Разработка подслоев для фотоматериалов на полиэтилентерефталатной основе тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.17.06, кандидат технических наук Веселова, Софья Викторовна

• Веселова, Софья Викторовна
• кандидат технических наук
• 2002

Оглавление диссертации кандидат технических наук Веселова, Софья Викторовна

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ЛИТЕРАТУРНЫЙ ОБЗОР.

1.1. Теоретические основы адгезии полимеров к твердым поверхностям.

1.2. Проблемы подслаивания гидрофобной основы кинофотоматериалов.

1.3. Адгезия полимеров, обладающих химическим сродством к ПЭТФ-пленке.

1.4. Действие активных компонентов подслоя на ПЭТФ-пленку.

1.5. Адгезионные подслои ПЭТФ-пленок.

1.5.1. Двухслойные подслои.

1.5.2. Полимерные подслои с химическим сродством к ПЭТФ-пленке.

1.5.3. Подслои с использованием активных компонент.

1.5.4. Подслои на основе водных дисперсий полимеров без использования активных органических растворителей.

1.6. Модификация поверхности ПЭТФ-пленки химическими и физическими методами для улучшения ее адгезии к фотографической галогенсеребряной эмульсии.

1.7. Требования к основе для фотографических бумаг.

ГЛАВА 2. МЕТОДИКИ ИССЛЕДОВАНИЙ.

2.1. Рецептура и приготовление подслоя на основе водной дисперсии сополимера бутадиена со стиролом.

2.2. Рецептура и приготовление фотографической галогенсеребряной эмульсии.

2.2.1. Приготовление исходных растворов.

2.2.2. Первое созревание.

2.2.3. Второе созревание.

2.2.4. Проведение сенситометрических испытаний.

2.2.5. Обработка результатов.

2.2.6. Подготовка эмульсии к поливу.

2.3. Проведение сенситометрических испытаний фотобумаг на разной основе.

2.3.1. Подготовка эмульсии "Унифакс" к поливу.

2.3.2. Сенситометрическое экспонирование фотобумаг.

2.3.3. Химико-фотографическая обработка фотобумаг.

2.3.4. Определение основных фотографических параметров фотобумаг.

2.4. Полив подслоев и фотографической эмульсии на основу.

2.5. Приготовление композиции для отражающего слоя.

2.5.1. Исходные компоненты и растворы.

2.5.2. Порядок смешения компонентов при приготовлении композиции для отражающего слоя.

2.5.3. Нанесение отражающего слоя.

2.5.4. Рецепт приготовления композиции для отражающего слоя.

2.6. Методика определения сухого остатка полимера.

2.7. Методика определения вязкости дисперсий полимеров.

2.8. Методика определения вязкости фотографической эмульсии и композиции для отражающего слоя.

2.9. Методика определения краевых углов смачивания.

2.10. Испытание образцов в щелочно-сульфитном растворе.

2.11. Определение прочности набухшего эмульсионного слоя на приборе ПИЭС-ЗМ.

2.12. Испытание адгезии эмульсии к ПЭТФ-основе в сухом состоянии при помощи липкой ленты "Scotch".

2.13. Испытание адгезии эмульсии к ПЭТФ-основе во влажном состоянии.

2.14. Методика измерения скручивания основы.

ГЛАВА 3. РЕЗУЛЬТАТЫ ЭКСПЕРИМЕНТА И ИХ ОБСУЖДЕНИЕ.

3.1. Исследование топологической структуры поверхности полиэтилентерефталатных пленок, на различных стадиях изготовления основы для кинофотоматериалов.

3.2. Сравнительный анализ и выбор полимеров для адгезионного подслоя с обоснованием условий его нанесения.

3.3. Разработка однослойного адгезионного подслоя для ПЭТФ-основы кинофотоматериалов на базе водной дисперсии сополимера бутадиена со стиролом.

3.3.1. Исследование возможности получения однослойного адгезионного подслоя из водной дисперсии сополимера бутадиена со стиролом (БС-65).

3.3.2. Влияние концентрации сополимера в дисперсии на толщину подслоя.

3.3.3. Модификация композиции подслоя для улучшения адгезии фотографической эмульсии к ПЭТФ-основе.

-53.3.4. Получение адгезионного слоя с улучшенной адгезией к фотографической эмульсии.

3.4. Разработка ПЭТФ-основы для фотографических бумаг на базе пленки изПЭТФ.

3.4.1. Некоторые преимущества ПЭТФ в качестве основы для фотографических бумаг.

3.4.2. Выбор конструкции синтетической подложки для фотобумаг.

3.4.3. Разработка рецептуры композиции отражающего слоя.

3.4.4. Особенности нанесения отражающего слоя и эмульсии.

