Поток высокочастотной плазмы пониженного давления в процессах взаимодействия с поверхностью материалов тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.02.05, кандидат технических наук Шарафеев, Рустем Фаридович

• Шарафеев, Рустем Фаридович
• кандидат технических наук
• 2010

Оглавление диссертации кандидат технических наук Шарафеев, Рустем Фаридович

Основные условные обозначения и сокращения

Введение.

Глава 1. Струйные ВЧ разряды - ключевой элемент финишной обработки поверхности.

1.1. ВЧ струйные разряды пониженного давления и их свойства

1.2. Поверхностные слои конструкционных материалов и методы их модификации.

1.3. Теоретические исследования струйного ВЧ разряда в процессах его взаимодействия с поверхностью материалов.

1.4. Цели и задачи диссертации.

Глава 2. Характеристики струйных ВЧ разрядов пониженного давления в процессах обработки конструкционных материалов.

2.1. Методика и аппаратура для экспериментальных исследований характеристик струйных ВЧ разрядов пониженного давления.

2.2. Характеристики струйных ВЧ разрядов пониженного давления.

2.3. Характеристики потока ВЧ плазмы пониженного давления в области взаимодействия с поверхностью конструкционных материалов.

2.4. Обобщение результатов экспериментальных исследований струйных

ВЧ разрядов пониженного давления и выводы.

Выводы по второй главе.

Глава 3. Математическая модель взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с цилиндрическими образцами малого диаметра.

3.1. Математическая модель взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с цилиндрическими телами.

3.2. Численное исследование взаимодействия ВЧ плазмы пониженного давления с конструкционными материалами.

Выводы по третьей главе.

Глава 4. Влияние обработки потоком ВЧ плазмы пониженного давления на эксплуатационные свойства материалов.

4.1. Выбор изделий для модификации.

4.2. Методика исследования свойств образцов.

4.3. Результаты обработки изделий потоком высокочастотной плазмы пониженного давления.

4.4. Применение потока высокочастотной плазмы пониженного для обработки изделий.

Выводы по четвертой главе.

Выводы

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Поток высокочастотной плазмы пониженного давления в процессах взаимодействия с поверхностью материалов»

Струйный высокочастотный (ВЧ) разряд пониженного давления (р = 13,3-133 Па) обладает уникальными возможностями модификации различных материалов. Он позволяет эффективно обрабатывать органические и неорганические материалы с различным внутренним составом и структурой, а также поверхности изделий сложной конфигурации. В связи с этим в последние годы наметились новые перспективные направления его использования, такие как модификация поверхности конструкционных и порошковых материалов на уровне нанослоев.

Однако, в связи со сложным характером зависимости характеристик плазменного потока от параметров установки, для разработки промышленных применений струйного ВЧ разряда пониженного давления необходимо проведение большого количества трудоемких и дорогостоящих экспериментальных исследований. Все это сдерживает разработку технологических процессов и внедрение плазменных установок и технологий в производство.

Существенно сократить объем экспериментов позволяет использование метода математического моделирования, который позволяет заменить часть натурных испытаний численными расчетами. Для этого необходима адекватная математическая модель, которая учитывает процессы, протекающие в потоке плазмы. Однако, свойства потока плазмы при пониженном давлении в присутствии образцов материалов исследованы недостаточно: не определены зависимости плазменных характеристик (концентраций заряженных частиц, напряженностей электрического и магнитного полей) от характеристик потока, не определено влияние потока на взаимодействие плазмы с поверхностью материалов.

Диссертационная работа направлена на решение актуальной задачи экспериментально-расчетного исследования потока ВЧ плазмы пониженного давления в присутствии конструкционных и порошковых материалов.

Работа выполнялась в Казанском государственном технологическом университете в рамках научно-исследовательской работы по Федеральной целевой программе «Исследования и разработка приоритетных направлений развития научно-технологического комплекса России на 2007-2012 г.г.» по теме: «Развитие центра коллективного пользования научным оборудованием в области получения и исследования наночастиц оксидов металлов, металлов и полимеров с заданными химическим составом и формой», «Исследование характеристик ВЧ разрядов в присутствии твердых тел» по заданию федерального агентства по науке и инновациям 2009 г., № ГР 01200954054 «Исследование потоков низкотемпературных ионов, формируемых в неравновесной плазме, с целью получения диффузионных нанослоев с функциональными физико-химическими свойствами» по заданию Федерального агентства по образованию на проведение научных исследований по тематическому плану НИР 2009 г.

В первой главе дан обзор известных методов исследования потока ВЧ плазмы пониженного давления и результаты применения ВЧ плазменной обработки. Проведен анализ методов модификации поверхности материалов и рассмотрены их возможности в формировании различных свойств изделий. Установлено, что воздействие потока ВЧ плазмы пониженного давления позволяет проводить щадящую модификацию поверхности (например, производить очистку и полировку поверхности с одновременным повышением микротвердости) с ликвидацией трещиноватого и рельефного слоев. В связи с чем данный вид струйного ВЧ разряда является перспективным инструментом обработки материалов.

При этом обнаружено, что механизм взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с материалами установлен не полностью. В частности, не установлено влияние самого материала на характеристики потока ВЧ плазмы пониженного давления, как в самой струе, так и вблизи поверхности материалов, а также влияние характеристик плазменного потока на структурно-фазовые изменения в поверхностных слоях образцов материалов.

Во второй главе представлены результаты экспериментальных исследований потоков ВЧ плазмы пониженного давления при модификации поверхности материалов.

