Разработка технологических мероприятий по повышению эффективности процесса магнетронного напыления упрочняющих 3D-нанокомпозитных покрытий металлорежущего инструмента тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.02.07, кандидат технических наук Дружков, Станислав Сергеевич

• Дружков, Станислав Сергеевич
• кандидат технических наук
• 2012

Оглавление диссертации кандидат технических наук Дружков, Станислав Сергеевич

Условные обозначения

Введение.

Глава 1. Состояние вопроса. Цель и задачи исследования.

1.1 Актуальность применения износостойких наноструктурированных покрытий при производстве металлорежущего инструмента.

1.2 Магнетронный метод нанесения упрочняющих покрытий.

1.3 Проблема количественной оценки качественных характеристик производственных процессов.

1.4 Современные подходы к математическому описанию процессов ионно-плазменного синтеза упрочняющих покрытий.

1.4.1 Генерация разрядов в газах при низком давлении.

1.4.2 Теория подобия газовых разрядов.

1.4.3 Процессы ионно-плазменного напыления.

1.5 Выводы по главе. Постановка цели и задач исследования.

Глава 2. Аналитические исследования рабочего процесса в магнетронных распылительных системах. .'.

2.1 Формализация влияния технологических условий осуществления процесса магнетронного распыления на формирование давления газа в вакуумной камере.

2.2 Вывод аналитической зависимости скорости напыления от давления газа в вакуумной камере.

2.3 Выводы по главе.

Глава 3. Экспериментальные исследования рабочего процесса в магнетронных распылительных системах.

3.1 Методика экспериментальных исследований, используемое оборудование и материалы.

3.1.1 Методика исследований.

3.1.2 Используемое оборудование.

3.1.3 Используемые материалы.

3.2 Экспериментальные исследования влияния качественных условий процесса магнетронного напыления на формирование давления газа в вакуумной камере.

3.3 Экспериментальное исследование зависимости определяющих параметров скорости процесса напыления от давления газа в вакуумной камере.

3.3.1 Экспериментальное исследование зависимости коэффициента распыления от давления газа в вакуумной камере.

3.3.2 Экспериментальное исследование зависимости плотности ионного тока от давления газа в вакуумной камере.

3.3.3 Экспериментальное исследование взаимосвязи производительности процесса напыления с величиной давления газа в вакуумной камере.

3.4 Выводы по главе.

Глава 4. Параметрическая оптимизация давления газа в процессе напыления по скорости осаждения покрытия.

4.1 Параметрическая оптимизация давления газа в вакуумной камере по симплексу скорости осаждения покрытия с учётом конкретных условий процесса магнетронного напыления.

4.2 Практическая проверка результативности выполненных оптимизационных мероприятий.

4.3 Формирование программного модуля параметрической оптимизации давления газа в различных условиях реализации процессов ионно-плазменного магнетронного синтеза упрочняющих покрытий.

4.4 Выводы по главе.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Разработка технологических мероприятий по повышению эффективности процесса магнетронного напыления упрочняющих 3D-нанокомпозитных покрытий металлорежущего инструмента»

Актуальность темы

Эффективность механической обработки во многом определяется характеристиками применяемого металлорежущего инструмента. Непрерывно осуществляются исследования, ориентированные на повышение скорости резания, увеличение прочности и повышение износостойкости инструмента. Эффективным направлением повышения характеристик металлорежущего инструмента является нанесение на его рабочую часть упрочняющих наноструктурированных покрытий, обладающих высокой твердостью, вязкостью, теплостойкостью и низким коэффициентом трения. Эти свойства покрытий предопределяются малым размером кристаллов и большой объёмной долей границ зёрен [1]. Механизм повышения рабочих характеристик заключается в том, что данные материалы имеют сбалансированное отношение между твердостью, определяющей износостойкость, и прочностными характеристиками материала. Таким образом, упрочняющие наноструктурированные покрытия, благодаря комплексу своих свойств, имеют большое значение в современной инструментальной промышленности.