3.4.5. Получение улучшенной синтетической подложки для фотографических бумаг, пригодной для процесса высокотемпературной химико-фотографической обработки.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Разработка подслоев для фотоматериалов на полиэтилентерефталатной основе»

Одним из направлений повышения качества фотографических материалов на гибких подложках является совершенствование адгезионных слоев для более прочного скрепления светочувствительного слоя с подложкой-основой и создание техники подслаивания основы, отвечающей современным требованиям экологии производства.

В практической технологии задачи подслаивания до сих пор решаются эмпирически. В этой связи особое значение приобретает развитие представлений о способах улучшения адгезионных свойств и о физико-химических явлениях в' процессе подслаивания пленок из полиэтилентерефталата (ПЭТФ).

Широкий поток патентов по разработке адгезионных подслоев для ПЭТФ-основы исходит практически от всех известных фирм, выпускающих кинофотоматериалы, однако в них отсутствует однозначное толкование механизма адгезии между ПЭТФ-основой и эмульсионными слоями кинофотопленок.

В последнее время ПЭТФ-пленка находит применение и в качестве основы для фотографических бумаг. ПЭТФ-пленка обладает рядом преимуществ: она практически безусадочна, имеет высокие прочностные показатели, минимальную гигроскопичность. Использование ПЭТФ-пленки для изготовления основы фотобумаг позволяет устранить главный недостаток фотобумаг на баритованной и по-лиэтиленированной бумажной основе, то есть, свести на нет торцевую впиты-ваемость подложкой обрабатывающих растворов.

Проблемы эффективного подслаивания пленочной ПЭТФ-основы и изготовления ПЭТФ-основы для фотобумаг являются весьма актуальными в технологии производства кинофотоматериалов.

Цель настоящей работы следует рассматривать в двух аспектах - научном и практическом. Научная цель состоит в установлении более или менее универсальных корреляций химической природы ингредиентов и количественного состава композиции подслоя, технологии нанесения последнего и топологической и морфологической природы подложки. Практическая цель заключается в разработке технологических принципов составления подслоев и собственно технологии подслаивания. Положения, выносимые на защиту:

1. Данные о топографии активных центров на поверхности ПЭТФ-пленки.

2. Рациональность метода однослойного подслаивания с использованием водных дисперсий полимеров.

3. Обоснование состава однослойного адгезионного подслоя для ПЭТФ-основы на базе водной дисперсии сополимера бутадиена со стиролом.

4. Обоснование состава композиции отражающего слоя для изготовления фотобумаг с ПЭТФ-основой. Научная новизна и практическая значимость работы.

Научная новизна работы состоит в следующем. Методом электронной микроскопии при помощи декорирования золотом изучена топография активных центров на поверхности ПЭТФ-пленки и получены количественные данные о характере распределения активных центров на поверхности. Указанный метод позволяет установить топологическую структуру поверхности полимера, предысторию производства пленки (в том числе наличие ориентации), и применить обоснованно лучший по комплексу свойств подслой.

Структура работы. Диссертация состоит из введения, трех глав, заключения, списка использованных источников и приложения. Материал изложен на 157 стр., содержит 13 рис., 19 табл. Список использованных источников включает 137 наименований.

Заключение диссертации по теме «Технология и переработка полимеров и композитов», Веселова, Софья Викторовна

ВЫВОДЫ

Проведено исследование возможности изготовления синтетической ПЭТФ-основы с отражающим слоем для фотографических бумаг и предложены 2 рецептуры композиций отражающего слоя.

1. Композиция отражающего слоя на основе сополимера винилацетата с дибутилмалеинатом и диоксида титана.

Оптимальная скорость нанесения композиции отражающего слоя 1,5 м/мин.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В результате теоретических и экспериментальных исследований решена задача по разработке однослойных адгезионных подслоев для ПЭТФ-основы фотоматериалов. В качестве пленкообразующих использованы водные дисперсии полимеров, что позволило упростить и реализовать экологически сберегающую технологию подслаивания, которая не предусматривает применение высокотоксичных органических растворителей.

Экспериментально показано, что фотоматериалы на ПЭТФ-основе, с разработанными подслоями, выдерживают высокотемпературную химико-фотографическую обработку.

По результатам проведенных исследований можно сделать следующие выводы:

1. Элекронномикроскопическим методом декорирования золотом изучена топологическая структура поверхности ПЭТФ-пленки и установлено, что структура поверхности аморфной пленки описывается моделью дискретных кластеров плотноупакованных макромолекул среднего размера 60 нм с фрактальной размерностью 1,57 ± 0,01, а ориентированным пленкам отвечает модель перколяци-онного (бесконечного) кластера с периодом 210 нм. Периодичность структуры перколяционного кластера для ориентированных пленок соответствует периодичности распределения дискретных кластеров в аморфной пленке.