Струйный ВЧ разряд емкостного типа реализован с помощью двух плазмотронов - с кольцевыми и плоскими электродами. При исследовании характеристик плазменного потока параметры установок варьировались в следующих пределах: давление от 1,33 до 133 Па, частота генератора 13,56 МГц, расход плазмообразующего газа от 0 до 0,24 г/с. В исследуемом диапазоне потребляемая мощность генераторов варьировалась в диапазоне от 1,5 до 20 кВт. В качестве плазмообразующего газа в экспериментах использовались аргон и смеси аргона с воздухом или пропан-бутаном.

Исследовано распределение газодинамических, энергетических и электрических параметров потока ВЧ плазмы пониженного давления: поля скоростей, давлений, температуры и концентрации электронов потока плазмы; мощность разряда, плотность ВЧ тока, напряженность магнитного поля.

Экспериментально установлено, что при взаимодействии потока ВЧ плазмы с образцами у поверхности последних образуется область, в которой нарушается квазинейтральность - слой положительного заряда (СПЗ). Установлены зависимости параметров СПЗ от характеристик плазменного потока: скорости, давления, мощности струи.

Измерения характеристик СПЗ при малых размерах образца сложно осуществить. Поэтому для уточнения механизма модификации поверхности материалов в потоке ВЧ плазмы пониженного давления и выявления влияния скорости плазмы на характеристики ионного потока проведены теоретические исследования СПЗ, возникающего при модификации конструкционных материалов в плазме ВЧ разрядов пониженного давления.

В третьей главе разработана математическая модель СПЗ, возникающего при модификации поверхности заземленных образцов из проводящих материалов в потоке ВЧ плазмы пониженного давления.

Математическая модель разработана в предположении, что рабочий газ является инертным и плазма состоит из частиц трех сортов: нейтральные атомы, электроны и положительные однозарядные ионы.

Предполагается, что образец имеет форму цилиндра, длина которого много больше его диаметра, он изготовлен из проводящего материала, заземлен, а расстояние до высокочастотного электрода много больше диаметра образца.

С помощью построенной математической модели проведено теоретическое исследование параметров плазмы струйных ВЧ разрядов, ответственных за модификацию поверхности твердых тел. В результате получены: пространственно-временное распределение потенциала, напряженности электрического поля и концентрации заряженных частиц поля в СПЗ, значения энергии ионов и плотности ионного тока, поступающего на поверхность тела.

В четвертой главе с целью исследования потока в присутствии образцов материалов рассмотрено три объекта: твердый сплав марки ВК6-ОМ, латунированный металлокорд 4JI27 и алюмохромовый катализатор ИМ-2201, нанесенный на высокопористый носитель. В главе приведены методики по исследованию свойств перечисленных изделий.

На основе проведенных исследований взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с материалами разработаны технологические процессы использующие поток ВЧ плазмы пониженного давления для:

- формирования нанодиффузного слоя в поверхностном слое стоматологических твердосплавных фрез из ВК6-ОМ в смеси аргона с пропан-бутаном для повышения их износостойкости;

- улучшения состояния поверхности латунированных металлокордов шинной промышленности с увеличением стабильности адгезионной прочности между резиной и металлокордом;

- регенерации алюмохромового катализатора с увеличением числа возможных повторных циклов использования.

В приложении представлен акт внедрения технологии финишной обработки стоматологических фрез из твердого сплава марки ВК6-ОМ на предприятии ООО «Фреза» г.Казань. Экономический эффект составил 800 тыс.руб.

На защиту выносятся:

1. Результаты экспериментальных исследований струи ВЧ плазмы пониженного давления (р = 13,3-133 Па, G = 0-0,14 г/с, Рстр = 0,1-2,5 кВт) в процессах модификации поверхностных слоев конструкционных материалов, устанавливающие, что непосредственно в окрестности образца концентрация электронов возрастает в 2-2,5 раза, аксиальная составляющая плотности тока увеличивается в 1,1-2,5 раза. При этом характеристики струи на выходе из сопла плазмотрона изменяются незначительно, не более чем на 5%.

2. Результаты экспериментальных исследований струи ВЧ плазмы пониженного давления, устанавливающие диапазон изменения параметров плазменного потока (р = 13,3-133 Па, G = 0-0,12 г/с, Рстр = 0,1-2,5 кВт), в котором при взаимодействии с материалом у поверхности образца образуется СПЗ толщиной до 7 мм, в котором ионы плазмы ускоряются до энергий 20-80 эВ при плотности ионного тока 0,2-0,9 А/м2, что обеспечивает обработку материалов без преобладания ВЧ распыления.

3. Результаты математического моделирования потока ВЧ плазмы пониженного давления при взаимодействии с поверхностью образцов, устанавливающие зависимости потенциала образца от скорости потока, давления и потребляемой мощности установки, и параметры плазменного потока, в которых достигается максимальное значение потенциала, что обеспечивает возможность подбора наиболее эффективных режимов плазменного воздействия с целью модификации поверхностных слоев.

4. Результаты экспериментальных исследований взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью образца, устанавливающие, что в диапазоне скорости пока v = 150-450 м/с, давления газа р= 13,3-133 Па и мощности разряда Рстр= 0,1-2,5 кВт происходит модификация поверхностного слоя:

- при обработке вольфрамо-кобальтового сплава в смеси аргона с пропан-бутаном изменяется структура и состав слоя на глубину от 70 до 670 нм, в зависимости от времени обработки. Во внешнем слое обнаружена алмазоподобная структура толщиной до 20-70 нм. В модифицированном слое образуется карбид кобальта. Общая толщина модифицированного слоя, характеризующегося повышенной на 20-30% микротвердостью, достигает 300 мкм;

- при обработке латунированного металлокорда изменяется адгезионная прочность между резиной и металлокордом;

- при обработке катализатора в смеси аргона с воздухом происходит окисление Cr(III) до Cr(VI), т.е. реализуется процесс регенерации.