Низкое качество инструментального материала и отсутствие упрочняющего покрытия привело к падению спроса на "отечественный металлорежущий инструмент, поскольку он не способен удовлетворить существующие потребности современного потребителя. Последствием этого стало широкое распространение продукции фирм «Sandvik Coromant», «Mitsubishi», «Kennametal», «ISCAR», «SECO», «Lamina Tecnologies», «Corun», «Guhring», «Hoffmann Group» на отечественных машиностроительных предприятиях. В результате, в нашей стране на инструментальном рынке сложилась неблагоприятная экономическая ситуация, выходом из которой может быть лишь организация собственного производства металлорежущего инструмента, способного составить конкуренцию зарубежной продукции.

Магнетронное напыление, обеспечивающее формирование нанокомпозитной структуры покрытия, обладающей низким коэффициентом трения и обеспечивающей высокоэффективную защиту от износа и коррозии при повышенных температурах, является в настоящее время наиболее перспективным методом нанесения упрочняющих покрытий [2]'.' Несмотря на это, данный метод нанесения покрытий не получает промышленного распространения ввиду низкой скорости напыления, тогда как его внедрение на отечественных предприятиях по выпуску металлорежущего инструмента могло бы коренным образом изменить сложившуюся негативную ситуацию.

В связи с вышесказанным, актуальной научно-технической задачей является поиск способов повышения эффективности процесса магнетронного напыления, что позволит обеспечить распространение данного метода и выпуск конкурентоспособного отечественного металлорежущего инструмента.

Целью работы является разработка технологических мероприятий по повышению эффективности процесса магнетронного напыления упрочняющих ЗБ-нанокомпозитных покрытий путём повышения производительности установки ионно-плазменного магнетронного синтеза упрочняющих покрытий по симплексу скорости осаждения покрытия. ?

Для достижения поставленной цели в работе решаются следующие задачи:

1. Анализ современных подходов к математическому описанию процессов ионно-плазменного синтеза упрочняющих покрытий; *

2. Формализация влияния технологических условий осуществления процесса магнетронного распыления на формирование давления газа в вакуумной камере;

3. Разработка математической модели скорости осаждения покрытия;

4. Выполнение оптимизации параметра давления газа по симплексу скорости осаждения покрытия;

5. Разработка программного модуля параметрической оптимизации давления газа под различные условия реализации процессов ионно-плазменного магнетронного синтеза упрочняющих покрытий;

6. Практическая апробация результатов работы.

Общая методика исследований основана на выполнении теоретических исследований с использованием теории газового разряда и молекулярнокинетической теории, а также проведении экспериментальных исследований в лабораторных и производственных условиях с использованием системы автоматизированной обработки экспериментальных данных, при этом применялись методы планирования эксперимента и статистической обработки результатов с использованием программных продуктов MathCÂD и Microsoft Excel.

Достоверность полученных результатов обеспечивается за счёт использования признанных научных положений, апробированных методов и средств исследования, а также корректного применения современных методов обработки экспериментальных данных, реализуемых с помощью программного продукта Microsoft Excel

Научная новизна заключается в разработанном автором способе повышения эффективности процесса магнетронного напыления за счёт параметрической оптимизации давления газа в вакуумной камере магнетронной установки по симплексу скорости осаждения покрытия, который включает в себя возможность компенсации влияния на процесс случайных изменений технологических параметров и факторов, определяющих качество плазмы за счёт регулирования давления газа в вакуумной камере. В том числе:

- разработана модель комплексного показателя качественного состава плазменной среды, реализующая количественный учёт характеристик процесса напыления и тождественно определяющая показатель, используемый для коррекции давления в вакуумной камере магнетронной установки;

- разработана математическая модель по определению скорости осаждения покрытия в зависимости от физических параметров процесса напыления, учитывающая природу среды «газ - распыляемый материал» и особенности вольтамперных характеристик магнетронной системы, в том числе зависимости показателя эффективности напыления, плотности тока и коэффициента распыления от давления газа в вакуумной камере;

- установлены закономерности взаимосвязи между основными параметрами магнетронной системы (разрядным током и напряжением разряда) и давлением газа в вакуумной камере магнетронной установки по покрытию инструмента;

- разработана методика определения оптимального давления газа по симплексу скорости осаждения покрытия.

