Синтез нанослоев неорганических соединений по схеме "слой-за-слоем" на границе раздела твердое тело-раствор тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.21, доктор химических наук Толстой, Валерий Павлович

• Толстой, Валерий Павлович
• доктор химических наук
• 2009

Оглавление диссертации доктор химических наук Толстой, Валерий Павлович

Введение.

1. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ

1.1. Адсорбция и комплексообразование на границе раздела оксид (гидроксид) металла - раствор.

1.2. Методы "послойного" синтеза тонкослойных структур на поверхности твердых тел.

1.3. Уравнения Френеля, описывающие эффекты отражения, преломления и поглощения света на границе раздела двух сред с промежуточным переходным слоем.

II. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ

2. Методическая часть.

2.1. Разработка методик синтеза нанослоев.

2.2. Разработка алгоритма поиска оптимальных условий "послойного" синтеза с использованием программ расчета равновесий в растворах комплексных соединений.

2.3. Методы анализа состава, структуры и морфологии синтезированных слоев.

2.4. Методы исследования свойств синтезированных слоев.

3. Разработка методических основ оптической спектроскопии нанослоев.

3.1. Спектроскопия пропускания в поляризованном излучении нанослоев на поверхности полупроводников и диэлектриков.

3.2. Спектроскопия отражения-поглощения нанослоев на поверхности полупроводников и диэлектриков.

3.3. Спектроскопия отражения-поглощения нанослоев на границе раздела двух сред.

3.4. Спектроскопия пропускания и диффузного пропускания нанослоев на поверхности дисперсных веществ.

3.5. Изучение проблем интерпретации спектров нанослоев.

3.6. Анализ погрешностей вычисления экспериментальных значений факторов поглощения

3.7. Сравнение интенсивностей полос в спектрах, полученных с использованием различных методов, выбор среди них наиболее чувствительных.

4. Синтез нанослоев методом ионного наслаивания с использованием растворов солей металлов.

4.1. Синтез с использованием реакций образования на поверхности труднорастворимых соединений без изменения степени окисления реагирующих ионов.

4.1.1. Синтез нанослоев сульфидов и фторидов металлов.

4.1.1.1. Синтез In2S3.

4.1.1.2. Синтез Sb2S3.

4.1.1.3. Синтез Ag7SbS6.,.

4.1.1.4. Синтез LaF3.

4.1.2. Синтез нанослоев гидроксо-фторидов и гидроксо-оксалатов металлов.

4.1.2.1. Синтез Cu0(04Zr(OH)xF0,63.

4.1.2.2. Синтез Zn0,08Zr(OH)xF0,32.

4.1.2.3. Синтез ZrFx(OH)4-x.

4.1.2.4. Синтез Cu0>78Hf(OH)xF0,35.

4.1.2.5. Синтез Mgi!6Al(0H^(C03)y.

4.1.2.6. Синтез Zn0j2Fe(OH)x(C2O4)y.

4.1.3. Синтез нанослоев гидроксо-пероксидов Cu(II), Zn, La, Ni(II) и La.

4.1.4. Синтез BiV04.

4.1.5. Синтез Zr2.6(OH)xPMo8.0Sni.9Oy-nH2O.

4.2. Синтез нанослоев методом ионного наслаивания с использованием окислительно-восстановительных реакций в слое адсорбированных ионов.

4.2.1. Реакции окисления или (и) восстановления катионов.

4.2.1.1. Синтез Се02+х-пН20.

4.2.1.2. Синтез Т1203-пН20.

4.2.1.3. Синтез NiOOH.

4.2.1.4. Синтез FeOOH.

4.2.1.5. Синтез РЬ02-пН20.

4.2.1.6. Синтез Ag°.

4.2.1.7. Синтез Ag0x-MnO2 nH

4.2.2. Реакции окисления катионов и восстановления анионов.

4.2.2.1. Синтез Ce0(74NbOx-nH2O.

4.2.2.2. Синтез Со3МпОх-пН2С>.

4.2.2.3. Синтез Мп02-пН20.

4.2.2.4. Синтез FeCr0,7(OH)x-.

4.2.2.5. Синтез Sn16(0H)xPWi90y-nH20.

4.2.2.6. Синтез SnMo0.6OxnH2O.

4.2.3. "Сопряженные" реакции, включающие окисление и адсорбцию ионов.

4.2.3.1. Синтез LaCex(OH)y.

4.2.3.2. Синтез FeNi0,4(OH)4.

4.3. Синтез нанослоев с использованием в качестве реагентов растворов солей и молекул в газовой фазе.

4.3.1. Синтез Ag2S.

4.3.2. Синтез ScF3 и LaF3.

4.4. Синтез нанослоев с использованием в качестве реагентов коллоидных растворов.

4.4.1. Синтез Sn02-nH20.

4.4.2. Синтез Au0x-SnO2-nH2O.

4.4.3. Синтез CuxSi02+x-nH20и Si02-nH20.

5. Примеры применения изученных реакций синтеза нанослоев для решения практически важных задач.

6. Основные результаты работы и выводы.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Синтез нанослоев неорганических соединений по схеме "слой-за-слоем" на границе раздела твердое тело-раствор»

В настоящее время синтез нанослоев, т.е. слоев с толщиной на уровне долей или единиц нанометра, и наноструктур, состоящих из наночастиц и нанослоев неорганических твердых веществ, представляет собой одну из наиболее актуальных задач препаративной химии твердого тела. Связано это прежде всего с тем, что данные слои существенно изменяют ряд важнейших свойств твердых тел и поэтому находят широкое применение при создании электрохимических и оптических сенсоров, катализаторов, сорбентов, пигментов, мембран, фотохромных и защитных пассивирующих покрытий, изделий опто-, микро- и наноэлектроники и т.д. Особое внимание при этом уделяется методическим приемам, которые позволяют синтезировать нанослои по схеме "слой-за-слоем", благодаря чему достигается максимальная, на уровне долей нанометра, точность задания толщины слоя и, как следствие, в принципе, появляется возможность синтеза мультинанослоев (типа "сверхрешеток"), состоящих из нанослоев различного состава. Важной задачей такого синтеза является его проведение на поверхности не только блочных твердых тел, в том числе сколь угодно сложной формы, но и дисперсных веществ и волокон.

Среди возможных методов синтеза таких слоев и структур особое место занимают методы, основанные на использовании при синтезе растворов реагентов. Именно в растворах достигаются так называемые условия "мягкой" химии, и существует возможность выполнить синтез слоя при комнатной температуре. Вследствие этого, упрощается аппаратура и сам технологический процесс синтеза, расширяется круг синтезируемых объектов, появляется возможность получать новые ряды мультислоев неорганических веществ и т.д.

Одной из основных проблем при синтезе нанослоев из-за малой толщины является проблема контроля в процессе синтеза их состава. К началу выполнения данной работы среди физико-химических методов наиболее доступными являлись методы оптической спектроскопии в УФ, видимой и ИК области спектра. В этой связи, актуальным представлялось адаптировать классические" методы оптической спектроскопии для изучения нанослоев на поверхности широкого круга подложек, включая металлы, полупроводники и диэлектрики и далее применять данные методы на практике для характеризации синтезированных нанослоев.

Цель работы заключалась в создании новых маршрутов "послойного" синтеза нанослоев неорганических веществ и материалов различного функционального назначения с использованием водных растворов реагентов, катионы и (или) анионы которых входили бы в состав синтезируемого слоя. Важной частью работы являлась также разработка методов синтеза, при которых в состав слоев включались бы и молекулы из газовой фазы или наночастицы из коллоидных растворов.

