Рентгеноэлектронный и рентгеноспектральный анализ электрохимически модифицированных поверхностей углеситалловых электродов тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.02, кандидат химических наук Осколок, Кирилл Владимирович

• Осколок, Кирилл Владимирович
• кандидат химических наук
• 1999

Оглавление диссертации кандидат химических наук Осколок, Кирилл Владимирович

Содержание стр.

Список сокращений

ВВЕДЕНИЕ

Глава 1. Обзор литературы

1.1. Электрохимическое осаждение металлов на поверхностях твердых электродов

1.1.1. Методы исследования и анализа

1.1.2. Процессы индивидуального и совместного осаждения

1.2. Проблемы количественного рентгеноэлектронного анализа

• ' Г'. '

поверхности твердого тела . ;

1.2.1. Особенности безэталонного анализа

1.2.2. Определение фундаментальных физических параметров при безэталонном анализе

Глава 2. Постановка задачи

ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ЧАСТЬ

Глава 3. Образцы, аппаратура, техника эксперимента

3.1. Приготовление образцов

3.2. Рентгеноэлектронный анализ

3.3. Электроннозондовый рентгеноспектральный микроанализ

и растровая электронная микроскопия

3.4. Особенности рентгеноспектрального микроанализа электрохимически модифицированных поверхностей дисковых электродов

3.5. Методика «интегрального» и распределительного рентгеноспектрального микроанализа поверхностей дисковых электродов

3.6. Погрешность результатов рентгеноспектрального

микроанализа поверхностей дисковых электродов

Глава 4. Количественный рентгеноэлектронный анализ

электрохимически модифицированных поверхностей

твердых электродов

4.1. Методики определения средней длины свободного

пробега электрона в твердом теле

4.2. Методики определения аппаратной функции электронного спектрометра

4.3. Особенности рентгеноэлектронного анализа

с использованием спектров, измеренных в режиме

постоянного фактора торможения энергоанализатора

5.1. Индивидуальное осаждение металлов

5.2. Совместное осаждение металлов

5.2.1. Система «медь-свинец»

5.2.2. Система «медь-кадмий»

6.1. Индивидуальное осаждение металлов

6.2. Совместное осаждение металлов

6.2.1. Система «медь-свинец»

6.2.2. Система «медь-кадмий»

6.3. Формирование пика анодного растворения металла

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

ВЫВОДЫ

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

ПРИЛОЖЕНИЕ

АСМ

АФ

ВОПГ

ОЭС

ПСА

ПФТ

ПЭМ

ПЭП

РФЭС

РСА

РСМА

РТМ

РФА

РЭМ

РЭХМ

СВВ

сдсп

ХМП ЭХМП

СПИСОК СОКРАЩЕНИЙ

атомно-силовая микроскопия аппаратная функция электронного спектрометра высокоориентированный пиролитический графит оже-электронная спектроскопия полусферический энергоанализатор постоянный фактор торможения энергоанализатора просвечивающая электронная микроскопия постоянная энергия пропускания энергоанализатора рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия рентгеноструктурный анализ рентгеноспектральный микроанализ растровая туннельная микроскопия рентгенофлуоресцентный анализ растровая электронная микроскопия растровая электрохимическая микроскопия сверхвысокий вакуум

средняя длина свободного пробега электрона химически модифицированная поверхность электрохимически модифицированная поверхность

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Рентгеноэлектронный и рентгеноспектральный анализ электрохимически модифицированных поверхностей углеситалловых электродов»

ВВЕДЕНИЕ

Актуальность темы. Методы анализа поверхности твердого тела широко используют для решения задач современной электрохимии и электроаналитической химии. С практической точки зрения к числу наиболее важных задач относится диагностика состояния поверхности твердого рабочего электрода после направленного физического или химического модифицирования, а также изучение механизмов образования и роста зародышей при индивидуальном и совместном электрохимическом осаждении металлов. Многочисленные эксперименты указывают на то, что результаты анализа электрохимическими методами зависят от состояния поверхности рабочего электрода. Знание механизмов зародышеобразования металлов позволит правильно выбирать аналитический сигнал и условия его формирования. Очевидно, что перечисленные проблемы наиболее актуальны для инверсионных электроаналитических методов, поскольку для них стадия предварительного концентрирования металла на поверхности рабочего электрода в наибольшей степени влияет на результаты анализа. Для решения указанных задач необходимо установить зависимость параметров пика анодного растворения металла от механизма образования и роста его зародышей и состояния поверхности рабочего электрода.

Сложность проблемы и интегральный характер результатов электрохимического исследования обусловили использование прямых методов анализа поверхности твердого тела, в частности растровой туннельной микроскопии. Этот метод позволяет изучать in situ механизмы ранних стадий индивидуального электрохимического осаждения металлов из водных растворов с высокой концентрацией (10~2 -10"1 моль/л) на монокристаллической поверхности электрода. Однако для электроаналитической химии более важными являются процессы

образования и растворения тонких пленок металлов и сплавов в растворах электролитов с концентрацией деполяризатора менее 10"4 - 10~3 моль/л. Для изучения особенностей электроосаждения металлов на поверхностях электродов, используемых на практике, из растворов с концентрацией деполяризатора п 10^ моль/л перспективно использование спектроскопических методов анализа поверхности. Причем особый интерес представляет применение нескольких методов, обладающих различным разрешением по поверхности и по глубине. К таким методам относится рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия и электроннозондовый рентгеноспектральный микроанализ. В сочетании с растровой электронной микроскопией указанные методы позволят провести комплексную диагностику состояния электрохимически модифицированных поверхностей электродов.

Цель работы - комплексное рентгеноэлектронное, рентгенос-пектральное и электронномикроскопическое исследование закономерностей индивидуального и совместного электрохимического осаждения металлов на поверхностях твердых электродов в условиях электроаналитического эксперимента.

Для достижения этой цели необходимо решить следующие задачи:

1. Установить возможность и условия применения метода рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для количественного анализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых электродов.

2. Разработать научно-методические подходы комплексной спектроскопической и микроскопической диагностики состояния поверхностей твердых дисковых электродов различного радиуса, моди-

фицированных при электрохимическом осаждении металлов, методами анализа поверхности твердого тела.

3. Изучить влияние условий электроаналитического эксперимента на процесс формирования электроконцентратов на поверхностях дисковых углеситалловых электродов на примере индивидуального и совместного электроосаждения меди, кадмия и свинца из водных растворов, содержащих индифферентный электролит.

4. Определить характер зависимости параметров пика анодного растворения металла от механизма зародышеобразования и состояния электрохимически модифицированных поверхностей дисковых углеситалловых электродов.

Научная новизна. Методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, электроннозондового рентгеноспектрального микроанализа и растровой электронной микроскопии изучено индивидуальное и совместное электрохимическое осаждение меди, кадмия и свинца из азотнокислых растворов на поверхности дисковых углеситалловых электродов в условиях электроаналитического эксперимента. Разработана объектно-ориентированная методика рентгеноспектрального микроанализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых дисковых электродов различного радиуса. Характер распределения элементов по поверхности электрода, установленный с использованием данной методики, чувствителен к особенностям термодинамики зародышеобразования и кинетики роста тонких пленок металлов и сплавов. Показана принципиальная возможность и определены условия количественного элементного анализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых электродов при низком отношении сигнал/шум в рентгеноэлектронных спектрах. Предложены способы определения фундаментальных физических параметров

(средней длины свободного пробега электрона в твердом теле и аппаратной функции электронного спектрометра) основного уравнения количественного рентгеноэлектронного анализа.