Практическая ценность работы состоит в разработанной методике оптимизации давления в процессе магнетронного напыления по симплексу скорости осаждения покрытия, использование которой способствует повышению производительности установки. Разработанная программная база, обеспечивающая автоматизированное получение и использование оптимизационных моделей в различных условиях реализации процессов ионно-плазменного магнетронного синтеза упрочняющих покрытий, может быть использована для повышения эффективности процессов упрочнения металлорежущего инструмента, оснастки, деталей и узлов ГТД.

Автор защищает:

- модель комплексного показателя качественного состава плазменной среды, реализующую количественный учёт качественных характеристик процесса покрытия металлорежущего инструмента;

- теоретико-экспериментальную зависимость скорости осаждения покрытия от физических параметров процесса напыления для конкретных условий;

- технологические мероприятия по повышению эффективности процесса магнетронного напыления упрочняющих 3£)-нанокомпозитных покрытий металлорежущего инструмента.

Реализация результатов работы. Результаты диссертационной работы были внедрены на предприятии ОАО «Русская механика». За счёт применения полученных износостойких покрытий при осуществлении операций зубообработки стойкость металлорежущего инструмента была повышена в 1,9.2,0 раза, при этом шероховатость обработанной поверхности (по параметру Яа) была уменьшена в 1,3 раза, экономический эффект (в виде сокращения себестоимости операции напыления упрочняющих 3£>-нанокомпозитных покрытий) от внедрения технологических мероприятий составил 25 %. Кроме того результаты работы были включены в учебный процесс кафедры «Резание материалов. Станки и инструменты имени С. С. Силина», а также использовались при выполнении государственного контракта с ГК «Роснанотех» по созданию программы опережающей профессиональной переподготовки кадров в области разработки и получения наноструктурированных покрытий режущего инструмента. Автор работы является сотрудником малого инновационного предприятия ООО «Пико» открытого в рамках ФЗ-217 РФ.

Апробация результатов работы. Основные положения и результаты диссертационной работы докладывались и обсуждались на: «5-й Всероссийской зимней школе-семинаре аспирантов и молодых ученых» (Уфа, 2010), организатор -УГАТУ; Всероссийской конференции с элементами научной школы для молодежи «Нанотехнологии в производстве авиационных газотурбинных двигателей летательных аппаратов и энергетических установок» (Рыбинск, 2010), организатор -РГАТА им. П. А. Соловьёва; Всероссийской Конференции молодых ученых и специалистов «Будущее машиностроения России» (Москва, 2011), организатор — МГТУ им. Н. Э. Баумана; Всероссийской молодёжной научной конференции «Мавлютовские чтения» (Уфа, 2011), организатор - УГАТУ; «Национальной научно-технической конференции» (Москва, 2011), организатор - Союз Машиностроителей России (работа награждена дипломом за второе место); Региональном конкурсе «Молодость - Эрудиция. Стимул - Инновация» (Ярославль,

2011), организатор - Департамент экономического развития Ярославской области; «7-ой Всероссийской зимней школе-семинаре аспирантов и молодых ученых» (Уфа,

2012), организатор - УГАТУ; Международной научно-технической конференции «Автоматизация и энергосбережение машиностроительного и металлургического производств, технология и надежность машин, приборов и оборудования» (Вологда, 2012), организатор - ВоГТУ.

Публикации. По теме диссертации опубликовано 10 научных работ, в том числе 1 из них в издании, рекомендованном ВАК.

Структура и объем работы. Диссертационная работа состоит из введения, четырёх глав, общих выводов, списка использованных источников из 87 наименований, а также пяти приложений. Общий объем работы 196 страниц, диссертация содержит 47 рисунков, 31 таблицу и 92 формулы.