Работа выполнена в соответствии с планом госбюджетной темы № 0120.0503097, проектов РФФИ (№ 98-03-32583, № 01-03-32427 и № 05-0333207), программ "Университеты России" (№ УР 06. 01. 035 и № УР 06. 01. 320), "Наукоемкие химические технологии", грантов ISF и CRDF (США), NWO (Голландия), DFG (ФРГ), "Haldor Topsoe" A/G (Дания), INTAS (ЕС).

1.1. Адсорбция и комилексообразование на границе раздела оксид (гидроксид) металла — раствор

Процессы адсорбции ионов поверхностью твердых тел играют, как известно, большую роль в геохимии, химии почв, в технологии очистки сточных вод, во многих индустриальных и аналитических методиках и т.д. и являются в течение последних десятилетий предметом многочисленных научных работ [1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12].

Среди соединений, возникающих на границе раздела твердое тело-раствор соли металла, выделяют продукты адсорбции на поверхности катионов и анионов раствора, такие как S-O-M, S-Lig, S-Lig-M, S-O-M-Lig (где М- катионы металла соли, Lig — анионы соли, S — атомы на поверхности твердого тела).

Для каждой из подложек взаимная концентрация данных и других возможных соединений будет, очевидно, определяться широким кругом условий, в том числе природой и концентрацией каждого из реагентов, рН и температурой растворов и т.д.

Среди возможных соединений на поверхности различают соединения, которые возникают в результате взаимодействия электрон-донорных поверхностных групп (-ОН, -SH, -СООН и др.) с электрон-акцепторными катионами, например Си2+:

S-OH + Cu2+ ^S-OCu' + H^ (1.1.1)

С другой стороны, -ОН группы могут вступать и в реакцию с рядом оксо-анионов:

S-OH + HAs042" =S-0HAs03" + ОН". (1.1.2)

В первом приближении выделяют несколько типов соединений, образующихся на поверхности подложки (рис. 1). Прежде всего, это соединения, которые можно отнести к внешне-сферным поверхностным л . комплексам, например адсорбированным катионам В а или анионам СГ, CrO-f". Для них функциональная группа поверхности, в частности =Si-OH не входит в координационную сферу адсорбированного комплекса и между ними находятся молекулы воды. Другой тип — внутри-сферные комплексы, примером 2-f их являются адсорбированные на поверхности кварца катионы РЬ или Си . в комплексах этого типа =Si-OH группа является одним из лигандов центрального катиона М . Общим свойством этих соединений является большая стабильность по сравнению с внешне-сферными комплексами.

Другие примеры

I", Br, NO3-, C104"

Металл Кислород

-о\ /тт+ -Q -QC н tx

0(-,тт молекулы q y^js воды

-сг а

-о; о Р ос >< °-о;,о Ъ

-О'

-о.

-о" -сх o-o-pb+

-сг

-<ч си

Na+, К+, Ca2+, Mg2+ Сг042-, С032

Ионы двухзарядных переходных металлов Внешне-< сферные комплексы

-О"

-ov

-О" o-F

-оч р-н

ОН"

ЭеОз" AsOl 2

Монодентантные Бидептантные Внутри-сферные комплексы

Мононуклсарные Бинуклеарные

Рис. 1. Схемы образования основных типов адсорбционных соединений на границе раздела оксид (гидроксид) - раствор соли металла [13]. с другой стороны, кроме адсорбции на поверхности при взаимодействии с растворами солей может возникать и явление абсорбции, т.е. поглощения катионов или анионов раствора объемом твердого тела, а также так называемое "осаждение" катионов или анионов в составе труднорастворимого соединения на поверхности подложки (рис. 2). сороция адсорбция аосороция осаждение подложка раствор подложка раствор подложка раствор

Рис. 2. Схемы адсорбции, абсорбции и осаждения катионов цинка на поверхности FeOOH [14].

Как правило, абсорбция наблюдается для подложек в условиях их частичной растворимости, а осаждение, например гидроксидов металлов, при смещении рН растворов их солей до рН образования гидроксида металла.

Рассмотрим более подробно условия образования на поверхности оксидов именно адсорбционных соединений, поскольку они представляют наибольший интерес с точки зрения поставленной в настоящей работе задачи послойного синтеза тонкослойных структур неорганических соединений.

Впервые адекватную модель, объясняющую закономерности "специфической" адсорбции катионов на поверхности предложил Штерн [15] (рис. 3). В ней фактически учтены представления о строении двойного электрического слоя (модель Гуи-Чепмена) и принцип локализованной адсорбции Лэнгмюра. В соответствии с этой моделью на границе раздела образуется слой сравнительно прочно связанных ионов, которые в совокупности с внешними атомами подложки определяют заряд поверхности. Противо-ионы, которые обеспечивают электронейтральность системы подложка - адсорбированный слой - раствор находятся в приповерхностной области подложки и образуют внешний диффузный слой, в котором их концентрация изменяется до значений концентрации объема раствора. 6

Рис. 3. Схема образования слоя "специфически" адсорбированных катионов [16].

Данная модель нашла широкое применение в коллоидной и физической химии границы раздела твердое тело-раствор и явилась основой для построения более сложных и современных моделей, описывающих реакции на поверхности, в том числе Multisite Complexation model (MUSIC), Triple Layer Model (TLM) и Three Plane Model (TPM) [17]. В модели Штерна предполагают, что реакция адсорбции может быть описана несколькими уравнениями в основе которых лежит приближение об одной константе, характеризующей ОН группы поверхности (1.1.4) (приближение 1 К)

В более современной TLM моделе таких констант выделяют 2 (приближение 2К):

Потенциал поверхности %

Потенциал Штерна

S-OH-0'5 + Н+ -» S-OH2+0'5 К= [S-OH2+0'5]/[S-OH"°-5][br]

1.1.3)

1.1.4)

SOH2+ = SOH + Н+ —к, al

1.1.5)

SOH=SO" + H+ — (1.1.6).

Как следует из приведенных уравнений значения констант будут зависеть от типа моделей, которые используют для описания наблюдаемых процессов адсорбции и это создает определенные проблемы при рассмотрении процессов на границе раздела твердое тело-раствор. В тоже время, существуют общие закономерности адсорбции, в том числе, например, эффекты возрастания доли адсорбированных катионов функциональными группами в слабощелочной области, а отрицательно заряженных анионов в кислой и слабокислой областях (рис. 4). о о « о fct

Рис. 4. Типичные расчетные зависимости доли адсорбированных на поверхности оксидов и гидроксидов металлов катионов {а) и анионов (б) от значения рН раствора [18].

Более точные расчетные данные для различных адсорбентов и катионов металлов показаны на рис. 5. В частности, для катионов Со2+ доли адсорбированных катионов при постоянных значения рН для рассмотренных оксидов возрастают в ряду АЬ03 < Fe203 < Ti02 < Fe304 < Mn02. Характерно, что в этом же ряду возрастает и концентрация М-О" групп поверхности адсорбента.

Анализируя зависимости доли адсорбированных катионов от рН растворов следует отметить и другую закономерность — для каждого из адсорбентов при прочих равных условиях степень адсорбции зависит от степени их гидролиза в растворе [19, 20] и будет больше для тех катионов, которые имеют меньшее значение рН образования соответствующего гидроксида (рис. 56).

Рис. 5. (а) - расчетные значения изменения доли адсорбированных на поверхности Mn02, Fe304, Ti02, Fe203, А1203 катионов Со в зависимости от рН раствора (Сс0 = 0,0001М); б) - расчетные значения изменения доли адсорбированных на л i поверхности Fe203 катионов М в зависимости от рН раствора (См2+ = 10'6М).

NaN03 = 0,1М, t — 25°С, отношение S оксида к V раствора равно 80 m2-dm"3) [21].

Наиболее полно материал по адсорбции катионов и анионов на поверхности оксидов и гидроксидов изложен в монографии М. Kosmulski [6]. Часть экспериментального материала по изучению реакций образования внутри-сферных комплексов на поверхности кремнезема приведена в таблице 1.

