Направленный синтез легированных галлием и индием пленок теллурида свинца с контролируемым содержанием примесных атомов и отклонением от стехиометрии тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.01, доктор химических наук Самойлов, Александр Михайлович

  • Самойлов, Александр Михайлович
  • доктор химических наукдоктор химических наук
  • 2006, Воронеж
  • Специальность ВАК РФ02.00.01
  • Количество страниц 339
Самойлов, Александр Михайлович. Направленный синтез легированных галлием и индием пленок теллурида свинца с контролируемым содержанием примесных атомов и отклонением от стехиометрии: дис. доктор химических наук: 02.00.01 - Неорганическая химия. Воронеж. 2006. 339 с.

Оглавление диссертации доктор химических наук Самойлов, Александр Михайлович

индием пленок VI примесных

Специальность 02.00.01 - неорганическая химия

ДИССЕРТАЦИЯ на соискание ученой степени доктора химических наук

Научный консультант: доктор химических наук, профессор МИТТОВА И.Я.

Воронеж

СОДЕРЖАНИЕ

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ

1.1. Система свинец - теллур.

1.2. Система свинец - галлий.

1.3. Система свинец-индий.

1.4. Получение пленок теллурида свинца.

1.5. Структура и физические свойства эпитаксиальных пленок теллурида свинца.

1.6. Структура и физические свойства кристаллов и эпитаксиальных пленок РЬТе, легированных галлием и индием.

ГЛАВА 2. МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА

2.1. Методика выращивания тонких пленок теллурида свинца.

2.2. Высокотемпературная масс-спектроскопия.

2.3. Электронная микроскопия.

2.4. Локальный рентгеноспектральный микроанализ.

2.5. Рентгеноструктурный анализ

2.6. Металлографический анализ тонкой структуры монокристаллов Si, РЬТе и пленок РЬТе.

2.7. Изучение электрофизических свойств тонких пленок РЬТе.

ГЛАВА 3. СИНТЕЗ ПЛЕНОК PbTe/Si, PbTe/Si02/Si И ИЗУЧЕНИЕ ИХ РЕАЛЬНОЙ КРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ СТРУКТУРЫ

3.1. Синтез пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si при помощи модифицированного метода «горячей стенки»

3.2. Влияние условий формирования на кристаллическую структуру пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si.

3.3. Металлографическое исследование микроструктуры объемных монокристаллических и тонкопленочных образцов РЬТе

3.4. Рентгенографическое исследование скалярной плотности дислокаций в пленках PbTe/Si и PbTe/Si02/Si.

ГЛАВА 4. ЛЕГИРОВАНИЕ Ga ПЛЕНОК PbTe/Si И PbTe/Si02/Si МЕТОДОМ ДВУХТЕМПЕРАТУРНОГО ОТЖИГА В ПАРОВОЙ ФАЗЕ 4.1. Выбор условий парофазного легирования Ga пленок РЬТе при помощи отжига в насыщенном паре над гетерогенной смесью GaTes + Li.

4.2. Моделирование процесса парофазного легирования галлием тонких пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si.

4.3. Методика и результаты парофазного легирования галлием пленок PbTe/Si и PbTe/SiCVSi

ГЛАВА 5. ИССЛЕДОВАНИЕ ПАРОВОЙ ФАЗЫ НАД РАСПЛАВАМИ

Pb-Ga И Pb-In ПРИ ПОМОЩИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОЙ МАСС - СПЕКТРОСКОПИИ 5.1. Актуальность создания научно-обоснованного метода синтеза пленок

PbTe(Ga) и PbTe(In) с равномерным распределением примесных атомов.

5.2. Изучение взаимодействия компонентов в насыщенном паре над расплавами Pb-Ga и Pb - In методом высокотемпературной масс-спектроскопии.

5.3. Расчет элементного состава насыщенного пара в бинарных системах Pb-Ga и Pb-In.

5.4. Расчет температурно-концентрационных зависимостей активностей компонентов в системах Pb-Ga и Pb-In.

5.5. Термодинамический анализ взаимодействия компонентов в системах свинец - галлий и свинец - индий.

5.6. Сопоставление результатов термодинамического анализа взаимодействия компонентов в системах свинец - галлий и свинец - индий.

ГЛАВА 6. РАЗДЕЛЬНАЯ И СОВМЕСТНАЯ КОНДЕНСАЦИЯ КОМПОНЕНТОВ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ НАД РАСПЛАВАМИ Pb-Ga И Pb-In ^ 6.1. Обоснование необходимости изучения процессов конденсации компонентов из паровой фазы над расплавами Pb-Ga и Pb-In . 204 6.2. Конденсация паров чистых исходных компонентов в системах в системах Pb-Ga и Pb - In при помощи метода «горячей стенки»

6.3. Изучение совместной конденсации компонентов из паровой фазы над расплавами Pb - Ga и Pb-In

6.4. Сравнительный анализ особенностей синтеза пленок Pbi^Ga^, и Pb^In^, при помощи модифицированного метода «горячей стенки».

ГЛАВА 7. СИНТЕЗ ПЛЕНОК PbTe(Ga) И PbTe(In), ЛЕГИРОВАННЫХ АТОМАМИ МЕТАЛЛОВ IIIА ГРУППЫ НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ФОРМИРОВАНИЯ КОНДЕНСАТА

7.1. Преимущества одностадийного синтез пленок РЬТе, легированных Ga и In непосредственно в процессе формирования конденсата

7.2. Синтез пленок PbTe(Ga) легированных Ga непосредственно в процессе роста на Si и Si02/Si подложках.

7.3. Синтез пленок РЬТе, легированных In непосредственно в процессе роста на Si подложках.

7.4. Кристаллическая структура пленок Pbi^Ga^Te и Pbi^In^Te

ГЛАВА 8. ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ЛЕГИРОВАННЫХ ГАЛЛИЕМ И ИНДИЕМ ПЛЕНОК РЬТе

8.1. Электрофизические свойства и чувствительность к ИК - излучению нелегированных пленок теллурида свинца

8.2. Тип и концентрация носителей заряда в легированных галлием и индием пленках теллурида свинца.

8.3. Сравнительный анализ результатов изучения электрофизических свойств пленок РЬТе, легированных галлием и индием.

8.4. Чувствительность к ИК - излучению легированных пленок теллуридасвинца

ВЫВОДЫ.

Рекомендованный список диссертаций по специальности «Неорганическая химия», 02.00.01 шифр ВАК

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Направленный синтез легированных галлием и индием пленок теллурида свинца с контролируемым содержанием примесных атомов и отклонением от стехиометрии»

Актуальность. Одной из фундаментальных задач неорганической химии в XXI веке остается проблема синтеза сложных многокомпонентных материалов с заданными функциональными свойствами, отсутствие которых сдерживает дальнейшее развитие научно-технического прогресса, в том числе, совершенствование приборов микро- и оптоэлекгроники [1 - 4]. Пленки и монокристаллы узкозонных полупроводников AIVBVI, легированные металлами III А группы Периодической системы Д.И. Менделеева с переменной валентностью, обладают уникальными электрофизическими свойствами, поскольку в них наблюдается стабилизация (пиннинг) уровня Ферми Ef либо внутри запрещенной зоны, либо вблизи дна зоны проводимости [5 - 7]. Одним из особенно интересных проявлений стабилизации Ер является нечувствительность электрофизических свойств легированных Ga и In теллурида свинца и его твердых растворов к присутствию других примесных атомов. При этом природа и механизмы этого явления еще до конца не изучены. Синтез легированных Ga и In пленок халькогенидов свинца с заданным содержанием примесных атомов остается одной из важнейших задач полупроводникового материаловедения, поскольку изучение кристаллической структуры и физико-химических свойств таких гетероструктур имеет большое значение с точки зрения фундаментальной науки.

Халькогениды металлов IV А группы Периодической системы Д.И. Менделеева служат базовыми материалами при создании активных элементов в различных приборах оптоэлеюронной техники в средней и дальней инфракрасной (ИК) области спектра, а также могут использоваться при разработке термоэлектрических преобразователей энергии [8]. Разработка надежных методов синтеза качественных тонких пленок соединений A1VBVI на кремнии, который до настоящего времени остается основным материалом современной микроэлектроники, позволит создать гибридные интегральные схемы, одновременно включающие в себя элементы регистрации ИК - излучения, а также систему обработки детектируемого сигнала [9 - 13].