Заключение диссертации по теме «Автоматизация в машиностроении», Дружков, Станислав Сергеевич

ОБЩИЕ ВЫВОДЫ

1. На основании выполненного анализа математического описания и практической специфики ионно-плазменного магнетронного метода синтеза упрочняющих покрытий установлено, что наиболее рациональным способом повышения эффективности процесса магнетронного напыления является параметрическая оптимизация давления газа по симплексу скорости осаждения покрытия, предусматривающая учёт влияния на процесс случайных изменений технологических параметров и факторов, определяющих качество плазмы.

2. Математическое описание механизма взаимосвязи величины рабочего давления и качества плазмы (наличия газовых примесей) в процессе магнетронного напыления, выраженное в виде математической модели комплексного показателя качественного состава плазменной среды, позволяет реализовать количественный учёт качественных характеристик процесса" нанесения покрытия. Данный показатель, отражающий полноту соответствия комплекса качественных характеристик процесса напыления эталонному комплексу условий, является корректором величины давления газа в камере лабораторной установки ионно-плазменного магнетронного напыления.

3. Полученная теоретико-экспериментальная зависимость скорость осаждения покрытия от физических параметров процесса напыления для установки «итсоШ 400» позволяет рассчитать оптимальные значения давления газа, соответствующие максимальной скорости осаждения покрытия.

4. Параметрическая оптимизация давления газа в вакуумной камере установки магнетронного напыления по симплексу скорости осаждения покрытия с учётом конкретных условий выявила необходимость увеличения давления газа при снижении разрядного тока с целью достижения максимально возможной скорости осаждения.

5. Практическая реализация мероприятий по оптимизации давления газа в процессе магнетронного напыления показывает сокращение затрат времени на осуществление технологического цикла напыления покрытия при стабильности качества получаемых покрытий. Для рассматриваемых условий сокращение продолжительности технологического цикла составило 23.29%, при этом относительный экономический эффект от внедрения оптимизационных мероприятий составил 25 %.

6. Внедрение результатов исследования на производстве подтвердило рациональность оптимизации давления в технологических процессах нанесения покрытий при упрочнении металлорежущего инструмента, используемого на современных отечественных машиностроительных предприятиях.

7. Подготовленный программный модуль обеспечивает автоматизированное получение и использование оптимизационных моделей в различных условиях реализации процессов ионно-плазменного магнетроннош синтеза упрочняющих покрытий.

8. Разработанные технологические мероприятия по повышению эффективности магнетронного напыления упрочняющих ЗЛ-нанокомпозитных покрытий металлорежущего инструмента дают возможность в производственных условиях повысить производительность магнетронных установок за счёт регулирования давления газа в камере.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Дружков, Станислав Сергеевич, 2012 год

1. Полетаев, В. А. Разработка и внедрение наноструктурированных покрытий при изготовлении деталей газотурбинных двигателей Текст. / В. А. Полетаев, Т. Д. Кожина // Инновации. 2007. - №12. - С. 89 - 91.

2. Федотов, А. В. Многофункциональные нанокомпозитные покрытия Текст. / А. В. Федотов, Ю. В. Агабеков, В. С. Мачикин // Наноиндустрия: Научно-технический журнал. М: Техносфера. - 2008. - №1. - С. 24 - 26.

3. Chen, F. Industrial applications of low temperatures plasma physics Text. / F. Chen // Phys. Plasmas. - 1995. - vol. 2. - n. 6. - P. 2164 - 2175.

4. Hultman, L. Nanotechnology Turning Nanoscience into Business Text. / L. Hultman. - 2005. - P. 76 - 88.

5. Арцимович, JI. А. Плазменные ускорители Текст. / Л. А. Арцимович. М.: Машиностроение, 1973. - 282 с.

6. Kirk, J. G. The evolution of a test particle distribution in a strongly magnetized plasma Text. / J. G. Kirk, D. J. Galloway // Phys. Plasmas. 1982. vol. 24. - n. 4 - P. 339 -359.