Практическая значимость. На основании систематического исследования влияния условий электроаналитического эксперимента на процессы образования электрохимических концентратов металлов и сопоставления полученных результатов с представлениями теоретической электрохимии показано, что комплексная спектроскопическая и микроскопическая диагностика состояния поверхностей твердых электродов является перспективным методом построения феноменологических моделей индивидуального и совместного электрохимического осаждения металлов. Установлен характер зависимости параметров пика анодного растворения металла от механизма образования и роста его зародышей, распределения по поверхности дискового электрода, радиуса электрода. Оптимизированы условия количественного рентгеноэлектронного анализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых электродов.

На защиту выносятся следующие положения:

1. Результаты спектроскопического и микроскопического исследования зависимости элементного состава и морфологии электрохимически модифицированных поверхностей дисковых углеситалловых электродов от концентрации деполяризатора в растворе, радиуса электрода, времени электролиза и типа интерметаллического взаимодействия.

2. Закономерности формирования электроконцентратов на поверхностях дисковых углеситалловых электродов при индивидуальном электрохимическом осаждении меди, кадмия и свинца и совмест-

ном осаждении металлов в бинарных системах «медь-кадмий» и «медь-свинец» из азотнокислых растворов с концентрацией деполяризаторов п'10^ моль/л в условиях электроаналитического эксперимента.

3. Феноменологические модели индивидуального электрохимического осаждения металлов и совместного осаждения в системах «медь-кадмий» и «медь-свинец» на поверхностях дисковых углеситалло-вых электродов.

4. Методика распределительного и «интегрального» электроннозон-дового рентгеноспектрального микроанализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых дисковых электродов различного радиуса.

5. Условия количественного анализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых электродов при низком отношении сигнал/шум в рентгеноэлектронных спектрах. Способы определения средней длины свободного пробега электрона в твердом теле и аппаратной функции электронного спектрометра с электростатическим полусферическим энергоанализатором.

Заключение диссертации по теме «Аналитическая химия», Осколок, Кирилл Владимирович

ВЫВОДЫ

1. Методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, элек-троннозондового рентгеноспектрального микроанализа и растровой электронной микроскопии изучены поверхности дисковых уг-леситалловых электродов, электрохимически модифицированных при индивидуальном и совместном осаждении меди, кадмия и свинца из азотнокислых растворов в условиях электроаналитического эксперимента. Установлена зависимость элементного состава и морфологии модифицированной поверхности электрода от концентрации металлов в растворе, радиуса электрода (плотности катодного тока), времени электролиза, типа интерметаллического взаимодействия.

2. Предложены феноменологические модели формирования электрохимических концентратов металлов и сплавов на поверхностях электродов из инертного материала при осаждении меди, кадмия и свинца из растворов, содержащих индифферентный фоновый электролит. Установлен характер зависимости параметров пика анодного растворения металла от механизма образования и роста его зародышей, распределения по поверхности дискового электрода и по глубине электроконцентрата, радиуса электрода.

3. Развиты подходы комплексной спектроскопической и микроскопической диагностики состояния поверхностей твердых электродов, электрохимически модифицированных при осаждении металлов, основанной на использовании методов анализа с различным разрешением по поверхности и по глубине, и показана ее эффективность. Разработана методика распределительного и «интегрального» рентгеноспектрального микроанализа поверхностных слоев дисковых электродов различного радиуса.

4. Обоснована принципиальная возможность и определены условия использования режима постоянного фактора торможения электронов электростатического полусферического энергоанализатора для количественного элементного анализа электрохимически модифицированных поверхностей твердых электродов.

5. Предложены методики определения средней длины свободного пробега электронов в твердом теле и аппаратной функции электронного спектрометра с электростатическим полусферическим энергоанализатором. Рассчитана зависимость средней длины свободного пробега электрона от кинетической энергии для некоторых материалов. Вычислена аппаратная функция электронного спектрометра ЬеуЬоШ ЬШ-Ю (Германия) для различных режимов работы энергоанализатора.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

Первой и необходимой стадией инверсионного вольтамперо-метрического анализа является стадия электрохимического или адсорбционного концентрирования определяемого вещества на поверхности электрода. Информативной является вторая стадия - электрохимическое окисление или восстановление образовавшегося концентрата. Аналитическим сигналом в инверсионной вольтамперометрии обычно является ток при линейной развертке потенциала. Как известно, аналитический сигнал обусловлен процессами на поверхности электрода. Их протекание зависит от состояния этой поверхности, на которое, в свою очередь, влияет природа материала электрода и его обработка (механическая, химическая или электрохимическая). Итак, вид поляризационных кривых зависит от природы электрода и выделяющихся на нем металлов, характера связи атомов с поверхностью электрода и между собой, условий электролиза (потенциал электрода, концентрация ионов металла в растворе, продолжительность осаждения т.д.).

К сожалению, на сегодня не существует единой математической модели, описывающей все многообразие типов поляризационных кривых (например, появление нескольких анодных пиков, соответствующих окислению одного металла в различных энергетических состояниях на поверхности электрода из инородного материала, или гистерезис катодного тока после изменения направления поляризации с катодного на анодное и т.д.). Именно поэтому необходимо развивать научно-методические подходы к интерпретации различных типов поляризационных кривых, т.е. к решению обратной задачи - выявлению условий формирования сигнала, связанного с концентрацией тех или иных ионов в растворе (аналитического сигнала), и получению информации об энергетическом состоянии металла на поверхности электрода. Знание условий преимущественной реализации того или иного энергетического состояния осажденного металла (механизма образования и роста зародышей) необходимо для выбора аналитического сигнала и условий его формирования. Успешное разрешение этой проблемы позволит в дальнейшем корректно интерпретировать экспериментальные факты, a priori выбирать условия анализа, создавать и совершенствовать методы исследования и анализа растворов, твердых материалов и сплавов. Фактически для преодоления этой проблемы необходимо решить две основные задачи. Во-первых, изучить закономерности влияния элементного и фазового состава, структуры и степени однородности электроконцентрата на регистрируемый аналитический сигнал. Во-вторых, определить условия предварительного концентрирования компонентов для получения электроконцентратов с заданными свойствами.

В настоящей работе изучено индивидуальное и совместное электрохимическое осаждение металлов на поверхностях углеситал-ловых электродов из водных растворов, содержащих индифферентный электролит. Таким образом, рассмотрен традиционный и наиболее простой из основных вариантов концентрирования, используемых в инверсионных электроаналитических методах, - разряд ионов металла на поверхности электрода из инертного материала, не осложненный специфической сорбцией и протеканием химических реакций.