Физические параметры тонких пленок соединений A1VBVI и твердых растворов на их основе можно целенаправленно изменять в результате легирования металлами III А группы с переменной валентностью. Это открывает путь к созданию принципиально новых квантовых электронных приборов. Весьма существенным достоинством подобного типа структур может служить значительное улучшение параметров уже существующих оптоэлектронных приборов при использовании в них сверхрешеток [14-18].

Работа выполнена в соответствии с тематическим планом НИР Воронежского госуниверситета, финансируемых из средств республиканского бюджета по единому заказ-наряду (№ Г.Р. 01.20.0008367) и поддержана грантами МНФ Дж. Сороса (NZOOOO и NZ0300), а также грантом Министерства образования РФ № Е02-5.0-289.

Цель работы: Разработка и осуществление научно-обоснованных методов направленного синтеза легированных галлием и индием пленок теллурида свинца при условии контроля не только концентрации примесных атомов, но и отклонения от стехиометрии в содержании основных компонентов, что обеспечивает сравнительное изучение влияния примесных атомов IIIА группы, обладающих переменной степенью окисления, на кристаллохимическую структуру и электрофизические свойства исходного материала в зависимости от конкретных условий процесса легирования.

Для достижения цели требовалось выполнение следующих задач:

1. Оптимизация режимов синтеза на подложках Si (100) и Si02/Si (100) пленок РЬТе, обладающих высокой степенью структурного совершенства, при помощи модифицированного метода «горячей стенки»;

2. Разработка научно-обоснованного двустадийного метода парофазного легирования галлием предварительно синтезированных пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si;

3. Изучение температурно-концентрационной зависимости состава паровой фазы над бинарными расплавами Pb - Ga и Pb - In, используемыми в качестве источников пара металлических компонентов при синтезе легированных пленок PbTe(Ga) и PbTe(In);

4. Термодинамический анализ характера взаимодействия компонентов в системах Pb - Ga и Pb - In в интервале температур Т= 950 - 1150 К на основе температурных зависимостей парциальных давлений компонентов, полученных при масс-спектроскопических исследованиях этих систем;

5. Разработка методов направленного одностадийного синтеза на Si и Si02/Si подложках пленок РЬТе, легированных галлием и индием непосредственно в процессе их формирования, которые позволяют в выращиваемых пленках осуществлять строгий и гибкий контроль не только концентрации примесиых атомов, но также величины отклонения от стехиометрии в содержания основных компонентов;

6. Исследование скорости роста, химического состава и фазовой природы синтезируемых пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) в зависимости от состава исходных расплавов Pbi^Ga^ и РЬ]л1пЛ, величин парциальных давлений металлических компонентов и теллура, а также от температуры подложки;

7. Комплексное сравнительное изучение реальной кристаллической структуры, электрофизических параметров и чувствительности к ИК - излучению легированных Ga и In пленок РЬТе, полученных различными методами, в зависимости от концентрации примесных атомов, отклонения от стехиометрии в содержании основных компонентов, природы подложки и конкретных условий процесса легирования.

8. Создание представлений о механизме взаимодействия с исходной кристаллической матрицей РЬТе примесных атомов III А группы, обладающих переменной степенью окисления, с учетом их различного положения и величин отклонения от стехиометрии в содержании основных компонентов - свинца и теллура.

Научная новизна.

• В результате изучеиия процессов формирования мозаичных нелегированных монокристаллических пленок РЬТе на подложках Si (100) и SiCVSi (100) при помощи модифицированного метода «горячей стенки» установлены принципиальные закономерности их синтеза, обеспечивающие получение образов с п - и р - типом проводимости и высокой степенью структурного совершенства;

• На основании данных, полученных при изучении реальной кристаллической микроструктуры пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si с помощью металлографического анализа, растровой электронной микроскопии (РЭМ) и прецизионного рентгенографического анализа, установлено, что присутствие переходного буферного слоя Si02 толщиной 20 ± 5 - 50 ± 5 нм приводит к повышению структурного совершенства пленок и снижению средней скалярной плотности дислокаций. Однако с увеличением толщины оксидного слоя до 100 - 300 нм наблюдается рост плотности дислокаций с последующим переходом пленок РЬТе в поликристаллическое состояние;

• На основании термодинамического анализа состава пара в системе галлий -теллур разработан и осуществлен двустадийный метод легирования Ga предварительно синтезированных пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si посредством двухтемпературного отжига в насыщенном паре над гетерогенной смесью GaTes + Li, который позволяет получать образцы с содержанием примесных атомов Ga в пределах от 0,0005 до 0,015 мольн. д.;

• В результате масс-спектроскопических исследований установлено, что в интервале температур 780 - 1153 К насыщенный пар над расплавами Pbi^Ga^ и Pbi-Jn, в значительной степени обогащен металлами III А группы, при этом содержание металлов III А группы в зависимости от температуры и состава исходного расплава изменяется в пределах от 0,0001 до 0,0745 мольн. д. и от 0,001 до 0,1112 мольн. д. для Ga и In, соответственно. Такой интервал составов намного превышает диапазон концентраций примесных атомов в легированных образцах PbTe(Ga) и PbTe(In), для которого отмечены наиболее существенные изменения электрофизических параметров. На основании термодинамического анализа доказано, что при температурах 780 - 1153 К взаимодействие компонентов в расплавах Pbi^Ga^ и Pbi-jln* характеризуется сильно выраженным положительным отклонением от идеальности. Образование расплавов в системах Pb - Ga и Pb - In в интервале температур 780 - 1153 К является эндотермическим процессом и характеризуется значительными положительными величинами избыточных парциальных и

Е Е интегральных мольных свободных энергий смешения g и энтропии смешения 5 .

• Установлено, что на состав бинарных слоев Pbi^Ga^ и Pb^In^ влияет не только соотношение парциальных давлений компонентов, но также величина общего давления насыщенного пара и температура подложки. Результаты, полученные при выращивании двухкомпонентных пленок Pb^Ga^ и Pb^In^, доказали целесообразность использования расплавов Pb|^Ga^ и Pbj^In* в качестве источников паров металлических компонентов при направленном синтезе пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) модифицированным методом «горячей стенки»;

• Разработан и осуществлен одностадийный направленный синтез легированных Ga и In пленок теллурида свинца при условии строгого и гибкого контроля не только концентрации примесных атомов, но и величин отклонения от стехиометрии в содержании свинца и теллура;

• Комплексное изучение количественного состава, фазовой природы и микроструктуры синтезированных пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) позволило оценить границы растворимости галлия и индия в теллуриде свинца. Показано, что область растворимости индия в теллуриде свинца имеет асимметричную форму относительно квазибинарного разреза РЬТе - InTe, при этом содержание индия и теллура является взаимозависимым;

• В подтверждение амфотерного (донорного и акцепторного) поведения галлия и индия в исходной матрице РЬТе с позиций ионной модели разработаны представления, учитывающие различные зарядовые состояния примесных атомов (Ме+1 и Ме+3), их положение в исходной кристаллической матрице (Mej и Мерь), а также степень отклонения от стехиометрии в содержании основных компонентов -свинца и теллура.

Практическая значимость:

Формирование качественных тонких пленок полупроводниковых материалов AIVBVI на кремнии позволит создать гибридные интегральные схемы, одновременно включающие в себя элементы регистрации ИК - излучения, а также систему цифровой обработки детектируемого сигнала. Легирование пленок теллурида свинца галлием и индием приводит к стабилизации уровня Ферми внутри запрещенной зоны, поэтому электрофизические параметры таких материалов становится нечувствительными к присутствию других примесных атомов. Пленки PbTe(Ga) и PbTe(In) позволяют обеспечить стабильную и долговременную работу ИК - сенсоров и лазеров.