7. Никитин, M. M. Технология и оборудование вакуумного напыления Текст. / М. М. Никитин. М.: Металлургия, 1992. - 112 с.

8. Vriens, L. Energy balance in low pressure gas discharges Text. / L. Vriens // J. Appl. Phys. - 1973. - vol. 44 - n. 9 - P. 3980 - 3989.

9. Kuwahara, K. Application of the Child Langmuir Law to Magnetron Discharge Plasmas Text. / K. Kuwahara, H. Fujiyama // IEEE Trans. Plasma. Sci. - 1994. -vol. 22.-n.4-P. 442-448.

10. Агабеков, Ю. В. Магнетронное распыление Текст. / Ю. В. Агабеков. -Дзержинск: Элан-Практик, 2010. 130 с.

11. Азгальдов, Г. Г. О квалиметрии Текст. / Г. Г. Азгальдов, Э. П. Райхман. -М.: Издательство стандартов, 1972. 172 с.

12. Теленкевич, В. В. Квалиметрия: история, возможности, методы Текст. / В. В. Теленкевич // Бизнес-образование в условиях глобализации. Материалы науч.-практ. конф. Иркутск: БИБММ ИГУ, 2006. - С. 40 - 44.

13. Варжапетян, А. Г. Квалиметрия Текст. / А. Г. Варжапетян. СПб.: СПбГУАП, 2005. - 176 с.

14. Фомин, В. Н. Квалиметрия. Управление качеством. Сертификация Текст. / В. Н. Фомин. М.: ЭКМОС, 2000. - 320 с.

15. Калейчик, М. М. Квалиметрия Текст. / М. М. Калейчик. М.: МГИУ, 2005.-200 с.

16. Шишкин, И. Ф. Квалиметрия и управление качеством Текст. / И. Ф. Шишкин, В. М. Станякин. М.: ВЗПИ, 1992. - 210 с.

17. Смирнов, В. А. Роль символизации и формализации в научном познании Текст. / В. А. Смирнов // Труды томского государственного университета имени В. В. Куйбышева. Том 149. - 1961. - С. 152 - 164.

18. Хвастунов, Р. М. Экспертные оценки в квалиметрии машиностроения Текст. / Р. М. Хвастунов, О. И. Ягелло. М.: МГУ, 2002. - 142 с.

19. Азгальдов, Г. Г. Количественная оценка качества (Квалиметрия) Текст. / Г. Г. Азгальдов, Л. А. Азгальдова. -М.: Издательство стандартов, 1971. 178 с.

20. Кершенбаум, В. Я. Методы квалиметрии в машиностроении Текст. / В. Я. Кершенбаум, Р. М. Хвастунов. М.: МГУ, 1999. - 213 с.

21. Азгальдов, Г. Г. Теория и практика оценки качества товаров (основы квалиметрии) Текст. / Г. Г. Азгальдов. М.: Экономика, 1982. - 282 с.

22. Осипов, Д. С. Методика квалиметрической оценки и анализа производственных процессов Текст. / Д.'С. Осипов, И. А. Михайловский, И. Г. Гунн // Век качества. 2011. - №3. - С. 36-38.

23. Райзер, Ю. П. Физика газового разряда Текст.: 2-е изд. перераб. и доп. / Ю. П. Райзер. М.: Наука. Гл. ред. физ.-мат. лит., 1992. - 536 с.

24. Чен, Ф. Введение в физику плазмы Текст.: Пер. с англ. / Ф. Чен. М.: Мир, 1987.-398 с.

25. Ключарев, А. Н. Введение в физику низкотемпературной плазмы Текст. / А. Н. Ключарев, В. Г. Мишаков, Н. А. Тимофеев. СПб.: СПбГУ, 2008. - 214 с.

26. Кабардин, О. Ф. Физика Текст. / О. Ф. Кабардин. М.: АСТРЕЛЬ, 2005.416 с.