Предложенные в настоящей работе подходы комплексной спектроскопической и микроскопической диагностики электрохимически модифицированных поверхностей твердых дисковых электродов позволяют изучать закономерности индивидуального и совместного электрохимического осаждения металлов в условиях электроаналитического эксперимента. На основании данных о морфологии электроконцентрата и макроскопическом распределении элементов на поверхности электрода возможно построение феноменологических моделей электрохимического осаждения металлов. В работе показано, что механизмы образования и роста зародышей при индивидуальном и совместном электрохимическом осаждении металлов, характер распределения металлов по поверхности электрода и условия эксперимента (радиус электрода, время электролиза) оказывают заметное влияние на параметры пика анодного растворения металла в условиях линейной развертки потенциала. Учет влияния перечисленных факторов на стадии планирования электроаналитического эксперимента позволит выбирать оптимальные условия формирования аналитического сигнала и тем самым повышать разрешение пиков анодного растворения различных металлов, снижать пределы обнаружения элементов, улучшать точностные характеристики инверсионного вольтамперо-метрического анализа.

Для продолжения исследований по данной тематике целесообразно привлечение таких методов анализа поверхности и поверхностных слоев твердого тела, как оже-электронная спектроскопия, сканирующий оже-микрозонд, рентгеновский микрофлуоресцентный анализ, малоугловое рассеяние рентгеновских лучей и 5рагк1е-микроскопия. Привлечение этих методов позволит не только получить качественно новую информацию (микрораспределение элементов, фазовый состав и кристаллическая структура электроконцентрата) о состоянии поверхности электрода, но и проводить электроконцентрирование из растворов с меньшим содержанием металлов. Продолжение исследования двойных металлических систем целесообразно для изучения направленного модифицирования поверхности электрода ада-томами одного металла для снижения предела обнаружения другого металла. Кроме того, расширение числа изученных двойных металлических систем позволит сформулировать общие критерии определения механизмов совместного электрохимического осаждения металлов на основании данных о морфологии электроконцентрата и макроскопическом распределении элементов на поверхности дискового элекрода. Рассмотрение тройных металлических систем необходимо для исследования эффекта «третьего» элемента. Прием, основанный на введении третьего элемента, избирательно блокирующего мешающий компонент, широко используют в инверсионных электроаналитических методах. Необходимо также детально изучить влияние фонового электролита и органических комплексообразующих реагентов на процесс индивидуального и совместного осаждения металлов. * *

Список литературы диссертационного исследования кандидат химических наук Осколок, Кирилл Владимирович, 1999 год

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Vassos В.Н., Mark Н.В. Anodic solution of thin films of copper metal from pyrolytic graphite, multiple solution current peaks. // J. Electroanal. Chem. 1967. V. 13. N 1/2. P. 1-9.

2. Cheh H.Y., Sard R. Electrochemical and structural aspects of gold electrodeposition from dilute solutions by direct current. // J. Electrochem. Soc. 1971. V. 118. P. 1737-1748.

3. Brinen J.S., McClure J.E. Application of ESCA to analytical chemistry. I. Electrochemical concentration of metals for trace quantitative analysis by ESCA. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1974. V. 4.N3.P. 243-248.

4. Richarz F., Wohlmann В., Vogel U., Hoffschulz H., Wandelt K. Surface and electrochemical characterization of electrodeposited PtRu alloys. / (Proceed. IUVSTA Workshop Surf. Sci. Electrochem., San Benedetto del Tronto, Italy, 12-16 September 1994) Surf. Sci. 1995. V. 335. N1-3. P. 361-371.

5. Szklarczyk M., Bockris J.O'M. In situ STM studies of lead electro-deposition on graphite substrate. // J. Electrochem Soc. 1990. V. 137. N 2. P. 452-457.

6. Hendricks S.A., Kim Y., Bard A.J. Imaging of the in situ deposition of lead on highly oriented pyrolytic graphite by scanning tunneling and atomic force microscopies. // J. Electrochem. Soc. 1992. V. 139. N10. P. 2818-2824.

7. Itaya K., Sugawara S. Scanning tunneling microscopy with atomic resolution in aqueous solutions. // Chem. Lett. 1987. P. 1927-1930.

8. Delplancke J.L., Sun M., O'Keefe T.J., Wmand R. Nucleation of electrodeposited copper on anodized titanium. // Hydrometallurgy. 1989. V. 23. N1. P. 47-66.

9. Sun M., O'Keefe T.J. The effect of additives on the nucleation and growth of copper onto stainless steel cathods. // Metall. Trans. B. 1992. V. 23B.N5.P. 591-599.

10. Vazquez L., Hernandez Creus A., Carro P., Ocyn P., Herrasti P., Palacio C., Vara J.M., Salvarezza R.C., Arvia A.J. Scanning tunneling microscopy and scanning electron microscopy observations of the early stage of silver deposition on graphite single crystal electrodes. // J. Phys. Chem. 1992. V. 96. P. 10454-10460.

11. Kinaci F.S., Mueller R.H. Nucleation and growth in electrodeposition of thin copper films on pyrolytic graphite. Report 1992. LBL-32400. Order No. DE92041216. 152 pp. (Avail. NTIS. From. Energy Res. Abstr. 1993. 18(1). Abstr.No. 1016.)

12. Chen Z., Li J., Wang E. In situ scanning tunneling microscopic study of nickel electrodeposition on HOPG. // J. Electroanal. Chem. 1994. V. 373. N1-2. P. 83-87.

13. Binning G., Rohrer H., Gerber C., Weibel E. Tunneling through a controllable vacuum gap. // Phys. Rev. Lett. 1982. V. 49. P. 57-65.

14. Sonnenfeld R., Hansma P.K. Atomic resolution microscopy in water. // Science. 1986. V. 232. P. 211-220.

15. Arvia A.J. Scanning tunneling microscopy and electrochemistry. / (STM'86. Proc. 1st Int. Conf. Scan. Tunnel. Microsc., Santiago de Compostela, Spain, 14-18 July 1986) Surf. Sci. 1987. V. 181. N 1-2. P. 78-91.

16. Drake B., Sonnenfeld R., Schneir J., Hansma P.K. Scanning tunneling microscopy of processes at liquid-solid interfaces. / (STM '86. Proc. 1st Int. Conf. Scan. Tunnel. Microsc., Santiago de Compostela, Spain, 14-18 July 1986) Surf. Sci. 1987. V. 181. N 1-2. P. 92-97.

17. Itaya K., Tomita E. Scanning tunneling microscope for electrochemistry - a new concept for the in situ scanning tunneling microscope in electrolyte solutions. // Surf. Sci. 1988. V. 201. N 3. P. L507-L512.

18. Batina N., Will T., Kolb D.M. Study of the initial stages of copper deposition by in situ scanning tunneling microscopy. // Faraday Discuss. 1992. V. 94. P. 93-106.

19. Bard A.J., Fan F.-R.F. Applications of scanning electrochemical microscopy. // Anal. Sci. Technol. 1995. V. 8. N 4. P. 69A-74A.

20. Bard A.J., Fan F.-R.F., Mirkin M.V. Scanning electrochemical microscopy. / Handb. Surf. Imaging Visualization. Edited by: Hubbard A.T. CRC Press: Boca Raton, Fla. 1995. P. 667-679.

21. Electrochemical Phase Formation and Growth: An Introduction to the Initial Stages of Metal Deposition. / Edited by Budevski E., Staikov G., Lorenz W.J. VCH: Weinheim, Germany, 1996. 410 pp.

22. Ullmann R., Will T., Kolb D.M. Nanoscale decoration of Au(lll) electrodes with Cu clusters by an STM. // Chem. Phys. Lett. 1993. V. 209. N3. P. 238-242.

