электроны и положительные однозарядные ионы.

Анализ характеристик потока плазмы показал, что струя ВЧ плазмы пониженного давления представляет собой течение трех взаимопроникающих газов: газа нейтральных атомов и электронного и ионного газов. При этом характер течения нейтральной компоненты потока является промежуточным между свободно-молекулярным потоком и течением в о режиме сплошной среды (число Кнудсена 2-10" <Кп< 0,3), а течение электронного и ионного газов происходит в режиме сплошной среды.

Построена общая система уравнений, описывающая характеристики ВЧ плазменной струи пониженного давления с учетом отмеченных особенностей потока. В связи с различием пространственных, временных и энергетических масштабов элементарных процессов, происходящих в объеме плазмы и на границе с твердым телом, более, чем на порядок, задача расщепляется на две подзадачи: для потока квазинейтральной плазмы и для зоны взаимодействия, в которой нарушается ионизационное равновесие.

Для описания установившегося квазинейтрального потока ВЧ плазмы используется система, включающая в себя уравнения Максвелла, уравнения диффузии электронов и уравнение теплопроводности электронного газа с соответствующими граничными условиями.

На основе анализа процессов, происходящих в зоне контакта потока ВЧППД с твердым телом, построена система краевых, начальных и начально-краевых задач СПЗ, возникающего возле обрабатываемого тела. В представленной модели СПЗ учитывается динамика поверхностного заряда тела, процессы автоэлектронной и вторичной электронной эмиссии, влияние шероховатости поверхности на распределение электрического поля в окрестности образца. Совместное решение этих задач позволяет найти основные характеристики потока ионов на поверхность образца.

Непосредственно у поверхности образца всегда существует двойной электрический слой, толщина которого равна дебаевской длине 1D. В области двойного слоя рассматривается движение отдельных ионов в бесстолкнови-тельном приближении.

Электрическое поле в двойном слое сильно неоднородно вследствие концентрации электрического заряда на вершинах неровностей рельефа поверхности, размеры которых сопоставимы с толщиной двойного слоя. Поэтому оно рассчитывалось как суперпозиция электростатических полей, созданных зарядами отдельных вершин и ВЧ полем плазмы.

В результате численных расчетов установлено, что положительные ионы приобретают в СПЗ дополнительную энергию от 40 до 80 эВ.

Роль СПЗ в процессе взаимодействия потока ВЧППД заключается в ускорении ионов плазмы, а роль двойного слоя - в фокусировке ионного потока на неоднородностях в распределении поверхностного заряда тела, которые могут быть вызваны наличием определенного микрорельефа поверхности, загрязнений.

В двойном электрическом слое ионный поток фокусируется неоднородным электрическим полем. Свойство фокусировки ионного потока проявляется в узком диапазоне энергии ионов (до 80 эВ). При этом может реализоваться избирательная обработка поверхности.

На основании результатов расчетов дано теоретическое обоснование возможности модификации нанослоев с помощью потока ВЧППД.

Четвертая глава содержит результаты экспериментальных исследований ВЧ плазменной нанополировки поверхности конструкционных материалов в атмосфере инертного газа при пониженных давлениях.

В главе описаны комплекс методик исследования свойств модифицированных поверхностей и проведения экспериментальных исследований взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы с поверхностями конструкционных материалов, применяемые материалы и оборудование, представлены результаты исследования состава, структуры конструкционных материалов до и после обработки неравновесной низкотемпературной плазмой.

Установлен оптимальный диапазон характеристик ионного потока, в котором происходит модификация поверхностных нанослоев конструкционных материалов и определены характеристики установки, в которых создаются соответствующие режимы плазменного воздействия.

Обнаружено, что при обработке материалов струйным ВЧ разрядом пониженного давления в этом диапазоне параметров атомы инертного плаз-мообразующего газа проникают в поверхностный слой на глубину до 100 нм, образуя захороненные слои. При этом общая толщина модифицированного слоя достигает 200 мкм.

Воздействие низкоэнергетическими ионами на поверхность металлов приводит к различным эффектам: удаляются поверхностные загрязнения, включая оксидные пленки и технологические смазки; снижается шероховатость поверхности материалов; залечиваются микротрещины поверхности материала; перераспределяются дефекты в слое, вследствие чего улучшается внутренняя структура материала, снижается риск возникновения центров разрушения при знакопеременных нагрузках.

Установлены основные закономерности изменения свойств модифицированных поверхностей в зависимости от плотности ионного тока на поверхность образца и энергии ионов. Для каждой разновидности ВЧ плазменной модификации имеется достаточно узкий диапазон значений энергии ионов и плотности ионного тока, в котором наблюдаются изменения параметров поверхностного слоя образца.

Определено, что модификация поверхности металлических изделий в режиме нанополировки уменьшает параметр шероховатость поверхности в 48 раз и позволяет достигнуть R:=25-50 нм. Усталостная прочность повышается на 25 - 35%, при этом в поверхностном слое на глубине до 200 мкм наводятся и перераспределяются сжимающие напряжения, их эпюры более плавные, чем при упрочнении традиционными методами. Глубина модифицированного слоя составляет 20 - 30 мкм.

Обработка неравновесной ВЧ плазмой является высокоэффективным методом финишной очистки с удалением трещиноватого и рельефного слоев и полировки конструкционных материалов.

В пятой главе приведены результаты исследования процесса формирования нанодиффузных покрытий на поверхности конструкционных материалов с помощью потока ВЧППД в атмосфере химически активных газов.

В результате экспериментальных исследований поверхностных слоев вольфрамо-кобальтового сплава, обработанного струйным ВЧ разрядом пониженного давления в смеси аргона и пропан-бутана обнаружен модифицированный поверхностный слой толщиной, в зависимости от продолжительности обработки, от 70 до 420 нм. В структуре поверхностного слоя выделяются два подслоя: наружный толщиной —10 нм, содержащий углерод в виде графита, и переходный толщиной от 10 нм до 70-420 нм, в котором присутствуют углерод в составе карбида вольфрама, углерод в алмазоподобном состоянии и углерод в связях С-Н и С-О-Н. Установлено, что толщина модифицированного слоя увеличивается при увеличении продолжительности обработки в ВЧ плазме пониженного давления.

Результаты экспериментальных исследований показали, что при добавлении в плазмообразующий газ реагирующих газов (N2, О2, СО2, СН4, C3H8+C4H1Q) состав образцов из металлов и сплавов изменяется в большей степени, чем при обработке в среде чистого аргона. При этом в поверхностном слое образуются нитриды, оксиды или карбиды элементов, входящих в состав сплава.

Модифицированные слои, получаемые в ВЧППД в среде реагирующих газов, имеют более тонкую дифференцировку фаз, различия в чередовании фаз, различную морфологию нитридных фаз, большую разветвленность диффузионного фронта. Выявленные структурные особенности показывают, что ВЧ плазменную обработку при пониженном давлении можно использовать для целенаправленного изменения структуры и состава сплавов, прецизионного микро- и макро-упрочнения изделий. В поверхностном слое образуются нанодиффузные покрытия.

На основании анализа результатов экспериментальных исследований предложен механизм модификации поверхностных слоев конструкционных материалов в потоке ВЧППД.

В шестой главе на основе результатов исследования взаимодействия неравновесной низкотемпературной плазмы с конструкционными материалами выбраны изделия и детали машиностроения, поверхности которых целесообразно модифицировать.

Результаты, полученные при плазменной модификации поверхности с целью уменьшения ее шероховатости, показывают, что с помощью обработки неравновесной низкотемпературной плазмой можно осуществлять очистку и финишную подготовку поверхности перед нанесением покрытий.

Разработаны процессы модификации нано- и микрослоев, позволяющие в едином технологическом цикле проводить очистку (без нагрева) с одновременным удалением дефектных слоев и активацией поверхности, плазменную полировку с уменьшением шероховатости на 2 класса, повышение усталостной прочности на 30% с перераспределением остаточных напряжений на глубине до 200 мкм и достижением значений сжимающих напряжений 600.700 МПа, упрочнение с увеличением срока службы изделий в 1,5

1,8 раза при использовании инертного газа и в 2-3 раза - при использовании химически активных газов, увеличивать коррозионную стойкость в 2 раза.

Разработаны технологические процессы модификации нанослоев с целью формирования нанодиффузных покрытий, упрочнения, нанополировки и финишной очистки поверхности различных изделий из нержавеющих сталей, титановых, алюминиевых сплавов, вольфрамо-кобальтового сплава.

Разработана технология регенерации алюмохромового катализатора, используемого в производстве изопрена.

Предложена технология переработки битуминозных пород в струе ВЧ разряда пониженного давления и предложена комплексная технология территориального и технологического совмещения добычи и переработки высоковязких нефтей с попутным извлечением редких металлов с помощью ВЧ плазменной обработки.

В приложении содержатся акты внедрения результатов диссертационной работы. Созданный комплекс оборудования и технологических процессов позволил повысить качество, надежность и долговечность изделий медицинской промышленности. Экономический эффект от внедрения составил 30 млн.руб.

Таким образом, в диссертационной работе изложены научно обоснованные технологические решения, внедрение которых вносит значительный вклад в развитие экономики страны. Определены параметры струйного ВЧ разряда пониженного давления, обеспечивающие модификацию нанослоев конструкционных материалов, что позволяет осуществлять процессы нанополировки и формирования нанодиффузных покрытий для улучшения эксплуатационных, потребительских и технологических свойств изделий.