27. Дэшман, С. Научные основы вакуумной техники Текст. / С. Дэшман. -М.: Мир, 1964.-446 с.

28. Королев, Б. И. Основы вакуумной техники Текст. / Б. И. Королев. М.:о

29. Госэнергоиздат., 1957. 400 с.

30. Ланис, В. А. Техника вакуумных испытаний Текст. / В. А. Ланис, Л. Е. Левина. М.: Госэнергоиздат, 1963. - 62 с.

31. Ворончев, Т. А. Физические основы электровакуумной техники Текст. / Т. А. Ворончев, В. Д. Соболев М.: Высшая школа, 1967. - 352 с.

32. Хасс, Г. Физика тонких плёнок Текст. : Том 1 /Г. Хасс. М.: Мир, 1967.383 с.

33. Тагиров, Р. Б. О некоторых параметрах высокого вакуума их роли в физике тонкослойных покрытий Текст. / Р. Б. Тагиров // Вакуумная техника: научно-технический сборник. Вып. 2. - Казань, 1970. - С. 3 - 11

34. ДеБур, Я. Динамический характер адсорбции Текст. / Я. Де Бур. М.: Мир, 1962.-290 с.

35. Данилин, Б. С. Вакуумное нанесение тонких плёнок Текст. / Б. С. Данилин. М.: Энергия, 1967. - 312 с.

36. Востров, Г. А. Вакуумметры Текст. / Г. А. Востров, Л. Н. Розанов Л.: Машиностроение, 1967. - 236 с.

37. Луизова, Л. А. Проблемы и перспективы исследования упорядоченных структур в плазме. НОЦ «Плазма» Текст. / Л. А. Луизова, А. Д. Хахаев -Петрозаводск: ПетрГУ, 2002. 31 с.

38. Кудрявцев, А. А. Положительный столб тлеющего разряда Текст. / А. А. Кудрявцев, В. Г. Мишаков, Т. Л. Ткаченко СПб.: СПбГУ, 2006. - 32 с.

39. Ключарев, А. Н. Процессы ионизации при тепловых и субтепловых1.столкновениях тяжелых частиц в низкотемпературной плазме Текст. /

40. A. Н. Ключарев. СПб.: СПбГУ, 2006. - 87 с.

41. Шайхиев, Г. Ф. О подобии процессов молекулярного переноса в разряженных газах Текст. / Г. Ф. Шайхиев // Вакуумная техника: научно-технический сборник. Вып. 2. - Казань, 1970. - С. 24 - 27.

42. Данилин, Б. С. Энергетическая эффективность процесса ионного распыления материалов и систем для его реализации Текст. / Б. С. Данилин,

43. B. Ю. Киреев, В. К. Сырчин // Физика и химия обработки материалов. 1979. - №2. - С. 52-56.

44. Данилин, Б. С. Ионное травление микроструктур Текст. / Б. С. Данилин,

45. B. Ю. Киреев М.: Советское радио, 1979. - 103 с.

46. Григорьев, Ф. И. Осаждение тонких, пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники Текст. / Ф. И. Григорьев. М.: Моск. гос. ин-т электроники и математики, 2006. - 35 с.

47. Плешивцев, Н. В. Физические проблемы катодного распыления Текст. /Н. В. Плешивцев. М.: ИАЭ им. И. В. Курчатова, 1979. - 90 с.

48. Westwood, W. D. Calculation of Deposition Rates in Diode Sputtered Systems Text. / W. D. Westwood // J. Vac. Sei. Technol. 1978. - Vol. 15. - № 1 - P. 1 - 9.

49. Meyer, K. Thermalization of Sputtered Atoms Text. / K. Meyer, I. K. Shuller,

50. C. M. Falco // J Appl. Phys. 1981. - Vol. 52. - № 9. - P. 5803 - 5805.

51. Mase, H. Direct Measurement of Diffusion Coefficients of Sputtered Atoms in Argon Text. / H. Mase, Т. Tanabe, G. Miyamoto // J. Appl. Phys. 1979. - Vol. 50. -№5.-P. 3684-3686.