2. Разработана рецептура однослойного адгезионного подслоя для ПЭТФ-пленки на основе водной дисперсии сополимера бутадиена со стиролом, позволяющая получить адгезионные подслои толщиной менее 2 мкм и снизить температуру сушки подслоя по сравнению с патентными данными на 40-70°С. Подслой обеспечивает достаточную адгезию фотографической эмульсии к ПЭТФ-пленке, как в сухом, так и во влажном состояниях, не оказывает влияния на фотографические свойства галогенсеребряной эмульсии и удовлетворяет требовани

-143ям химико-фотографической обработки при повышении температуры до 60°С.

3. Обоснована и экспериментально подтверждена возможность получения ПЭТФ-основы с отражающим слоем для фотобумаг, в результате чего решается проблема торцевой впитываемости обрабатывающих растворов для ламинированной полиэтиленом бумаги-основы.

4. Разработаны две композиции адгезионного отражающего слоя для фотобумаг на ПЭТФ-основе, не оказывающие влияние на фотографические свойства. Первая композиция в качестве связующего содержит сополимер винилацетата с дибутилмалеинатом и предназначена для обычной химико-фотографической обработки, а вторая - содержит в качестве связующего бутадиен-стирольный латекс и обеспечивает высокоскоростную химико-фотографическую обработку фотобумаг при температурах до 60°С.

5. Технология подслаивания ПЭТФ-основы для фотопленки апробирована и одобрена к внедрению на АОЗТ «Тасма-Холдинг», в г.Казани.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Веселова, Софья Викторовна, 2002 год

1. Фролов Ю.Г. Адгезия, смачивание и растекание жидкостей. Курс коллоидной химии. Поверхностные явления и дисперсные системы. Учебник для вузов. 2-е изд., перераб. и доп. - М.: Химия, 1989. - с.78-86.

2. Берлин А.А., Басин В.Е. Основы адгезии полимеров.-М.,"Химия",1974. 392с.

3. Вакула В.Л., Притыкин Л.М. Физическая химия адгезии полимеров. М.: Химия,1984. - 224 с.

4. Перепелкин А.Н. Состояние и перспективы развития технологии подслоиро-вания основы для кинофотоматериалов: Обз. инф.: Сер.: Химико-фотографическая промышленность,- М.: НИИТЭХИМ, 1977. 73 с.

5. Подгородецкий Е.К. Дополнительная обработка полимерной пленки при изготовлении основы.//Основы технологии светочувствительных материалов/ Под. ред. проф. В.И.Шеберстова. М., "Химия", 1977. - с.417-418.

6. Дьяконов А.Н., Завлин П.М. Полимеры в кинофотоматериалах. Л., Химия, 1991.-240 с.

7. Сорокина Р.А., Коростылев Б.Н. Скрепление фотографических эмульсионных слоев с гидрофобными подложками. (Обзор патентной и специальной лите-ратуры).//ЖНиПФиК. 1974. - Т.19.-N 3. - с.228 - 234.

8. Брагинский Г.И., Кудрна С.К. Технология основы кинофотопленок и магнитных лент. 2-е изд., перераб. - Л., Химия, 1980. - 400 с.

9. Мурзинов А.В. Исследование процессов ориентации при промышленном изготовлении полиэтилентерефталатных пленок: Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук. Л: ЛИКИ, 1979.- 182 с.

10. Мурзинов А.В. Автореферат на сосикание ученой степени кандидата технических наук на тему: Исследование процессов ориентации при промышленном изготовлении полиэтилентерефталатных пленок. Ленинград, ЛИКИ, 1979.

11. Кардашов Д. А. Синтетические клеи. -3-е изд., перераб. и доп. -М.: Химия, 1976. 503 с.

12. Каргин В.А., Слонимский Г.Л. Краткие очерки по физико-химии полимеров. изд. 2-е., расшир. и перераб. - М., "Химия", 1967. - 231 с.

13. Воюцкий С.С. Аутогезия и адгезия высокополимеров. М., Ростехиздат, 1960. - 244 с.

14. Килинский И.М., Леви С.М. Технология производства кинофотопленок. -Л., "Химия", 1973.-248 с.

15. Кириков А.А., Баблюк Е.Б., Суворин В.В. //Проблемы технологии фотографических материалов и химикаты для их производства: Сб. научн. тр. Всес. науч.-иссслед. ин-та хим.-фотогр. пром. М., - 1987. - с.129-135.

16. Сорокина Р.А., Коростылев Б.Н. О подслаивании полиэтилентерефталатных пленок.//ЖНиПФиК. 1980. - Т.25. - N 5. - с.361-367.