На защиту выносятся:

1. Результаты экспериментальных исследований струйных ВЧ разрядов пониженного давления, устанавливающие оптимальный диапазон изменения входных параметров ВЧ плазменной установки (давление газа/>=13,3-133 Па, расход газа G=0-0,12 г/с, потребляемая мощность Рпотр=2,2-\5 кВт), позволяющий реализовать диапазон энергий ионов на поверхность от 10 до 100 эВ при плотности ионного тока от 0,3 до 5 А/м необходимый для модификации материалов без преобладания распыления поверхностных слоев, при которых достигается максимальное значение отношения мощности разряда Рразр к потребляемой мощности РРазр1РПотР ~ 0,6-0,7; при этом параметры плазмы струйных ВЧ разрядов пониженного давления изменяются в следующих диапазонах: концентрация электронов ис=1016-1019 1/м3, плотность тока в плазме У=3 • 104—1,8-106 А/м2, напряженность магнитного поля в ВЧ индукционном (ВЧИ) разряде Нг= (2-6)-10 В/м, скорость потока 50-500 м/с, толщина СПЗ от 0,1 до 3 мм.

2. Результаты комплексных экспериментальных исследований струй ВЧ разрядов пониженного давления в процессах модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов, устанавливающие, что при введении в плазменную струю образцов конструкционных материалов концентрация электронов непосредственно в окрестности образца возрастает в 22,5 раза, напряженность магнитного поля в струе ВЧИ разряда уменьшается в 1,4-2 раза, плотность электрического тока увеличивается в 1,1-2,5 раза. Характеристики самих струйных разрядов при этом практически не изменяются.

3. Результаты численных расчетов по построенной математической модели, теоретически обосновывающие, что в диапазоне энергий ионов Wi = 4080 эВ возникает эффект фокусировки ионного потока на неоднородностях микро- и нанорельефа поверхности, что позволяет использовать низкоэнерге-тичные ионные потоки для модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов.

4. Результаты комплексных экспериментальных исследований СПЗ, возникающего у поверхности образца в струе плазмы ВЧ разряда пониженного давления, устанавливающие диапазон характеристик ионного потока (энергия ионов W,= 40-80 эВ и плотность ионного тока /,=0,3-5 А/м ), в котором происходит модификация поверхностных нанослоев конструкционных материалов.

5. Результаты экспериментальных исследований, устанавливающие, что при обработке материалов струйным ВЧ разрядом пониженного давления в диапазоне параметров (давление газа /7=13,3—133 Па, расход (7=0,04-0,08 г/с, мощность разряда Рразр = 0,5—5 кВт) атомы инертного плазмообразующе-го газа проникают в поверхностный слой на глубину до 100 нм, образуя захороненные слои. При этом общая толщина модифицированного слоя достигает 200 мкм.

6. Результаты экспериментальных исследований, устанавливающие, что при обработке сплавов металлов струйным ВЧ разрядом пониженного давления в атмосфере химически активного газа образуется модифицированный поверхностный слой толщиной от 70 до 420 нм в зависимости от времени обработки. В структуре поверхностного слоя можно выделить два подслоя: наружный толщиной —10 нм, содержащий углерод в виде графита, и переходный толщиной от 10 нм до 70-420 нм, в котором присутствуют углерод карбида вольфрама, углерод в алмазоподобном состоянии и углерод в связях С-Н и С-О-Н. В результате диффузии дефектов структуры и атомов из нанослоев происходит газонасыщение глубинных слоев толщиной свыше 300 мкм, в поверхностном слое образуются, в зависимости от используемого плазмообразующего газа нитриды, оксиды или карбиды элементов, входящих в состав материала образца. При этом скорость диффузии атомов газа в процессе ВЧ плазменного газонасыщения в 2.5 раз превышает скорость диффузии при газонасыщении в разрядах постоянного тока.

7. Физическая модель модификации нанослоев материалов в плазме струйного ВЧ разряда пониженного давления, устанавливающая, что ионы плазмообразующего газа, обладающие энергией в диапазоне 40-80 эВ, проникают в поверхностный слой материала толщиной до 20 нм, создают в нем дефекты и образуют химические соединения с атомами материала. Воздействие ВЧ поля и импульсно-периодического потока электронов приводят к возникновению в поверхностном слое материала ВЧ токов, которые способствуют ускоренной диффузии дефектов и атомов плазмообразующего газа и их соединений на глубину скин-слоя. В результате этого изменяется структура поверхностного слоя, происходит перераспределение в нем химических элементов, входящих в состав сплава.

8. Процессы модификации нано- и микрослоев, позволяющие в едином технологическом цикле проводить очистку (без нагрева) с одновременным удалением дефектных слоев и активацией поверхности, плазменную полировку с уменьшением шероховатости на 2 класса, повышение усталостной прочности на 30% с перераспределением остаточных напряжений на глубине до 200 мкм и достижением значений сжимающих напряжений 600.700 МПа, увеличивать коррозионную стойкость в 2 раза, упрочнение с увеличением срока службы изделий в 1,5 — 1,8 раза при использовании инертного газа и в 2-3 раза - при использовании химически активных газов.

Заключение диссертации по теме «Механика жидкости, газа и плазмы», Сагбиев, Ильгизар Раффакович

287 Выводы

1. В результате проведенных экспериментальных исследований установлен оптимальный диапазон изменения входных параметров струйной ВЧ плазменной установки (давление газа /7=13,3-133 Па, расход газа G=0-0,12 г/с, потребляемая мощность Рпотр=2,2-\5 кВт), позволяющий реализовать режим слабоинтенсивной низкоэнергетичной ионной бомбардировки, характеризуемый энергиями ионов, поступающих на поверхность от 10 до 100 эВ при плотности ионного тока от 0,3 до 5 А/м2, в котором происходит модификация материалов без преобладания распыления поверхностных слоев, и в котором достигается максимальное значение отношения мощности разряда Ррсир к потребляемой мощности Ppa3{JPnomp = 0,6-0,7. При этом параметры плазмы струйного ВЧИ разряда пониженного давления изменяются в следующих диапазонах: концентрация электронов

J Г 1Q О n Л пе= 10 -10 1/м , плотность тока в струе плазмы у—(1-8)-10 А/м , напряженность магнитного поля Hz~ 20—200 А/м, скорость потока 100500 м/с, толщина СПЗ от 0,1 до 0,3 мм. Для ВЧЕ струйного разряда пониженного давления характерны: концентрация электронов пе= 101518 3 2 2

10 1/м , плотность тока в струе плазмы у=(1—8)-10 А/м , напряженность магнитного поля Hz= 5-180 А/м, скорость потока 50-350 м/с, толщина СПЗ от 3 до 7 мм.

2. В результате комплексных экспериментальных исследований струй ВЧ разрядов пониженного давления установлено, что в процессах модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов концентрация электронов непосредственно в окрестности образца возрастает в 2-2,5 раза, плотность электрического тока увеличивается в 1,1-2,5 раза. При этом характеристики самих струйных разрядов практически не изменяются.

3. В результате численных расчетов по построенной математической модели теоретически обосновано, что в диапазоне энергий ионов Wt = 40гу

80 эВ и плотности ионного тока j ,=0,3-0,9 А/м возникает эффект фокусировки ионного потока на неоднородностях микро- и нанорельефа поверхности. Комплексные экспериментальные исследования показали, что в этом диапазоне характеристик ионного потока происходит модификация поверхностных нанослоев конструкционных материалов.

4. В результате экспериментальных исследований, установлено, что при обработке конструкционных материалов струйным ВЧ разрядом пониженного давления в диапазоне параметров (давление газа р= 13,3 — 133 Па, расход газа (7=0,04 — 0,08 г/с, мощность разряда Рразр= 0,5 - 5 кВт) атомы инертного плазмообразующего газа проникают в поверхностный слой на глубину до 100 нм, образуя захороненные слои. При этом общая толщина модифицированного слоя достигает 200 мкм.

5. В результате экспериментальных исследований, установлено, что при обработке сплавов металлов струйным ВЧ разрядом пониженного давления в атмосфере химически активного газа образуется модифицированный поверхностный слой толщиной от 10 нм до 70-420 нм в зависимости от времени обработки. В структуре поверхностного слоя можно выделить два подслоя: наружный толщиной -10 нм, содержащий углерод в виде графита, и переходный слой, толщиной, в зависимости от режима обработки, от 10 до 70-420 нм, в котором присутствуют углерод в составе карбида вольфрама, углерод в алмазоподобном состоянии, и углерод в связях С-Н и С-О-Н. В результате диффузии дефектов структуры и атомов из нанослоев происходит газонасыщение глубинных слоев толщиной свыше 300 мкм, в поверхностном слое образуются, в зависимости от используемого плазмообразующего газа, нитриды, оксиды или карбиды элементов, входящих в состав материала образца. При этом скорость диффузии атомов газа в процессе ВЧ плазменного газонасыщения в 2.5 раз выше скорости диффузии при газонасыщении в разрядах постоянного тока.

6. Разработана физическая модель модификации нанослоев материалов в плазме струйного ВЧ разряда пониженного давления, утверждающая, что ионы химически активного плазмообразующего газа, обладающие энергией в диапазоне 40-80 эВ, проникают в поверхностный слой материала толщиной до 20 нм, создают в нем дефекты и образуют химические соединения с атомами материала. Воздействие ВЧ поля и импульсно-периодического потока электронов приводят к возникновению в поверхностном слое ВЧ токов, которые способствуют ускоренной диффузии дефектов и атомов плазмообразующего газа и их соединений на глубину скин-слоя. В результате этого изменяется структура поверхностного слоя, происходит перераспределение в нем химических элементов, входящих в состав сплава.

7. Разработаны процессы модификации нано- и микрослоев, позволяющие в едином технологическом цикле проводить очистку (без нагрева) с одновременным удалением дефектных слоев и активацией поверхности, плазменную полировку с уменьшением шероховатости на 2 класса, повышение усталостной прочности на 30% с перераспределением остаточных напряжений на глубине до 200 мкм и достижением значений сжимающих напряжений 600.700 МПа, увеличивать коррозионную стойкость в 2 раза, упрочнение с увеличением срока службы изделий в 1,5 -1,8 раза при использовании инертного газа и в 2-3 раза — при использовании химически активных газов.