23. Stimming U., Vogel R., Kolb D.M., Will T. Metal deposition and dissolution monitored by in situ scanning tunneling microscopy. // J. Power Sources. 1993. V. 43. N 1-3. P. 169-180.

24. Toney M.F., Howard J.N., Richer J., Borges G.L., Gordon J.G., Melroy O.R., Yee D., Sorensen L.B. Electrochemical deposition of copper on a gold electrode in sulfuric acid: resolution of the interfacial structure. // Phys. Rev. Lett. 1995. V. 75. N 24. P. 44724475.

25. Yan H., Downes J., Boden P.J., Harris S.J. Zn-Co electrodeposits: heterogeneous structure and anomalous deposition. // Philosophical Magazine A [Physics of Condensed Matter, Defects and Mechanical Properties], 1994. V. 70. N2. P. 373-389.

26. Dasarathy H., Riley C., Coble H.D. Electrodeposition of cobalt-chromium alloy from trivalent chromium solutions. // J. Electrochem. Soc. 1994. V. 141. N 7. P. 1773-1779.

27. Cui C.Q., Lee J.Y., Lin J., Tan K.L. Effects of oxygen reduction on nickel deposition from unbuffered aqueous solutions. II. Characterization of the electrode interface in electrodeposition. // J. Electrochem. Soc. 1995. V. 142. N 4. P. 1132-1138.

28. Martins L.F.O., Hasenack C.M., D'Ajello P.C.T.D., Losch W.H.P., de Lima J.C., Pasa A.A. Electrochemical deposition of Cu on n-Si. // Proc. - Electrochem. Soc. 1996. V. 96-8. P. 227-232.

29. Goldstein J.I., Newbury D.E., Echlin P. et al. Scanning Electron Microscopy and X-ray Microanalysis. NY: Plenum Press, 1981. 381 pp.

30. Yan H., Downes J., Boden P.J., Harris S.J. Morphology and fine structure of zinc electrodeposits. // Philosophical Magazine A [Physics of Condensed Matter, Defects and Mechanical Properties], 1994. V. 70. N2. P. 391-404.

31. Анализ поверхности методами оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии / Под ред. Д. Бриггса и М.П. Сиха. М.: Мир, 1987. 656 с.

32. Нефедов В.И., Черепин В.Т. Физические методы исследования поверхности твердых тел. М.: Наука, 1983. 296 с.

33. Zhou М., Myung N., Chen X., Rajeshwar К. Electrochemical deposition and stripping of copper, nickel and copper-nickel alloy thin films at a poly crystalline gold surface: a combined voltammetry-coulometry-electrochemical quartz crystal microgravimetry study. // J. Electroanal. Chem. 1995. V. 398. N 1-2. P. 5-12.

34. Jeske M., Schultze J.W., Thonissen M., Munder H. Electrodeposition of metals into porous silicon. // Thin Solid Films. 1995. V. 255. N 12. P. 63-66.

35. Radnik J., Wagner B.D., Oster K., Wandelt K. Thin film and surface alloy formation with Cu deposits on Pt(100)hex. // Surf. Sci. 1996. V. 357-358. P. 943-948.

36. Schroeder U., Linke R., Boo J.-H., Wandelt K. Growth and characterization of ultrathin Pt films on Cu(lll). // Surf. Sci. 1996. V. 357-358. P. 873-878.

37. Kawai J., Hayakawa S., Kitajima Y., Maeda K., Gohshi Y. Total reflection X-ray photoelectron spectroscopy. / (6th Int. Conf. Electron Spectrosc., ICES 6. Rome, Italy. 19-23 June 19-23, 1995.) J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1995. V. 76. P. 313-318.

38. Shimada H. X-ray photoelectron spectroscopy using synchrotron radiation. // Rigaku Denki Janaru. 1996. V. 27. N 1. P. 10-17.

39. Yamamoto H., Baba Y., Sasaki T.A. Application of high-energy synchrotron-radiation XPS to determine the thickness of Si02 thin films on Si(100). // Surf. Sci. 1996. V. 349. N 1. P. L133-L137.

40. Методы анализа поверхностей / Под ред. А. Зандерны. М.: Мир, 1979. 582 с.

41. Shen Y.G., O'Connor D.J., Wandelt К., MacDonald R.J. Thin film growth of Pt on Cu(lll): a LEIS study. // Surf. Sci. 1996. V. 357358. P. 921-925.

42. Oster K., Schmidt M., Nohlen M., Radnik J., Wandelt K. Surface modification by metal deposition. // Phys. Status Solidi B. 1995. V. 192. N2. P. 441-463.

43. Lorenz W.J., Staikov G. Electrochemical formation of metal phases with different dimensionality - an atomistic view. // Proc. -Electrochem. Soc. 1996. V. 96-8. P. 189-202.

44. Hilfiker J.N., Thompson D.W., Hale J.S., Woollam J.A. In-situ ellipsometric characterization of the electrodeposition of metal films. // Thin Solid Films. 1995. V. 270. N 1-2. P. 73-77.

45. Christoph R., Siegenthaler H., Rohrer H., Wiese H. In situ scanning tunneling microscopy at potential controlled silver(lOO) substrates. // Electrochim. Acta. 1989. V. 34. P. 1011-1019.

46. Green M.P., Hanson K.J., Scherson D.A., Xing X., Richter M., Ross P.N., Carr R., Lindau I. In situ scanning tunneling microscopy studies of the underpotential deposition of lead on gold(lll). // J. Phys. Chem. 1989. V. 93. P. 2181-2192.

47. Magnussen O.M., Hotlos J., Nichols R.J., Kolb D.M., Behm R.J. Atomic structure of copper adlayers on gold(100) and gold(lll) electrodes observed by in situ scanning tunneling microscopy. // Phys. Rev. Lett. 1990. V. 64. P. 2929-2936.

48. Green M.P., Hanson K.J., Carr R., Lindau I. STM observations of the underpotential deposition and stripping of Pb on Au(lll) under potential sweep conditions. // J. Electrochem. Soc. 1990. V. 137. N 11. P. 3493-3498.

49. Magnussen O.M., Hotlos J., Beitel G., Kolb D.M., Behm R.J. Atomic structure of ordered copper adlayers on single-crystalline gold. // J. Vac. Sei. Technol. 1991. V. B 9. N 2. P. 969-975.

50. Behm R.J. Structure of underpotential deposited metal adlayers observed by scanning tunneling microscopy. // Electrochim. Acta. 1991. V. 36. N11-12. P. 1893-1894.

51. Hachiya T., Honbo H., Itaya K. Detailed underpotential deposition of copper on gold(lll) in aqueous solution. // J. Electroanal. Chem. 1991. V. 315. N1-2. P. 275-291.

52. Sashikata K., Furuya N., Itaya K. In situ scanning tunneling microscopy of underpotential deposition of copper on platinum(l 11) in sulfuric acid solution. // J. Electroanal. Chem. 1991. V. 316. N 1-2. P.

o f 1 o /T\

3oi-3oö.

53. Kimizuka N., Itaya K. In situ scanning tunneling microscopy of un-derpotential deposition: silver adlayers on platinum (111) in sulfuric acid solutions. // Faraday Discuss. 1992. V. 94. P. 117-126.