17. Поверхностная обработка пластмасс. Пер. с чешского В.А.Егорова / Под ред. Ш.Л.Лельчука. Л.: Химия, 1972. - 184с.

18. Авторское свидетельство СССР N 710014. 1980. Композиция адгезионного слоя основы кинофотоматериалов. Хромова Н.А., ГиниятуллинМ.Х., Крупнов Г.П., Семенова Л.А., Гиниятуллина Р.Ш., Самигулин Ф.К., Новожилова О.С.// РЖХ. 1980. - 19Н. - N 15. - с.51.

19. Патент Япония N 58-55497. 1983. Фотографический материал. Ота Эйити, Томори Масуо, Сатомура Масахито, Отиаи Такэцугу. // РЖХ. -1985. 19Н. - N6.-с.63.

20. Патент Япония N 59-819. 1984. Полиэфирная основа. Ямадзаки Тосиаки, Абэ Наохито, Накататэ Рютоку.//РЖХ. -1984. 19Н.-N 22. - с.45.

21. Патент США N 4571379. 1986. Полиэфирная фотоподложка с сополимером в качестве подслоя. Ямадзаки Тошиаки, Накадатэ Таканори, Китахара Кеничи, Фуджимори Нобору, Кобаяши Морио, Шимосаки Рунджии.

22. РЖХ. 1986. - 19Н. - N 22. - с.57.

23. Патент США N4609617. 1986. Полиэфирная основа с подслоем из эпоксисополимера. Ямадзаки Тошиаки, Накадатэ Таканори, Китахара Кеничи, Фуджимори Нобору, Кобаяши Морио, Шимосаки Рунджии.// РЖХ. 1987. - 19Н. - N 8. - с.43.

24. Патент ГДР N 249830. 1987. Фотоматериал с адгезионным слоем. Бонинг Вилма, Арнольд Манфред, Шихт Волкер, Рихтер Гюнтер, Лехманн Дийтер, Вахрманн Рольф.// РЖХ. 1988. - 19Н. - N9. - с.46-47.

25. Патент ГДР N 246633. 1987. Способ нанесения фотографических слоев на основу. Кнаб Гюнтер, Плашник Дийтер, Ширж Харальд, Лехманн Дийтер, Джентс Рейнхард.// РЖХ. 1988. - 19Н. - N2. - с.51.

26. Патент ГДР N 246634. 1987. Способ подслаивания гидрофобных фотографических подложек. Кнаб Гюнтер, Плашник Дийтер, Лехманн Дийтер.

27. РЖХ. 1988. - 19Н. - N 1. - с.38.

28. Патент Япония N 55-6893. 1980. Способ подслаивания пленок для фотографии. Ямагути Мицуру, Цудзи Такэо, Омити Такаеси, Ямагути Мицуо.// РЖХ. 1980. - 19Н. - N 17. - с.48.

29. Патент США N 4954430. 1990. Галогеносеребряный фотоматериал на полиэфирной подложке. Ишигаки Кунио, Наои Такаши.// РЖХ. -1992. 19Н. -Nl.-c.40.

30. Патент США N 4407939. 1983. Светочувствительный материал с двойным подслоем. Наои Такаши, Кавазааки Хироши, Ямагучи Сан, Татсута Сумитака, Сэра Хидефуми.// РЖХ. 1984. - 19Н. - N 10. - с.58.

31. Заявка ФРГ N 4213869. 1993. Фотографический материал. Ниттел Фрид, Аувеллер Хейнц-Гюнтер, Питере Манфред, Рандойф Хэрмут.// РЖХ. -1995.- 19Н.-N21.-c.21.

32. Патент Япония N 57-12978. 1982. Способ предотвращения неровностей полива слоя. Мита Фумио, Уэхара Гаро, Кавагути Хидэо.// РЖХ.1983.- 19Н.-Nl.-c.54.

33. Патент Япония N 55-6892. 1980. Слоистый материал на полиэфирной основе. Имаясу Итиро, Хира Тосио, Марино Кэйхиро.// РЖХ. 1980. -19Н.-N17.-с.48.

34. Патент ГДР N 228660. 1985. Способ подслаивания гидрофобной основы. Кнаб Гюнтер, Плашник Дийтер, Фритш Ганс-Георг, Зерецк Хидегард.// РЖХ. 1987. - 19Н. - N 1. - с.57.

35. Патент США N 4168172. 1979. Способ подслаивания полиэфирных пленок. Катаока Шинджии, Шинагава Юкио, Сэра Хедефуми, Ямагачи Джан.// РЖХ. 1980.- 19Н.-Nll.-c.54.