Заключение диссертации по теме «Механика жидкости, газа и плазмы», Шарафеев, Рустем Фаридович

Выводы по четвертой главе

1. В результате экспериментальных исследований, установлено, что при обработке сплавов металлов струйным ВЧ разрядом пониженного давления в атмосфере химически активного газа образуется модифицированный поверхностный слой толщиной от 10 нм до 70-670 нм в зависимости от времени обработки.

2. Установлено, что при обработке вольфрамо-кобальтового сплава в пропан-бутановой ВЧ плазмой пониженного давления поверхностный слой состоит из двух подслоев: наружный толщиной —10 нм содержит углерод в виде графита, и переходный слой, толщиной от 10 до 70-670 нм, в зависимости от режима обработки, содержит углерод в составе карбида вольфрама, углерод в алмазоподобном состоянии, и углерод в связях С-Н и С-О-Н.

3. Показано, что обработка ВЧ плазмой пониженного давления позволяет модифицировать приповерхностный слой с сохранением характеристик основного материала, за счет чего возможно, в частности, улучшение адгезионных свойств металлов с нанесенным латунированным покрытием, например, металлокордов.

4. Установлено, что обработка в ВЧ пожженного давления позволяет модифицировать нанослои не только конструкционных материалов компактной структуры, но и существенно влиять на активные поверхностные слои порошковых материалов, таких как хромовый катализатор на высокопористом носителе Л120з. Воздействие ВЧ плазмы пониженного давления на отработанный алюмохромовый катализатор позволяет произвести регенерацию активного нанослоя.

5. Результаты проведенных экспериментальных исследований показывают, что поток ВЧ плазмы пониженного давления является перспективным инструментом модификации поверхностных нанослоев конструкционных и порошковых материалов, что позволяет разработать технологические процессы обработки конкретных и изделий.

1. Установлено, что при введении в струю ВЧЕ плазмы пониженного давления образцов металлов и сплавов характеристики плазменного потока существенно изменяются в окрестности образца на расстоянии до 50 мм. При варьировании скорости потока от 150 до 450 м/с и давления в рабочей камере от 13,3 до 133 Па концентрация электронов в этой области увеличивается в 2-2,5 раза, аксиальная составляющая плотности тока возрастает в 1,1-2,5 раза. При этом характеристики струи на выходе из сопла плазмотрона изменяются незначительно, не более чем на 5%.

2. Установлено, что в диапазоне изменения параметров потока ВЧЕ плазмы пониженного давления (р= 13,3-133 Па, v= 150-450 м/с, Рстр ~ 0,1-2,5 кВт), на поверхность образца из плазмы поступает ионный поток с энергией ионов от 20 до 80 эВ при плотности ионного тока от 0,2 до 0,9 А/м2, что обеспечивает обработку материалов без преобладания ВЧ распыления.

3. В результаты математического моделирования взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью образцов, установлены зависимости потенциала образца от скорости потока, давления и мощности струи, а также параметры плазменного потока (р= 13,3-133 Па, G= 0-0,14 г/с, Рстр = 0,1-2,5 кВт), в которых достигается максимальное значение потенциала, что обеспечивает возможность подбора наиболее эффективных режимов плазменного воздействия с целью модификации поверхностных слоев.

4. Установлен физический механизм взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с поверхностью материалов. Ионы плазмообразующего газа, обладающие энергией 20-80 эВ, воздействуя на поверхностные слои материала, обеспечивают интенсивную диффузию дефектов структуры и атомов из поверхностных нанослоев в глубинные слои толщиной до 300 мкм.

5. Установлено, что:

• при взаимодействии потока ВЧ плазмы пониженного давления с вольфрамо-кобальтовым сплавом в смеси аргона с пропан-бутаном изменяется структура и состав слоя на глубину от 70 до 670 нм, в зависимости от времени обработки. Во внешнем слое обнаружена алмазоподобная структура толщиной до 20-70 нм. В модифицированном слое образуется карбид кобальта. Общая толщина модифицированного слоя, характеризующегося повышенной на 20-30% микротвердостью, достигает 300 мкм;

• обработка потоком ВЧ плазмы пониженного давления позволяет модифицировать приповерхностный слой стали 70 с латунированным покрытием с сохранением характеристик основного материала и улучшением адгезионных свойств металлокордов, применяемых в шинной промышленности;

• при взаимодействии потока аргоно-воздушной плазмы пониженного давления с порошковым алюмохромовым катализатором происходит окисление Cr(III) до Cr(VI), что даёт возможность использовать этот вид струйной ВЧ плазмы для щадящей регенерации активных слоев отработанного катализатора.

6. В результате проведенных исследований разработаны технологии обработки в потоке ВЧ плазмы пониженного давления при р = 13,3-133,3 Па, вг = 0,04-0,12 г/с, Рстр = 0,5-2,5 кВт:

• медицинских стоматологических фрез из вольфрамо-кобальтого сплава ВК6-ОМ, в результате которой в поверхности материала образуется диффузионный алмазоподобный слой толщиной 20-70 нм, за счет чего увеличивается их срок службы в 3-4 раза;

• латунированного металлокорда для автомобильных шин позволяющей увеличивать его долговечность при воздействии знакопеременными нагрузками и повысить адгезию между резиной и кордом;

• порошкового алюмохромового катализатора, используемого в производстве изопрена, с целью его щадящей регенерации.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Шарафеев, Рустем Фаридович, 2010 год

1. Физика и техника низкотемпературной плазмы / С.В. Дресвин,

2. A.В. Донской, В.М. Гольдфарб, B.C. Кпубникин. -М.:Атомиздат, 1972. 352 с.

3. Донской А.В. Электроплазменные процессы и установки в машиностроении / А.В. Донской, B.C. Клубникин. Л.: Машиностроение, 1978. - 221 с.