52. Ефремов, A. M. Вакуумно-плазменные процессы и технологии Текст. / А. М. Ефремов, В. И. Светцов, В. В. Рыбкин. Иваново: Иван. гос. хим.-технол. унт., 2006.-260 с.

53. Епифанов, Г. И. Физические основы микроэлектроники Текст. / Г. И. Епифанов. М.: Советское радио, 1971. - 376 с.

54. Бериш, Р. Распыление твёрдых тел ионной бомбардировкой Текст.: перевод с англ. /Р. Бериш. М.: Мир, 1984. - 488.с. .

55. Вольпяс, В. А. Технология элементов электронной техники Электронный ресурс. / В. А. Вольпяс, Е. К. Гольман, В. Е. Логинов, (http://old.eltech.ru/kafedrs/ /feteips/ golman/BOOK/)

56. Электронный ресурс: http://dic.academic.ru

57. Киреев, В. Ю. Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур Текст. / В. Ю. Киреев, Б. С. Данйлин, В. И. Кузнецов. М.: Радио и связь, 1983. - 128 с.

58. Князев, Б. А. Низкотемпературная плазма и газовый разряд Текст. / Б. А. Князев. Новосибирск: НГТУ, 2000. - 164 с.

59. Андреев, А. А. Влияние давления азота при осаждении сверхтвердых ЛЫ покрытий на их свойства Текст. / А. А. Андреев, В. М. Шулаев // ФИЛ РБЕ, т. 5, 2007. -№3.С. 203-206.

60. Петухов, В. В. Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок Текст. / В. В. Петухов,

61. A. А. Гончаров // ФИП РБЕ, т. 3,2005. № 3. - С. 241-244.

62. Хороших, В. М. Влияние давления азота на процесс фокусировки потоков частиц, генерируемых вакуумным дуговым разрядом Текст. / В. М. Хороших, С. А. Леонов, Г. И. Носов // ФИП РБЕ. т. 8, 2010. №2. - С. 150-154.

63. Агабеков, Ю. В. Лабораторная вакуумная установка магнетронного нанесения многофункциональных нанокомпозитных покрытий «ШЛСОАТ 400». Руководство по эксплуатации Текст. / . Ю. В. Агабеков, А. М. Сутырин,

64. B. С. Мачикин. Дзержинск: Элан-Практик, 2010. - 56 с.

65. Агабеков, Ю. В. Инструкции по осуществлению процессов магнетронного распыления Текст. /Ю. В. Агабеков. Дзержинск: Элан-Практик, 2010. - 32 с.

66. Кузьмичёв, А. И. Магнетронные распылительные системы. Книга 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления Текст. / А. И. Кузьмичёв. К.: Аверс, 2008. - 224 с.

67. Адлер, Ю. П. Планирование эксперимента при поиске оптимальных условий: издание 2-е, переработанное Текст. / Ю. П. Адлер, Е. В. Маркова, Ю. В. Грановский. М.: Наука, 1976. - 279 с.

68. Система для измерения микротвердости с программным обеспечением ТО^-НСи ШЗСНЕКБСОРЕ НМ 2000: Руководство по эксплуатации Текст. -Санкт-Петербург, 2010. 121 с.

69. Микроскоп металлографический инвертированный Метам ЛВ-41: руководство по эксплуатации Текст.- Санкт-Петербург, 2010. 49 с.

70. Спиридонов, А. А. Планирование эксперимента при исследовании технологических процессов Текст. / А.А.Спиридонов. М.: Машиностроение, 1981.-184 с.

71. Нанивская, В. Г. Теория экономического прогнозирования Текст. / В. Г. Нанивская, И. В. Андронова. Тюмень: ТюмГНГУ, 2000. - 98 с.