Апробация работы:

Материалы диссертационной работы были представлены на Всероссийских и международных конференциях: 6th International Conference "Physics and Technology of Thin Films", Ivano-Frankivsk, 1997; 5-я Международная конференция «Термодинамика и материаловедение полупроводников» Москва. МИЭТ, июль, 1997; Второй Российский симпозиум "Процессы тепло-массопереноса и рост монокристаллов и тонкопленочных структур". Обнинск. 22-24 сентября, 1997; European Materials Research Society (E-MRS'98) Spring Meeting. Strasbourg. France, June 16-20, 1998; 5-th International Workshop MSU - HTSC V, Moscow, March 24-29, 1998; Всероссийская научно-техническая конференция "Новые материалы и технологии НМТ-98" Москва. 17-18 ноября, 1998; Third International Conference "Single Crystal Growth, Strength Problems, and Heat Mass Transfer". Obninsk. 1999; IX и X Российские национальные конференции по росту кристаллов (НКРК-2000, 16-20 октября 2000 г., Москва, НКРК-2002. 24-29 ноября 2002 г. Москва); 13-th International Conference of Crystal Growth (ICCG-13. 30.07. - 04.08.2001. Kyoto, Japan); Всероссийская научная конференция "Физика полупроводников и полуметаллов" (ФПП-2002. 4-6 февраля 2002 г. Санкт-Петербург, Россия); Spring Meeting of European Materials Research Society (E-MRS'2002. Strasbourg. France, June 16-20, 2002); Всероссийская конференция "Физико-химические процессы в конденсированном состоянии и на межфазных границах" ФАГРАН-2002. Воронеж, 11-15 ноября 2002 г.; 1st International Symposium on Point Defects and Nonstoichiometry. ISPN 2003. March 20 - 22, 2003, Sendai, Japan; 7-th International Conference on Photoelecrtonic and Advanced Materials (ICPAM - 7), June 10 - 13, 2004. Yassi, Romania; XV Международная конференция по химической термодинамике в России, Москва, 27 июня - 2 июля 2005 г.; International Conference "Functional Materials" ICFM-2005, Ukraine, Crimea, Partenit, October, 2-7.

Публикации.

По результатам проведенных исследований опубликовано 29 статей, 17 из которых в академической российской печати, 5 в международных журналах (издательство Elsevier).

На защиту выносятся:

• Физико-химические закономерности процессов синтеза при помощи модифицированного метода «горячей стенки» нелегированных, а также легированных галлием и индием пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si с п - и р - типом проводимости. Влияние условий синтеза (парциальные давления компонентов и температура подложки) на количественный состав, фазовую природу, качество реальной кристаллической структуры и основные электрофизические параметры. Зависимость реальной кристаллической структуры пленок PbTe/Si и PbTe/Si02/Si от наличия и толщины переходного буферного слоя Si02;

• Результаты масс-спектроскопического изучения процессов испарения расплавов РЬ1/}аЛ и РЬ[л1пЛ, свидетельствующие о том, что насыщенный пар в значительной степени обогащен металлами III А группы, а взаимодействие компонентов характеризуется существенными положительными отклонениями от идеальности;

• Результаты термодинамического анализа взаимодействия компонентов в бинарных системах Pb - Ga и Pb - In, свидетельствующие, что образование расплавов Pbi-jGa* и Pbi-^In* в интервале температур 780 - 1150 К является эндотермическим процессом и характеризуется значительными положительными величинами избыточных парциальных и интегральных мольных свободных энергий смешения gE и энтропии смешения sE;

• Доказательство целесообразности применения расплавов Pb^Ga^ и Pb^In^ в качестве источников паров металлических компонентов при осуществлении направленного синтеза легированных пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) модифицированным методом «горячей стенки;

• Границы области растворимости галлия и индия в пленках теллурида свинца, установленные на основании результатов комплексного исследования состава, кристаллической структуры и фазовой природы пленок Pbi^In/Te/SiCVSi и Pbi-yln^Te/Si при помощи методов электронной микроскопии, JIPCA и прецизионного рентгенографического анализа. Взаимное влияние Те и In на протяженность области твердых растворов индия в теллуриде свинца;

• Доказательства амфотерного (донорного и акцепторного) характера поведения галлия и индия в пленках теллурида свинца в зависимости не только от содержания металлов III А группы с переменной степенью окисления, но также от величины отклонений от стехиометрии основных компонентов - свинца и теллура;

• Результаты изучения чувствительности к ИК - излучению легированных пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) в зависимости от метода легирования, природы и концентрации примесных атомов, а также отклонения от стехиометрии в содержании основных компонентов - свинца и теллура.

Структура и объем работы:

Текст диссертации состоит из введения, восьми глав, списка литературы, включающего 229 наименований источников. Содержание работы изложено на 340 страницах, включает 119 рисунков, 42 таблицы и 229 библиографических ссылок.

Похожие диссертационные работы по специальности «Неорганическая химия», 02.00.01 шифр ВАК

Заключение диссертации по теме «Неорганическая химия», Самойлов, Александр Михайлович

ВЫВОДЫ

Главным итогом диссертационной работы является решение актуальной научной проблемы: на основе термодинамического анализа взаимодействия свинца, галлия и индия между собой разработан и осуществлен направленный синтез легированных Ga и In пленок теллурида свинца с контролируемым содержанием примесных атомов и отклонением от стехиометрии основных компонентов, что позволило провести комплексное изучение не только влияния природы и концентрации примесных атомов, но и величины отклонения от стехиометрического соотношения в содержании основных компонентов на кристаллическую структуру и электрофизические параметры гетероструктур PbTe(Ga)/Si и PbTe(In)/Si, способных эффективно детектировать ИК - излучение.

1. Соотношение давлений свинца и теллура в реакционной камере модифицированного метода «горячей стенки» позволяет контролировать отклонение от стехиометрии, а следовательно, тип и концентрацию носителей заряда, при синтезе на подложках Si (100) нелегированных пленок теллурида свинца, обладающих структурой мозаичных монокристаллов с ориентацией (100). Формирование слоев РЬТе осуществляется по механизму «пар - конденсат без коалесценции». Присутствие переходного буферного слоя Si02 толщиной 20 ± 5 — 50 ± 5 нм приводит к повышению структурного совершенства пленок теллурида свинца и снижению средней скалярной плотности дислокаций до величин ~ 10~5 см-2, однако увеличение толщины оксидного слоя до 100 - 300 нм вызывает рост плотности дислокаций с последующим переходом слоев РЬТе в поликристаллическое состояние.

2. Двухтемпературный отжиг в насыщенном паре над гетерогенной смесью

§

GaTe + Li в системе галлий - теллур обеспечивает эффективное легирование галлием предварительно синтезированных пленок теллурида свинца и в зависимости от температуры, продолжительности, а также парциального давления молекул Ga2Te позволяет получать образцы с содержанием примесных атомов в пределах от 0,001 до 0,03 мольн. д.

3. На основании результатов масс-спектроскопических исследований установлено, что в интервале температур 780 - 1153 К паровая фаза над расплавами Pbi-jGa* и Pbi-Jn*состоит, главным образом, из одноатомных молекул, а суммарное содержание двухатомных частиц не превышает 0,05 % и 0,5 % для системы Pb - Ga и Pb - In, соответственно. Установлено, что поведение свинца, индия и, в особенности, галлия в расплавах Pbi^Ga^ и Pbi^In* характеризуется сильно выраженным положительным отклонением от идеальности. Показано, что для свинца, галлия и индия значения коэффициентов активности уменьшаются с ростом температуры.

4. На основании проведенных термодинамических расчетов установлено, что образование расплавов в системах Pb - Ga и Pb - In в интервале температур 780 -1150 К является эндотермическим процессом и характеризуется значительными положительными величинами избыточных парциальных и интегральных мольных р свободных энергий смешения g .

5. Доказана целесообразность использования расплавов Pb^Ga^ и РЬ^п* в качестве источников паров металлических компонентов при синтезе пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) модифицированным методом «горячей стенки». На основании температурных зависимостей парциальных давлений компонентов над расплавами Pb - Ga и Pb - In определен состав насыщенного пара в изученных системах, показано, что содержание металлов III А группы в зависимости от температуры и состава исходного расплава изменяется в пределах от 0,0001 до 0,045 мольн. д. и от 0,001 до 0,11 мольн. д. для галлия и индия, соответственно, что намного превышает интервал концентраций примесных атомов в легированных образцах PbTe(Ga) и PbTe(In), для которого отмечены наиболее существенные изменения электрофизических параметров.