14

Таблица 1.

Примеры образования внутри-сферных комплексов на поверхности кремнезема.

Подложка Состав р-ра Условия адсорбции Результаты и примечания Ссылка

Дисп. а-Si02 Cu(N03)2 C= 10"3-10'4M Методом ЭПР изучено образ, внутри- и внешне-сферн. компл. при изм. рН и ионной силы р-ров 22

Дисп. а-Si02 Hg(N03)2 (C=10'4M), фон. эл-т NaN03 (C = 10'3M) 23

Дисп. а-Si02 Pb(N03)2 (C=10'4M), фон. эл-т NaN03(C = 103M) 24

Дисп. а- Si02 Cu(N03)2 (C=10'4M), фон. эл-т NaN03 (C = 10"3M) 25

Аэросил А-200 Cu(N03)2 С = 0,1M, pH = 4,66,6 Методом EXAFS обраружены димеры среди =SiOCuOH групп 26 аморфн. Si02, S = 280 м2/г Pb(C104)2 С =0,002-0,1 M, pH = 4,5 -6,3 Методом EXAFS при рН = 4,4 обнар. мононукл. внутрисферн. компл., а при рН = 6,3 - полинукл. димеры 27

Сил-гель 60 Gd2(S04)3 C= 10"5-10"8M Изучено влияние темп, и показ, обр. компл. sSiOGdAn 2В

Аэросил ОХ-200 Th(C104)4 C= 10"2- 10"4M Методом EXAFS показано обр. (=SiO)2Th2+ групп 29 аморфн. Si02 S = 90 м2/г Zn(N03)2 C=0,01M,pH = 6,02 Методом EXAFS устан. образов, внутри-сферн. комплексов 30 колл. Si02 ZnS04 C= 10"4- 10"2M Показано обр. (=Si-0)2Zn групп при С = 10"2М 31

Сил-гель S = 425 м2/г Cu(N03)2 + NH4OH Ccu(n03)2 « 10"3 M Показано обр. (=Si-0)2Cu(NH3)2 групп 32

Анализируя эти результаты можно заметить, что бидентантные комплексы на поверхности образуются при адсорбции катионов Cu(NH3)42+, Zn2+ и Th , а

04- монодентантные - Си aq. Такие соединения сравнительно стабильны в процессе удаления с поверхности избытка реагентов промывкой растворителем. Так, по данным [23] для соединения =SiOCuOH после десорбции фоновым раствором в статических условиях с поверхности удаляется только 10% процентов адсорбированных катионов меди.

Важными условиями адсорбционных процессов являются время установления равновесия в системе твердое тело-раствор. Как следует из экспериментальных данных [6] для различных подложек и растворов это время может составлять от десятков секунд до нескольких дней. Очевидно, что оно будет зависеть как от природы самого оксида (гидроксида) так и состава раствора, включая его концентрацию, температуру, рН, присутствие и концентрацию фонового электролита, степени перемешивания раствора, соотношения удельной поверхности адсорбента и объема раствора, наличия у адсорбента внутренней пористости и т.д. При синтезе нанослоев, безусловно, следует отдать предпочтение тем составам, для которых наблюдается минимальное время достижения равновесия или, во всяком случае, минимальное время образования на поверхности адсорбционного слоя со степенью покрытия поверхности близкой к монослойной.

Подводя итог краткому обзору результатов работ в области изучения адсорбции катионов и анионов на поверхности подложек оксидов и гидроксидов следует отметить, что наиболее важными с точки зрения применения при синтезе по схеме "слой-за-слоем" представляются те подложки и растворы, для которых наблюдается образование на поверхности внутри-сферных комплексов. Именно данные поверхностные комплексы могут служить "элементарными ячейками" растущей в ходе синтеза тонкослойной структуры.

Заключение диссертации по теме «Химия твердого тела», Толстой, Валерий Павлович

6. Основные результаты работы и выводы

1. Предложены новые способы синтеза нанослоев неорганических веществ и материалов различного функционального назначения, основанные на реакциях на границе раздела твердое тело - раствор и, среди них, окислительно-восстановительных реакциях в слое адсорбированных ионов, реакциях образования труднорастворимых гидроксо-пероксидных соединений, адсорбции и гидролиза анионных фторидных и оксалатных комплексов металлов, адсорбции катион-содержащих солей металлов и анион-содержащих газообразных соединений.

2. Разработан алгоритм определения оптимальных условий послойного синтеза нанослоев, основанный на применении компьютерных программ для моделирования гидрохимических равновесий в растворах и на анализе растворимости подложки и синтезируемых слоев в растворах используемых реагентов и промывных жидкостей.

3. Для достижения условий наибольшей чувствительности при регистрации оптических спектров нанослоев на серийных спектрофотометрах проведено теоретико-экспериментальное изучение взаимодействия электромагнитного излучения оптического диапазона и нанослоев на поверхности металлов, полупроводников, диэлектриков и границах их раздела. На основе анализа уравнения Френеля изучено влияние на интенсивности полос в спектрах оптических постоянных окружающей среды, подложки, исследуемого слоя, градиента оптических свойств на границе раздела слой-подложка, толщины слоя, угла падения и длины волны излучения, а также направления его поляризации. Полученные результаты явились теоретическим обоснованием новых методов спектроскопии отражения-поглощения слоев на поверхности полупроводников и диэлектриков, спектроскопии отражения-поглощения в иммерсионных средах, спектроскопии однократного и многократного пропускания в поляризованном излучении.

4. Для регистрации спектров нанослоев на поверхности дисперсных веществ предложен метод спектроскопии диффузного пропускания. Метод реализован с помощью 2 типов простых приставок к спектрофотометрам. Выполнено сравнение экспериментальных спектров ДП и спектров, полученных другими способами и отмечена возможность достижения высокой контрастности спектров ДП, соизмеримой с контрастностью спектров ДО. Отмечено преимущество методики ДП при регистрации ИК спектров в области наиболее интенсивных полос поглощения.

5. Экспериментальное обоснование метода синтеза с использованием растворов солей металлов проведено на примере нанослоев In2S3, Sb2S3, Ag7SbS6, LaF3, Cu0i+xnH20, Zn01+xnH20, Ni01+xnH20, La(0H)3.x(00H)x-nH20, BiV04, Zr2)6(OH)xPMo8,0Snn9Oy-nH2O, Zn0(08Zr(OH)yF0.32, Cuo,o4Zr(OH)xFo,63, Ciio,78Hf(OH)xFo,35, ZrF3,6(OH)0;4, Zn0,12Fe(OH)x(C2O4)y, Mgu6Al(0H),(C03)y, FeOOH, Tl203 nH20, NiOOH, Ce02+x-nH20, Pb02-nH20, Ag°, Ag°0,7-MnOrnH2O, Mn02-nH20, Co3MnOx-nH20, FeCr0,7(OH)x, Ce0jNbOx-nH2O, SnMo0,6Oy-nH2O и Sni6(0H)xPWi90y-nH20; метода синтеза с использованием растворов и газообразных реагентов - на примере синтеза ScF3, Ag2S и ВаНР04; растворов солей и коллоидных растворов — синтеза Au0x-SnO2-nH2O, а также CuxSi02+x-nH20 и Si02-nH20, и коллоидных растворов - слоев Sn02-nH20.

6. Многообразие предложенных и известных способов синтеза нанослоев по схеме "слой-за-слоем" предложено разделить на несколько групп в соответствии с природой прекурсоров и основными типами реакций, протекающих на поверхности, в частности, выделить реакции без изменения степени окисления реагирующих ионов, окислительно-восстановительные реакции, "сопряженные" окислительно-восстановительные и адсорбции катионов или анионов, реакции адсорбированных ионов и молекул из газовой фазы, а также адагуляции коллоидных частиц.