72. Воздвиженский, В. М. Планирование эксперимента и математическая обработка результатов в литейном производстве Текст. / В. М. Воздвиженский, А. А. Жуков. Ярославль: ЯПИ, 1985. - 88 с.

73. Румшиский, Л. 3. Математическая обработка результатов эксперимента Текст. / Л. 3. Румшиский. -М.: Наука, 1971. 192 с. •

74. Смирнов, Н. В. Курс теории вероятностей и математической статистики для технических приложений Текст. / Н. В. Смирнов, И. В. Дунин-Барковский. -М.: Наука, 1965.-512 с.

75. Венцтель, Е. С. Теория вероятностей и её инженерные приложения Текст. /Е. С. Венцтель, Л. А. Овчаров. М.: Наука,1988. - 480 с.

76. Налимов, В. В. Логические основания планирования эксперимента Текст. /В. В. Налимов, Т. И. Голикова. -М.: Металлургия, 1980. 152 с.

77. Кухлинг, X. Справочник по физике: пер. с нем. 2-е изд. Текст. / X. Кухлинг. М.: Мир, 1985. - 520 с.

78. Никольский, Б. П. Справочник химика, т.1. Текст. / Б. П. Никольский. -М-Л.: Химия, 1982. 1062 с.

79. Майссел,Л. Технология тонких плёнок: справочник. Пер. с англ. Т.2. Текст. / Л. Майссел, Р. Гленг. М.: Сов. радио, 1977 - 768 с.

80. Фролов, Е. С. Вакуумная техника: справочник Текст. / Е. С. Фролов,

81. A. Т. Минайчев. М.: Машиностроение, 1992. - 480 с.

82. Прохоров, А. М. Физическая энциклопедия Текст. / А. М. Прохоров. -М.: Сов. Энциклопедия., 1988. 704 с.

83. Орлов, К. А. Моделирование и оптимизация химико-технологических процессов Текст. /К. А. Орлов. М.: МЭИ, 2008. - 77 с.

84. Медведева, Т. В. Моделирование и оптимизация технологических процессов Текст. /Т. В. Медведева. -М.: МГУС, 2008. 115 с.

85. Суркова, В. М. Оптимизация технологических процессов Текст. /

86. B. М. Суркова, В. Ф. Булгаков. СПб.: СПГУТД, 2007. - 21 с.

87. Дерканосова, Н. М. Моделирование и оптимизация технологических процессов Текст./ Н. М. Дерканосова, А. А. Журавлев, И. А. Сорокина. Воронеж: ВГТА, 2011.-196 с.

88. Суркова, В. М. Оптимизация технологических процессов в Microsoft Excel Текст. /В. М. Суркова. СПб.: СПГУТД, 2005. - 29 с.

89. Лащенко, Г. И. Плазменное упрочнение и напыление Текст. / Г. И. Лащенко. К.: Екотехнология, 2003. - 67 с.

90. Голант, В. Е. Основы физики плазмы Текст. / В. Е. Голант, А. П. Жилинский, С. А. Сахаров. М.: Атомиздат, 1977. - 384 с.

91. Грановский, В. Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. Текст. /В. Л. Грановский. М.: Наука, 1971. - 544 с.

92. Майссел, Л. Технология тонких плёнок: справочник. Пер. с англ. Т. 1. Текст. / Л. Майссел, Р. Гленг. М.: Сов. радио, 1977 - 664 с.

93. Морозов, А. И. Введение в плазмодинамику Текст. / А. И. Морозов. М.: ФИЗМАТЛИТ, 2006. - 576 с.

94. Вольпяс, В. А. Регрессионная модель каскада смещённых атомов при ионном распылении твёрдого тела Текст. / В. А. Вольпяс, П. М. Дымашевский // Журнал технической физики. Том 71. Вып. 11. - Санкт-Петербург, 2001. - С. 1-5.

95. Костржицкий, А. И. Справочник оператора установок по нанесению покрытий в вакууме Текст. / А. И. Костржицкий, В. Ф. Карпов. М.: Машиностроение, 1991. - 176 с.