6. Разработан и осуществлен одностадийный направленный синтез легированных Ga и In слоев теллурида свинца с возможностью строгого и гибкого контроля не только содержания примесных атомов в формируемой пленке в пределах от 0,0004 до 0,015 мольн. д. и от 0,0008 до 0,025 мольн. д. для галлия и индия, соответственно, но и отклонения от стехиометрии по основным компонентам: свинцу и теллуру. Синтезированные полуизолирующие пленки PbTe(Ga) в режиме фотосопротивлений обладают способностью не только эффективно детектировать ИК - излучение, но и регистрировать изменение его мощности.

7. Комплексное изучение количественного состава, фазовой природы и микроструктуры синтезированных пленок PbTe(In) позволило оценить границы растворимости галлия и индия в теллуриде свинца. Показано, что пленки РЬ^пДе, выращенные при 7;иь = 583 ± 3 К и 7;ub = 623 + 3 К, остаются однофазными, если содержание In в них не превышает = 0,012 - 0,014. При у1п> 0,014 пленки РЬ^пДе, содержащие избыток Те относительно стехиометрического соотношения, являются гетерогенными и представляют собой либо двухфазную смесь (РЬТе + InTe), (РЬТе + 1п2Те3), либо трехфазную смесь (РЬТе + InTe + In2Te3). Пленки РЬ^пДе, содержащие недостаток Те относительно стехиометрического соотношения, могут быть гомогенными и гетерогенными: (РЬТе + РЬ), (РЬТе + 1п4Те3) и (РЬТе + РЬ + 1п4Те3), в зависимости от содержания свинца и индия. Показано, что область растворимости индия в теллуриде свинца имеет асимметричную форму относительно квазибинарного разреза РЬТе - InTe, при этом содержание индия и теллура является взаимозависимым.

8. Сопоставление немонотонных зависимостей параметра кристаллической решетки, типа и концентрации носителей заряда, а также температурных зависимостей чувствительности к ИК - излучению легированных пленок PbTe(Ga) и PbTe(In) от содержания в них атомов металлов III А группы доказывает амфотерное (донорное и акцепторное) поведение галлия и индия в исходной матрице РЬТе. С позиций простой ионной модели для объяснения сложного поведения металлов с переменной степенью окисления в кристаллической решетке РЬТе разработаны представления, учитывающие их различные зарядовые состояния (Ме+1 и Ме+3), а также положения в исходной кристаллической матрице (Ме, и МеРЬ).

Список литературы диссертационного исследования доктор химических наук Самойлов, Александр Михайлович, 2006 год

1. Lead Chalcogenides: Physics and Applications / ed. D. Khohlov. - New York:

2. Gordon & Breach, 2002. 687 p.

3. Волков Б.А. Примеси с переменной валентностью в твердых растворах наоснове теллурида свинца / Б.А. Волков, Л.И. Рябова, Д.Р. Хохлов // Успехи физических наук. 2002. - Т. 172, № 8. - С. 875-906.

4. РЬТе films grown by hot wall epitaxy on sapphire substrates / Z. Dashevsky et al. // Thin Solid Films. 2004. - V. 461. - P. 256 - 265.

5. Synthesis and growth of PbTe crystals at low temperature and their characterization / V. Munoz et al. // Journ. Cryst. Growth. 1999. - V. 196. - P. 71-76.

6. Carrier transport and non-equilibrium phenomena in doped PbTe and related materials / B. A. Akimov et al. // Phys. Stat. Sol. 1993. - V.137, № 8. - P. 9-55.

7. Электрофизические и фотоэлектрические свойства PbTe(Ga), облученного электронами / Е.П. Скипетров и др. // Физика и техника полупроводников. 1994. -Т. 23, №9.-С. 1626-1635.

8. Энергетический спектр твердых растворов (Sn0 65Pb o,35)o,95Geo,o5Te / С.А. Немов и др. // Физика твердого тела. 2000. - Т. 42, № 4. - С. 623-625.

9. Шперун В.М. Термоелектрика телуриду свинцю i його аналопв / В.М. Шперун, Д.М. ФреГк, P.I. Запухляк. 1вано - Франювсък : Изд-во Плай, 2000. -250 с.

10. Photovoltaic lead-chalcogenide on silicon infrared sensor arrays / H. Zogg et al. // Optical Engineering. 1994. - V.33, № 5. - P. 1440 - 1449.

11. Photovoltaic infrared sensor arrays in monolithic lead chalcogenides on silicon / H. Zogg et al. // Semicond. Sci. Technol. -1991. № 6. - P. 36-41.

12. Photovoltaic Pbi.xSnxSe-on-Si IR Sensor Arrays for Thermal Imaging / H. Zogg et al. // International Conference on Solid States Devices and Materials : Extended Abstracts, Yokohama, Japan, August 23 26, 1994. Yokohama, 1994. - P. 963 - 964.

13. The lattice constant of ternary and quaternary alloys in the PbTe SnTe - MnTe System / S. Miotrowska et al. // Journ. Cryst. Growth. - 1999. - V. 200. - P. 483-489.

14. Handbook of semiconductor technology : / ed. K. A. Johnson and W. Schrotter. -Weinheim New York - London.: Wiley VCH, 2001. - V. 1. - 846 p.

15. Медведев Ю.В. Многоцветные ИК приемники / Ю.В. Медведев // Зарубежная электронная техника. - 1983. - № 10. - С. 40-53.

16. Заячук Д.М. К вопросу о доминирующих механизмах рассеяния носителей заряда в теллуриде свинца / Д.М. Заячук // Физика и техника полупроводников. -1997. Т.31, № 2. - С.217-221.

17. Фотопроводимость Pbi.xSnxTe(In) в миллиметровой области спектра / Ю.А. Абрамян и др. // Физика и техн. полупроводников. 1994. Т. 28, № 3. - С. 533-534.

18. Kasemset D. Liquid phase epitaxy of PbTeSe lattice matched to PbSnTe / D. Kasemset, S. Rotter, C.G. Fonstad // Journ. of Electronic Materials. - 1981. - V. 10, № 5. - P.863-878.

19. Вол A.E. Строение и свойства двойных металлических систем / А.Е. Вол. М. : Изд-во физ.- мат. литературы, 1962. - Т. 2. - 982 с.

20. Глазов В.М. Акустические исследования расслаивания и закритических явлений в электронных расплавах / В.М. Глазов, С.Г. Ким // Докл. АН СССР. Сер. Физ. химия. 1986. - Т. 290, № 4. - С. 873-876.

21. Влияние расслоения на термодинамические и кинетические свойства сплавов / В.И. Кононенко и др. // Журн. физ. химии. 1975. - Т. 49, № 10. - С. 2570-2573.

22. Вол А.Е. Строение и свойства двойных металлических систем : в 4-х т. / А.Е. Вол, Е.К. Каган. М.: Наука. - 1976. - Т.З. - 814 с.

23. Heumann Т. Thermodynamische Unttersuchungen im System Indium Blei / T. Heumann, B. Predel // Z. Metallkunde. - 1966. - Bd. 57, № 1. - S. 50 - 55.

24. Поверхностное натяжение сплавов индий свинец / О. Г. Ашхотов и др. // Журн. физич. химии. - 1997. - Т. 71, № 1. - С. 129 - 132.

25. Kameda К. Activities of Liquid Pb-In Alloys by E.M.F. Measurements Using Zirconia Solid Electrolyte Cells / K. Kameda, Y. Yoshida, S. Sakairi // Transactions of the Jap. Inst, of Metals. 1982. - V. 23, № 8. - P. 433 - 439.

26. McDonald J.A. Nights of the Future: II-VI Primer. Part 2: Tapping the True Potential of First and Second Generation II-VI Products / J. A. McDonald // III Vs Revue. - 1992. -V. 5,№2.-P.28-33.

27. Thermal mismatch - strain relaxation in epitaxial CaF2, BaF2/CaF2, and PbSe/BaF2/CaF2 layers on Si (111) after many temperature cycles / H. Zogg et al. // Phys. Review B. - 1994. - V. 50, № 15. - P. 10801 - 10810.