290

Список литературы диссертационного исследования доктор технических наук Сагбиев, Ильгизар Раффакович, 2009 год

1. Дресвин С.В., Донской А.В., Гольдфарб В.М., Клубникин B.C. Физика и техника низкотемпературной плазмы — М.:Атомиздат, 1972. — 352 с.

2. Донской А.В., Клубникин B.C. Электроплазменные процессы и установки в машиностроении. — JL: Машиностроение, 1978. — 221с.

3. Бабат Г.И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы. Вестник электропромышленности, 1942.- №2, С.1-12.

4. Dundas Р.Н., Thorpe M.L. Economics And Technology Of Chemical Processing With Electric-Field Plasmas. — Chemical engineering, 1969, V.76. № 14, p.123-128.

5. Reed T.B. Induction-Coupled plasma torch. J.Appl.Phys., 1961. - V.32. - №5. - p.821-824.

6. Гольдфарб B.M., Дресвин C.B. Оптическое исследование распределения температуры и электронной концентрации в аргоновой плазме. -Теплофиз. Выс. Температур, 1965. -т.З, вып.З- С.333-339.

7. Высокочастотный безэлектродный плазмотрон при атмосферном давлении / Ф.Б. Вурзель, Н.Н.Долгополов, А.И.Максимов, Л,С.Полак, В.И.Фридман. В кн.: Низкотемпературная плазма. -М. - 1967. -С.419-431.

8. Ровинский Р.Е, Груздев В.А., Широкова И.П. Об энергетическом балансе стационарного индукционного разряда. Теплофизика Выс. Температур, 1966. -т.4, вып.1- С.З31-339.

9. Jonston P.D. Temperature and electron density measurements in an R-f discharge in argon. Phys.Letters, 1966. - V.20. - №5, p.499-500.

10. Определение температуры в стационарном высокочастотном индукционном разряде / Р.Е.Ровинский, В.А.Груздев, Т.М.Гутенмахер, А.П.Соболев. Теплофизика Выс. Температур, 1967. -т.5, вып.4- С.557-561.

11. Оптические свойства плазмы безэлектродного разряда в воздушном потоке / Ю.А. Буевич, В.М.Николаев, В.А.Пластинин, Г.Ю, Силачев, М.И.Якушин. Журнал прикл. Мех. и техн.физ., 1968. - № 6, С. 111-116.

12. Кононов С.В., Якушин М.И. К определению интенсивности удельных тепловых потоков к поверхности в струях высокочастотного безэлектродного плазмотрона на воздухе. — Журнал прикл. Мех. и техн.физ., 1966. -№6,С.67-68.

13. Кулагин И.Д., Сорокин JI.M. Определение электрических параметров индукционного разряда в газе при атмосферном давлении. Физ. и хим. Обр. матер. - 1969. - № 5, С.3-12.

14. Reboux J. Chalumean a plasma hayte frequence et hautas temperatures. -Ingenieurs et tehnicens, 1962, № 157, p. 115-125.

15. Рыкалин Н.Н. Плазменные процессы в металлургии и обработке материалов Физ. и хим. Обр.матер. - 1967. - № 2, С.3-17.

16. Плазменные процессы в получении сферических порошков тугоплавких материалов / А.Б.Гугняк, Е.Б.Королева, И.Д.Кулагин, В.И.Михалев, В.А. Петрунчев, Л.М.Сорокин. Физ. и хим. Обр.матер. — 1967. - № 4, с.40-45.

17. Краснов А.Н., Зильберберг В.Г., Шарикер С.Ю. Низкотемпературная плазма в металлургии. — М.: Металлургия, 1970. 216 с.

18. Марин К.Г., Любимов В.К. Применение низкотемпературной плазмы в микроэлектронике. Физ. и хим. Обр.матер. — 1978. - № 2, С.64-69.

19. Вурзель Ф.Б., Полак Л.С. Химические процессы в плазме и плазменной струе. В сб.: Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. - М., 1995. - С.100-117.

20. Получение пигментной двуоксиси титана индукционно-атомарным способом / Н.Н.Рыкалин, С.В. Огурцов, И.Д.Кулагин, И.В.Антипов, Л.М.Сорокин, Я.М. Липкес, С.Н.Дмитриев, С.Н.Сокоренко, Т.П.Сушко ,

21. A.Б.Гугняк, , Д.С.Третьяков, Б.В.Драчев. Физ. и хим. Обр.матер. - 1975. -№ 1, С.154-157.

22. Н.Н.Рыкалин Термическая плазма в металлургии и технологии. -Труды ВЭЛК, 1977, секция 0, доклад № 6, С.71.

23. Баширов Ю.А., Медведев С.А. Использование высокочастотного безэлектродного разряда для синтеза интерметаллических соединений на основе ниобия и ванадия. — в сб.: Генераторы низкотемпературной плазмы. — М., 1969. С.501-507.

24. Коломийцев П.Т. Жаростойкие диффузионные покрытия. — М. Металлургия, 1979. — 272 с.

25. Кудинов В.В. Плазменные покрытия. — М.: Наука, 1977. 184 с.

26. Никитин М.Д., Кулик А .Я., Захаров Н.И, Теплозащитные и износостойкие покрытия деталей дизелей. Л.: Машиностроение, 1977. - 168 с.

27. Получение покрытий высокотемпературным распылением / Сб. статей // Под ред. Л.К.Дружинина и В.В.Кудинова. М.:Атомиздат, 1973. -312 с.

28. Получение пленок двуокиси кремния плазменным методом /

29. B.Ф.Сыноров, Э.В.Гончаров, В.М.Гольдфарб, А.В.Крячко. — Электронная техника. Сер.материал, 1967, вып.З. С.41-47.

30. Неса М., Cakenberghe J.Van. Soures a plasma pour la preparation de couches minces de silice. Thin Solid Films, 1972. - V.l 1, №2, p.283-288.

31. Донской A.B., Дресвин C.B., Клубникин В.С, Применение низкотемпературной плазмы в электротермических процессах- В сб.: Генераторы плазменных струй и сильноточные дуги. Л., 1972. - С.39-43.

32. Буевич Ю.А, Егоров O.K., Якушин М.И. О механизме разрушения полупрозрачных полимеров лучистым тепловым потоком. Журнал прикл. Мех. и техн. физики, 1968, № 4, С.72-79.

33. Исследование эффективности выделения энергии в плазме безэлектродного высокочастотного разряда / С.И.Андреев, М.Н.Ванюков, А.А.Егорова, Б.М.Соколов. Ж.техн.физ., 1967. -т.37, вып.7, С.1252-1257.

34. Плазменная технология в производстве СБИС / под ред. Н.А. Айнспрука и Д.Брауна. М.: Мир, 1987. - 469 с.

35. Данилин Б.С., Киреев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.: Энергоиздат, 1987. — 264 с.

36. Cabannes F. Etude de la decharge electrique par induction dans les gas rares. Annales de Physique. 1955, v.10, November-december, p.1026-1078.

37. Бамберг E.A., Дресвин C.B. Определение некоторых параметров высокочастотного кольцевого разряда. Ж.техн.физ., 1963, т.ЗЗ, вып.1, С.65-72.

38. Савичев В.В., Трехов Е.С., Фоменко А.Ф. Измерение параметров плазмы импульсного вихревого разряда зондовыми методами. В сб.: Физика газоразрядной плазмы. — М., 1968, вып.1, С.27-38.

39. Eidemann I. Gasaufhezung und energiebilanz einer stationuzen hochfrequenten Aingentladung in Edelgasen. Beitrage aus der Plasmaphysik. 1971, Bd.ll, №2, s.99-119.

40. Czerbniak I., Maleski H., Pawlowski B. Fnflisa poborn MOCY PAZeZ plasma w zrodle jonow wysokies czestotliwasci. — Nuklionika, 1977, v.22, №4, p.317-327.

41. Микроволновое излучение плазмы безэлектродного индукционного разряда при низких давлениях / Л.А.Душин, В.И.Кононенко, И.К. Никольский, О.С.Павличенко. — В кн: Высокочастотные свойства плазмы, Киев, 1968, С.11-20.

42. Lenz В., Walther R.I. Electron temperatures in low pressure PF-dischar-ge. -proc.l3-th Intern. Conf. Phenomena ionisated Gas, Berlin, 1977, p.337-338.

43. Schulz P.D., Anderson T.P. Local thermodynamic equilibrium in an RF argon plasma. I.Quant. Spectrosc. Ratiot. Transfer, 1968, v.8, №7, P.1411-1418.

44. Кононенко В.И. Исследование параметров и микроволнового излучения плазмы безэлектродного индукционного разряда: Автореф. дис.канд.физ.-мат.наук. — Харьков, 1980. 23 с.

45. Годяк В.А., Попов О.А. О зондовой диагностике ВЧ плазмы. -Ж.техн.физ., 1977, т.47, вып.4, С.767-770.

46. Распределение электронов по энергиям и контрагирование в высокочастотном разряде / С.Д. Вагнер, В.А. Виролайнен, Ю.М.Коган, Г.Ю.Хрусталев. В кн.: Вопросы физики низкотемпературной плазмы. — Минск, 1970, С. 182-184.

47. Кононенко К.В. Детекторные свойства газоразрядной плазмы. — М.:Атомиздат, 1980. 128 с.

48. Birkhoff G. Messung der elektrischen Vorgange innerhalb einer Hochfregnenz. Ringentladung. - Zeitschrift fur ungewandte Physik, 1958, Bd.10, №5, s.204-206.

49. Dippel K., Tackenbarg W. Magnetic field probes with high frequency response. Proceedings Amsterdam, 1960, v.l, p.533-536.

50. Freisinger I., Lens В., Walther R.I. The skin-effect in an RF-discharge plasma with and without an external magnetic field. Proc. 13 Intern.Conf.Phenomena Ionized gases, Berlin, 1977, p.3 39-340/

51. Harrison I.A., Craggs I.D. Excitation in a low electrodeless discharge. — J. of Electron and Control, 1958, v.4, № 4, p.289-300.