54. Chen C., Vesecky S.M., Gewirth A.A. In situ atomic force microscopy of underpotential deposition of silver on gold(lll). // J. Amer. Chem. Soc. 1992. V.114. N 2. P. 451-458.

55. Chen C., Gewirth A.A. In situ observation of monolayer structures of underpotentially deposited mercury on gold(lll) with the atomic force microscope. // Phys. Rev. Lett. 1992. V. 68. N 10. P. 15711574.

56. Tao N.J., Pan J., Li Y., Oden P.I., De Rose J.A., Lindsay S.M. Initial stage of underpotential deposition of Pb on reconstructed and unreconstructed Au(lll). // Surf. Sci. Lett. 1992. V. 271.N 1-2. P. L338-L344.

57. Nichols R.J., Kolb D.M., Behm R.J. STM observations of the initial stages of copper deposition on gold single-crystal electrodes. // J. Electroanal. Chem. 1991. V. 313. N 1-2. P. 109-119.

58. Lorenz W.J., Staikov G. 2D and 3D thin film formation and growth mechanisms in metal electrocrystallization - an atomistic view by in situ STM. / (Proceed. IUVSTA Workshop Surf. Sci. Electrochem., San Benedetto del Tronto, Italy, 12-16 September 1994) Surf. Sci. 1995. V. 335. N1-3. P. 32-43.

59. Bozhkov Kh., Tsvetkova Kh., Roshkov S., Budniok An., Budniok Ad. On the surface coverage with adatoms during the initial nuclea-tion stages of nickel deposition onto glassy carbon. // J. Electroanal. Chem. 1990. V. 296. N 2. P. 453-462.

60. Schneir J., Elings V., Hansma P.K. Scanning tunneling microscope images of the initial stages of electrocrystallization on a gold(lll) surface. // J. Electrochem. Soc. 1988. V. 135. N 11. P. 2774-2777.

61. Endo K., Sugawara Y., Mishima S., Okada T., Morita S. In situ imaging of electrochemical deposition of Ag on Au(lll). // Jpn. J. Appl. Phys. 1991. V. 30. N 10. P. 2592-2593.

62. Sonnenfeld R., Schardt B.C. Tunneling microscopy in an elctro-chemical cell: images of silver plating. // Appl. Phys. Lett. 1986. V. 49. N 18. P. 1172-1174.

63. Nichols R.J., Bunge E., Meyer H., Baumgaertel H. Classification of growth behaviour for copper on various substrates with in situ scanning probe microscopy. / (Proceed. IUVSTA Workshop Surf. Sei. Electrochem., San Benedetto del Tronto, Italy, 12-16 September 1994) Surf. Sei. 1995. V. 335. N 1-3. P. 110-119.

64. Rynders R.M., Alkire R.C. Use of in situ atomic force microscopy to image copper electrodeposits on platinum. // J. Electrochem. Soc. 1994. V. 141. N5. P. 1166-1173.

65. Budevski E., Obretenov W., Bostanov V., Staikov G., Doneit J., Juettner K., Lorenz W.J. Noise analysis in metal deposition - expectations and limits. //Electrochim. Acta. 1988 (Pub. 1989). V. 34. N 8. P. 1023-1029.

66. Lorenz W.J., Gassa L.M., Schmidt U., Obretenov W., Staikov G., Bostanov V., Budevski E. STM studies in underpotential-overpotential metal deposition. // Electrochim. Acta. 1992. V. 37. N 12. P. 2173-2178.

67. Obretenov W., Schmidt U., Lorenz W.J., Staikov G., Budevski E., Carnal D., Mueller U., Siegenthaler H., Schmidt E. Underpotential deposition and electrocrystallization of metals. An atomic view by scanning tunneling microscopy. //J. Electrochem. Soc. 1993. V. 140. N 3. P. 692-703.

68. Staikov G., Budevski E., Obretenov W., Lorenz W.J. Substrate-induced strain of underpotential deposition (UPD) monolayers and

two-dimensional - three-dimensional transition in metal electrode-position. //J. Electroanal. Chem. 1993. V. 349. N 1-2. P. 355-363.

69. Obretenov W., Schmidt U., Lorenz W.J., Staikov G., Budevski E., Carnal D., Mueller U., Siegenthaler H., Schmidt E. Underpotential deposition and electrocrystallization of metals: an in situ scanning tunneling microscopy study with lateral atomic resolution. // Faraday Discuss. 1992. V. 94. P. 107-116.

70. Pauling H.J., Schmidt U., Staikov G., Juettner K., Lorenz W.J., Budevski E. From UPD adlayers to electrodeposited thin films. An atomistic view. / (Proceed. Symp. Electrochem. Deposited Thin Films, 1993) Proc.-Electrochem. Soc. 1993. V. 93-26. P. 19-40.

71. Rigano P.M., Mayer C., Chierchie T. Structural investigation of the initial stages of copper electrodeposition on polycrystalline and single crystal palladium electrodes. // Electrochim. Acta. 1990. V. 35. N

7. P. 1189-1194.

72. Adzic G.D., Drazic D.M., Despic A.R. A method of obtaining a small number of nucleation sites and growing large crystal grains. // J. Electroanal. Chem. 1988. V. 239. N 1-2. P. 107-111.

73. Jovic V.D., Jovic B.M. Deposition of lead on single and polycrystalline silver electrodes. // J. Serb. Chem. Soc. 1988. V. 53. N 10. P. 565-573.

74. Crousier J., Bimaghra I. Electrodeposition of copper from sulfate and chloride solutions. // Electrochim. Acta. 1988. (Pub. 1989) V. 34. N

8. P. 1205-1211.

75. Serruya A., Mostany J., Scharifker B.R. In situ photomicrographic study of lead nucleation onto vitreous carbon. / 5th Libro Mem.-Encuentro Nac. Electroquim. 1992. P. 325-342.

76. Schmidt U., Vinzelberg S., Staikov G. Pb UPD on Ag(100) and Au(100) - 2D phase formation studied by in situ STM. // Surf. Sci. 1996. V. 348. N3. P. 261-279.

77. Colyer C.L., Oldham K.B., Fletcher S. Growth of mercury electrode-posits on an inlaid disk. Thermodynamic theory. // J. Electroanal. Chem. 1990. V. 290. N 1-2. P. 33-48.

78. Rigano P.M., Chierchie Т., Mayer C. The electrodeposition of copper on palladium. //Lat. Am. Appl. Res. 1988. V. 18. N 1. P. 49-53.

79. Chierchie T. Determination of the nucleation work and the cluster excess free energy during electrochemical phase formation. // J. Electroanal. Chem. 1989. V. 269. N 1. P. 205-207.

80. Marner В., Schmickler W. A simple model for the growth of two-dimensional metal clusters. // J. Electroanal. Chem. 1990. V. 278. N 1-2. P. 393-398.

81. Milchev A. Electrochemical phase formation on a foreign substrate -basic theoretical concepts and some experimental results. // Contemp. Phys. 1991. V. 32. N 5. P. 321-332.

82. Жихарева И.Г. Расчет энергетических характеристик зародышей при электрокристаллизации металлов. // Журн. физ. хим. 1992. Т. 66. № 8. С. 2232-2235.

83. Подборнов Н.В., Захаров М.С. Структурные модели зародыше-образования металлов и сплавов при катодном электроосаждении. // Защита мет. 1992. Т. 28. № 5. С. 868-871.