4. Бабат Г.И. Безэлектродные разряды и некоторые связанные с ними вопросы / Г.И. Бабат. Вестник электропромышленности, 1942.- №2, С.1-12.

5. Гольдфарб В.М. Оптическое исследование распределения температуры и электронной концентрации в аргоновой плазме / В.М. Гольдфарб, С.В. Дресвин // Теплофиз.выс.температур. 1965. - Т.З, вып.З. - С.333-339.

6. Высокочастотный безэлектродный плазмотрон при атмосферном давлении / Ф.Б. Вурзель, Н.Н. Долгополов, А.И. Максимов, Л.С. Полак,

7. B.И.Фридман. В кн.: Низкотемпературная плазма. - М. - 1967. - С.419-431.

8. Ровинский Р.Е. Об энергетическом балансе стационарного индукционного разряда / Р.Е. Ровинский, В.А. Груздев, И.П. Широкова // Теплофиз.выс.температур, 1966. -Т.4, вып. 1 С.331-339.

9. Определение температуры в стационарном высокочастотном индукционном разряде / Р.Е. Ровинский, В.А. Груздев, Т.М. Гутенмахер, А.П.Соболев // Теплофиз.выс.температур. 1967. - Т.5, вып.4. - С.557-561.

10. Оптические свойства плазмы безэлектродного разряда в воздушном потоке / Ю.А. Буевич, В.М.Николаев, В.А.Пластинин, Г.Ю Силачев, М.И.Якушин // Журнал прикл. мех. и техн.физ. 1968. - №6. - С.111-116.

11. Кононов С.В. К определению интенсивности удельных тепловых потоков к поверхности в струях высокочастотного безэлектродного плазмотрона на воздухе / С.В. Кононов, М.И. Якушин // Журнал прикл. мех. и техн.физ. -1966. № 6. - С.67-68.

12. Кулагин И.Д. Определение электрических параметров индукционного разряда в газе при атмосферном давлении / И.Д. Кулагин, Л.М. Сорокин // Физ. и хим. обр.матер. 1969. - №5. - С.3-12.

13. Залогин Г.Н. Высокочастотные индукционные плазмотроны для получения наноструктурированных материалов и нанесения покрытий / Г.Н. Залогин, А.В. Красильников // Энциклопедия инженера-химика. 2009. -№4. — С.20-23.

14. Рыкалин Н.Н. Плазменные процессы в металлургии и обработке материалов / Н.Н. Рыкалин // Физ. и хим. обр.матер. 1967. - № 2. - С.3-17.

15. Плазменные процессы в получении сферических порошков тугоплавких материалов / А.Б. Гугняк, Е.Б.Королева, И.Д.Кулагин, В.И.Михалев, В.А. Петрунчев, Л.М.Сорокин // Физ. и хим.обр.матер. 1967. - № 4, С.40-45.

16. Краснов А.Н. Низкотемпературная плазма в металлургии. / А.Н. Краснов, В.Г. Зильберберг, С.Ю. Шарикер. М.: Металлургия, 1970. - 216 с.

17. Марин К.Г. Применение низкотемпературной плазмы в микроэлектронике / К.Г. Марин, В.К. Любимов // Физ.и хим.обр.матер. 1978. - №2. -С.64-69.

18. Вурзель Ф.Б Химические процессы в плазме и плазменной струе / Ф.Б. Вурзель, Л.С. Полак // В сб.: Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. М., 1995. - С.100-117.

19. Получение пигментной двуоксиси титана индукционно-атомарным способом / Н.Н. Рыкалин, С.В. Огурцов, И.Д. Кулагин, И.В. Антипов, Л.М. Сорокин, Я.М. Липкес, С.Н. Дмитриев, С.Н. Сокоренко, Т.П. Сушко,

20. A.Б. Гугняк, , Д.С.Третьяков, Б.В. Драчев // Физ. и хим. обр.матер. 1975. -№1. - С.154-157.

21. Рыкалин Н.Н. Термическая плазма в металлургии и технологии / Н.Н. Рыкалин // Труды ВЭЖ. 1977. - секция 1, доклад №> 6. - С.71.

22. БашировЮ.А. Использование высокочастотного безэлектродного разряда для синтеза интерметаллических соединений на основе ниобия и ванадия / Ю.А. Баширов, С.А. Медведев // В сб.: Генераторы низкотемпературной плазмы.-М., 1969. С.501-507.

23. Коломийцев П.Т. Жаростойкие диффузионные покрытия / П.Т. Коло-мийцев. М. Металлургия, 1979. - 272 с.

24. Кудинов В.В. Плазменные покрытия / В.В. Кудинов. М.: Наука, 1977.- 184 с.

25. Никитин М.Д. Теплозащитные и износостойкие покрытия деталей дизелей / М.Д. Никитин, А.Я. Кулик, Н.И. Захаров. Л.: Машиностроение, 1977. -168 с.

26. Получение покрытий высокотемпературным распылением: сб. ст. / Отв. ред. Л.К. Дружинина, В.В.Кудинова. М.: Атомиздат, 1973. - 312 с.

27. Получение пленок двуокиси кремния плазменным методом /

28. B.Ф. Сыноров, Э.В. Гончаров, В.М. Гольдфарб, А.В. Крячко // Электронная техника сер.материал. 1967. - вып.З. - С.41-47.