52. Исследование ионизации и нагрева газа в высокочастотном индукционном разряде / Б.Е.Жестков, Б.Г.Ефимов, З.Т.Орлова, А.М.Омелин, В.И. Ершов. Труды ЦАГИ, 1970, вып.1232, 15 с.

53. Браун С. Элементарные процессы в плазме газового разряда. — М.: Атомиздат, 1961.-323 с.

54. Моделирование и методы расчета физико-химических процессов в низкотемпературной плазме / отв.ред. Л.С.Полак. — М.: Наука, 1974. 271 с.

55. Brasified Charles I. High frequency discharges in mercure, helium and neon/ Physical Review, 1931, v.37, p.82.

56. Левитский С.М. Исследование потенциала зажигания высокочастотного разряда в газе в переходной области частот и давлений // Журн.техн.физ. 1957. - Т.27, вып.5 - С.970-977.

57. Мышенков В.И., Яценко Н.А. Влияние межэлектродного расстояния на максимальный поперечный размер пространственно-однородного плазменного столба // Журн.техн.физ. — 1981. Т.51, №10 -С.1195-1204.

58. Ганна А.Х. Исследование ВЧ разрядов в диффузионной области давления, а и у разряды: Автореф. канд. дисс.- М., 1979. — 14 с.

59. Кузовников А.А., Савинов В.П. Пространственное распределение параметров стационарного ВЧ разряда // Вестник МГУ, Сер: физика, астрономия, 1973. №2, С.215-233.

60. Popow О.A., Jodyak V.A. Power dissipated in low-pressure radio-frequency discharge plasmas / J.Appl.Phys., v.57, №1, 1985, p.53-58

61. Левитский С.М. Потенциал пространства и распыление электродов в высокочастотном разряде // Журн.техн.физ. 1957. - Т.27, вып.5 - С.1001-1009.

62. Джерпетов Х.А., Патеюк Г.М. Исследование высокочастотного разряда методом зондов // ЖЭТФ, 1955, Т.28, вып.З С.343-351.

63. Кузовников А.А., Хадир М.А. Экспериментальное исследование поглощения ВЧ поля плазмой положительного столба // Радиотехника и электроника, 1973, т. 18, вып.4 С. 875 — 877.

64. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / под ред. Л.А.Сена и В.Е.Голанта. М.: Наука, 1971. - 544 с.

65. Рыкалин Н.Н., Кулагин И.Д., Сорокин Л.М., Гугняк А.Б. Исследование энергетических параметров высокочастотного емкостного плазмотрона // Физ.и хим. обраб. матер., 1975, №4 С.3-6.

66. Тихомиров И.А., Тихомиров В.В., Шишковский В.И. О функции распределения электронов по энергиям в высокочастотном электродномразряде при пониженных давлениях // Известия ВУЗов, сер:Физика, 1974, №4. -С.34-37.

67. Полак JI.C., Овсянников А.А., Словецкий Д.И„ Вурзель Ф.Б, Теоретическая и прикладная плазмохимия. М.: Наука, 1975 - 304 с.

68. Бердичевский М.Г., Марусин В.В. Определение энергетических характеристик положительного столба ВЧ емкостного разряда термопарным методом // Тез.докл. VII Всесоюзн. конф. по физике низкотемпературн. плазмы. Ташкент, 1987, Т.2, С.218-219.

69. Босяков М.Н., Лабуда А.А. Определение вращательной температуры молекул в плазме ВЧ разрядов низкого давления // Докл. АН БССР, 1981, Т.25, вып.9 С.801-804.

70. Буланьков Н.И., Журавлев В.Д., Кротков В.А., Любимов В.К., Марин К.Г. Исследование процесса нанесения диэлектрических пленок в высокочастотном разряде низкого давления. — Электронная техника. Сер.З: Микроэлектроника, вып.З, 1976. — С.54-58.

71. Оке С.Н. Исследование кинетики заряженных частиц в ВЧ разряде низкого давления: Автореф. канд. дис. . М., 1981. — 17 с.

72. Ершов А.В. Исследование кинетики электронов в плазме ВЧ разряда низкого давления в инертных газах: Автореф. канд.дис.- М., 1982. 15с.

73. Максимов А.И., Светцов В.И. Сравнительное исследование распыления некоторых металлов в тлеющем и ВЧ разрядах // Труды Ивановского хим.техн.ин-та, 1973. вып.З, С. 110-115.

74. Разумовская Л.П., Бочкова О.П. Оптические и электрические свойства ВЧ «слабого» и «сильного» разрядов в неоне // Оптика и спектроскопия, 1960. т.9., вып.2 С.271-273.

75. Звягинцев А.В., Митин Р.В., Прядин К.К. Безэлектродные емкостные разряды дугового типа // ЖТФ, 1975. Т.45, вып.2 - с.278-285.

76. Брагин В.Е., Матюхин В.Д. О пространственной однородности объемного ВЧЕ разряда // Труды Моск. физ.-техн. ин-та. Сер.: Общ. и молекулярн. физ, 1979, вып.11. С.179-182.

77. Ежовский Ю.К. Поверхностные наноструктуры перспективы синтеза и использования// Соросовский образовательный журнал, 2000, №1, С. 56-63.

78. Большой Энциклопедический словарь. М.: ACT, Астрель, 2005. — 1248 с.

79. Ребиндер П.А. Влияние активных смазочных сред на деформирование сопряженных поверхностей трения // О природе трения твердых тел. Минск: Наука и техника, 1971. - С.8-16.

80. King D.A., Woodruff D.P. The Chemical Physics of Solid Surfaces and Heterogenequs Catalysis. Vol.4, Fundamental studies of heterogeneous Catalysis, Elsevier, Amsterdam, 1982.

81. Вудраф Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности. -М: Мир, 1989. 564 с.

82. Гусев А.И., Ремпель А.А. Нанокристаллические материалы. М.: Физматлит, 2000. - 224 с.

83. Носкова Н.И., Мулюков P.P. Субмикрокристаллические и нанокристаллические металлы и сплавы. Екатеринбург: Уральское отд-ние РАН, 2003.-279 с.

84. Помогайло А.Д., Розенберг А.С., Уфлянд И.Е. Нано-частицы металлов в полимерах . М.: Химия, 2000. - 672 с .

85. Харрис П. Углеродные нанотрубы и родственные структуры. Новые материалы XXI века / Пер.с англ. под ред. Л.А.Чернозатонского. М.: Техносфера, 2003. — 336 с.

86. Nanomaterials. Synthesis, Properties and Applications / A.S. Edelstein, R.C.Cammarata/ Bristol: Inst, of Phys. Publ., 1998. - 596 p.

87. Bell A.T. The impact of nanoscience on heterogeneous catalysis // Science. 2003. - V.299. - P.1688 - 1691

88. Electrical resistivity as characterization tool for nanocrystalline metals / J.I. McGrea, K.T. Aust, G. Palumbo et al.// Nanophase and Nanocomposite

89. Materials / Eds J.Komarneni, J.C. Parekr, H. Hahn. Warrendale: Mater. Res. Soc., 2000 .-P.461-466.

90. Gas-phase oxidation of 1-butene using nanoscale Ti02 photocatalysts / L. Gao, A. Huang, F.-J. Spiess et al.//J. of Catalysis. 1999. - V.188. -P.48-57.

91. Андриевский P.A. Наноматериалы : концепция и современные проблемы // Росс. хим. журн. 2002. - Т.46. - № 5. - С.50-56.

92. Морохов И.Д., Трусов Л.И., Лаповок В.Н. Физические явления в ультрадисперсных средах. — М.:Энергоатомиздат, 1984. 224 с.

93. Чепа П.А., Андрияшин Д.А. Эксплуатационные свойства упрочненных деталей / под ред. С.В. Берестнева. Минск: Наука и техника. 1988.- 192 с.

94. Арзамасов Б.Н. Химико-термическая обработка металлов в активизированных газовых средах. М.: Машиностроение, 1979. — 224 с.

95. Бабад-Захряпин А.А., Кузнецов Г.Д, Химико-термическая обработка в тлеющем разряде. М.: Атомиздат, 1975. — 176 с.

96. Лахтин Ю.М., Арзамасов Б.Н. Химико-термическая обработка металлов. Учебное пособие для вузов. М.: Металлургия, 1985. — 256 с.

97. Риссел X., Руге И. Ионная имплантация. Пер. с нем. М.: Наука,1983.

98. Мейер Дж., Эриксон Л., Дэвис Дж. Ионное легирование полупроводников.- М.: Мир, 1970.

99. Бойко В.И., Валяев А.Н., Погребняк А.Д. Модификация металлических материалов импульсными мощными пучками частиц. // УФН. 1999. Т.169. №11. С.1243.

100. Полевой С.Н., Евдокимов В.Д. Упрочнение металлов. Справочник. М.: Машиностроение, 1986. - 320 с.

101. Химико-термическая обработка металлов и сплавов. Справочник. / Г.В. Борисенюк, JI.A. Васильев, Л.Г. Ворошнин и др. Под ред. J1.C. Ляховина. М.: Металлургия, 1981. - 424 с.

102. Сокол И.Я. Термическая обработка качественной стали на металлургических заводах . М.: Металлургия, 1986. — 160 с.

103. Технология термической обработки стали / под ред. M.JI, Бернштейна. Пер. с нем .Б.Е.Левина. М.: Металлургия, 1981. — 608 с.

104. Котов O.K. Поверхностное упрочнение деталей машин химико-термическими методами. М.: Машиностроение, 1969. - 334 с.

105. Колочев Б.А., Габидуллин P.M., Палузов Ю.В. Технология термической обработки цветных металлов и сплавов. Учебное пособие для вузов. М.: Металлургия, 1980. - 280 с.