28. Фоточувствительные поликристаллические пленки компенсированного теллурида свинца РЬТе:С1,Теех / И.Б. Захарова и др. // Физика и техника полупроводников. 1994. - Т. 28, № 10. - С. 1802-1807.

29. Astles M.G. Liquidus measurements in the Pb Sn - Те system / M. G. Astles, P. Hatto, A. J. Crocker // Journ. Cryst. Growth. - 1979. - V. 47. - P.379-383.

30. Zemel A. Electric properties of indium-doped LPE layers of PbijSn*Te / A. Zemel, D. Eger, H. Shtikman // Journ. Electron. Materials. 1981. - V. 10, № 2. - P. 245 - 253.

31. Growth of (11 l)-oriented PbTe thin films on vicinal Si (111) and on Si (100) using fluoride buffers / A. Belenchuk et al. // Journ. Cryst. Growth. 1999. - V. 198/199. P. 1216-1221.

32. Марков B.M. Получение твердых растворов замещения в системе свинец -олово селен / В.М. Марков, JI.M. Маскаева, Л.Д. Лошкарева // Неорганические материалы. - 1997. - Т. 33, № 6. - С. 665 - 668.

33. Electrodeposition of РЬТе thin films / Н. Salomeni et al. // Thin Solid Films. -1998. V. 326. - P.78-82.

34. Фрейк Д.М. Физика и технология полупроводниковых пленок / Д.М. Фрейк, М.А. Галущак, И.И. Межилевская. Львов : Вища школа, 1988. - 155 с.

35. Scholar R.B. Preparation of single-crystal films of PbS / R. B. Scholar, J. M. Zemel // Journ. Appl. Phys. 1984. - V.35, № 6. - P. 1848-1851.

36. Jensen J.D. Surface charge transport in PbSz(Se)x and Pbi.xSnxSe epitaxial films / J. D. Jensen, R. B. Scholar//Journ. Vac. Sci. Technol. 1976. - V.13, № 4. - P. 920-925.

37. Фрейк Д.М. Синтез пленок AIVBV1 из навесок механической смеси компонентов под «тепловым затвором» / Д.М. Фрейк, М.А. Рувинский // Журн. техн. физики. -1983. Т.53., № 7. - С.1378 - 1379.

38. Боткин К.В. Тонкие слои, выращенные методом «горячей стенки» / К.В. Боткин, А. П. Шотов, В.В. Урсаки //Изв. АН СССР. Неорганические материалы. -1981.- Т. 17, № 1,-С. 24-27.

39. Kasai I. PbixSnxTe epitaxial layers prepared by the hot-wall technique /1. Kasai, J. Hermung // Journ. Electron. Mater. 1975. - V. 4, № 2. - P. 299-311.

40. Ishida A. Sn diffusion effects on X-ray diffraction patterns of Pb^SnJe -PbSe/Te^ superlattices / A. Ishida, M. Aoki, H. Fujiyasu // Journ. Appl. Phys. 1985. -V.58, № 2. - P. 797 - 801.

41. Clemens H. Crowth of PbTe Doping Superlattices by Hot Wall Epitaxy // H. Clemens // Joum. Cryst. Growth. 1988. - V.88. - P. 236-240.

42. Clemens H. Hot-wall epitaxy system for the growth of multilayer IV-VI compound heterostructures / H. Clemens, E. Farther, G. Bauer // Rev. Sci. Instrum. -1983.-V 54,№6.-P. 685-689.

43. Ishida A. Hall properties of PbTe-SnTe superlattice / A. Ishida, M. Aoki, H. Fujiyasu // Journ. Appl. Phys. 1985. - V. 58, № 5. - P. 1901-1903.

44. Новый метод выращивания тонких пленок твердых растворов AIVBVI / В.Н. Васильков и др.//Неорган, материалы. 2001. - Т. 31, № 1.-С. 26-29.

45. Эпитаксия пленок Pb0,gSno;2Te / Д.М. Фрейк и др. // Физ. электроника. 1979. -Вып. 18.-С. 82- 86.

46. Lopez Otero A. The use of a phase diagram as a guide for growth of PbTe films / A. Lopez - Otero // Journ. Appl. Phys. Lett. - 1975. - V. 55. - P. 2032-2036.

47. Mojejko K. Structure and growth mechanisms in thin epitaxial PbTe films / K. Mojejko, H. Subotowicz // Thin Solid Films. 1981. - V. 78, № 4. p. 678 - 684.

48. Исследование совершенных монокристаллических пленок РЬТе стехиометри-ческого состава / JI.A. Гудков и др. // Изв. АН СССР, сер. Неорганические материалы. 1980. - Т.16, № 9. - С. 1676 - 1678.

49. Dawar A.L. Electrical transport properties of epitaxial films of Pbi^SnJe / A.L. Dawar, P. Kumar, S.K. Paradkar // Phys. Status Solidi. 1982. - A 73, № 2. - P. 189 -194.

50. Гладкий C.B. Легирование пленок PbTe при их выращивании из газовой фазы / С.В. Гладкий, Т. Разафиндразана, И.В. Саунин // Изв. СПб. электротехн. ун-та. -1993.-№457.-46-56.

51. Monolithic IR Sensor Arrays in Heteroepitaxial Narrow Gap Lead Chalcogenides on Si for the SWIR, MWIR and LWIR Range / H. Zogg et al. // Infrared Detectors and Focal Plane Arrays. Proc. SPIE Conference. Orlando, USA, 1990. - P. 169 - 177.

52. Epitaxy of IV-VI Materials on Si with Fluoride Buffers and Fabrication of IR-sensors Arrays / H. Zogg et al. // Extended Thesis of 7-th International Conference on Narrow Gap Semiconductors. Santa Fe, USA. 1995. - P. 134 - 140.

53. Неидеальный гетеропереход p PbTe - n - Si / В. H. Выдрин и др. // Физика и техника полупроводников.-1991. - Т.25, № 1. - С. 106 - 109.

54. Аверкин А.А. О природе примесных состояний индия в теллуриде свинца / А.А. Аверкин, В.И. Кайданов, Р.Б. Мельник. // Физика и техника полупроводников.-1971.-Т.5,№3,-С. 42-56.

55. Особенности легирующего действия Ga в РЬТе и твердых растворах РЬТе -SnTe / Г.С. Бушмарина и др. // Изв. АН СССР, сер. Неорганические материалы. -1980.- Т. 16,№ 12.-С.2136-2140.

56. Лазаренко М.А. Легирование РЬТе галлием в процессе выращивания кристаллов по механизму ПЖК / М.А. Лазаренко, A.M. Гаськов, В.П. Зломанов // Весник МГУ, сер. Химия. 1980. - Т. 21, № 6. - С. 756 - 763.

57. Влияние галлия на электрофизические свойства теллурида свинца / М.А. Лазаренко и др. // Легированные полупроводники. -М.: Наука, 1982. С. 81-85.

58. Примесные состояния Ga и фотоэлектрические явления в сплавах PbTe(Ga) / Б.А. Акимов и др. // Физика и техника полупроводников.- 1983. Т. 17, № 1.- С. 72 -76.

59. Temperature dependence of mobility in heavily doped n type PbTe layers grown by LPE / Z. Feit et al. // Phys. Lett. - 1983. - A98, № 8 - 9. - P 451 - 454.

60. Ерасова H.A. Фазовый переход в теллуриде свинца с примесью галлия / Н.А. Ерасова // Изв. АН СССР, сер. Неорганические материалы. 1983. - Т. 20, № 3. - С. 538-540.

61. Поведение примеси Ga в монокристаллах РЬТе / В.М. Лакеенков и др. // Укр. физический журн. 1984. - Т. 29, № 5. - С. 757 - 759.

62. Лебедев А.И. Фотопроводимость и процессы рекомбинации в РЬТе, легированном Ga / А.И. Лебедев, Т.Д. Айтикеева // Физика и техника полупроводников,- 1984. Т. 18, № П.-С. 1964- 1966.