7. Показана возможность применения синтезируемых нанослоев при решении прикладных задач, в том числе для защиты ряда металлов от коррозии, модифицирования поверхности ВТСП керамики и создания кондуктометрических газовых сенсоров на основе SnC>2 с улучшенными характеристиками.

Список литературы диссертационного исследования доктор химических наук Толстой, Валерий Павлович, 2009 год

1. Алесковский В.Б. / Химия надмолекулярных соединений. СПб.: Изд. СПбГУ. 1996. 256 с.

2. Душина А.П., Алесковский В.Б. / Силикагель — неорганический катионит. JL: Изд. ЛТИ им. Ленсовета. 1963. 130 с.

3. Алесковский В.Б., Корсаков В.Г. / Физико-химические основы рационального выбора активных материалов. Л.: Изд. ЛГУ. 1980. 159 с.

4. Adamson A.W. / Physical Chemistry of Surfaces. New York: Wiley. 1990. 664 p.

5. Stumm W. / Chemistry of the solid-water interface: Processes at the mineral-water and particle-water interface in natural systems. New York: Wiley. 1992. 428 p.

6. Kosmulski M. / Chemical Properties of Material Surfaces. Surfactant Science Series. New York, Basel: Marcel Dekker Inc. 2001. 754 p.

7. Карпов И.К. / Компьютерное моделирование физико-химических процесов в геохимии. Н.: Наука. 1981. 247 с.

8. Harland С.Е. / Ion Exchange: Theory and Practice. Letchwords: The Royal Society of Chemistry. Turpin Distribution Services Limited. 1994. 420 p.

9. Кокотов Ю.А. / Иониты и ионный обмен. Л.: Химия. 1980. 240 с.

10. Чиркст Д.Е., Литвинова Т.Е., Черемесина О.В., Иванов М.В. // Журнал Прикладной Химии. 2004. Т. 77. С. 580.

11. Чиркст Д.Е., Черемесина О.В., Иванов М.В., Чистяков А.А., Ждановский И.Т. // Журнал Прикладной Химии. 2006. Т. 79. С. 374.

12. Чиркст Д.Е., Литвинова Т.Е., Черемесина О.В., Иванов М.В., Мироненкова Н.А. // Журнал Прикладной Химии. 2003. Т. 76. С. 755.

13. Apak R. // Encyclopedia of Surface and Colloid Science. NY.: Marcel Dekker Ink. 2002. P. 385.

14. Koretsky C. // Journal of Hydrology. 2000. V. 230. P. 127.

15. Rahnemaie R., Hiemstra Т., van Riemsdijk W.H. // Journal of Colloid and Interface Science. 2006. V. 297. P. 379.

16. Kallay N., Zalac S. // Croatia Chemica Acta. 2001. V. 74. P. 479.

17. Litzenkirchen J. // Encyclopedia of Surface and Colloid Science. NY.: Marcel Dekker Ink. 2002. P. 5028.

18. Davis A.P. // Encyclopedia of Surface and Colloid Sci. NY.: Marcel Dekker Ink. 2002. P. 440.

19. Бурков К.А. Полиядерные комплексы ионов металлов в растворах / Дисс. д. х. н. Л.: 1983.

20. Baes C.F., Mesmer R.E. / The Hydrolysis of Cations. New York. London. Sydney. Toronto. 1976. 489 p.

21. Tamura H., Furuichi R. // Journal of Colloid and Interface Science. 1997. V. 195. P. 241.

22. Sung Pil Hyun,. Young Hwan Cho, and Pil Soo Hahn // Journal of Colloid and Interface Science. 2003. V. 257 P. 179.

23. Цуканова B.M. Взаимодействие аква- и гидроксоформ Pb(II), Cu(II), Hg(II) с поверхностью SiC>2 в аспекте химической концепции специфической адсорбции / Дисс. к. х. н. СПб.: 1996.

24. Цуканова В.М., Тихомолова К.П. // Коллоидный, журнал. 1995. Т. 57. С. 878.

25. Тихомолова К.П., Цуканова В.М. // Журнал прикладной химии. 1997. Т.70. С. 353.

26. Sing-Foong Cheah, Brown G.E, Parks G.A. // Journal of Colloid and Interface Science. 1998. V. 208. P. 110.

27. Elzinga E.J., Spares D.L. // Environmental Science Technology. 2002. V. 36. P. 4352.

28. Kosmulski M. // Journal of Colloid and Interface Science. 1999. V. 211. P. 410.

29. Osthols E., Manceau A., Farges F., Charlet L. // Journal of Colloid and Interface Science. 1997. V. 194. P. 10.

30. Roberts D.R.,. Ford R.G., Sparks D.L. // Journal of Colloid and Interface Science. 2003. V. 63. P. 364.

31. Phana T.N.T., Louvard N., Bachiri S.-A., Persello J., Foissy A. // Colloid and Surface. A: Physicochemical and Engineering Aspects. 2004. V. 244. P. 131.

32. Walcarius A., Bessiere J. // Analytica Chimica Acta. 1998. V. 361 P. 273.

33. Аванесян B.T., Вовок Г.В., Пушков М.Ю., Шагисултанова Г.А. // Высокомолекулярные соединения. 2008. Т. 50. С. 1860.

34. Аванесян В.Т., Вовок Г.В., Пшелова Л.Г., Шагисултанова Г.А. // Журнал Прикладной Химии. 2004. Т. 77. С. 1985.

35. Алесковский В.Б. / Стехиометрия и синтез твердых соединений. JL: Наука. 1976. 140 с.

36. Алесковский В.Б. // Вестник АН СССР. 1975. № 6. С. 48.

37. Кольцов С.И., Алесковский В.Б. // Журнал Прикладной Химии. 1969. Т. 42. С. 1950.

38. Алесковский В.Б. // Журнал Прикладной Химии. 1974. Т. 47. С. 2145.

39. Кольцов С.И. //Журнал Прикладной Химии. 1970. Т. 43. С. 1956.

40. Кольцов С.И., Алесковский В.Б. // Журнал Физической Химии. 1968. Т. 42. С. 1210.

41. Suntola Т. // Material Science Reports. 1989. V. 4. P. 261.

42. Suntola Т., Hyvarinen J. // Annual Review Material Science. 1985. V. 15. P. 177.

43. Suntola T. // Material Science Reports. 1989. V. 4. P. 261.

44. Puurinen R. L. // Journal Applied Physics. 2005. V. 97. P. 121.

45. Malygin A.A., Malkov A.A., Dubrovensky S.D. / In: Dabrovski A., Tertykh V.A. Eds. Adsorption on New and Modified Inorganic Sorbents, Amsterdam: Elsevier. 1996. P. 213.

46. Смирнов B.M. / Химия наноструктур. Синтез, строение, свойства. СПб.: Изд. СПбГУ. 1996. 108 с.

47. Кольцов С.И. / Химические превращения на поверхности твердых веществ. JL: ЛТИ. 1984. 60 с.

48. Алесковский В.Б. / Химико-информационный синтез. Начатки теории. Методы. СПб.; Изд. СПбГУ. 1997. 72 с.

49. Постнов В.Н. / Методы синтеза гетерогенных каталитических систем. СПб.: Изд. СПбГУ. 1997. 64 с.

50. Дрозд В.Е. / Химия твердого тела. Химические проблемы создания новых материалов. Под ред. И.В.Мурина. СПб.: Изд. СПбГУ. 2003. С. 251.

51. Ежовский Ю.К. / Химия поверхности и нанотехнология высокоорганизованных веществ. Под. ред. А.А. Малыгина. СПб: СПбГТИ(ТУ). 2007. С. 101.

52. Малков А.А. / Химия поверхности и нанотехнология высокоорганизованных веществ. Под. ред. А.А. Малыгина. СПб: СПбГТИ(ТУ). 2007. С. 204.