106. Лахтин Ю.М. Металловедение и термическая обработка металлов. Учебник для вузов. М.: Металлургия, 1984. - 360 с.

107. Зуев В.М. Термическая обработка металлов. — М.: Высшая школа, 1981.-296 с.

108. Электрохимико-термическая обработка металлов и сплавов / И.Н.Киндин, В.И. Андрюшечкин, В.А.Волков, А.С. Колин. М.: Металлургия, 1978. - 320 с.

109. Коломейцев П.Т. Жаростойкие диффузионные покрытия. М.: Металлургия, 1979. — 272 с.

110. Справочник по электрохимическим и электрофизическим методам обработки / Г.Л.Амитан, И.А.Байсупов, Ю.М.Барон и др.; Под общ. ред. В.А.Волосатова. Л.: Машиностроение, 1983. - 719 с.

111. Электрофизические и электрохимические методы обработки материалов. Т.1 / Б.А.Артамонов, Ю.С.Волков, В.И.Дрожалова и др. М.: Высшая школа, 1983. - 247 с.

112. Электрофизические и электрохимические методы обработки материалов. Т.2 / Б.А.Артамонов, Ю.С.Волков, В.И.Дрожалова и др. М.: Высшая школа, 1983. - 208 с.

113. ПЗ.Лопилов JI.Я. Электрофизическая и электро-химическая обработка материалов: Справочник. М.: Машиностроение, 1982. - 399 с.

114. Snoeys R. The role of nonconventional machining methods in mechanical manufacturing // Bull. Seans. Acad. Sci. Outre Mer. Meded Zin. K. Acad. Oxerzeese Wet. 1986. - N 3. - V.3 - P.503-505.

115. Плазменные и лазерные методы упрочнения деталей машин / В.В.Спиридонов, О.С.Кобяков, И.Л.Куприянов; Под ред. В.Н.Начина. -Минск: Вышейшая школа, 1988. 155 с.

116. Методы поверхностной лазерной обработки: Учеб. пособие для вузов. / А.Г.Григорьянц, А.Н.Сафонов; Под ред. А.Г.Григорьянца. М.: Высшая школа, 1987. - 191 с.

117. Упрочнение деталей лучом лазера / Под общ. ред. В.С.Коваленко. -Киев: Техника, 1981. 131 с.

118. Лазерная и электронно-лучевая обработка материалов: Справочник / Н.Н.Рыкалин, А.А.Углов, И.В.Зуев и др. М.: Машиностроение, 1985. - 496 с.

119. Хасуй С., Моригаки О. Наплавка и напыление. М.: Машиностроение, 1985. - 240 с.

120. Сидоров А.И. Восстановление деталей машин напылением и наплавкой. М.: Машиностроение, 1987. - 192 с.

121. Шоршоров М.Х., Харламов В.А. Физико-химические основы детонационно-газового напыления покрытий. М.: Наука, 1978. - 224 с.

122. Технология электрической сварки металлов и сплавов плавлением / Под. ред. акад. Б.Е.Патона. М.: Машиностроение, 1974. - 442 с.

123. Thorpe М. Thermal Spraying Becomes a Design Toll // Machine Design. 1983. - V.55, N 27. - P. 69-77.

124. Рыкалин H.H., Углов А.А., Авищенко Л.М. Высокотемпературные технологические процессы: Теплофизические основы. М.: Наука, 1985. -172 с.

125. Технологическое применение низкотемпературной плазмы / Р.Оулет, М.Барбье, П.Черемисинофф и др. М.: Энергоатомиздат, 1983. -144 с.

126. Клименко Ю.В. Электроконтактная наплавка / Под ред. Э.С.Кракозова. М.: Металлургия, 1978. - 128 с.

127. Борисов Ю.С., Борисова A.JI. Плазменные порошковые покрытия.- Киев: техника, 1936. 223 с.

128. Полевой С.Ч., Евдокимов В.Д. Упрочнение металлов: Справочник.- М.: Машиностроение, 1986. 320 с.

129. Денисенко Э.Т., Калинович Д.Ф., Кузнецова Л.И. Применение износостойких покрытий в машиностроении // Вест, машиностроения. 1988.- № 2. С.71-77.

130. Состояние рынка материалов и устройств для плазменного напыления // Кочё рза мэтару. 1985. - № 88. - С. 89-96.

131. Satke W., Kretzsmar Е. Schihnerstellung und Automatisirung von Spitzprozessen // ZJS-Mitteilungen. 1987. - V.29, N 9. - S.954-958.

132. Верхотуров А.Д. Особенности эрозии переходных металлов при ЭИЛ // Электрон, обработка материалов. 1981. - № 6. - С. 18-21.

133. Лазаренко Н.И. Электроискровое легирование металлических поверхностей. М.: Машиностроение, 1976. - 46 с.

134. Коваленко B.C., Верхотуров А.Д., Головко Л.Ф. и др. Лазерное и электроэрозионное упрочнение материалов. М.: Наука, 1986. - 276 с.

135. Гитлевич А.Е., Михайлов В.В., Пириавский Н.Я. Электроискровое легирование металлических поверхностей. Кишинев: Штиинца, 1985. - 195 с.

136. Лазаренко Б.Г., Лазаренко Н.И. Электроискровая обработка токопроводящих материалов. Киев: Изд-во АН УССР, 1958. - 232 с.

137. Писаренко Г.С. Влияние остаточных напряжений на адгезионную и когезионную прочность слоев, полученных ЭИЛ стали // Электрон, обработка материалов. 1975. - № 1. - С.28-33.

138. Безыкорнев А.И. Остаточные напряжения при ЭИЛ // Электрон, обработка материалов. 1976. - № 6. - С.20-22.

139. Снежков В.А. Перспективы развития для электроискрового нанесения покрытий // Защит, покрытия на металлах. 1982. - Вып. 16. -С.25-26.

140. Корниенко А.И., Чжен И.А., Цирник Л.П. Электроискровое серебрение контактных поверхностей // Электрон, обработка материалов. -1977. № 4. - С.32-36.

141. Горячев Ю.М. Влияние ЭИЛ поверхности молибдена и ниобия на термоэлектронную эмиссию // Электрон, обработка материалов. 1987. - № 4. - С.12-13.

142. Фрейдлин М.Л„ Никаноров М.А., Гавзе А.С. и др. Применение электроискрового легирования для повышения работоспособности титановых сплавов в смазывающих узлах трения // Электрон, обработка материалов. 1980. - № 4. - С.88-91.

143. Vella-Colciro J.P., Wolfe R., Blanke S.K. et al. J. Appl. Phys. -1981. -V.51.-P.2355.

144. Андреев А.А., Гавриленко И.В., Купченко В.В. Исследование некоторых свойств конденсатов Ti-N2, Zr-N2, получаемых осаждением плазменных потоков в вакууме (способ КИБ) // Физ. и хим. обработки материалов. 1980. - № 3. - С.64-67.

145. Григорьев А.И. Установка "Пуск-77-1" для нанесения ионно-вакуумных износостойких покрытий на обрабатывающий инструмент // Технол. автомобилестроения. 1978. - № 6. - С.42-48.

146. Семенов А.П., Григорьев А.И. Износостойкие покрытия, нанесенные вакуумными ионно-плазменными методами // Технол. машиностроения. 1973. - № 7. - С. 15-20.

147. Плазмохимическая технология / В.Д.Пархоменко, П.И.Сорока, Ю.И.Краснокутский и др. Новосибирск: Наука, Сиб. отд., 1991. -392 с.

148. Верещака А.С., Табаков В.П., Вахминцев Г.С. Твердосплавные инструменты с нитридотитановыми покрытиями // Станки и инструмент. -1976.-№6.-С.12-14.

149. Hudis М. Plasma treatment of solid materials // Techn. and Appl. of Plasma Chem. Ch.3. 1974. - P.l 13-147.

150. Reboux J. Chalumeau a plasma haute frequency et haunts temperatures //Ing. Techn. 1962. -N 157. - P.l 15-125.

151. Вурзель Ф.Б., Назаров В.Ф. Плазмохимическая модификация поверхности стекла. В сб.: Плазмохимические процессы. - М.:1979, с. 172203.

152. Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь, 1986. - 232 с.

153. Reed Т.В. Growth of refractory crystals using the induction plasma torch // J.Appl.Phys. 1961. - V.32. - N 12. - P.2534-2535.

154. Некоторые процессы выращивания тугоплавких кристаллов в высокочастотных плазменных горелках/ А.В. Донской, С.В. Дресвин, К.К. Воронин и др. // Теплофиз. высоких темпер. 1965. - Т.З, вып.4. - С.627 - 631.

155. Получение сферических и тонкодисперсных порошков в низкотемпературной плазме / Н.Н. Рыкалин, В.А. Петруничев, И.Д. Кулагин и др. // Плазменные процессы в металлургии и технологии неорганических материалов. М., 1973. - С.73 - 78.

156. Лакомский В.И. Сфероидизация в высокочастотном плазменном разряде порошка окиси алюминия // Порошк. металлургия. 1966. - № 2. -С.6-9.

157. Получение покрытий высокотемпературным распылением: Сб. статей / Под ред. JI.K. Дружинина и В.В. Кудинова. М.: Атомиздат, 1973. -312 с.

158. Получение пленок двуокиси кремния плазменным методом / В.Ф. Сыноров, Э.В.Гончаров, В.М. Гольдфарб и др. // Электрон, техн. Сер. Материалы. 1967. - Вып.З. - С.41-47.

159. Неса М., Cakenberghe J. Van. Source a plasma pour la preparation de cocnes minces de silice // Thin Solid Films. 1972. - V,11, N 2. - P. 283-288.

160. Электродуговые и высокочастотные плазмотроны химико-металлургических процессах / B.JI. Дзюба, Г.Ю. Даутов, И.Ш. Абдуллин. -Киев, Вища школа. 1991. 170 с.