36. Патент ГДР N 218484. 1985. Способ нанесения подслоя на фотографическую основу. Кнаб Гюнтер, Кроха Вальтер, Шон Ганс-Джерджен, Джейнтц Рейн-хард, Курц Хэрмут, Вейб Эдельтраут. // РЖХ. 1985. - 19Н. - N 18. - с.46.

37. Патент Япония N 58-58660. 1983. Фотографический материал. Судзуки Тамоцу, Накао Сугуру.// РЖХ. -1985. 19Н. - N 6. - с.63.

38. Патент США N 4394442. 1983. Композиция подслоя из водных дисперсий для фотоматериалов на полиэфирной подложке. Миллер Конрад Е.// РЖХ.1984.- 19Н.-N5.-c.51.

39. Патент ГДР N 155022. 1982. Вспомогательный слой для полиэфирной подложки с антистатическими и адгезионными свойствами. Вилд Вольфганг,

40. Бодж Ренат, Кордулла Джерд, Пийтш Хервард.// РЖХ. -1983. 19Н. -Nll.-c.60.

41. Патент США N 4584262. 1986. Способ получения полиэфирной основы с подслоем из терполимера. Миллер Конрад Е.// РЖХ. 1987. - 19Н. - N 6. -с.65-66.

42. Патент США N4181528. 1980. Композиция подслоя для полиэфирной основы. Ворк Рей Р., Пенкратс Ричард Р.// РЖХ. 1980. - 19Н. - N 18. -с.41 - 42.

43. Патент Япония N 57-53586. 1982. Светочувствительный фотографический материал. Омити Такэмори, Ямамото Набуо.//РЖХ,- 1984,- 19Н. N 7.-С.56.

44. Патент США N 5958659.1999. Полиэфирная фотографическая основа. Такахаши Джан.//РЖХ.- 2000. 19Н. - N 18. - с.20.

45. Заявка Япония N 57-164129. 1982. Композиция подслоя для полиэфирных пленок. Йосида Такаси, Хонда Кунихико, Ямагути Юкимаса.// РЖХ. -1983.- 19Н.-N24.-с.69.

46. Патент ГДР N218696. 1985. Фотографический галогеносеребряный регистрирующий материал с адгезионным слоем. Плашник Дийтер, Риттмейер Клаус, Краус Норберт, Вэррот Рудольф, Ратш Манфред, Граджерт Рейнхард.// РЖХ. 1985. - 19Н. - N 20. - с.47.

47. Патент ГДР N 236243. 1986. Фотографический материал с адгезионным слоем. Плашник Дийтер, Арнольд Манфред, Стейнерт Волкер, Краус Хелде, Бонинг Вилма.// РЖХ. 1987. - 19Н. - N 2. - с.55.

48. Заявка Япония N 60-213942. 1985. Способ подслаивания полиэфирнойплёнки. Саката Тосихико, Иванага Кацуаки.// РЖХ.- 1987. 19Н. - N 2. - с.55-56.

49. Патент ГДР N 2002898. 1983. Подслой для основы фотоплёнок на основе дисперсии желатины в безводной, содержащей органические примеси сре де. Кнаб Гюнтер, Коэхлер Харальд.// РЖХ. -1983. 19Н. - N 23. - с.55.

50. Патент Япония N 57-3930. 1982. Нанесение подслоя на полиэфирную плёнку. Арагэ Харуо, Миясава Садаюни.// РЖХ.- 1982. 19Н. - N 24. -с.59.

51. Патент Япония N 57-3053. 1982. Светочувствительный фотографический материал. Миямото Нарихико, Мани Кацудзи.// РЖХ. 1983. - 19Н. -N2-с.53.

52. Заявка Япония N 61-190336. 1986. Галогеносеребряный фотографический материал. Кавамото Фумио, Синагава Юкио.// РЖХ. -1988. 19Н. -N8.-c.51.

53. Заявка ЕПА N 0157019. 1985. Плёночный или пластиночный материал со слоем, обеспечивающим адгезию гидрофильного коллоидного слоя. Ван Пайшен, Ван Госсум.// РЖХ. 1986. -19Н. - N10. - с.54.

54. Патент США N 4423089. 1983. Подслаивание подложки при получении фотографического материала. Секия Масаеши, Ябе Macao, Сузуки Тамотси,

55. Очиаи Такеджи, Татсута Сумитака.// РЖХ. 1984. - 19Н. - N 19. - с.41.

56. Патент Япония N 57-53938. 1982. Светочувствительный фотоматериал. Ямагути Дзюн, Ямагути Мицуо, Кавагути Хидэо, Цудзин Набуо.// РЖХ.1984.- 19Н.-N10.-с.58.