53. Постнов В.Н., Постнова A.M. // Химия поверхности и нанотехнология высокоорганизованных веществ. Под. ред. А.А. Малыгина. СПб: СПбГТИ(ТУ). 2007. С. 223.

54. Малыгин А.А. // Российские нанотехнологии. 2007. Т. 2. С. 87.

55. Пак В.Н., Вентов Н.Г., Кольцов С.И. // Теоретическая и Экспериментальная Химия. 1974. Т. 10. С. 711.

56. Brei V.V., Kasperskii V.A., Gulyanitskaya N.E. // React. Kinet. Catal. Lett. 1993. V. 50. P. 415.

57. Гунько B.M. // Кинетика и Катализ. 1993. Т. 34. С. 463.

58. Кольцов С.И., Волкова А.Н., Алесковский В.Б. // Журнал Прикладной Химии. 1969. Т. 42. С. 1028.

59. Кольцов С.И., Дрозд В.Е., Редрова Т.А., Алесковский В.Б. // Доклады АН СССР. 1977. Т. 235. С. 1090.

60. Алесковский В.Б., Дрозд В.Е., Киселев В.Ф., Кольцов С.И., Кольцов И.С., Петров А.С., Плотников Г.С. // Физика и Техника Полупроводников. 1979. Т. 13. С. 1397.

61. Толмачев В.А., Окатов М. А. // Оптико-Механическая Промышленность. 1983. Т. 50. С. 38.

62. Цветкова М.Н., Пак В.Н., МалыгинА.А., Кольцов С.И. // Неорганические материалы. 1984. Т. 20. С. 144.

63. Петрова Л.И., Малков А.А., Малыгин А.А. // Журнал Прикладной Химии. 1986. Т. 59. С. 1224.

64. Малыгин А.А., Волкова А.Н., Кольцов С.И., Алесковский В.Б. // Журнал Общей Химии. 1972. Т. 43. С. 1436.

65. Hanke W., Bienert R., Jerschkewitz H.-G. // Zeitschrift Anorganische and Allgemaine Chemie. 1975. V. 414. P. 109.

66. Hanke W., Heise K., Jerschkewitz H.-G., Lischke G., Ohlmann G., Parlitz B. // Zeitschrift Anorganische and Allgemaine Chemie. 1978. V. 438. P. 176.

67. Aleskovski V.B., Drozd V.E. // Acta Polytechnica Scandinavian. 1990. V. 195. P. 155.

68. Choi S.W., Jang C.M., Kim D.Y., Ha J. S., Park H.S.,Koh W., Lee C. S. // Journal Korean Physics Society. 2003. V. 42. P. 975.

69. Yun S.J., Lim J.W., Lee J.-H. // Electrochemical Solid-State Letters. 2004. V. 7. P. 13.

70. J.W. Lim and Yun S.J. // Electrochemical Solid-State Letters. 2004. V. 7. F45.

71. Lujala V., Skarp J., Tammenmaa M., Suntola T. // Applied Surface Science. 1994. V. 82/83. P. 34.

72. Sang В., Konagai M. // Japanese Journal Applied Physics. Part 2. 1996. V. 35. L602.

73. Saito K., Watanabe Y., Takahashi K., Matsuzawa Т., Sang В., Konagai M. // Solar Energy Materials Solid Cells. 1997. V. 49. P. 187.

74. Yamada A., Sang В., Konagai M. // Applied Surface Science. 1997. V. 112. P. 216.

75. Sang В., Yamada A., Konagai M. // Solar Energy Materials Solid Cells. 1997. V. 49. P. 19.

76. Sang В., Yamada A., Konagai M. // Japanese Journal Applied Physics. 1998. V. 37. LI 125.

77. Sang В., Dairiki К., Yamada A., Konagai M. // Japanese Journal Applied Physics. Part 1. 1999. V. 38. P. 4983.

78. Chaisitsak S., Sugiyama Т., Yamada A., Konagai M. // Japanese Journal Applied Physics. Part 1. 1999. V. 38. P. 4989.

79. Yamada A., Konagai M. // Solid State Phenomena. 1999. V. 67/68. P. 237.

80. Ott A.W., Chang R.P.H. // Materials Chemical Physics. 1999. V. 58. P. 132.

81. Shimizu A., Chaisitsak S., Sugiyama Т., Yamada A., Konagai M. // Thin Solid Films. 2000. V. 361/362. P. 193.

82. Yousfi E.B., Fouache J., Lincot D. // Applied Surface Science. 2000. V. 153. P. 223.

83. Дрозд В.E., Алесковский В.Б., Романычев А.И. // Журнал прикладной химии. 1979. Т. 52. С. 12.

84. Aarik J., Aidla A., Jaek A., Leskela М., Niinisto L. // Applied Surface Science. 1994. V. 75. P. 33.

85. Tammenmaa M., Antson H., Asplund M., Hiltunen L., Leskela M., Niinisto L., E. Ristolainen // Journal of Crystal Growth. 1987. V. 84. P. 151.

86. Reijnen L., Meester В., Goossens A., Schoonman J. // Journal of Physics. 2001. V. 11. P. 1103.

87. Puurunen R.L., Root A., Haukka S., Iiskola E.I., Lindblad M, Krause A.O.I. // Journal of Physical Chemistry. B. 2000. V. 104. P. 6599.

88. Puurunen R.L., Lindblad M., Root A., Krause A.O.I. // Physical Chemistry. Chemical Physics. 2001. V. 3. P. 1093.

89. Jokinen J., Haussalo P., KeinonenJ., Ritala M., Riihela D., Leskela M. // Thin Solid Films. 1996. V. 289. P. 159.

90. Mayer T.M., Rogers J.W., Michalske T.A. // Chemistry of Materials. 1991. V. 3.P. 641.

91. Bartram M.E., Michalske T.A., RogersJ .W., Paine R.T. // Chemistry of Materials. 1993. V. 5. P. 1424.

92. Liu H., Bertolet D.C., Rogers J.W. // Surface Science. 1995. V. 340. P. 88.

93. Kodama К., Ozeki M., Sakuma Y., Mochizuki K., Ohtsuka N. // Journal of Crystal Growth. 1990. V. 99. P. 535.

94. Kobayashi N„ Kobayashi Y. // Thin Solid Films. 1993. V. 225. P. 32.

95. Kobayashi R. // Journal of Crystal Growth. 1991. V. 113. P. 491.

96. Akamatsu M., Narahara S., Kobayashi Т., Hasegawa F. // Applied Surface Science. 1994. V. 82/83. P. 228.

97. Bedair S.M., Tischler M.A., Katsuyama Т., El-Masry N.A. // Applied Physics Letters. 1985. V. 47. P. 51.

98. Ozeki M., Mochizuki K., Ohtsuka N., Kodama K. // Journal Vacuum Science and Technology. B. 1987. V. 5. P. 1184.

99. Kovtyukova N., Mallouk Т., Mayer T. // Advanced Materials. 2003. V. 15. P. 780.

100. Conley J. F., Ono Y., Zhuang W., Tweet D. J., Gao W., S. K. Mohammed S. K., Solanki R. // Electrochemical and Solid-State Letters. 2002. V. 5. P. 57.

101. Айлер P. / Химия кремнезема. M.: Мир. 1982. 1029 с.

102. Nicolau Y.F. // Applied Surface Science. 1985. V. 22/23. P. 1061.

103. Nicolau Y.F. // Пат. Франции № 2569427. Chemical Abstract. 1986. V. 105. № 33405a.

104. Толстой В .П., Богданова Л.П., Митюкова Г.В. // А.С. СССР № 1386600. Приор, от 06.01.1986. Бюллетень Изобретений. 1988. № 3. С. 114.