161. Ecker B.J., Riemann K.U. Zum Technologiepotential der Plasmaphysik. Experimentelle Technik der Physik. V.35. - N 2. - 1987. - S.119-133.

162. Использование высокочастотной плазмы для нанесения тонких пленок / Ф.А. Азовский, И.С. Гайнутдинов, Г.Ю. Даутов и др. //Тр. Казан, авиац. ин-та: Физ. науки. 1975. - вып. 193. - С.7-13.

163. Беркин А.Б., Гулько Б.Н., Зайцев В.И. ВЧИ разряд пониженного давления в технологии тонких пленок // Тез. докл. III Всесоюз. симп. по плазмохимии. М., 1970. - Т.1. - С.39-43

164. Галимов Д.Г., Тарзиманов К.Д., Шарифуллин С.Н. Исследование продуктов осаждения на подложку при распылении ВЧ плазмой // Физ. и хим. обраб. матер. 1979. - № 5. - С.128-131.

165. Schiller S., Heisung U., Goediche К. Electron Beam Evaporation and high-rate sputtering with plasmatron magnetron systems a comparison. / J.Vac.Techn. - 1978. - V.27, N 2. - P.51-55.

166. Kapicha V. Corona and high-frequency discharges / Acta. Phys. Slov. -1979.-V.29,N 2.-P.l 19-122

167. Теоретическая и прикладная плазмохимия / JI.C. Полак, А.А. Овсянников, Д.И. Соловецкий и др. М.: Наука. 1975. - 304 с.

168. Применение высокочастотного безэлектродного плазмотрона для получения чистого кремния и его окислов // Ф.Б.Вурзель, Н.Н.Долгополов, А.И. Максимов и др. // Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. М., 1965. - С.223-232.

169. И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов. Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления. -Казань: Изд-во Казан, технол. ун-та, 2007. — 356 с.

170. И.Ш. Абдуллин, В.С.Желтухин, В.В.Кудинов, И.Р.Сагбиев. Влияние обрабатываемого материала на свойства высокочастотного емкостного разряда пониженного давления // Материаловедение.- 2007.-№11- с.51-55.

171. И.Ш.Абдуллин, B.C. Желтухин, В.В. Кудинов, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов. Измерение характеристик ионного потока на поверхность образца в ВЧ разряде пониженного давления // Физ. и хим. обработки материалов. -2008, № 6.- С.37-40.

172. И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов. Влияние материала образца на характеристики ионного потока, поступающего на его поверхность в ВЧ индукционном разряде пониженного давления // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева.- 2009,№1 С. 70-72.

173. И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов. Характеристики ионного потока на поверхности образца в высокочастотной плазме // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева.-2008, №3 С.73-74.

174. Желтухин B.C., С.В.Морозов, Сагбиев И.Р. Исследование взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью материалов в процессах модификации нанослоев // Сб. тр. V Междунар.

175. Симп. По теорет. И прикл. Плазмохим. 3-8 сент. 2008 г. Иваново, Россия.-Т.2. С. 434-437.

176. Абдуллин И.Ш., Сагбиев И.Р., Нанотехнологии в промышленность. // Матер. Докл. Междунар. Науч.-техн. И метод, конф. «Соврем, проблемы спец. техн. хим.» 21-22.12.2007 г.Казань. С.3-7.

177. Сагбиев И.Р. Исследование характеристик ВЧ плазмы пониженного давления в процессах обработки конструкционных материалов / Препринт.- Казань: КГТУ, 2007. 44 с.

178. Лебедев Ю.А. Введение в зондовую диагностику плазмы пониженного давления: Учебное пособие. М.: МИФИ, 2003. 56 с.

179. Смирнов В.М. Атомные и молекулярные столкновения в плазме. — М.: Атомиздат, 1968. 364 с.

180. ГолантВ.Е. Сверхвысокочастотные методы исследования плазмы-М.: Наука, 1968 -327 с.

181. Васильев А.С., Гуревич С.Г., Иоффе Ю.С. Источники питания электротермических установок. М. : Энергоиздат, 1985. —234 с.

182. Сорокин Л.М., Шевченко В.В. Расчет электромагнитных полей в индукционном разряде. Физ. и хим. обр. матер, 1975, № 6, с. 145-147.

183. Гуляев М.А. Измерение вакуума (измерение малых абсолютных давлений)./ М.А. Гуляев, А.В. Ерюхин М.: Издательство стандартов, 1967148 с.

184. Абианц В.Х. Теория авиационных газовых турбин. М.: Машиностроение, 1978. 246 с.

185. Диагностика плазмы. Вып.5 / Под ред. М.И. Пергамента- М.: Энергоиздат, 1986 — 303 с.

186. Заварин Ф.Г. СВЧ-интерферометр с пространственным разрешением ОДА, // Диагностика низкотемпературной плазмы. / Ф.Г. Заварин, В.В. Рождественский, Г.К. Тумакаев. Под ред. Е.М. Шелкова — М.: Наука, 1979,-С. 154- 158.

187. А.с. 1149122 (СССР) Голограммный анализатор / JT.T. Мустафина, А.А. Белобородов, А.Ф. Белозеров-Заявл. 26.10.81, опубл. 8.12.84.

188. Лафрамбауз Дж. Теория цилиндрического и сферического зонда в бесстолкновительной и неподвижной плазме / БНТИ ЦАГИ. Рефераты— №268. 1968.

189. Райзер Ю.П. Физика газового разряда: учеб. руководство. -М.:Наука, 1987. 592 с.

190. Boeny H.V. Effect of low-temperature Plasma on the Adhesion of Materials. JST Annual International conference Plasma Chem. and Technology. -SanDiego, Calif., 1982. -H. 109-118.

191. Абдуллин И.Ш. Исследование высокочастотного диффузного разряда в процессах обработки поверхностей / НПО «Мединструмент» . -Казань, 1988. 75 с. (УК.деп. в ВИНИТИ 9.03.88, № 1571-В89).

192. Установки индукционного нагрева: Учебное пособие для вузов / А.Е. Слухоцкий, B.C. Немков, Н.А.Павлов, А.В.Башунэр; под ред. А.Е. Слухоцкого. Л.: Энергоиздат, Лениград. отд-ние, 1981. - 328 с.

193. Смирнов Б.М. Возбужденные атомы. М.:Энергоиздат, 1982. —232 с.

194. Краснов А.Н., Зильберберг В.И., Шарифкер С.Ю. Низкотемпературная плазма в металлургии. М.: Металлургия, 1970. - 216 с.

195. Вурзель Ф.Б. Полак JI.C. Химические процессы в плазме и плазменной струе // Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. М., 1965. - С.100-117.

196. Хвесюк В.И. Взаимодействие низкотемпературной плазмы с твердым телом. Изв. СО АН СССР. Сер. Технические науки, 1984, вып.2, № 10, с.20-26.

197. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Кудинов В.В., Сагбиев И.Р. Формирование нанофазных систем на поверхности металлов в высокочастотной плазме пониженного давления // Материаловедение. -2007, № 9.- С. 52-56.

198. Сагбиев И.Р., Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Шарафеев Р.Ф. Регенерация активного нанослоя отработанного алюмохромового катализатора в ВЧ плазме пониженного давления // Перспективные материалы.- 2007, №5.- С.93-96.

199. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Кудинов В.В., Сагбиев И.Р., Шарафеев Р.Ф. Формирование нанослоев на поверхности вольфрамо-кобальтового сплава низкоэнергетичной ионной бомбардировкой // Перспективные материалы.- 2008, №6.- С.88-91.

200. И.Ш.Абдуллин, B.C. Желтухин, В.В. Кудинов, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов. Измерение характеристик ионного потока на поверхность образца в ВЧ разряде пониженного давления // Физ. и хим. обработки материалов. -2008, № 6.- С.37-40.

201. Абдуллин И.Ш, Желтухин B.C., Сагбиев И.Р., Шарафеев Р.Ф. Модификация поверхности металлокорда в высокочастотной плазме //Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева.-2008,№3 -С.70-72.

202. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Сагбиев И.Р., Шарафеев Р.Ф. Модифицикация поверхностного слоя вольфрамо-кобальтового сплава в высокочастотной плазме пониженного давления // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева.- 2009, №1 С. 72-74.

203. Желтухин B.C., С.В.Морозов, Сагбиев И.Р. Теоретические исследования взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью материалов в процессах модификации нанослоев. Казань,2007. 24 с. (Препринт / Казан, гос. технол. ун-т; ПТ-6.07)

204. Сагбиев И.Р. Исследование распределения концентрации электронов в плазме высокочастотного индукционного разряда пониженного давления при обработке материалов в смеси газов // Вестник Казан. Гос. Технол. Ун-та.- 2007, № 3-4. С. 293-298.

205. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Сагбиев И.Р., Юсупов О.Д. Взаимодействие высокочастотной плазмы пониженного давления с твердыми телами//. Тезисы XXI международной конференции «Уравнения состояния вещества».- Эльбрус: 2006. С. 159.

206. Желтухин B.C., Ольков Е.В., Сагбиев И.Р. Математическая модель высокочастотных плазмотронов пониженного давления // Тез. докл. XXXV Международной (Звенигородской) конференции по физике плазмы и УТС. -Звенигород, 2008. С.302.

207. Simulation of Interaction Between RF Plasmas and Roughly Surface // Proc. of 61st Annual Gaseous Electronics Conference. Oct. 13 17, 2008., Dallas, Texas, USA. / I.R.Sagbiev, O.V.Pankratova, V.S.Zheltukhin.- Abstract: MWP 1.00032.

208. Самарский А.А., Михайлов А.П. Математическое моделирование. М.: Физматлит, 2003. - 320 с.