84. Michailova Е., Vitanova I., Stoychev D., Milchev A. Initial stages of copper electrodeposition in the presence of organic additives. // Electrochim. Acta. 1993. V. 38. N 16. P. 2555-2558.

85. Жихарев А.И., Жихарева И.Г. Ориентационный рост смешанных кристаллов при электрокристаллизации сплавов. // Защита мет. 1993. Т. 29. №6. С. 920-927.

86. Жихарев А.И., Жихарева И.Г. Моделирование структуры элек-троосажденных металлов с тригональной кристаллической решеткой. //Изв. Высш. Учебн. Завед. (Хим. хим. технол.) 1993. Т. 36. № 5. С. 23-28.

87. Жихарев А.И., Жихарева И.Г. Стационарное электрохимическое зародышеобразование смешанных кристаллов. // Изв. Высш. Учебн. Завед. (Хим. хим. технол.) 1993. Т. 36. № 9. С. 69-74.

88. Смолин А.В., Гвоздев В.Д., Данилов А.И., Полукаров Ю.М. Ранние стадии электрокристаллизации меди на поверхности поликристаллического серебра. // Электрохимия. 1994. Т. 30. № 2. С. 157-162.

89. Lucas С.А., Markovic N.M., Ross P.N. Electrochemical deposition of copper onto Pt(lll) in the presence of (bi)sulfate anions. // Phys. Rev. B: Condens. Matter. 1997. V. 56. N 7. P. 3651-3654.

90. Dietterle M., Will Т., Kolb D.M. The initial stages of copper deposition on Ag(lll): an STM study. // Surf. Sci. 1995. V. 342. N 1-3. P. 29-37.

91. Salvarezza R.C., Alonso C.A., Vara J.M., Albano E., Martin H., Arvia A.J. The electrochemical growth mode of metal overlayers. A Monte Carlo simulation applicable to the effect of foreign adatom on roughness development. // J. Electrochem. Soc. 1991. V. 138. N 10. P. 2938-2942.

92. Fabricius G., Kontturi K., Sundholm G. Influence of thiourea on the nucleation of copper from acid sulfate solutions. // Electrochim. Acta. 1994. V. 39. N 16. P. 2353-2357.

93. Batina N., Kolb D.M., Nichols R.J. An in situ scanning tunneling microscopy study of the initial stages of bulk copper deposition on gold (100): the rim effect. // Langmuir. 1992. V. 8. N 10. P. 2572-2576.

94. Nichols R.J., Beckmann W., Meyer H., Batina N., Kolb D.M. An in situ scanning tunneling microscopy study of bulk copper deposition and the influence of an organic additive. // J. Electroanal. Chem. 1992. V. 330. N1-2. P. 381-394.

95. Kuhn A., Argoul F. Influence of chemical perturbations on the surface roughness of thin layer electrodeposits. // Fractals. 1993. V. 1.N3. P. 451-459.

96. Franklin T.C. Some mechanisms of the action of additives in electrodepositionprocesses. //Plating Surf. Finishing. 1994. V. 81. N 4. P. 62-67.

97. Vanden B.P., Winand R. First stages of the formation of copper electrodeposits and copper sputtered deposits on amorphous carbon and polycrystalline silver substrates. // J. Appl. Electrochem. 1993. V. 23. N11. P. 1089-1096.

98. Kolb D.M. Reconstruction phenomena at metal-electrolyte interfaces. //Prog. Surf. Sci. 1996. V. 51. N2. P. 109-173.

99. Martins M.E., Salvarezza R.C., Arvia A J. A comparative study of the early stages of mercury, cadmium, lead, silver and copper electrodeposition on columnar and smooth platinum electrodes. // Electrochim. Acta. 1996. V. 41. N 15. P. 2441-2449.

100. Oskam G., Long J.G., Nikolova M., Searson P.C. Electrochemical deposition of metals on semiconductors. // Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1997. V. 451. P. 257-266.

101. Гамбург Ю.Д. Электрохимическая кристаллизация металлов и сплавов. М.: Янус-К, 1997. 384 с.

102. Grande W.C., Talbot J.B. Electrodeposition of thin films of nickel-iron. II. Modeling. // J. Electrochem. Soc. 1993. V. 140. N 3. P. 675681.

103. Matlosz M. Competitive adsorption effects in the electrodeposition of iron-nickel alloys. // J. Electrochem. Soc. 1993. V. 140. N 8. P. 22722279.

104. Yu-Po Lin, Selman J.R. Electrodeposition of Ni-Zn alloy. II. Electrocrystallization of Zn, Ni, and Ni-Zn alloy. // J. Electrochem. Soc. 1993. V. 140. N 5. P. 1304-1310.

105. Jordan K.G., Tobias C.W. A simulation of the influence of corrosive agents in electrodeposition on microprofiles. // J. Electrochem. Soc. 1991. V. 138. N12. P. 3581-3588.

106. Dukovic J.O. Feature-scale simulation of resist-patterned electrodeposition. // IBM J. Research Develop. 1993. V. 37. N 2. P. 125-141.

107. Chazalviel J.-N. Electrochemical aspects of the generation of ramified metallic electrodeposits. // Phys. Rev. A [Statistical Physics, Plasmas, Fluids, and Related Interdisciplinary Topics]. 1990. V. 42. N12. P. 7355-7367.

108. Fleury V., Chazalviel J.-N., Rosso M., Sapoval B. The role of the anions in the growth speed of fractal electrodeposits. // J. Electroanal. Chem. 1990. V. 290. N. 1-2. P. 249-255.

109. Palomar-Pardave M., Ramirez M.T., Gonzalez I., Serruya A., Scharifker B.R. Silver electrocrystallization on vitreous carbon from ammonium hydroxide solutions. // J. Electrochem. Soc. 1996. V. 143. N5. P. 1551-1558.

110. Walsh F.C., Herron M.E. Electrocrystallization and electrochemical control of crystal growth: fundamental considerations and electrodeposition of metals. // J. Phys. D [Applied Physics]. 1991. V. 24. N2. P. 217-225.

111. Seah M.P. The quantitative analysis of surfaces by XPS: a review. // Surf. Interface Anal. 1980. V. 2. N 6. P. 222-239.

112. Scharli M., Brunner J. Experimental study of the energy dependence of transmission in photoelectron spectrometers. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1983. V. 31. N4. P. 323-334.

113. Cross Y.M., Castle J.E. The relationship between transmission efficiencies in the FFR and FAT modes of an electron spectrometer. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1981. V. 22. N 1. P. 53-60.

114. Powell G.J. The quest for universal curves to describe the surface sensitivity of electron spectroscopies. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1988. V. 47. P. 197-214.

115. Tracy J.C. Electron Escape depth in aluminum. // J. Vac. Sci. Technol. 1974. V. 11. N 1. P. 280.

116. Tanuma S., Powell G.J., Penn D.R. Calculations of electron inelastic mean free paths for 31 materials. // Surf. Interface Anal. 1988. V. 11. N 11. P. 577-589.

117. Seach M.P., Dench W.A. Quantitative electron spectroscopy of surfaces: a standard data base for inelastic mean free paths in solids. // Surf. Interface Anal. 1979. V. 1. N 1. P. 2-11.