105. Niesen Т. P., De Guire М. R. // Journal of Electroceramics. 2001. V. 6. P. 169.

106. Ristov M., Sinadinovski G.J., Grozdanov I. // Thin Solid Films. 1985. V. 123. P. 63.

107. Nicolau Y.F., Dupuy M., Brunei M. // Journal of Electrochemistry Society. 1990. V. 137. P. 2915.

108. Клечковская B.B., Маслов B.H., Мурадов М.Б., Семилетов С.А. // Кристаллография. 1989. Т. 34. С. 182.

109. Valkonen М.Р., Kanniainen Т., Lindroos S., Leskela M., Rauhala E. // Applied Surface Science. 1997. V. 120. P. 386.

110. Lindroos S., Kanniainen Т., Leskela M. // Journal Material Chemistry. 1996. V. 6. P. 1497.

111. Lindroos S., Charreire Y., Kanniainen Т., Leskela M., Benazeth S. // Journal Material Chemistry. 1997. V. 7. P. 741.

112. Lindroos S., Kanniainen Т., Leskela M. // Material Research Bulletin. 1997. V. 32. P. 1631.

113. Lindroos S., Arnold A., Leskela M. // Applied Surface Science. 2000. V. 158. P. 75.

114. Sartale S.D., Lokhande C.D. // Material Chemistry and Physics. 2000. V. 65. P. 63.

115. Маслов B.H., Мурадов М.Б., Жукова Л.А., Овчаренко В.М., Мончар Г.А., Мончар И.А. Процессы роста полупроводниковых кристаллов и пленок. / Под ред. Кузнецова Ф.А. Новосибирск: Наука. 1988. 89 с.

116. Kanniainen Т., Lindroos S., Resch R., Leskela M., Friedbacher G., Grasserbauer M. // Material Research Bulletin. 2000. V. 35. P. 1045.

117. Kanniainen Т., Lindroos S., Ihanus J., Leskela M. // Journal of Material Chemistry. 1996. V. 6. P. 983.

118. Pathan H.M., Sankapal B.R., Desai J.D., Lokhande C.D. // Material Chemistry and Physics. 2002. V. 78. P.l 1.

119. Mane R.S., Lokhande C.D. // Material Chemistry and Physics. 2002. V. 78. P. 15.

120. Sankapal B.R., Lokhande C.D. //Mater. Chem. andPhys. 2002. V. 73. P. 151.

121. Sankapal B.R., Goncalves E., Ennaoui A., Lux-Steiner M.Ch. // Thin Solid Films. 2004. V. 451-452. P. 128.

122. Sartale S.D., Lokhande C.D. // Mater. Res. Bull. 2000. V. 35. P. 1345.

123. Lindroos S., Leskela M. // In: The Electrochem.Soc. 203rd Meeting -Symposium HI Chemical Solution Deposition of Semiconducting and Non-Metallic Films. Paris. 2003. Abs. 594.

124. Nicolau Y.F., Nechtschen M. // Springer Serial in Solid State Science. 1989. V. 91. P. 461.

125. Nicolau Y.F., Davied S., Genoud F., Nechtschen M., Travers J.P. // Synthetic Metals. 1991. V. 41-43. P. 1491.

126. Decher G., Hong J.-D. // Macromolecular Chemistry, Macromolecular Symposium. 1991. V. 46. P. 321.

127. Decher G. // Science. 1997. V. 277. P. 1232.

128. Decher G., Hong J.-D., Schmitt J. // Thin Solid Films. 1992. V. 210/211. P. 831.

129. Lvov Yu., Ariga K., Kunitake T. // Journal of America Chemical Society. 1995. V. 117. P. 6117.

130. Caruso F., Niikura K., Furlong D.N., Okahata Y. // Langmuir. 1997. V. 13. P. 3427.

131. Decher G., Schlenoff J.B. (Eds ) / Multilayer Thin Films. N-Y.: Wiley-VCH. 2003. 543 p.

132. Ruiz-Hitzky E., Ariga K., Lvov Yu. (Eds) / Bio-inorganic Hybrid Nanomaterials: Strategies, Syntheses, Characterization and Applications. N-Y.: Wiley-VCH. 2007. 521 p.

133. Yonghui Wang, Xinlong Wang, Changwen Hu // Journal of Colloid and Interface Science. 2002. V. 249. P. 307.

134. Lin Xu, Hongyu Zhang, Enbo Wang, Aiguo Wu, Zhuang Li // Material Letters. 2002. V. 54. P. 452.

135. Lin Xu, Hongyu Zhang, Enbo Wang, Aiguo Wu, Zhuang Li. // Material Chemistry and Physics. 2002. V. 77. P. 484.

136. Huiyuan Ma, Jun Peng, Zhangang Han, Yuhua Feng, Enbo Wang // Thin Solid Films. 2004. V. 446. P. 161.

137. Shengyong Zhai, Yaguang Chen, Shubin Wang, Junguang Jiang, Shaojun Dong, Jinghong Li // Talanta. 2004. V. 63. P. 927.

138. Huiyuan Ma, Jun Peng, Yanhui Chen, Yuhua Feng, Enbo Wang // Journal of Colloid and Interface Science. 2004. V. 177. P. 3333.

139. Min Jiang, Enbo Wang, Gang Wei, Lin Xu, Zhuang Li // Journal of Colloid and Interface Science. 2004. V. 275. P. 596.

140. Min Jiang, Enbo Wang, Lin Xu, Zhenhui Kang, Suoyuan Lian // Journal of Solid State Chemistry. 2004. V. 177. P. 1776.

141. Radtchenko I.L., Sukhorukov G.B., Leporatti St., Khomutov G.B., Donath Ed., Mohwald H. // Journal of Colloid and Interface Science. 2000. V. 230. P. 272.

142. Radtchenko I.L., Sukhorukov G.B., Mohwald H. // International Journal of Pharmacology. 2002. V. 242. P. 219.

143. Kotov N.A., Haraszti Т., Turi L., Zavalo G., Geer R.E., Fendler J.H. // Journal of America Chemistry Society. 1997. V. 119. P. 6821.

144. Fendler J.H. // Study Surface Science Catalyst. 1997. V. 103. P. 261.

145. Kotov N.A., Dekany I., Fendler J. // Journal of Physical Chemistry 1995 V. 99. P. 13065.

146. Gao M.Y., Richter В., Kirstein H., Mohwald H. // Journal of Physical Chemistry. B. 1998. V. 102. P. 4096.

147. Lesser C., Gao M., Kirstein S. // Materials Science Engineering. C. 1999. V. 8-9. P. 159.

148. Sun J., Hao E., Sun Y., Zhang H., Yang В., Zou S., Shen J., Wang S. // Thin Solid Films. 1998. V. 327-329. P. 528.

149. Sun Y., Hao E., Zhang X., Yang В., Shen J., Chi I., Fuchs H. // Langmuir. 1997. V. 13. P. 5168.

150. Hao E., Yang В., Ren H., Qian X., Xie Т., Shen J., Li D. // Materials Science Engineering. 1999. V. 10. P. 119.

151. Rosidian A., Liu Y.J., Claus R.O. // Advanced Materials. 1998. V. 10. P. 1087.

152. Pastoriza-Santos I., Koktysh D.S., Mamedov A.A., Gierzig M., Kotov N.A., Liz-Marzan I.M. // Langmuir. 2000. V. 16. P. 2731.

153. Hao E., Lian T. // Chemistry of Materials. 2000. V. 12. P. 3392.

154. Lvov Yu., Rusling J.F., Tomsen D.I., Papadimitrakopoluos F., Kawakami Т., Kunitake T. // Chemical Communications. 1998. P. 1229.