209. Самарский А.А. Математическое моделирование и вычислительный эксперимент // Вестн. АН СССР. 1979. - № 5. - С. 38-49

210. Samarskii А.А. Numerical methods in plasma physics // Lect. Not. Phys. 1979. - Vol. 91. - P. 235-347

211. Современные проблемы математической физики и вычислительной математики: Сб. статей / Отв. ред. ак. А.Н.Тихонов М.: Наука, 1982. - 534 с.

212. Попов Ю.П., Самарский А.А. Вычислительный эксперимент. М.: Знание, 1983. - 64 с.

213. Вабищевич П.Н. Численное моделирование. М.: Изд-во МГУ, 1993.- 152 с.

214. Днестровский Ю.Н., Костомаров Д.П. Математическое моделирование плазмы. М.: Наука, 1982. - 320 с.

215. Д.В.Сивухин. Общий курс физики: Термодинамика и молекулярная физика. — М.: Наука, 1979. 565 с.

216. Митчнер М., Кругер Ч. Частично-ионизованные газы.- М.: Мир, 1976.-496 с.

217. Schottky W. Diffusion Theorie der Positiven Saule. Phys. Zheitschr — 1924. Bd. XXV. - S. 635 - 640.

218. Лупан Ю.А. Об одной возможности уточнения элементарной теории ВЧ разряда в воздухе // Журн. техн. физики. — 1976. Т.46, вып. III. -С. 2321-2326

219. Биберман Л.Я., Воробьев B.C., Якупов И.Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука, 1983. - 376 с.

220. Энгель А. Ионизованные газы. -М.: Физматгиз, 1959. 120 с.

221. Морозов А.И. Введение в плазмодинамику. М.: ФИЗМАТ ЛИТ, 2006. - 576 с.

222. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н., Яценко Н.А. Высокочастотный емкостный разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения: Учеб.пособие: Для вузов.- М.: Изд-во Моск. физ.-техн. ин-та.; Наука. Физматлит. 1995.- 320 с.

223. Левитский С.М. Потенциал пространства и распыление электродов в высокочастотном разряде // Журн. техн. физ. — 1957. — Т.27, вып. 5. С. 970 -977.

224. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. I. Физическое распыление одноэлементных твердых тел.: Пер. с англ./ Под ред. Р. Бериша. М.: Мир, 1984. - 336 с.

225. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. II. Распыление сплавов и соединений, распыление под действием электронов и нейтронов, рельеф поверхности.: Пер. с англ./ Под ред. Р. Бериша. М.: Мир, 1986.- 488 с.

226. Фундаментальные и прикладные аспекты распыления твердых тел. М.: Мир. - 1989. - 256 с.

227. Гейнце В. Физические основы вакуумной техники. М.-Л.: Государственное энергетическое издательство. -I960.- 511 с.

228. Дэшман С. Научные основы вакуумной техники.-М.: Мир, 1964.873 с.

229. Livesey R.G. Foundations of Vacuum Science and Technology.- New York: Wiley (ed. by J.M.Lafferty), 1998,- P. 213.

230. Кузьмин B.B. Физика вакуума. СПб.: Изд-во СПбГТУ, 2000. 36 с.

231. Печатников Ю.М. Инженерно-физическая модель газовых потоков при среднем вакууме // Ж. техн. физ.- 2003, № 8.- С. 40-45.

232. Pollard W.G., Present R.D. On Gaseous Self-Diffusion in Long Capillary Tubes //Physical Review. -1948. -V.73, No.7.- P.762-774.

233. Печатников Ю.М. Вероятностная модель и метод моделирования газовых потоков через вакуумные элементы при молекулярно-вязкостном режиме // Инж. физ.журнал 2003, № 2.- С.32-36.

234. Гусев В.Н., Егоров И.В., Ерофеев А.И., Провоторов В.П. Верифинация моделей и методов в динамике разреженных газов. // Мех. жидкости и газа.- 1999, № 2. С.128-137.

235. Черчиньяни К. Теория и приложения уравнения Больцмана. М.: Мир, 1976.- 496 с.

236. Кошмаров Ю.А., Рыжов Ю.А. Прикладная динамика разреженного газа. М. Машиностроение, 1977.- 184 с.

237. Kennard Е.Н., Kinetic Theory of Gases with an Introduction to Statistical Mechanics, New York, 1938. P. 245.

238. Porodnov B.T., Suetin P.E., Borisov S.F., Akinshin N.D Experimental investigation of rarefied gas in different channels // J. Fluid Mech.-1974.-V. 64, part 3.-P. 417-437.

239. Santeler D.J. Gas-flow experiments in the transition region // J. Vac. Sci. Technol.- A 12(4).- 1994.- p.1744-1749

240. Livesey R.G. Method for calculation of gas flow in the whole pressure regime through ducts of any length. // J.Vac.Sci.Technol. 2001. A 19, (4), Jul/Aug, P. 1674-1678

241. Печатников Ю.М. Современные методы расчета характеристик вакуумных агрегатов для среднего вакуума (Обзор) // Вак. техн. и технол.-2002.- Т. 12, №4. С. 227-234.

242. Дулов В.Г., Лукьянов Г.А. Газодинамика процессов истечения. -Новосибирск: Наука, 1984. — 232 с.

243. Белоцерковский О.М. Численное моделирование в механике сплошных сред. — М.: Наука. Главная редакция физико-математической литературы, 1984. 520 с.

244. Мосс Дж.Н., Берд Г.А. Расчет методом Монте-Карло течения во входном канале масс-спектрометра, установленного на КЛАМИ «СПЕИС-ШАТТЛ» // Аэрокосм. техн. 1989, №3. - С.11-19.

245. Захаров В.В., Лукьянов Г.А., Ханларов Г.О. Параллельные алгоритмы прямого моделирования Монте-Карло в молекулярной газовой динамике.- СПб.: Изд-во Ин-та высокопроизводит, вычислений и баз данных.- 1999.- 21 с.

246. Godela Scherer-Abreu, Raul A. Abreu. Numerical modelling of the molecular and transitional flow regimes in vacuum components // Vacuum. -1995.-№.8-10. -P.863-866.

247. Ерофеев А.И., Коган M.H., Фридлендер О.Г. Течение разреженного газа сквозь пористый слой // Мех. жидкости и газа.- 1999.- № 5.- С. 193-204.

248. Thomson J .J. The electrodeless discharge through gases // Phyl. mag. — 1927.-V. 4.-№25.-P. 1128- 1160.

249. Herlin M., Brown S. Electrical breakdown of a gas between coaxial cylinders at microwave frequence// Phys. Rev. 1948 V. 74 - № 8. - P. 910 - 913.

250. Brown S.C., Donald A.D. Limits for the diffusion theorie of a high frequency gas discharge breakdown // Phys. Rev. 1949- V.76- №11.-P. 1629 — 1633.

251. Абдуллин И.Ш., Сальянов Ф.А. Расчет характеристик индукционного диффузионного разряда // Изв. Сиб. отд-ния АН СССР. Сер.техн.наук. 1981-Вып. 3, № 13. — С. 100-103.

252. Henriksen В.В., Keefer D.R., Clarson М.А. Electromagnetic field in electrodeless discharge // J. Appl. Phys. 1971. - V. 43. - №13. - P. 6460 - 5464.

253. Сорокин Л.М., Шевченко В.З. Расчет электромагнитных полей в индукционном разряде // Физ. и хим. обработки материалов.-1975.- № 6.-С.145-147.

254. Eckert H.U. Equation of the electrodeless ring discharge and their solution for the breakdown criterion // 4-th Intern. Conf. Ionization Phenomena in

255. Gases. Amsterdam e.a. 1960. - V. 1. - P. 320 - 324.

256. Eckert H.U. Equation of the electrodeless ring discharge // J. Appl. Phys. 1963. - V. 33. - № 9. - P. 2780 - 2788.

257. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C. Математическое моделирование плазмы индукционного диффузного разряда // Изв. Сиб. отд-ния АН СССР. Сер. техн. наук. 1985. - Вып. 3, № 16. - С. 106 - 109.

258. Romig M.F. Steady state solution of the radiofrequency discharge with flow//Phys. Fluids. 1960. V. 3.-№ 3.-P. 129- 133.

259. И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, В.М.Матухнов. Исследование распределения концентрации электронов в безэлектродном газовом разряде с продувом газа. // Электронная обработка материалов, 1985.- № 5.- С. 24-27.

260. Сошников В.Н., Трехов Е.С., Хошев И.М. Вихревой разряд при атмосферном давлении с продувом //Физика газоразрядной плазмы. Вып. 1. — М.: Атомиздат, 1968. С. 83 - 98.

261. Boulos M.I. Flow and temperature tied in the fire-ball of an inductively coupled plasma // IEEE Transactions of Plasma Science. V.PS-4. № 1. - P. 28. — C. 39.

262. Рыкалин H.H., Сорокин JI.M. Металлургические ВЧ плазмотроны: Электро- и газодинамика. М.: Наука, 1987. - 162 с.

263. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Матухнов В.И. Теоретические исследования и особенности применения высокочастотного индукционного неравновесного разряда для процессов модификации поверхности // Физ. и хим. обработки материалов. 1986. - №6. — С. 72 - 79.

264. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Кашапов Н.Ф. Высокочастоная плазменно-струйная обработка материалов при пониженных давлениях. Теория и практика применения — Казань. Изд-во Казанского ун-та. 2000. — 348 с.

265. Абдуллин И.Ш., Желтухин B.C., Гафаров И.Г. Теоретическое исследование ВЧ емкостного разряда низкого давления // Физ. газов, разряда: Межвуз. сб., Изд-во Казан, авиац. ин-та;1988.- С. 4-7.

266. Годяк В.А., Ганна А.Х. О влиянии взаимовоздействия поля на пространственное распределение плазмы ВЧ разряда // Физика плазмы. — 1979. Т.5, вып.З. - С.670 - 677.

267. Смирнов А.С. Приэлектродные слои в емкостном ВЧ разряде // Журн. техн. физ. 1984. - Т. 54, вып. 1. - С. 61 - 65.