63. Сизов Ф.Ф. Глубокие уровни в РЬТе / Ф.Ф. Сизов, С.В. Пляцко, В.М. Лакеенков // Физика и техника полупроводников. 1985. - Т. 19, № 4. - С. 592 - 596.

64. Вейс А.Н. Энергетические уровни, связанные с комплексами в РЬТе, легированном примесями III группы / А.Н. Вейс, Е.В. Глебова, Н.А. Ерасова // Физика и техника полупроводников. 1985. - Т. 19, № 11. - С. 2055 - 2058.

65. Akimov В.А. Low-temperature switching in PbTe(Ga) at high electric fields / B.A. Akimov, A.V. Albul, E.V. Bogdanov // Semicond. Sci. And Technol. 1993. - V. 8, № 15.-P. 447-450.

66. Свойства диодных структур на основе ^-PbTe(Ga) / Б.А. Акимов и др. // Физика и техника полупроводников. 1997.-Т.31, №12. - С. 1431-1435.

67. Кайданов В.П. Глубокие и резонансные состояния в полупроводниках типа A1VBVI / В.П. Кайданов, Ю.И. Равич // Успехи физич. наук. 1985. - Т.145, № 1.- С.51 -86.

68. Немов С.А. Примесь таллия в халькогенидах свинца: методы исследования и особенности / С.А. Немов, Ю.И. Равич // Успехи физич. наук.- 1961.- Т. 168, № 9.-С. 32-47.

69. Кайданов В.И. Исследования теллурида свинца с примесью индия / В.И. Кайданов, Р.Б. Мельник, И.А. Черник // Физика и техника полупроводников.- 1973.-Т.7, №9. С. 37-51.

70. Явление переноса в Pb|x Sn^Te с большим содержанием примеси индия / С.А. Немов и др. // Физика и техника полупроводников. 1993. - Т.27, №7. - С. 299-325.

71. Исследование метастабильных квазилокальных состояний индия в теллуриде свинца методом туннельной спектроскопии / В.И. Кайданов и др. // Физика и техн. полупроводников. 1990. - Т.24, №3. - С. 144-172.

72. Лыков С.Н. О зарядовом состоянии примеси индия в теллуриде свинца / С.Н. Лыков, И.А. Черник // Физика и техника полупроводников. 1980. - Т. 14, № 9. - С. 47-62.

73. Переход в бесщелевое состояние под действием давления в сплаве PbSnTe с примесью индия / Б.А. Акимов и др. // Физика и техника полупроводников.- 1977.-Т.11,№6. С. 1077-1103.

74. Немов С.А. Влияние квазилокальных состояний индия на дефектообразование в теллуриде свинца / С.А. Немов, В.И. Прошин, Т.Г. Абайдулина // Физика и техника полупроводников. 1996. - Т.З, №11. - С. 45-67.

75. Равич Ю.И. Прыжковая проводимость по сильно локализованным примесным состояниям индия в РЬТе и твердых растворов на их основе / Ю.И. Равич // Физика и техника полупроводников. 2002. - Т.36, №1.- С. 3-23.

76. Вейс А.Н. Температурная зависимость положения квазилокального уровня в PbTe(In) / А.Н. Вейс, С.А. Немов // Физика и техника полупроводников. 1982. -Т. 16, №2.-С. 178 - 183.

77. Поверхность ликвидуса системы In-Pb-Te / З.М. Лапитов и др. // Изв. АН СССР, сер. Неорганические, материалы. 1989. - Т.25, №12. - С. 2073-2074.

78. Батюшкова Т.Ю. Влияние отклонения от стехиометрии на структуру и свойства сплавов РЬ^ГпДе / Т.Ю. Батюшкова, Б.А. Ефимова, Е.И. Рогачева // Изв. АН СССР, сер. Неорганические материалы. 1981. - Т.17, №11. - С. 2006-2010.

79. Поведение примеси индия в монокристаллах теллурида свинца / С.А. Бело-конь и др. //Неорганические материалы. 1988. - Т.24, №10. - С.1618-1622.

80. Коррекция свойств пленок PbSnTe<In>, полученных МЛЭ, при помощи низкотемпературных диффузионных отжигов / Л. Ф. Васильева и др. // Неорганические материалы. 2001. - Т. 37, № 2. - С. 193-197.

81. Получение пленок полупроводниковых соединений в квазизамкнутом объеме / Н.Н. Безрядин, . A.M. Самойлов и др. // Вестник Воронежского государственного технического ун-та, Сер. Материаловедение. 2002. - Вып. 1.11. - С. 47 - 51.

82. Ласка В.Л. Эффективность геттерирования при массопередаче в вакууме / В.Л. Ласка, А.В. Кондратьев, А.А. Потапенко // Инж. физ. журнал. - 1984. - Т.46, №6. -С. 949 - 952.

83. Вакуумное нанесение пленок в квазизамкнутом объеме /10.3. Бубнов и др. -М.: Советское радио, 1975.- 160 с.

84. Wright S. Reduction of oxides on silicon by heating in a gallium molecular beam at 800° С / S. Wright, H. Kroemer // Appl. Phys. Letters. 1980. - V. 36. № 3. - P. 210-211.

85. Семенов Г.А. Применение масс-спектрометрии в неорганической химии / Г.А. Семенов, Е.Н. Николаев, К.Е. Францева. Л.: Химия, 1976. - 234 с.

86. Сидоров Л.Н. Масс-спектральные термодинамические исследования / Л.Н. Сидоров, М.В. Коробов, Л.В. Журавлева. М.: Изд-во МГУ, 1985. - 208 с.

87. Зайцев А. И. Масс-спектрометрический метод исследования термодинамических свойств веществ / А.И. Зайцев // Заводская лаборатория. 1990. - Т. 56, № 11.-С. 57 - 69.

88. Семенов Г.А. Масс-спектрометрическое исследование испарения оксидных систем / Г.А. Семенов, В.Л. Столярова. Л.: Наука, 1990. - 300 с.

89. Paule R.C. Analysis interlaboratory measurements on the vapour pressure of cadmium and silver / R. C. Paule, J. Mandel // Pure Appl. Chem. 1972. - V. 31, № 3. - P. 397 - 431.

90. Горелик C.C. Рентгенографический и электронно-оптический анализ / С.С. Горелик, Л.Н. Расторгуев, Ю.А. Скаков. М.: Металлургия, 1970. - 368 с.

91. Хокс П. Электронная оптика и электронная микроскопия / П. Хокс. М. : Мир, 1974.-347 с.

92. Деркач В. П. Электронно-зондовые устройства / В.П. Деркач, Г.Ф. Кияшко, М.С. Кухарчук. Киев: Науковадумка, 1974.-238 с.

93. Стоянова И. Г. Физические основы методов просвечивающей электронной микроскопии / И.Г. Стоянова, И.Ф. Анаскин. М.: Наука, 1972. - 347 с.

94. Кристаллография, рентгенография и электронная микроскопия / Я.С. Уманский и др.. М.: Металлургия, 1982. - 432 с.

95. Микроанализ и растровая электронная микроскопия / под ред. Ф. Морис, JI. Мени, Р. Тиксье. М.: Металлургия, 1985. - 407 с.

96. Рид С. Электронно-зондовый микроанализ / С. Рид. М.: Мир, 1979. - 432 с.

97. Рентгеноспектральный микроанализ легированных монокристаллов РЬТе и Pba.gSna^Te / М.В. Бестаев и др.. // Физика и техника полупроводников. 1997. - Т. 31,№8.-С. 980-982.

98. Горелик С.С. Рентгенографический и электронно-оптический анализ / С.С. Горелик, JI.H. Расторгуев, Ю.А. Скаков. М.: Изд-во МИСИС, 1994. - 328 с.

99. JCPDS International Centre for Diffraction Data Электронные ресурсы. © 19871995. JCPDS-ICDD. Newtown Square, PA 19073. USA.

100. Пшеничнов Ю.П. Выявление тонкой структуры кристаллов / Ю.П. Пшеничнов. М.: Металлургия, 1974. - 528 с.

101. Современная кристаллография / под ред. Б.К. Вайнштейна. Т. 2. Структура кристаллов. М.: Наука, 1979. - 360 с.