155. Ichinose I., Tagawa H., Mizuki S., Lvov Yu., Kunitake T. // Langmuir. 1998. Y. 14. P.187.

156. Liu Y.I., Wang A.B., Claus R.O. // Applied Physical Letters. 1997. V. 71. P. 2265.

157. Iler R.K. //Journal Colloidal and Interfaces Sciences. 1900. V. 21. P. 569.

158. McKenzie K.J., Marken F., Xin Gao, Tsang S.C., Tam K.Y. // Electrochemical Communications. 2003. V. 5. P. 286.

159. Szabo Т., Nemeth J., Dekany I. // Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects. 2004. V. 230. P. 23.

160. Kun R., Balazs M., Dekany I. // Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects. 2005. V. 265. P. 155.

161. Харрик H. / Спектроскопия внутреннего отражения. M.: Мир. 1970. 335 с.

162. Золотарев В.М., Морозов В.Н., Смирнова Е.В. / Оптические постоянные природных и технических сред. JL: Химия. 1984. 216 с.

163. Кузнецова Г.Н. / ИК-спектроскопия многократного отражения. Л.: Изд. ЛТИ им. Ленсовета. 1982. 82 с.

164. Кураева Л.Н., Золотарев В.М., Лисицын Ю.В. // Коллоидный Журнал. 1979. № 1.С. 138.

165. Литтл Л. / Инфракрасные спектры адсорбированных молекул. М.: Мир. 1969.514 с.

166. Киселев А.В., Лыгин В.И. / Инфракрасные спектры поверхностных соединений. М.: Наука. 1972. 459 с.

167. Fray Т.С. // Journal of Optical Society of America. 1932. V. 22. P. 307.

168. Виноградов Е.А., Дрожкин Л.М., Митяев Ю.А. // Оптика и спектроскопия. 1981. Т. 51. С. 1061.

169. Mclntyse I.D., Aspnes D.E. // Surface Science. 1971. V. 24. P. 417.

170. Greenler R.G. // Journal of Chemical Physics. 1966. V. 44. P. 310.

171. Попов Ю.А. // Журнал Прикладной спектроскопии. 1985. Т.43. С. 138.

172. Абелес Ф. // Физика тонких пленок. 1973. Т. 6. С. 171.

173. Раков А.В. / Спектрофотометрия тонкопленочных структур. М.: Радио. 1975. 167 с.

174. Лазарев А.Н., Миргородский А.Н., Игнатьев И.С. / Колебательные спектры сложных окислов. Л.: Наука. 1975. 296 с.

175. Pedersen J.P. // Journal of Hazardous Materials. 2000. V. 95. № 1-2. P. 185.

176. Puigdomenech I. // Abstracts of Papers. 219lh ACS National Meeting. San Francisco: Amer. Chem. Society. 2000. V.l. AbstractI&EC-248.

177. Гуркина T.B., Игашин А.И. // Журнал Аналитической Химии. 1965. Т. 20. с. 584.

178. Савин С.Б. / Арсеназо III. Методы фотометрического определения резких и актинидных элементов. М.: Атомиздат. 1966. 256 с.

179. Пешкова В.М., Громова М.И. / Методы абсорбционной спектроскопии в аналитической химии. М.: Высшая Школа. 1976. 380 с.

180. Бусев А.И. / Аналитическая химия индия. М.: Издательство АН СССР. 1958. 244 с.

181. Алексеевский Е.В., Гольц Р.К., Мусакин А.П. / Количественный анализ. М.: Металлургия. 1976. 184 с.

182. Кураева Л.Н., Золотарев В.М., Лисицын Ю.В. и др. // Коллоидный Журнал. 1979. № 1.С.138.

183. American Institute of Physics Handbook / Ed. E.Dwight, Ph. D-N. Gray. NY.: McGraw-Hill Book Co. 1957. 1542 p.

184. Berreman D.W. //Phys. Rev. 1963. V.130. P.2193.

185. Кизель В.A. / Отражение света. M.: Наука. 1973. 351 с.

186. Жук Н.П., Третьяков О.Я. // Поверхность. 1986. № 8. С. 45.

187. Bagchi A., Rajagand A. // Solid State Commun. 1979. V. 31. P. 127.

188. Кузьмин B.JI. // Оптика и спектроскопия. 1975. Т. 38. С. 745.

189. Борен К.Ф., Хафмен Д. Р. Поглощение и рассеяние света малыми частицами / Пер. с англ. З.И.Фейзулина, А.Г. Виноградова, JI.A. Анресяна / Под ред. В.И. Татарского. М.: Мир. 1986. 664 с.

190. Золотарев В.М. // Оптико-Механическая Промышленность. 1976. № 8. С. 46.

191. Куксенко К.Н., Чмель А.Е. // Журнал Прикладной Спектроскопии. 1975. Т. 22. С. 307.

192. Гороновский И.Т., Назаренко Ю.П., Некряч Е.Ф. / Краткий справочник химика. К.: Наукова Думка. 1987. 829 с.

193. Бабаян Г.Г., Арутюнян JI.A., Власова Н.С. // Журнал Прикладной Спектроскопии. 1969. № 10. С. 801.

194. Нефедов В.И. / Рентгеноэлектронная спектроскопия химических соединений. М.: Химия. 1984. 256 с.

195. Брауер Г. / Руководство по препаративной неорганической химии. М.: Изд. Иностр. Литер. 1956. 890 с.

196. Лидин Р.А., Молочко В.А., Андреева Л.Л. / Химические свойства неорганических веществ. М.: Химия. 1996. 480 с.

197. Рипан Р., Четяну И. / Неорганическая химия. Т 1. М.: Мир. 1971. 560 с.

198. Самсонов Г.В., Дрозжова С.В. / Сульфиды. М.: Металлургия. 1972. 303 с.

199. Тертых В.А., Белякова А.А. / Химические реакции с участием поверхности кремнезема. Киев: Наук. Думка. 1991. 264 с.

200. Ласкорин Б.Н., Стрелко В.В., Стражеско Д.Н., Денисов В.И. / Сорбенты на основе силикагеля в радиохимии. М.: Атомиздат. 1977. 304 с.

201. Раков Е.Г. / Химия и технология неорганических фторидов. М.: Наука. 1990. 145 с.

202. Накамото К. / ИК спектры и спектры КР неорганических и координационных соединений. М.: Мир. 1991. 505 с.

203. Gong-Yi Guo, Yu-Li Chen // Journal of Material Chemistry. 2001. V. 11. P. 1283.

204. Armelao L., Bertagnolli H., Gross S., Krishnan V. // Journal of Material Chemistry. 2005. V. 15. P. 1954.

205. Tolstoy V.P., Chernyshova I.V., Scryshevsky V.A. / Handbook of IR spectroscopy of ultrathin films. NY.: Wiley&Sons. 2003. 710 p.

206. Xiaodag Lei, Lang Yang, Fazhi Zhang, Xue Duan // Chemical Engineering Science. 2006. V. 61. P. 2730.

207. Семашин В.И., Воротницкая JI.T. // Известия высших учебных заведений СССР. Химия и химическая технология. 1964. № 4. С. 551.

208. Скопенко В.В., Глущенко JI.B., Калибабчук В.А., Гарновский А.Д. // Журнал Неорганической Химии. 1987. Т. 32. С. 2963.

209. Вольнов И.И. . Перекисные соединения щелочноземельных металлов. М.: Наука. 1983. 136 с.

210. Ергешев Ф.Ю., Ризаева Н.Г., Юнусов М.П. // Тез. докладов X Всесоюзного семинара "Применение оптической спектроскопии в адсорбции и катализе". Л.: 1988. С. 108.

211. Ладейникова Л.В. // Известия АН СССР. Отделение Химических Наук. 1959. № 2. С. 195.

212. ZhijianWang, Haiming Zhang, Ligong Zhang, Jinshan Yuan, Shenggang Yan, ChunyanWang//Nanotechnology. 2003. V. 14. P. 11.