268. Ковалев А.С., Рахимов А.Т., Феоктистов В.А. Высокочастотный несамостоятельный разряд в газах // Физика плазмы. 1981. - Т. 7. вып. 6. — С.1411 - 1418.

269. Велихов Е.Л., Ковалев А.С., Рахимов А.Т. Физические явления в газоразрядной плазме: Учеб. руководство. -М.: Наука, 1987. 160 е., ил.

270. Яценко Н.А. Связь постоянного потенциала плазмы с режимом горения высокочастотного емкостного разряда среднего давления // Журн. техн. физ. 1981.-Т. 51, вып. 6.-С. 1195—1204.

271. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н. Структура приэлектродных слоев высокочастотного разряда и переход между двумя его формами // Физика плазмы. 1987. - Т. 13, вып. 4. - С. 471 - 479.

272. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н. Высокочастотный разряд среднего давления между изолированными и оголенными электродами // Физика плазмы,- 1988-Т.14, вып. 3.-С.226-233.

273. Турин А.А. Ускорение ионов в приэлектродном слое и энергобаланс ВЧ разряда в магнитном поле // Тез. докл. Ill Всесоюз. конф. по физике газового разряда. Киев, 1986. - С. 92 - 94.

274. Graves D.B. Fluid models simulations of a 13.56 MHz RF-discharge: Time and space dependence of rate of electron excitation // J. Appl. Phys. 1987. -V. 62, №1. P. 88-94.

275. Брагинский С.И. Явления переноса в плазме // Вопросы теории плазмы. Вып.1 / Под ред. М.А.Леонтовича- М.: Госатомиздат,1963. С. 183 -273.

276. Саттон Дж., Шерман А. Основы технической магнитной газодинамики. М.: Мир, 1968. - 492 с.

277. Грановский В.JI. Электрический ток в газе. Установившийся ток / Под ред. Л.А.Сена и В.Е.Голанта. М.: Наука, 1971. - 544 с.

278. Райзер Ю.П. Основы современной физики газоразрядных процессов. М.: Наука, 1980. - 416 с.

279. Александров А.Ф., Богданкевич Л.С., Рухадзе А.А. Основы электродинамики плазмы / Под ред. А.А.Рухадзе. — М.: Высш. шк., 1988. — 424 с.

280. Туров Е.А. Материальные уравнения электродинамики. М.: Наука, 1983.- 130 с.

281. Саттон Дж., Шерман А. Основы технической магнитной газодинамики. М.: Мир, 1968. - 492 с.

282. Лупан Ю.А. Об одной возможности уточнения элементарной теории ВЧ разряда в воздухе // Журн. техн. физики. — 1976. — Т.46, вып. Ш. -С. 2321 -2326.

283. Марочник сталей и сплавов. 2-е изд., перераб. и доп. / Зубченко А.С. , Колосков М.М., Каширский Ю.В.; Под общ. ред. А.С. Зубченко.- М: Машиностроение, 2003. 784 с

284. Технология тонких пленок: Справочник / Под ред. Л.Майссела, Р.Глэнга: Пер. с англ. М.: Сов. радио. - Т. 1. — 1977. 664 с.

285. Королев Ю.Д., Месяц Г.А. Автоэмиссионные и взрывные процессы в газовом разряде. — Новосибирск: Наука, 1982. 392 с.

286. Пипко А. И. Основы вакуумной техники. — М.: Энергоатомиздат, 1992. —334 с.

287. Распыление под действием бомбардировки частицами. Вып. III. Характеристики распыленных частиц, применения в технике: Пер. с англ./ Под ред. Р. Бериша и К. Виттмака. М.: Мир, 1998. — 551 с.

288. Аюпов М.И., Вольфсон С.И., МираковаТ.Ю. и др. Некоторые аспекты влияния рецептурных факторов на прочностные свойства шин. Казань: Казан, гос. технол. ун-т, 2001. 80 с.

289. Власов Г.Я., ЗеленовН.А., Ключников Н.В. и др. Некоторые вопросы совершенствования технологии шинного производства АО «Нижнекамскшина» // МЦНТИ. Москва. 1991. 60 с.

290. Сагбиев И.Р. ВЧ-плазменная модификация поверхностных нанослоев металлов. Казань, 2007. — 64 с. (Препринт / Казан.гос.технол.ун-т; ПТ 3-07).

291. Сагбиев И.Р. ВЧ-плазменная модификация поверхности диэлектрических материалов и тонкопленочных покрытий. — Казань, 2007. — 28 с. (Препринт / Казан.гос.технол.ун-т; ПТ 4-07).

292. Ван Ой В.Дж., ВинингВ.Е. Адгезия к металлическим и органическим волокнам // ВХО им. Д.И. Менделеева 1986. Т1. №1. С.67-72.

293. ЗП.Охотина Н.А., Хусаинов А.Д., Закирова Л.Ю. Основные методы физико-механических испытаний эластомеров: Учебное пособие. Казан.гос.технол.ун-т. — Казань. 2006. 156 с.

294. Промышленный катализ в лекциях №6 / 2006 / Под ред. А.С. Носкова. -М.: Калвис, 2006. 128 с.

295. Пахомов Н.А., Тихов С.Ф., Беспалко Ю.Н. и др. Катализатор дегидрирования низших СЗ С4 парафинов в стационарном слое на новом алюмооксидном керамометаллическом носителе. // Серия. Критические технологии. Мембраны. - 2006, №1(29) - С.38-41.

296. Ильин В.М., Веклов В.А., Павлова И.Н. и др. Изменение свойств алюмохромового катализатора ИМ-2201 при эксплуатации в промышленных блоках дегидрирования изопентана // Катализ в промышленности. — 2005, №4.-С .47-51.

297. Комаров С.М., Котельников Г.Р., Рогозина Н.П. Перемешивание катализатора на секционирующих решетках в реакторе с кипящим слоемдегидрирования парафиновых углеводородов // Катализ в промышленности. -2005, №5.-С .42-47.

298. ДаминевР.Р., Бикбулатов И.Х., ШулаевН.С. и др. Влияние СВЧ-поля на фазовый состав алюмохромового катализатора дегидрирования углеводородов//Катализ в промышленности. — 2003, №4. — С .49-52.

299. Жоров Ю.М. Термодинамика химических процессов. Нефтехимический синтез, переработка нефти, угля и природного газа. М.: Химия, 1985.-464 с.

300. Потанкин Б.В., Русанов В.Д., Фридман А.А. Сверхидеальная закалка продуктов эндоэргических плазмохимических реакций // Тез. докл. IY Всес. симпозиума по плазмохимии. — Днепропетровск, 1984. 214 с.

301. Кружилин Г.Н., Худяков Г.Н. Плазменная газификация углей // Тез. докл. II Всес. совещ. по плазмохимической технологии и аппарато-строению. М., 1977. - Т. 1., С.234-236.

302. Худяков Г.Н. К вопросу о газификации сернистых многозольных топлив // Тез. докл. III Всес. симпозиума по плазмохимии. 24-27 ноября 1979. -М., 1979. С.231-234.

303. Pachkrowski М.М., Ross H.V. Process for separating oil from a naturally occurring mixture./ Pat. 4344839 (US), 1982, Int. CI. C10 Jl/00, H05 HI/42, US CI. 208/11R, 196/121.

304. Рыкалин H.H., Кулагин И.Д., Сорокин Л.М., Гугняк А.Б. Высокочастотный плазмотрон с внешними электродами и продольным продувом газа. //ЖТФ, 1976, т.46, №4, с.730-736.

305. Надиров Н.К., Котов А.В., Федорова Н.В., Ергалиева А.К., Горелкинская С.Н. Методы анализа ванадия и его выделения из нефтей и нефтепродуктов. -М.: ЦНИИТЭнефтехима, 1983. 84 с.

306. Туманов Ю.Н. Современное состояние развития плазменных процессов в технике, технологии и металлургии // Химия плазмы. Вып. 13 / Под ред. Б.М. Смирнова. -М.: Энергоатомиздат, 1986. С.163-206.

307. Мягков В.Д. Краткий справочник конструктора. — Л.: Машиностроение, 1975. — 816 с.

308. Тюряев Н.Я. Теоретические основы получения бутадиена и изопрена методами дегидрирования. — Киев.: Наук. Думка, 1973

309. А.с. № 1521978 (СССР). Герметизированная система трубопроводного транспорта/ Сагбиев И.Р. и др. — Опубл. в Б.И., 1989, № 42.

310. Патент № 1669485 (РФ). Устройство для разделения газонефтяной смеси/ Сагбиев И.Р. и др. Опубл. в Б.И., 1991, № 30.

311. Патент № 1761193 (РФ). Вертикальный газоотделитель/ Сагбиев И.Р. и др. Опубл. в Б.И., 1992, № 34.

312. Патент № 2003921 (РФ). Устройство для транспортирования и разделения продукции скважин/ Сагбиев И.Р., Махмудов Р.Х., Хамидуллин Ф.Ф., Ахсанов P.P. . Опубл. в Б.И., 1993, № 43-44.

313. Патент № 2004864 (РФ). Устройство для дегазации жидкости/ Ахсанов P.P., Сагбиев И.Р., Тухбатуллин Р.Г., Корчагин П.И.,. Опубл. в Б.И, 1994, № 11.

314. Жданов В.М. Явления переноса в многокомпонентной плазме. -М.:Энергоатомиздат, 1982. 176 с.

315. Основы физики плазмы: В 2-х т. Т.1 / А.Бернштейн, Р.Вайт, Г.Вейтцнер и др.; Под ред. А.А.Галеева и Р.Судана. — М.: Энергоатомиздат,1983.-640 с.

316. Основы физики плазмы: В 2-х т. Т.2 / А.Берс, А.А.Галеев, В.Е.Голан и др.; Под ред. А.А.Галеева и Р.Судана. М.: Энергоатомиздат,1984.-632 с.