57. Патент США N 5124242. 1992. Галогеносеребряный фотографический с гидрофобным полимерным подслоем и гидрофобным окрашенным слоем. Хаффори Ясуши, Суематсу Коичи, Охно Шигеру.// РЖХ. 1993. - 19Н. -N21.-c.15.

58. Патент США N 4265946. 1981. Процесс формирования подслоя на пластичных подложках. Ябе Macao, Татсута Сумитака, Очиаи Такеджи, Сузуки Таматсу, Секия Масаеши.// РЖХ. 1982. - 19Н. - N 3. - с.45.

59. Патент Япония N 57-488. 1982. Фотографический материал. Отиаи Такэдзи.// РЖХ. 1982. - 19Н. - N 23. - с.58.

60. Патент Япония N 59-95. 1984. Фотографический материал. Ота Эйити, Томори Масуо, Отиаи Такэцугу, Судзуки Тамоцу.// РЖХ. 1984. - 19Н. -N22.-с.48.

61. Патент США N 4429039. 1984. Фотографический материал. Очиаи Такеджи.// РЖХ. -1984. 19Н. - N 23. - с.49.

62. Заявка Япония N 61-236546. 1986. Основа для светочувствительного материала. Саката Тосихико, Иванага Кацуаки.//РЖХ. 1988. - 19Н. - N 1. - с.38.

63. Патент Япония N 58-58655. 1983. Фотоматериал. Отиаи Такэцугу. // РЖХ.1985.- 19Н.-N6.-с.62.

64. Патент Япония N 58-58656. 1983. Фотографический материал. Отиаи Такэцугу.// РЖХ. 1985. - 19Н. - N 6. - с.64.

65. Патент Япония N 58-58657. 1983. Фотографический материал. Отиаи Такэцугу.// РЖХ. 1985. - 19Н. - N 6. - с.63.

66. Патент Япония N 58-58658. 1983. Фотоматериал. Отиаи Такэцугу.

67. РЖХ. 1985. - 19Н. - N 6. - с.64.

68. Патент Япония N 58-58659. 1983. Фотоматериал. Отиаи Такэцугу. //РЖХ. 1985. - 19Н. -N 1. -с.59.

69. Патент США N 6146819. 2000. Галогенсеребряный фотографический материал. Фурукава Акира, Мияке Дайчи.//РЖХ.- 2001. 19Н. -N 21. - с.23.

70. Заявка ЕПВ N 1074885. 2001. Улучшенный адгезивный слой для полиэфир ной пленки. Ван Тхилло Е., Мертенс Р., Бойе Кене Дж., Вандаеле АЛ РЖХ,-2001.- 19Н.-N17.-с.25.

71. Патент Япония N 58-58661. 1983. Фотоматериал. ОтаЭйити, Томори Масуо, Сатамура Масахито, Отиаи Такэцугу. // РЖХ. 1985. - 19Н. - N 6. - с.64.

72. Патент Англия N 1571583. 1980. Пленка с подслоем. Пайшен Август, Джеан Ван, Госсум Люсьен Джан, Баптист Ван.// РЖХ. -1981. 19Н. - N 6. - с.70.

73. Патент Англия N 1580038.1980. Подслоенная основа фотопленки. Додвелл Джефри Майкл.//РЖХ. -1982. -19Н. -N3.- с.45-46.

74. Патент Англия N 1583343. 1981. Усовершенствование процесса полива слоев пленок. Манн Девид Родерик.// РЖХ. -1981. 19Н. - N 15. - с.45-46.

75. Патент Англия N 1583347. 1981. Усовершенствование процесса поливаслоев пленок. Манн Девид Родерик.// РЖХ. 1981. - 19Н. - N 15. - с.46.

76. Патент США N 4363872. 1982. Способ получения фотоматериала на полиэфирной основе. Элдинг Сурил Дж.// РЖХ. 1983. - 19Н. - N 15. - с.62-63.

77. Патент США N 4229523. 1980. Способ нанесения подслоя на полиэфирную основу фотоматериалов. Охта Хидеясу, Ширазаки Джан, Канб Масару, Абе Наото, Возум Такаморо, Маята Масаеши.// РЖХ. -1981. 19Н. - N 19. - с.50.

78. Патент Япония N 57-487. 1982. Подслаивание полиэфирной пленки для светочувствительного материала. Ота Хидеясу, Уодзуми Такахиро, Камбэ Кацу, Ясубэ Наохито, Сиросаки Дзюн, Мияма Масаеси.// РЖХ. -1982. 19Н. -N23.-с.58.

79. Патент Япония N 59-22217. 1984. Способ нанесения подслоя на полиэфирную пленку. Отиаи Такэдзи, Накао Сугуру.//РЖХ. 1985. - 19Н. - N 6. - с.62.