213. Рипан P., Четяну И. / Неорганическая Химия. Т. 2. М.: Мир. 1972. 872 с.

214. Некрасов Б.В. / Основы общей химии. Т. 2. М.: Химия. 1974. 688 с.

215. Bayes C.F., Mesmer R.E. / The Hydrolysis of Cations. NY-London-Toronto. A Wiley-Interscience Publication. 1976. 489 p.

216. Bencic S., Orel В., Surca A. and Lavrencic-Stangar U. // Solar Energy. V. 68. P. 499.

217. Давыдов A.A., Гончарова О.И. // Успехи химии. 1993. Т. 62. С.118.

218. Винтер И.К., Бойчинова Е.С., Денисова Н.Е. // Журнал Прикладной Химии. 1973. Т. 46. С. 121.

219. Лазарев А.И., Харламов И.П., Яковлев П.Я., Яковлева Е.Ф. / Справочник химика-аналитика. М.: Металлургия. 1976. 184 с.

220. Поп М.С. / Гетерополи- и изополиоксометаллаты: Пер. с англ. Я.А. Мороза, Розанцева Г.М. / Под ред. Юрченко Э.Н. Н.: Наука. 1990. 232 с.

221. Елинсон С.В., Петров К.И. / Аналитическая химия циркония и гафния. М.: Наука. 1965. 240 с.

222. Юрченко Э.Н. / Методы молекулярной спектроскопии в химии координационных соединений и катализаторов. Н.: Наука. 1986. 256 с.

223. Рябчиков Д.И., Рябухин В.А. / Аналитическая химия редкоземельных элементов и иттрия. М.: Наука. 1966. 380 с.

224. Archer R.J. //Journal of Optical Society of America. 1962. V. 52. P. 970.

225. Cere Korosec R., Bukovec P., Pihlar В., Surca Vuk A., Orel В., Drazic G. // Solid State Ionics. 2003. V. 165. P. 191.

226. Болдырев А.И. / Инфракрасные спектры минералов. М.: Наука. 1976. 196 с.

227. Золотарев В.М., Морозов В.Н., Смирнова Е.В. / Оптические постоянные природных и технических сред. Л.: Химия. 1984. 215 с.

228. Chelani N., Zerroual L., Hammouche A. // Solid State Ionics. 1996. V. 91. P. 289.

229. Цуканова B.M., Тихомолова К.П. // Коллоидный Журнал. 1995. Т. 57. С. 878.

230. Реми Г. / Курс Неорганической Химии. Т.1. М.: Мир. 1972. С. 72.

231. Карпов С.В., Попов А.К., Слабко В.В., Шевнина Г.Б. // Коллоидный Журнал. 1995. Т. 57. С. 199.

232. Ершов Б.Г., Карташев Н.И. // Известия РАН. Серия Химическая. 1995. № 1.С. 35.

233. Janaha Е., Henglein A., Erhov B.G. // Journal Physical Chemistiy. 1994. V. 98. P. 10888.

234. Харламов Г.В., Иванькин И.А., Богданчикова Н.Е. Ануфриенко В.Ф., Давыдов А.А. // Тез. докладов X Всесоюзного семинара "Применение оптической спектроскопии в адсорбции и катализе". JI.: 1988. С. 109.

235. Файнбротер Ф.Н. / Химия ниобия и тантала. М.: Химия. 1972. 276 с.

236. Index to Cristallografic Data Compilation. ASTM. № 26-480.

237. Kanasaku Т., Amezava K., Yamamoto N. // Solid State Ionics. 2000. V. 133. P. 51.

238. Рябинин B.A., Киреева M.B., Берг H.A. / Неорганические соединения хрома. Л.: Химия. 1981. 208 с.

239. Chernyshova I.V. // Journal Electroanalitical Chemistry. 2003. V. 58. P. 835.

240. Максимова Л.Г., Денисова Т. А., Кристаллов Л.В. // Журнал Неорганической Химии. 1995. Т. 40. С. 976.

241. Казанский Л. П., Голубев A.M. Колебательные спектры гетерополианионов различных структурных типов. / В кн. Химия соединений Mo (VI) и W (VI). Под ред. М.В. Мохосоева. Н.: Наука. 1979. С. 66.

242. Niesen Т.Р., Guire M.R.D. // Solid State Ionics. 2002. V. 151. P. 61.

243. Рева O.B., Воробьева Т.Н. // Журнал Прикладной Химии. 1998. №3. С. 498.

244. Никитина Е.А. / Гетерополисоединения. М.: Госхимиздат. 1962. 462 с.

245. Moulder J.F. / Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy. Perkin-Elmer Co. Physical Electronics Division. USA. 1995. 620 p.

246. Максимов Г.М., Кустова Г.Н., Матвеев К.И., Лазаренко Т.П. // Координационная химия. 1999. Т. 15. С. 788.

247. Espinos J.P., Fernandez A., Jimenez V.M., Gonzalez-Elipe A.R., Caballero A., Ocana M. // Solid State Jonics. 1999. V. 116. P. 117.

248. Kanaungo S.B. // Journal Colloid and Interfaces Chemistry. 1994. V. 162. P. 93.

249. Свиридов B.B., Браницкий Г.А. // Химические проблемы создания новых материалов / Под ред. В.В. Свиридова. Минск. 1998. С. 293.

250. Kamnev A.A., Ristic M., Angelov V. // Journal Molecular Structure. 1995. V. 349. P. 7.

251. Плюснина И.И. / ИК спектры минералов. М.: Изд-во МГУ. 1977. 178 с.

252. Пестряков А.Н., Давыдов А.А., Курина Л.Н. // Тез. докладов Всесоюзного совещания "Применение оптической спектроскопии в адсорбции и катализе". Л.: 1988. С. 8.

253. Gmelin Handbook. Т. ВЗ. Berlin. 1973. Р.39.

254. Аналитическая химия серы / Под ред. Э.А. Остроумова. М.: Наука. 1975. 272 с.

255. Шалкаускас М., Вашкиалис А. / Химическая металлизация пластмасс. 1985. Л:. Химия. 168 с.

256. Химическое осаждение металлов из водных растворов / Под ред. Свиридова В.В. Минск: Университетское. 1987. 287 с.

257. Electroless Plating: Fundamental and Applications / Eds. G.O. Mallory, J.B. Hajdu. Orlando: Amer. Electroplaters and Surface Finishers Soc. 1990. 538 p.

258. Рева O.B., Воробьева Т.Н. // Журнал Прикладной Химии. 2002. Т. 75. С. 718.

259. Amalric-Popescu D., Bozon-Venduraz F. // Catalysis Today. 2001. V. 70. P. 139.

260. Tom R.T., Nair A.Sr., Singh N., Aslam M., Nagendra C.L., Philip R., Vijayamohanan K., Pradeep T. // Langmuir. 2003. V. 19. P. 3439.

261. Pengo P. , Polizzi St. , Battagliarin M., Pasquato L., Scrimin P. // Journal Material Chemistiy. 2003. V. 13. P. 2471.

262. Minyung Lee, Lee Chae Kyeong // Nanostructured Materials. 1999. V. 11. P. 195.

263. Лазарев A.H. / Колебательные спектры и строение силикатов. Л.: Наука. 1968. 340 с.

264. Тихонов П.А., Накусов А.Т., Дроздова И.А., Калинина М.В., Доманский А.И. // Физика и Химия стекла. 2005. Т. 31. С. 700.

265. Тихонов П.А., Накусов А.Т., Дроздова И.А // Физика и Химия Стекла. 2004. Т.30. С. 101.

266. Васильев Р.Б., Рябова Л.И., Румянцева М.Н., Гаськов A.M. // Успехи химии. 2004. Т. 73. С. 1019.