118. Szajman J., Leckey R.C.G. An analytical expression for the calculation of electron mean free pathsin solids. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1981. V. 23. N 1. P. 83-96.

119. Szajman J., Liesegang J., Jenkin J.G., Leckey R.C.G. Is there an universal mean free path curve for electron inelastic scattering in solids? // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1981. V. 23. N 1. P. 97-102.

120. Pen D.R. Quantitative chemical analysis by ESC A. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1976. V. 9. N 1. P. 29-40.

121. Tanuma S., Powell C.J., Penn D.R. Electron inelastic mean free paths in solids at low energies. / (4th Int. Conf. Electron Spectrosc., ICES 4. Honolulu, USA. July 10-14, 1989.) J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1990. V. 52. P. 285-291.

122. Ebel H., Ebel M.F., Baldauf P., Jablonski A. The energy dependence of attenuation lengths in elements. / (European Conf. Appl. Surf. Interface Anal., ECASIA 87. Fellbach, West Germany. October 1923, 1987) Surf. Interface Anal. 1988. N 1-12. V. 12. P. 172-173.

123. Jablonski A. Elastic scattering and quantification in AES and XPS. // Surf. Interface Anal. 1989. V. 14. N 11. P. 659-665.

124. Yoshikawa H., Shimizu R. Monte Carlo simulation of Auger electron spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy spectra. / (38th Nation. Symp. American Vac. Soc. Seattle, WA, USA. November 11-15, 1991.) J. Vac. Sci. Technol. A [Vac., Surf., Films]. 1992. V. 10. N4. P. 2931-2937.

125. Werner W.S.M. Towards a universal curve for electron attenuation: Elastic scattering data for 45 elements. // Surf. Interface Anal. 1992. V. 18. N3. P. 217-228.

126. Chakarova R. Monte Carlo model of electron elastic scattering in solids. // Surf. Sci. 1996. V. 351. N 1-3. P. 303-308.

127. Tilinin I.S., Jablonski A., Lesiak-Orlowska B. The influence of elastic scattering on the concentration dependence of the

frVi tH

photoelectron line intensity. / (Proceed. 13 Int. Vac. Congr., 9 Int. Conf. Solid Surf., 1995) Appl. Surf. Sci. 1996. V. 100-101. P. 20-24.

128. Jablonski A., Lesiak B., Gergely G. Derivation of the electron inelastic mean free path from the elastic peak intensity // Physica Scripta. 1989. V. 39. N 3. P. 363-366.

129. Lesiak B., Jablonski A., Prussak Z., Mrozek P. Experimental determination of the inelastic mean free path of electrons in solids. // Surf. Sci. 1989. V. 223. N 1-2. P. 213-232.

130. Lesiak B., Jablonski A., Gergely G. Multiple scattering analysis for determining the electron inelastic mean free path (IMFP) by elastic peak electron spectroscopy. / (Yugoslav-Austrian-Hungarian 4th Joint

Vac. Conf. Portoroz, Yugoslavia. September 20-23, 1988.) Vacuum. 1990. V. 40. N 1-2. P. 67-70.

131. Gergely G., Menyhard M., Pentek K., Sulyok A., Jablonski A., Lesiak B., Daroczi Cs. Experimental determination of the inelastic mean free path (IMFP) of electrons in Cr, Mo, Ge and Si based on the elastic peak intensity ratio with a Ni reference sample. / (14th European Conf. Surf. Sci., ECOSS-14. Leipzig, Germany. September 19-23, 1994.) Surf. Sci. 1995. V. 331-333. P. 1203-1207.

132. Kawai J., Adachi H., Kitajima Y., Maeda K., Hayakawa S., Gohshi Y. A novel technique to determine the IMFP by total reflection X-ray photoelectron spectroscopy. // J. Surf. Anal. 1996. V. 2. N 1. P. 132133.

133. Kawai J., Adachi H., Kitajima Y., Maeda K., Hayakawa S., Gohshi Y. Inelastic mean free path of photoelectrons in Ag determined by total reflection x-ray photoelectron spectroscopy. // Anal. Sci. 1997. V. 13. N5. P. 797-801.

134. Jablonski A. Escape depth of photoelectrons. // Surf. Interface Anal. 1994. V. 21. N11. P. 758-763.

135. Werner W.S.M., Gries W.H., Stori H. A Monte Carlo study of the angular dependence of the depth distribution function of signal electrons in electron spectroscopies. // J. Vac. Sci. Technol. A [Vac., Surf., Films], 1991. V. 9. N 1. P. 21-26.

136. Werner W.S.M. The role of the attenuation parameter in electron spectroscopy. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1992. V. 59. N 4. P. 275-291.

137. Werner W.S.M., Tilinin I.S. The escape probability of Auger and photoelectrons from solids. /. (Appl. Surf. Sci. Electron. Mater. -Session of the 12th Int. Vac. Congr., IVC-12. Hague, Netherlands. October 12-16, 1992.) Appl. Surf. Sci. 1993. V. 70-71. P. 29-34.

138. Jablonski A. Universal quantification of elastic scattering effects in AES and XPS. // Surf. Sci. 1996. V. 364. N 3. P. 380-395.

139. Jablonski A., Powell C.J. Evaluation of correction parameters for elastic-scattering effects in x-ray photoelectron spectroscopy and Auger electron spectroscopy. // J. Vac. Sci. Technol. A. 1997. V. 15. N4. P. 2095-2106.

140. Cumpson P.J., Seah M.P. Elastic scattering corrections in AES and XPS. II. Estimating attenuation lengths and conditions required for their valid use in overlayer/substrate experiments. // Surf. Interface Anal. 1997. V. 25. N 6. P. 430-446.

141. Tougaard S., Jablonski A. Quantitative XPS: influence of elastic electron scattering in quantification by peak shape analysis. // Surf. Interface Anal., V. 25. N 6. P. 404-408.

142. Matthew J.A.D., Jackson A.R., El-Gomati M.M. Systematic trends in the transport mean free path with electron energy and atomic number. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1997. V. 85. N 3. P. 205219.

143. Tilinin I.S., Jablonski A., Werner W.S.M. Quantitative surface analysis by Auger and X-ray photoelectron spectroscopy. // Prog. Surf. Sci. 1996. V. 52. N 4. P. 193-335.

144. Jablonski A., Tilinin I.S., Powell C.J. Mean escape depth of signal photoelectrons from amorphous and poly crystalline solids. // Phys. Rev. B: Condens. Matter. 1996. V. 54. N 15. P. 10927-10937.

145. Ebel H., Zuba G., Ebel M.F. A modified bias-method for the determination of spectrometer function. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1983. V. 31. P. 123.

146. Витер И.П., Каменев А.И., Сидаков A.A., Зыган В.H. Инверсионное вольтамперометрическое и хронопотенциометрическое определение цинка, кадмия, свинца и меди с использованием

электродов из стеклоуглерода и углеситалла. // Жури, аналит. хим. 1994. Т. 49. № 12. С. 1295-1298.

147. Волков Г.М., Калугин В.И., Сысков К.И. Некоторые физические и химические свойства углеситалла. // Докл. АН СССР. 1968. Т. 183. №2. С. 396-397.