80. Патент Япония N 60-213941. 1985. Способ подслаивания фотографической полиэфирной пленки. Саката Тосихико, Иванага Кацааки. //РЖХ. 1986. -19Н.-N24.-с.62.

81. Заявка Япония N 60-163044. 1985. Способ подслаивания фотографических полиэфирных пленок. Саката Тосихико, Иванага Кацааки.//РЖХ. 1987. -19H.-N3 .-с.40-41.

82. Патент США N4197129. 1980. Полимерная подложка с повышенной адгезией к слою. Мурой Ясуджи, Охта Хидеяши, Канб Масару, Ширазаки Джан.// РЖХ. 1981. - 19Н. - N 4. - с.47-48.

83. Заявка Япония N 61-236545. 1986. Основа фотографического материала. Саката Тосихико, Иванага Кацуаки. // РЖХ. 1988. - 19Н. - N 1. - с.38.

84. Патент Россия N 1090149. 1994. Композиция адгезионного подслоя для фотографических материалов. Дубровин А.В., Петров С.А., Поляков С.И., Савенкова Е.А., Семененко Т.В. //РЖХ. 1995. - 19Н. - N 20. - с.21.

85. Патент США N 5910401. 1999. Желатин, модифицированный полиуретаном и полиэфирная основа. Андерсон Карлес С., Шелл БрайенА., Де Лаура Марио Д.// РЖХ,- 2000. 19Н. - N 8. - с.26.

86. Заявка Япония N 61-236544. 1986. Фотографическая основа.

87. Саката Тосихико, Иванага Кацуаки. //РЖХ. 1988. - 19Н. -N 1. - с.38.

88. Заявка Япония N 61-105543. 1986. Светочувстчительный материал. Судзуку Тамоцу, Суэмацу Коити, Нисикава Сумно, Тацута Сумитака.

89. РЖХ. 1987. - 19Н. - N 14. - с.41.

90. S. V. Veselova and А. V. Varlamov. Aqueous suspensions of polymers for deposition of adhesive sublayers onto PETP substates of photographic materials // Sci. Appl. Photo.,- 1998,- Vol. 40 (1).- pp. 83 89.

91. Толмачева M.H. Улучшение адгезии пленочных материалов.

92. Полимерные пленочные материалы./ Под ред. В.Е.Гуля. М.,"Химия", 1976.-с.130-142.

93. Тахакаси Г. Пленки из полимеров. Пер. с японского под ред. А.В.Фадеевой. -М.-Л,- «Химия», 1971 152 с.

94. Брагинский Г.И., Тимофеев Е.Н. Технология магнитных лент,- 2-е изд. перераб. Л.: Химия, 1987,- 328 с.

95. Патент CHIAN 5626689. 1994. Галогенсеребряный фотографический материал. Мираяма Масахико.// РЖХ,-1996. 19Н. - N 3. - с.27.

96. Целлюлоза.Бумага./ Под ред. дипл.инж.А.Опхердена: Перев. с нем. Б.М.Гуткина / Опхерден А., Энглерт Л., Швензон X., и др. М.: Лесная пром., 1980 - 472 с.

97. Гутман Б.Б., Янченко Л.Н., Гуревич Л.И. Бумага из синтетическихволокон. М.: Лесная промышленность, 1971. - 184 с.

98. Гороховский Ю.Н., Левенберг Т.М. Общая сенситометрия. Теория ипрактика. М.: Искусство, 1963. - 302 с.

99. Зиненко Е.В. Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук на тему: Модификация желатинового подслоя для триацетатной основы кинофотоматериалов. — СПб., СПбГУКиТ, 2000г.

100. Журба Ю.И. Краткий справочник по фотографическим процессам и материалам. М.: Искусство, 1990. - 352 с.

101. Августинович К.А. Основы фотографической метрологии. М.: Легпромбытиздат, 1990. - 288 с,

102. Красный-Адмони Л.В. Фотокиноматериалы и магнитные ленты. Справочное издание Л.: Химия, 1991. - 240 е., ил.

103. Справочник химика в 3-х Т.,/Под общ.ред. Б.П.Никольского//Т.2, Основные свойства неорганических и органических соединений. Гос. научно-техническое издательство химической литературы, Л. - М., 1951.

104. Краткий справочник физико-химических величин. Изд. 8-е. перераб. /Под ред. А.А.Равделя и А.М.Понамаревой. Л.: Химия, 1983. - 232 с.

105. Биктимиров Р.С., Брайнин Л.Б. Унификация метода определения плоскостности кинофотоматериалов .//Техника кино и телевидения. 1976. -N 12. - с.28 - 29.

106. Гинзбург Б.М., Рашидов Д., Султанов Н. Влияние температуры кристаллизации и температуры растяжения на механическую устойчивость кристаллитов в сферолитах полиэтилена// Высокомолекулярные соединения. Т.16,- Серия A.-N 10. - 1974,- с.2279.