29. Неса М. Soures a plasma pour la preparation de couches minces de silice /М. Heca, J.Van. Cakenberghe // Thin Solid Films.-1972.-Vol.l 1, №2.- P.283-288.

30. Донской А.В. Применение низкотемпературной плазмы в электротермических процессах / А.В. Донской, С.В. Дресвин, B.C. Клубникин // в сб.: Генераторы плазменных струй и сильноточные дуги Л., 1972 - С.39-43.

31. БуевичЮ.А. О механизме разрушения полупрозрачных полимеров лучистым тепловым потоком / Ю.А. Буевич, O.K. Егоров., М.И. Якушин // Журнал прикл.мех. и техн.физики. 1968. - № 4. - С.72-79.

32. Исследование эффективности выделения энергии в плазме безэлет-родного высокочастотного разряда / С.И.Андреев, М.Н.Ванюков, А.А.Егорова, Б.М.Соколов // Жур.техн.физ. 1967. - Т.37, вып.7. - С.1252-1257.

33. Плазменная технология в производстве СБИС / под ред. Н.А. Айнспрука и Д. Брауна. М.: Мир, 1987. - 469 с.

34. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов / Б.С. Данилин, В.Ю. Киреев- М.: Энергоиздат, 1987. -264 с.

35. Суржиков С.Т. Физическая механика газовых разрядов / С.Т. Суржиков. М.: МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2006. - 640 с.

36. Моделирование и методы расчета физико-химических процессов в низкотемпературной плазме / отв.ред. Л.С.Полак. М:Наука, 1974. - 271 с.

37. Brasified Charles I. High frequency discharges in mercury, helium and neon / Charles I. Brasified // Physical rewiew. 1931. - Vol.37. - P.82.

38. Левитский C.M. Исследование потенциала зажигания высокочастотного разряда в газе в переходной области частот и давлений / С.М. Левитский // Журн.техн.физ. 1957. - Т.27, вып.5 - С.970-977.

39. Мышенков В.И. Влияние межэлектродного расстояния на максимальный поперечный размер пространственно-однородного плазменного столба /

40. B.И. Мышенков, Н.А. Яценко // Журн.техн.физ. 1981. - Т.51, №101. C.1195-1204.

41. Ганна А.Х. Исследование ВЧ разрядов в диффузионной области давления, а и у разряды: автореф. дисс. М., 1979. - 14 с.

42. Кузовников А.А. Пространственное распределение параметров стационарного ВЧ разряда / А.А. Кузовников, В.П. Савинов // Вестник МГУ, Сер: физика, астрономия. 1973. - №2. - С.215-233.

43. Popow О.А. Power diss: patted in low-pressure RF discharge plasmas / О .A. Popow, V.A. Jodyak // J.appl.phys.- 1985. Vol.57, №1. - P.53-58.

44. Левитский C.M. Потенциал пространства и распыление электродов в высокочастотном разряде / С.М. Левитский // Журн.техн.физ. 1957. - Т.27, вып.5.-С.1001-1009.

45. Джерпетов Х.А. Исследование высокочастотного разряда методом зондов / Х.А. Джерпетов, Г.М. Патеюк // ЖЭТФ.- 1955.- Т.28, вып.З С.343-351.

46. Кузовников А.А. Экспериментальное исследование поглощения ВЧ поля плазмой положительного столба / А.А. Кузовников, М.А. Хадир // Радиотехника и электроника. 1973. - Т. 18, вып.4. - С. 875-877.

47. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток / В.Л. Грановский // под ред. Л.А.Сена, В.Е.Голанта. М.: Наука, 1971. - 544 с.

48. Исследование энергетических параметров высокочастотного емкостного плазмотрона / Н.Н. Рыкалин, И.Д. Кулагин, Л.М. Сорокин, А.Б. Гугняк // Физ.и хим.обраб.матер. 1975. - №4. - С.3-6.

49. Тихомиров И.А. О функции распределения электронов по энергиям в высокочастотном электродном разряде при пониженных давлениях / И.А. Тихомиров, В.В. Тихомиров, В.И. Шишковский // Известия ВУЗов, сер: Физика. 1974. - №4. - С.34-37.

50. Теоретическая и прикладная плазмохимия / JI.C. Полак,

51. A.А. Овсянников, Д.И. Словецкий, Ф.Б. Вурзель. М.: Наука, 1975. - 304 с.

52. Босяков М.Н. Определение вращательной температуры молекул в плазме ВЧ разрядов низкого давления / М.Н. Босяков, А.А. Лабуда // Докл. АН БССР. 1981. - Т.25, вып.9. - С.801-804.

53. Исследование процесса нанесения диэлектрических пленок в высокочастотном разряде низкого давления / Н.И. Буланьков, В.Д. Журавлев,

54. B.А. Кротков, В.К. Любимов, К.Г. Марин // Электронная техника, 1976. Сер.З: Микроэлектроника, вып.З, 1976. - С.54-58.

55. Оке С.Н. Исследование кинетики заряженных частиц в ВЧ разряде низкого давления: автореф.дис.канд.физ.-мат.наук / Оке Сергей Николаевич. -М., 1981.-17 с.

56. Ершов А.В. Исследование кинетики электронов в плазме ВЧ разря-да низкого давления в инертных газах: автореф.дис. канд.физ.-мат.наук. М., 1982.- 15с.

57. Максимов А.И. Сравнительное исследование распыления некоторых металлов в тлеющем и ВЧ разрядах / А.И. Максимов, В.И. Светцов // Труды Ивановского хим.техн.ин-та. 1973. - вып.З. - С.110-115.