148. Каменев А.И., Панферов Ю.Ф., Сережкин Б.Л., Чинякова В.В. Вольтамперометрический комплекс. // Журн. аналит. хим. 1993. Т. 48. №6. С. 1080-1081.

149. Scofield J.H. Hartree-Slater subshell photoionization cross-sections at 1254 and 1487 eV. // J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1976. V. 8. N2. P. 129-137.

150. Bishop H.E., Riviere J.C. Estimates of the efficiencies of production and detection of electron-excited Auger emission. // J. Appl. Phys. 1969. V. 40. N4. P. 1740-1744.

151. Ichimura S., Shimizu R. Backscattering correction for quatitative Auger analysis. I. Monte Carlo calculations of backscattering factors for standard materials. // Surf. Sci. 1981. V. 112. N 3. P. 386-408.

152. Jablonski A. Calculations of the backscattering factor for L3MM Auger transitions. // Surf. Interface Anal. 1980. V. 2. N 2. P. 39-45.

153. Reuter W. Ionization function and its application to the electron probe analysis of thin films. / Proceed. 6th Int. Conf. X-ray Optics Microanal. Ed. by Shinoda G., Kohra K., Ichinokawa T. Univ. Of Tokyo Press, 1972. P. 121-130.

154. Гусева М.Б., Дубинина E.M. Физические основы твердотельной электроники. М.: Изд-во МГУ, 1986. 312 с.

155. Фелдман Л., Майер Д. Основы анализа поверхности и тонких пленок. М.: Мир, 1989. 344 с.

156. Выдра Ф., Штулик К., Юлакова Э. Инверсионнная вольтампе-рометрия. М.: Мир, 1980. 280 с.

157. Брайнина Х.З., Нейман Е.Я. Твердофазные реакции в электроаналитической химии. М.: Химия, 1982. 264 с.

158. Хансен М., Андерко К. Структуры двойных сплавов. М.: Метал-лургиздат, 1982. 1488 с.

159. Nagl С., Platzgummer Е., Schmid М., Varga P., Speller S., Heiland W. Subsurface islands and superstructures of Cu on Pb(lll). // Surf. Sei. 1996. V. 352-354. P. 540-545.

160. H.B. Алов, К.Б. Калмыков, А.И. Каменев, B.K. Рунов, K.B. Осколок. Рентгеноэлектронный и рентгеноспектральный анализ электрохимически модифицированных поверхностей углеситалло-вых электродов. // Доклады Академии Наук. 1997. Т. 353. № 6. С. 759-762.

161. Н.В. Алов, К.Б. Калмыков, А.И. Каменев, К.А. Ковальский, В.К. Рунов, К.В. Осколок. Спектроскопическое и микроскопическое исследование процессов электрохимического осаждения и со-осаждения меди и свинца на поверхности углеситалловых электродов. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 1997. № 6. С. 44-52.

162. N.V. Alov, K.V. Oskolok. XRF, XPS and EPMA study of electrochemical deposition and co-deposition of metals on solid electrode surfaces. // CAN AS '97, Colloquium Analytische Atomspektroskopie. Universität Leipzig und UFZ Leipzig-Halle, Germany, 1998. P. 437-440.

163. H.B. Алов, K.B. Осколок. Количественный рентгеноэлектронный анализ химически модифицированных поверхностей твердых тел. // Вестник МГУ. Сер. 2, Химия. 1998. Т. 39. № 6. С. 394-398.

164. N.V. Alov, K.V. Oskolok. Electron probe X-ray microanalysis of glass-ceramic carbon electrode surfaces modified by copper, cadmium and lead electrochemical co-deposition. // Journal of Analytical Atomic Spectrometry. 1999. V. 14. N 3. P. 425-428.

165. Н.В. Алов, К.Б. Калмыков, А.И. Каменев, К.В. Осколок. Электрохимическая кристаллизация металлов при соосаждении меди и свинца на поверхности углеситалловых электродов. // Вестник МГУ. Сер. 2, Химия. 1999. Т. 40. № 3. С. 169-171.

166. Alov N.V., Oskolok K.V. XRF, XPS and EPMA study of electrochemical deposition and co-deposition of metals on solid electrode surfaces. / Colloquium Analytische Atomspektroskopie (CANAS '97). March 9-14, 1997. Freiberg, Germany. Book of Abstracts. P. PII/11.

167. К.В. Осколок. Спектроскопическое исследование электрохимически модифицированных поверхностей углеситалловых электродов. / Тезисы докладов Всероссийской молодежной научной конференции "XXIII Гагаринские чтения". 8-12 апреля 1997 года. Москва, Россия. С. 157-158.

168. N.V. Alov, К.В. Kalmykov, A.I. Kamenev, K.V. Oskolok. Electrochemical deposition and co-deposition of metals on solid electrode surfaces: EPMA, SEM and XPS study. / 5th European Workshop on Modern Development and Applications in Microbeam Analysis (EMAS '97). May 11-15, 1997. Torquay, U.K. Book of Abstracts. P. 247.

169. Н.В. Алов, К.В. Осколок. К вопросу о количественном рентгено-электронном анализе поверхности твердого тела. / Тезисы докладов Национальной конференции по применению рентгеновского, синхротронного излучения, нейтронов и электронов для исследования материалов (РСНЭ-97). 26-29 мая 1997 года. Дубна-Москва, Россия. С. 493.

170. N.V. Alov, K.V. Oskolok. On the quantitative surface analysis with the use of photoelectron spectra measured in the constant retarding factor mode of energy analyzer. / International Congress on

Analytical Chemistry (1СAC '97). June 15-21, 1997. Moscow, Russia. Abstracts. P. L-69.

171. N.V. Alov, K.B. Kalmykov, A.I. Kamenev, K.V. Oskolok. XPS, EPMA and SEM study of electrochemically modified electrode surfaces. / Ibid. P. L-70.

172. N.V. Alov, K.V. Oskolok. Growth and spectroscopic characterization of copper-lead electrodeposit on novel carbon electrode surface. / 17th European Conference on Surface Science (ECOSS 17). September 16-19, 1997. Enschede, The Netherlands. Europhysics Conference Abstracts. V. 2 IE. P. WeP13.

173. N.V. Alov, K.B. Kalmykov, A.I. Kamenev, K.V. Oskolok. EPMA study of novel carbon electrode surfaces modified by copper, cadmium and lead co-deposition. / 15th International Congress on X-ray Optics and Microanalysis (ICXOM XV). August 24-27, 1998. Antwerp, Belgium. Book of Abstracts. P. 49.

174. H.B. Алов, K.B. Осколок. Моделирование взаимодействия электрона средней энергии с металлом. / Тезисы докладов Второй Национальной конференции по применению рентгеновского, синхротронного излучения, нейтронов и электронов для исследования материалов (РСНЭ-99). 23-27 мая 1999 года. Москва, Россия. С. 363.

175. Н.В. Алов, К.В. Осколок. Электроннозондовый рентгеноспек-тральный микроанализ электрохимически модифицированных поверхностей твердых дисковых электродов. / Там же. С. 364.

176. N.V. Alov, K.V. Oskolok. Growth of copper-cadmium and copper-lead electrodeposits on glass-ceramic carbon surface: XPS, EPMA and SEM study. /18th European Conference on Surface Science (ECOSS 18). September 21-24, 1999. Vienna, Austria. Europhysics Conference Abstracts, (in press).