107. Чалых А.Е., Петрова И.И., Василенко Ж.Г. и др. Применение метода газоразрядного травления для изучения структуры кристаллических полимеров//Высокомолекулярные соединения,- Т.16,-Серия А.-N6,- с.1289.

108. Берестнева Г.Л., Козлов П.В. Влияние растяжки на структуру и свойства пленок из полиэтилентерефталата. Исследование макроструктуры растянутых пленок методом травления. // Высокомолекулярные соединения. Т.2.- N 12,- 1960,- с.1854-1859.

109. Новиков Д.В., Варламов А.В., Мнацаканов С.С. Анализ структуры поверхности желатиновых пленок декорированием золотом //Высокомолекулярные соединения. Т.35 - N10,- 1993. - с. 1693-1696.

110. Межмолекулярные взаимодействия / Под ред.Ратайчака Г., Орвилла У. М.: Мир, 1984.- 432 с.

111. Теория хемосорбции / Под ред.Дж.Смита.М.:Мир,1983.- 333 с.

112. Новиков Д.В., Варламов А.В. Применение метода декорирования золотом для построения структурной модели поверхности мезоморфного полимера //Поверхность. N10,- 1993,- с.95.

113. Бартенев Г.М., Френкель С.Я. Физика полимеров. Л.: Химия, 1990,- 430 с.

114. ФедерЕ. Фракталы . М.: Мир, 1991.-254 с.

115. Займан Дж. Модели беспорядка. М.: Мир, 1982. 592 с.

116. Klement I.J., Geil Р.Н. // Journal of polymer science. Part D. Biopolymers. -V.35. 1971. -p.505-515.

117. Еркова Л.Н., Чечик О.С. Латексы. Л.: Химия, 1983.-224 с.

118. Розенберг М.Э. Полимеры на основе винилацетата. Л.: Химия, 1983.-176 с.

119. Орлова О.В., Фомичева Т.Н. Технология лаков и красок: Учебник для техникумов. М.: Химия, 1990. - 384 с.

120. Басин В.Е. Адгезионная прочность. — М.: Химия, 1981. 208 с.

121. Толмачева И.А., Верхоланцев В.В. Новые воднодисперсионные краски.- Л.: Химия, 1979. 200 с.

122. Дьяконов А.Н. Химия фотографических материалов: Учебник. -М.: Искусство, 1988. 272 с.

123. Царев Б.А. Технология конофотоматерилов: Конспект лекций. Л.: ЛИКИ, 1972.-210 с.

124. Гиниятуллин М.Х., Крикуненко Р.И., Олейникова В.И. О взаимном влиянии адгезионного и эмульсионного слоев кинофотоматериалов. -Казань: Казанский химико-технологический институт имени С.М. Кирова,- 1984. 10 с.

125. Привалко А.П. Справочник. Свойства по физической химии полимеров в 3-х т./АН УССР, Институт химии высокомолекулярных соединений. Киев.: Наук, думка, 1984,- 330 с.

126. Технология пластических масс/ Под ред. В.В. Коршака. Изд. 2-е перераб. и доп. М.: Химия, 1976,- 608 с.-157131. Фляте Д.М. Свойства бумаги. Изд. 2-е, испр. и доп. М.: Лесная пром., 1976. - 648 с.

127. Патент Англия N 1563592. 1980. Пленки из синтетических полимерных материалов. Ремингтон Тимоти Алан.//РЖХ. 1980. 19Н. - N 18. - 41 с.

128. Патент CIIIAN 5180658. 1993. Белая полиэфирная композиция и подложка для фотографии. Киехара Кадзуто, Араки Хиромитсу, Ямадзаки Тошиаки, Харада Ичия.//РЖХ. 1994. - 19Н. - N 11. - 24 с.

129. Заявка ЕРА N 0582750 А1. 1994. Фотографический материал с непрозрачной полиэфирной пленочной подложкой. СтеренеМарк, Пласерс Патрик, Ван-Коппенолле Джорж.//РЖХ. 1995. 19Н. -N18.-22-23 с.

130. Верхоланцев В.В. Водные краски на основе синтетических полимеров. Л.: Химия, 1968. 200 с.

131. Горловский И.А., Индейкин Е.А., Толмачев И.А. Лабораторный практикум по пигментам и пигментированным лакокрасочным материалам: Учебное пособие для вузов. Л.: Химия, 1990. - 240 с.

132. Ермилов П.И., Индейкин Е.А., Толмачев И.А. Пигменты и пигментированные лакокрасочные материалы.: Учебное пособие для вузов. Л.: Химия, 1987. - 200 с.