58. Разумовская Л.П. Оптические и электрические свойства ВЧ «слабого» и «сильного» разрядов в неоне / Л.П. Разумовская, О.П. Бочкова // Оптика и спектроскопия. 1960. - Т.9, вып.2. - С.271-273.

59. Звягинцев А.В. Безэлектродные емкостные разряды дугового типа / А.В.Звягинцев, Р.В.Митин, К.К. Прядин // ЖТФ. 1975. - Т.45, вып.2.1. C.278-285.

60. Брагин В.Е. О пространственной однородности объемного ВЧЕ разряда / В.Д. Брагин, В.Д. Матюхин // Труды моск.физ.-техн. ин-та. сер.: общ. и мо-лекулярн.физ. 1979. - вып.11. - С. 179-182.

61. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. I. Физическое распыление одноэлементных твердых тел. М.: Мир, 1984. - 336 с.

62. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Вып. II Физическое распыление одноэлементных твердых тел. М.: Мир, 1986. - 448 с.

63. Распыление под действием бомбардировки частицами. Вып. III. Характеристики распыленных частиц, применения в технике: Пер. с англ./ Под ред. Р. Бериша и К. Виттмака. М.: Мир, 1998. - 551 с.

64. Погребняк А.Д. Модификация свойств материалов и осаждение покрытий с помощью плазменных струй / А.Д. Погребняк, Ю.Н. Тюрин // УФН. -2005. Т.175, №5. - С.515-544.

65. Туманов Ю.Н. Низкотемпературная плазма и высокочастотные электромагнитные поля в процессах получения материалов для ядерной энергетики / Ю.Н Туманов. М.: ЭАИ, 1989. - 280 с.

66. Ежовский Ю.К. Поверхностные наноструктуры перспективы синтеза и использования / Ю.К. Ежовский // Соросовский образовательный журнал. -2000. -№1.- С. 56-63.

67. Ребиндер П.А. Влияние активных смазочных сред на деформирование сопряженных поверхностей трения / П.А. Ребиндер // О природе трения твердых тел. Минск: Наука и техника, 1971. - С.8-16.

68. Вудраф Д. Современные методы исследования поверхности / Д. Ву-драф, Т. Делчар. М: Мир, 1989. - 564 с.

69. Морохов И.Д. Физические явления в ультрадисперсных средах / И.Д. Морохов, Л.И. Трусов, В.Н. Лаповок М.:Энергоатомиздат, 1984. - 224 с.

70. Чепа П.А. Эксплуатационные свойства упрочненных деталей / П.А. Чепа, Д.А. Андрияшин // под ред. С.В. Берестнева. Минск: Наука и техника, 1988.- 192 с.

71. Bell А.Т. The impact of nanoscience on heterogeneous catalysis / A.T. Bell // Science. 2003. - Vol.299. - P. 1688-1691.

72. Арзамасов Б.Н. Химико-термическая обработка металлов в активизированных газовых средах / Б.Н. Арзамасов М.: Машиностроение, 1979 - 224 с.

73. Бабад-Захряпин А.А. Химико-термическая обработка в тлеющем разряде / А.А. Бабад-Захряпин, Г.Д. Кузнецов. М.: Атомиздат, 1975. - 176 с.

74. ЛахтинЮ.М. Химико-термическая обработка металлов / Ю.М. Лахтин, Б.Н. Арзамасов: учеб.пособие для вузов. М.: Металлургия, 1985.-256 с.

75. Рассел X. Ионная имплантация / X. Риссел, И. Руге М., Наука, 1983.

76. Мейер Дж. Ионное легирование полупроводников / Дж. Мейер, Л. Эриксон, Дж. Дэвис. М.: Мир, 1970.

77. Бойко В.И. Модификация металлических материалов импульсными мощными пучками частиц / В.И. Бойко, А.Н. Валяев, А.Д. Погребняк // УФН. -1999. -Т.169, №11. -С.1243.

78. Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления / И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, И.Р. Сагбиев, М.Ф.Шаехов. Казань: Изд-во Казан, технол. ун-та, 2007. - 356 с.

79. Измерение характеристик ионного потока на поверхность образца в ВЧ разряде пониженного давления / И.Ш.Абдуллин, B.C. Желтухин, В.В. Куди-нов, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов // Физ. и хим. обработки материалов. -2008. № 6. - С.37-40.

80. Влияние материала образца на характеристики ионного потока, поступающего на его поверхность в ВЧ индукционном разряде пониженного давления / И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева. 2009. - №1 - С.70-72.

81. Характеристики ионного потока на поверхности образца в высокочастотной плазме / И.Ш.Абдуллин, В.С.Желтухин, И.Р.Сагбиев, М.Ф.Шаехов // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева. 2008. - №3. - С.73-74.

82. Брагинский С.И. Явления переноса в плазме / С.И. Брагинский // Вопросы. теор. плазмы. М.: Госатомиздат,1963. - вып.1. - С.183-273.

83. Сагбиев И.Р. Струйный высокочастотный разряд пониженного давления в процессах модификации поверхностных нанослоев конструкционных материалов: дис.д-ра тех.наук: 01.02.05 / Сагбиев Ильгизар Раффакович. Казань, 2009.-321 с.

84. Морозов А.И. Введение в плазмодинамику / Морозов А.И. М.: ФИЗ-МАТЛИТ, 2006. - 576 с.

85. Митчнер М. Частично-ионизованные газы / М. Митчнер, Ч. Кругер. -М.: Мир, 1976.-496 с.

86. Модификация нанослоев в высокочастотной плазме пониженного давления: монография / И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин., И.Р. Сагбиев, М.Ф. Шаехов. Казань: Изд-во Казан.гос.технол.ун-та, 2007. - 356 с.