102. Шаскольская М.П. Кристаллография / М.П. Шаскольская. М.: Высшая школа, 1984.-375 с.

103. Козлова О.Г. Рост и морфология кристаллов / О.Г. Козлова. М.: Изд-во МГУ, 1980.-357 с.

104. Епифанов Г.И. Физические основы микроэлектроники / Г.И. Епифанов. М. : Советское радио, 1971. -375 с.

105. Фистуль В.И. Введение в физику полупроводников / В.И. Фистуль. М. : Высшая школа, 1975. - 296 с.

106. Орешкин П.Т. Физика полупроводников и диэлектриков / П.Т. Орешкин. М. : Высшая школа, 1977. -448 с.

107. Рембеза С.И. Методы измерения основных параметров полупроводников / С.И. Рембеза. Воронеж : Изд-во Воронеж, ун-та, 1989. - 222 с.

108. Кучис Е.В. Методы исследования эффекта Холла / Е.В. Кучис. М. : Советское радио, 1974. - 328 с.

109. Получение тонких пленок теллурида свинца на кремниевых подложках / Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 1994. - Т.30, № 7. - С. 898-902.

110. Кухлинг X. Справочник по физике / X. Кухлинг. М.: Мир, 1982. - 519 с.

111. Квантовая проводимость микроконтактов металл узкощелевой полупроводник Pb,Sn^Se / Б.А. Волков [и др. // Физика твердого тела. - 1995. - Т.37, №9. - С. 2856 -2858.

112. Микрогетерогенность и протяженные дефекты в кристаллах Cd^Hgi^Te / Я.А. Угай, . A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 1995 - Т. 31, № 1. -С. 37-50.

113. Исследование скалярной плотности дислокаций монокристаллов РЬТе / Я.А. Угай, . A.M. Самойлов и др. // Процессы тепломассопереноса и рост монокристаллов и тонкопленочных структур : тез. 2-ого Рос. Симп., Обнинск, 22-24 сентября 1997.-М., 1997. С. 125.

114. Crystal microstructure of РЬТе thin films on Si Substrates / Ya.A. Ugai, A.M. Samoylov et al. // Physics and Technology of Thin Films : book of abstr. of VI Intern. Conf. Ivano-Frankivsk, 1997. - Part I. - P. 36.

115. Методические особенности рентгеновского определения параметров дислокационной структуры монокристаллов / О.П. Карасевская и др. // Заводская лаборатория. 1995. - № 3. - С. 18-20.

116. Кривоглаз M.A. Теория рассеяния рентгеновских лучей и тепловых нейтронов реальными кристаллами / М.А. Кривоглаз. М.: Наука, 1967. - 325 с.

117. Crystal Microstructure of PbTe/Si and PbTe/Si02/Si Thin Films / Y.A. Ugai, A.M. Samoylov et al. // European Materials Research Society (E-MRS'98). Strasbourg, France, June 16-19, 1998 : book of abstr. Strasbourg, France, 1998. - D-V/P20. D-23.

118. Структура тонких пленок теллурида свинца на кремниевых подложках / Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 1998. - Т.34. № 9. - С. 1048 - 1054.

119. Crystal Microstructure of PbTe/Si and PbTe/Si02/Si Thin Films / Ya.A. Ugai, A.M. Samoylov et al. // Thin Solid Films. 1998. - V.336. - P. 196 - 200.

120. Датчики измерительных систем / Ж. Аш и др. М.: Мир, 1992. - Т.1. - 480 с.

121. Бакин А.С. Исследование диффузии индия в кристаллах Pb!.xSnxTe методом рентгеноспектрального микроанализа / А.С. Бакин, Т.Т. Дедегкаев, Д.И. Иванов // Физика твердого тела. 1983. - Т.25, № 5. - С. 1515-1516.

122. Глушков Е.А. Влияние In, Ga и Al на электрофизические свойства твердых растворов Pb.xSnxTe / Е.А. Глушков, О.Б. Яценко, В.П. Зломанов // Изв. АН СССР, Сер. Неорганические материалы. 1978. - Т. 14, № 3. - С. 843-848.

123. Свойства неорганических соединений: справочник / А.И. Ефимов и др.. Л. : Химия. 1983.-392 с.

124. Физические величины: справочник / под ред. И.С. Григорьева, Е.З. Мейлихова. -М.: Энергатомиздат, 1991. 1232 с.

125. Electrical Properties and Infrared Sensitivity of Doped with Ga Lead Telluride Thin Films on Si Substrates / Ya. Ugai, A. Samoylov et al. // MSU HTSC IV International Workshop. Moscow, Russia, October 7 - 12, 1995 : book of abstr. - M., 1995 - P.81.

126. Электрофизические свойства легированных галлием тонких пленок теллурида свинца /Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Конденсированные среды и межфазиые границы.- 1999.-Т. 1, №2. С. 132-138.

127. Ормонт Б.Ф. Введение в физическую химию и кристаллохимию полупроводников / Б.Ф. Ормонт. М.: Высшая школа, 1973. - 655 с.

128. Колобов Н.А. Диффузия и окисление полупроводников / Н.А. Колобов, М.М. Самохвалов. М.: Металлургия, 1975. - 456 с.

129. Киттель Ч. Введение в физику твердого тела / Ч. Киггель. М. : Наука, 1978.- 792 с.

130. X-ray Diffraction Investigation of Diffusion in PbTe-PbSe Superlattices / A.G. Fedorov et al.//Journ. Cryst. Growth. 1999.- V. 198/199,- P. 1211-1215.

131. Самойлов A.M. Кристаллическая структура и электрофизические свойства легированных Ga пленок РЬТе на Si подложках / A.M. Самойлов // Вести. Воронеж, гос. ун-та, Сер. Химия, биология. 2001. - № 2. - С. 3-22.

132. Электрофизические свойства легированных галлием тонких пленок РЬТе на Si-подложках / Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 2002. -Т. 38,№ 1-С. 17-23.

133. Банк термодинамических данных ИВТАНТЕРМО. Электронные ресурсы.

134. Казенас Е.К. Испарение оксидов / Е.К. Казенас, Ю.В. Цветков. М. : Наука, 1997.- 543 с.

135. Термодинамический анализ фазовых равновесий в системе фосфор мышьяк / Я.А. Угай и др. // Журн. физ. химии. - 1986. - Т. 60, № 12. - С. 2043 - 2046.

136. Самойлов A.M. Фазовые равновесия в системах сурьма мышьяк и фосфор -мышьяк: дисс. канд. хим. наук / A.M. Самойлов. - Воронеж, 1985.- 177 с.

137. Термодинамический анализ взаимодействия компонентов в системе сурьма -мышьяк /Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Журн. физ. химии. 1986. - Т. 60, № 1.- С. 25-28.

138. Состав насыщенного пара в системе фосфор мышьяк / Я.А. Угай, . A.M. Самойлов и др. // Журн. неорганической химии. - 1986. - Т. 31, № 10. - С. 26312633.

139. Фазовые равновесия между фосфором, мышьяком, сурьмой и висмутом / ЯЛ. Угай и др. М.: Наука, 1989. - 239 с.

140. Энергии разрыва химических связей. Потенциалы ионизации и сродство к электрону / справочник под ред. В.Н. Кондратьева. М.: Наука, 1974. - 351 с.

141. Mann J.B. Ionization cross section of the elements calculated from mean-square radii of atomic orbitals / J.B.Mann// Journ. Chem. Phys. 1967.- V. 46, №5.- P. 1646 - 1651.

142. Balducci G. Dissociation energies of the Ga2, In2 and Gain molecules / G. Balducci, G. Gigli, G. Meloni // Journ. Chem. Physics. 1998. - V. 109, № 11. - P. 4384 - 4388.

143. Глазов В.М. Основы физической химии / В.М. Глазов. М. : Высшая школа. -1981.-456 с.

144. Стромберг А.Г. Физическая химия / А.Г. Стромберг, Д.И. Семченко. М. : Высшая школа. - 1999. - 527 с.

145. Belton G.R.The determination of activities by mass spectrometry. I. The liquid metallic systems iron nickel and iron - cobalt / G.R. Belton, R.J. Fruechan // Journ. Phys. Chem. - 1967. - V. 71, № 5. - P. 1403 - 1409.