87. Биберман Л.Я. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы / Л.Я. Биберман, B.C. Воробьев, И.Т. Якупов. М.: Наука, 1983. - 376 с.

88. Сахаров В.И. Численное моделирование термически и химически неравновесных течений и теплообмена в недорасширенных струях индукционного плазмотрона / И.В. Сахаров // Изв. РАН. Механика жидкости и газа. 2007. -№6. - С.157-168.

89. Дресвин С.В. Основы математического моделирования плазмотронов. 4.1: Уравнение баланса энергии. Метод контрольного объема. Расчеттемпературы плазмы: учеб. Пособие / С.В. Дресвин, Д.В. Иванов. СПб.: Изд-во Политехи, ин-та, 2004. - 227 с.

90. Дресвин С.В. Основы математического моделирования плазмотронов. 4.2: Электромагнитные задачи в плазмотронной технике: учеб. пособие / С.В. Дресвин, Д.В. Иванов. СПб.: Изд-во Политехи, ин-та, 2006. - 296 с.

91. Дресвин С.В. Основы математического моделирования плазмотронов. Ч.З. Уравнения движения плазмы. Методика расчета скорости плазмы в плазмотронах: учеб. пособие / С.В. Дресвин, Нгуен Куок Ши, Д.В. Иванов. -СПб.: Изд-во Политехи, ун-та, 2006. 132 с.

92. Цендин Л.Д. Нелокальная кинетика электронов в газоразрядной плаз-ме/Л.Д. Цендин//Успехи физ. наук. -2010. -Т. 180, №2. -С.139-164.

93. Особенности индуктивного ВЧ-разряда низкого давления. I. Эксперимент / А.Ф. Александров, К.В. Вавилин, Е.А. Кралькина и др. // Физика плазмы. 2007. - Т.ЗЗ, №9. - С.802-815.

94. Особенности индуктивного ВЧ-разряда низкого давления. И. Математическое моделирование / А.Ф. Александров, К.В. Вавилин, Е.А. Кралькина и др. // Физика плазмы. 2007. - Т.ЗЗ, №9. - С.816-827.

95. Физические принципы разработки ВЧ-индуктивных источников плазмы низкого давления / А.Ф. Александров, Г.Э. Бугров, К.В. Вавилин и др. // Наукоемкие технологии. 2005. - Т.6, №1. - С.9-15.

96. Сивухин Д.В. Общий курс физики: термодинамика и молекулярная физика / Д.В. Сивухин. М.: Наука, 1979. 565 с.

97. Берд Г. Молекулярная газовая динамика. М Мир. 1981г. 320 с.

98. Мосс Дж.Н. Расчет методом Монте-Карло течения во входном канале масс-спектрометра, установленного на КЛАМИ «СПЕЙС-ШАТТЛ» / Дж.Н. Мосс, Г.А. Берд // Аэрокосм. техн. 1989. - №3. - С. 11-19.

99. Печатников Ю.М. Статистическое моделирование стационарного течения разреженного газа через вакуумную трубопроводную арматуру при моле-кулярно-вязкостном режиме / Ю.М. Печатников // Инж.-физ. журн. 1992. -№6. - С.673-676.

100. Печатников Ю.М. Статистическое моделирование течения разреженного газа вблизи молекулярного режима / Ю.М. Печатников // Электрон, техн. Сер.4. Электровак. и газоразряд. Приборы.- МЭП СССР. 1991. - вып.4. -С.67-69.

101. Райзер Ю.П. Физика газового разряда: учеб. руководство / Ю.П. Райзер. М.:Наука, 1987. - 592 с.

102. Schottky W. Diffusion theorie der positiven saule. phys. zheitschr. 1924. - Bd. XXV. - P.635-640.

103. ЛупанЮ.А. Об одной возможности уточнения элементарной теории ВЧ разряда в воздухе / Ю.А. Лупан // Журн. техн. физики. 1976. - Т.46, вып.З. -С. 2321-2326.

104. Энгель А. Ионизованные газы /А.Энгель М.: Физматгиз, 1959 - 120с.

105. Шарафеев Р.Ф. Исследование газодинамических характеристик потока высокочастотного емкостного разряда пониженного давления в процессах обработки материалов / Р.Ф. Шарафеев // Вестн. КГТУ. 2010. - №2 - С.364-369.

106. Шарафеев Р.Ф. Характеристики потока высокочастотного емкостного разряда пониженного давления в процессах обработки материалов/ Р.Ф. Шарафеев: препринт / Казан, гос. технол. ун-т. Казань, 2010. - 16 с.

107. Гуляев М.А. Измерение вакуума (измерение малых абсолютных давлений) / М.А. Гуляев, А.В. Ерюхин. М.: Изд. стандартов, 1967. - 148 с.

108. АбианцВ.Х. Теория авиационных газовых турбин / В.Х. Абианц-М.: Машиностроение, 1978. 246 с.

109. Диагностика плазмы / Под ред. М.И. Пергамента М.: Энергоиздат, 1986.-вып.5.-303 с.

110. ГолантВ.Е. Сверхвысокочастотные методы исследования плазмы / В.Е. Голант. М.: Наука, 1968 - 327 с.

111. Краснов А.Н. Низкотемпературная плазма в металлургии / А.Н. Краснов, В.И. Зильберберг., С.Ю. Шарифкер.-М.: Металлургия, 1970.-216

112. Вурзель Ф.Б. Химические процессы в плазме и плазменной струе // Кинетика и термодинамика химических реакций в низкотемпературной плазме. -М., 1965. С.100-117.

113. Установки индукционного нагрева: учеб. пособие для вузов / А.Е. Слухоцкий, B.C. Немков, Н.А.Павлов, А.В. Башунэр. Л.: Энергоиздат, Лени-град. отд-ние, 1981. - 328 с.

114. Семенов А.П. Износостойкие покрытия, нанесенные вакуумными ионно-плазменными методами / А.П. Семенов, А.И. Григорьев // Технол. машиностроения. 1973. - № 7. - С. 15-20.

115. АбдуллинИ.Ш. Исследование высокочастотного диффузного разряда в процессах обработки поверхностей / И.Ш. Абдуллин // НПО «Мединстру-мент». -Казань, 1988. 75 с. (УК.деп. в ВИНИТИ 9.03.88, № 1571-В89).

116. Шарафеев Р.Ф. Математическая модель взаимодействия потока ВЧ плазмы пониженного давления с цилиндрическими телами /Р.Ф. Шарафеев: препринт / Казан, гос. технол. ун-т. Казань, 2010. - 14 с.

117. Райзер Ю.П. Высокочастотный емкостный разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения: Учеб. пособие для вузов / Ю.П. Райзер, М.Н. Шнейдер, Н.А. Яценко. М.: Изд-во Моск. физ.-техн. ин-та.; Наука. Физматлит. 1995. - 320 с.

118. Регенерация активного нанослоя отработанного алюмохромового катализатора в ВЧ плазме пониженного давления / Р.Ф. Шарафеев, И.Р. Сагбиев, И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин // Перспективные материалы. 2007. - №5. -С.93-96.

119. Модификация поверхности металлокорда в высокочастотной плазме / Р.Ф. Шарафеев, И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, И.Р. Сагбиев // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева. 2008. - №3 - С.70-72.

120. Модификация поверхностного слоя вольфрамо-кобальтового сплава в высокочастотной плазме пониженного давления / Р.Ф. Шарафеев, И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, И.Р. Сагбиев // Вестн. КГТУ им. А.Н.Туполева. 2009. - №1. - С.72-74.

121. Влияние обработки высокочастотной плазмой пониженного давления на прочность связи металлокорда с резиной / Р.Ф. Шарафеев, И.Ш. Абдуллин,

122. B.C. Желтухин, И.Р. Сагбиев // Тез. докл. XXXV Международной (Звенигородской) конф по физике плазмы и УТС. Звенигород, 2008. - С.279.

123. Формирование нанодиффузных покрытий в ВЧ плазме пониженного давления / Р.Ф. Шарафеев, И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, И.Р. Сагбиев. // науч. сессия, аннотации сообщений, Казань, 3-9 фев. 2009 г.- Казань: Казан, гос. технол. ун-т, 2009. С. 102.

124. Абдуллин И.Ш. Высокочастотная плазменно-струйная обработка материалов при пониженных давлениях. Теория и практика применения / И.Ш. Абдуллин, B.C. Желтухин, Н.Ф. Кашапов. Казань. Изд-во Казан, ун-та, 2000. - 348 с.

125. Некоторые аспекты влияния рецептурных факторов на прочностные свойства шин / М.И. Аюпов, С.И. Вольфсон, Т.Ю. Миракова и др. Казань: Казан, гос. технол. ун-т, 2001. 80 с.

126. Некоторые вопросы совершенствования технологии шинного производства АО «Нижнекамскшина» / Г.Я. Власов, Н.А. Зеленов, Н.В. Ключников и др.//МЦНТИ.-М:.- 1991.-60 с.

127. ВанОйВ.Дж. Адгезия к металлическим и органическим волокнам /

128. B.Дж. Ван Ой, В.Е. Вининг // ВХО им. Д.И. Менделеева. 1986. - Т1. - №1.1. C.67-72.

129. Сагбиев И.Р. ВЧ-плазменная модификация поверхностных нанослоев металлов / И.Р. Сагбиев: препринт. Казань, Изд-во Казан.гос.технол.ун-та, 2007,- 64 с.

130. Сагбиев И.Р. ВЧ-плазменная модификация поверхности диэлектрических материалов и тонкопленочных покрытий / И.Р. Сагбиев: препринт. Казань, Изд-во Казан.гос.технол.ун-та ,2007. - 28 с.

131. ОхотинаН.А. Основные методы физико-механических испытаний эластомеров: Учебное пособие / Н.А. Охотина, А.Д. Хусаинов, Л.Ю. Закирова. -Казан.гос.технол.ун-т. Казань, 2006. - 156 с.

132. Промышленный катализ в лекциях / Под ред. А.С. Носкова. М.: Кал-вис, 2006. - №6. - 128 с.

133. Катализатор дегидрирования низших С3-С4 парафинов в стационарном слое на новом алюмооксидном керамометаллическом носителе / Н.А. Пахомов, С.Ф. Тихов, Ю.Н. Беспалко и др. // Серия. Критические технологии. Мембраны. 2006. - №1(29). - С.38-41.

134. Изменение свойств алюмохромового катализатора ИМ-2201 при эксплуатации в промышленных блоках дегидрирования изопентана / В.М. Ильин,

135. B.А. Веклов, И.Н. Павлова и др.// Катализ в промышленности. 2005. - №4.1. C.47-51.

136. Комаров С.М. Перемешивание катализатора на секционирующих решетках в реакторе с кипящим слоем дегидрирования парафиновых углеводородов / С.М. Комаров, Г.Р. Котельников, Н.П. Рогозина // Катализ в промышленности. 2005. - №5. - С .42-47.

137. Влияние СВЧ-поля на фазовый состав алюмохромового катализатора дегидрирования углеводородов / P.P. Даминев, И.Х. Бикбулатов, Н.С, Шулаев и др. // Катализ в промышленности. 2003. - №4. - С .49-52.