146. Вагнер К. Термодинамика сплавов / К.Вагнер. М.: Металлургия- 1966288 с.

147. Глазов В.М. Химическая термодинамика и фазовые равновесия / В.М. Глазов, JI.M. Павлова. М.: Металлургия, 1981.-336 с.

148. Hume-Rothery W. Phase stability in metals and alloys / W. Hume-Rothery. New York, London, Brisbane : McGraw-Hill, 1967. - 463 p.

149. Угай Я.А. Общая химия / Я.А. Угай, М.: Высшая школа, 1984. - 483 с.

150. Emsley J. The Elements / J. Emsley. Oxford.: Clarendon Press, 1991. - 256 p.

151. Совместная конденсация металлических компонентов в процессе роста легированных Ga тонких пленок РЬТе на Si подложках / Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 2001. - Т. 37, № 11. - С. 1299-1305.

152. Особенности конденсации Pb и In в процессе роста в вакууме легированных индием пленок РЬТе на Si-подложках / A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 2002. - Т. 38, № 7. - С. 795 - 802.

153. Тонкие пленки PbTe, легированные Ga непосредственно в процессе роста на Si-подложках / Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 2002. Т. 38, №5.-С. 551-559.

154. Выращивание модифицированным методом «горячей стенки» пленок РЬТе, легированных In непосредственно в процессе синтеза / A.M. Самойлов и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2004. -№ 1.-С. 86-94.

155. Выращивание пленок РЬТе на Si подложках, легированных In непосредственно в процессе синтеза / A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 2003. - Т. 39, № 11. - С. 1311-1317.

156. Угай Я.А. Легирование индием тонких пленок теллурида свинца на кремниевых подложках /Я.А. Угай, A.M. Самойлов, A.M. Ховив // Юбилейная научная конференция «Герасимовские чтения». Москва, 29-30 сентября 2003 г. : тез. докл. М., 2003. - С. 25 - 29.

157. Кристаллическая структура пленок РЬТе<1п>, выращенных на подложках Si (100) при помощи модифицированного метода «горячей стенки» / A.M. Самойлов и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования.2003.-№ 10.-С. 73-82.

158. Кристаллическая структура пленок PbTe/Si, легированных индием непосредственно в процессе роста / A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы.2004. Т. 40, № 4. - С. 414-420.

159. Crystal Structure and Electrical Parameters of In-doped PbTe/Si Films Prepared by Modified HWE Technique / A.M. Samoylov et al. // Journ. Cryst. Growth. 2003. -V. 254. P. 55-64.

160. Буданова Н.Ю. О фазовой диаграмме системы индий теллур / Н.Ю. Буданова, Е.Я. Скасырская // Неорганические материалы. - 1998. - Т. 34, № 3. - С. 288 - 289.

161. Phase Diagram and Thermodynamic Properties of Phases in the In-Te System / V.P ZlomanoV et al. // Journ. Of Phase Eguilibria. 2001. - V. 22, № 3. - P. 339-344.

162. KiH'Uanois В.И. ("амокоин^'нсаиия ::иек-| рижски лмшшмх примессн hk.:ih-. • • п. ■ ми дефектами в подупронтишках тина /\,УВ ' / Р. М. Капаашт « .A. i <Vv:- 10 Раь'ин 7 Фп'лм.'а и техника тг. проки нткок. ■ . т, ?у, V-: ■(,.;< ■

163. Nonstoichiometry and solubility of impurity in In-doped PbTe films on Si substrates / A.M. Samoylov et al. // Material Science in Semiconductor Processing. -2003. №5-6.- P. 496-501.

164. Рогачева Е.И.Фазовое взаимодействие и природа твердых растворов в системе РЬТе + InTe / Е.И. Рогачева, Г.В. Горне, Н.М. Панасенко // Изв. АН СССР, Сер. Неорганические материалы. 1979. - Т. 15, № 8. - С. 1366 -1369.

165. Границы области растворимости индия в пленках PbTe(In), легированных непосредственно в процессе синтеза /Э.А. Долгополова, A.M. Самойлов и др. // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2005. -№ 11.- С. 74- 80.

166. Самойлов A.M. Выращивание пленок PbTe(In) при помощи модифицированного метода «горячей стенки»./ A.M. Самойлов, С.В. Беленко, Ю.В. Сыноров // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2005. -№ 12.- С. 84 - 90.

167. Датчики измерительных систем / Ж. Аш и др..- М.: Мир. 1992. - Т.2. - 480 с.

168. Электрофизические свойства тонких пленок РЬТе, выращенных на Si подложках / Я.А. Угай, A.M. Самойлов и др. // Неорганические материалы. 2000. - Т. 36, №5.- С.550 - 555.

169. Сыноров В.Ф. Физика МДП структуры: учеб. пособие. /В.Ф. Сыноров, Ю.С. Чистов. - Воронеж: Изд-во Воронеж, гос. ун-та, 1989. - 224 с.

170. Зи С.М. Физика полупроводниковых приборов / С.М. Зи. М.: Мир, 1984. - Т.1. - 455 е.; Т.2. - 455 с.

171. Crystal Structure, Carrier Concentration and IR-Sensitivity of PbTe Thin Films Doped with Ga by Two Different Methods / A.M. Samoylov et al. // Journ. Cryst. Growth. 2002. - V. 240. - P. 340-346.

172. Comparative study of point defects induced in PbTe thin films doped with Ga by different techniques / A.M. Samoylov et al. // Material Science in Semiconductor Processing. 2003. V.6. № 5-6. - P. 481-485.

173. Крегер Ф. Химия несовершенных кристаллов / Ф. Крегер. М.: Мир, 1969. -654 с.

174. Бокий Г.Б. Кристаллохимия. М.: Наука, 1971.-400 с.

175. Коржуев М.А. Отклонение от стехиометрии и механизм самолегирования полупроводников группы A1VBV1 / М.А. Коржуев // Электронная техника. Сер. Материалы. 1987. - Т. 1. - С. 42-45.

176. Study of Vacancy Defects in PbSe and Pbi.x SnxSe by Positron Annihilation / Polity A. etal.// Journ. Cryst.Growth.- 1993,-V. 131.- P.271 -274.

177. Драбкин И.А. Спонтанная диссоциация нейтральных состояний примесей на положительно и отрицательно заряженные состояния / И.А. Драбкин, Б.Я. Мойжес // Физика и техника полупроводников. -1981. Т. 15, № 4. - С. 625-648.

178. Неустойчивость DX-подобных примесных центров в PbTe(Ga) при отжиге / Д.Е. Долженко и др. // Физика и техника полупроводников. 2000. - Т. 34, № 10. -С. 1194- 1196.

179. Волков Б.А. Внутрицентровые кулоновские корреляции, зарядовые состояния и спектр примесей III группы в узкощелевых полупроводниках А4В6 / Б.А. Волков, О.М. Ручайский // Письма в ЖЭТФ. 1995. - Т. 62. - С. 567 - 572.

180. Ерофеев Р.С. Кристаллохимический анализ поведения In в РЬТе / Р.С. Ерофеев // Неорганические материалы. 1980. - Т. 16, № 5. - С. 800 - 803.

181. Перспективные материалы ИК оптоэлектроники на основе соединений А4В6 / Б.А. Акимов и др. // Высокочистые вещества. - 1991. - № 6. - С. 22 - 34.

182. Спектры фотопроводимости и проблема примесных состояний в PbTe(Ga) / Б.А. Акимов и др. // Физика и техника полупроводников. 1995. - Т. 29, № 11. - С. 20152223.

183. Кристалокваз1х1м1я дефекпв в халькогенидах свинцю / С.С. .Шсняк и др. // Ф1зика i х1м1я твердого тша. 2000. -Т. 1,№1.-С. 131-133.

Обратите внимание, представленные выше научные тексты размещены для ознакомления и получены посредством распознавания оригинальных текстов диссертаций (OCR). В связи с чем, в них могут содержаться ошибки, связанные с несовершенством алгоритмов распознавания. В PDF файлах диссертаций и авторефератов, которые мы доставляем, подобных ошибок нет.