Модулированные газовые разряды в электротехнологии тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.09.10, доктор технических наук Гончаров, Вадим Дмитриевич

• Гончаров, Вадим Дмитриевич
• доктор технических наук
• 2000

Оглавление диссертации доктор технических наук Гончаров, Вадим Дмитриевич

Список использованных обозначений.

Введение.

Глава 1. Физические, технические и технологические аспекты создания оборудования, реализующего модулированное воздействие на обрабатываемые объекты.

1.1. Основные закономерности исследованных технологических процессов.

1.2. Основные закономерности технологических процессов на примере технологии лазерной резки.

1.1.2. Особенности нестационарных технологических процессов.

1.2. Модуляция мощности, как возможный путь значительной интенсификации технологических процессов. Диапазоны изменения технологических параметров модулированных режимов.

1.3. Пути реализации модулированного энерговклада в плазму газового разряда.

1.4. Современные представления о физических процессах в тлеющем разряде.

1.5. Постановка задачи численного моделирования тлеющего разряда. Наиболее важные параметры плазмы технологического назначения и их математическое описание.

1.6. Постановка задачи.

Глава 2. Элементы численной модели тлеющего разряда.

2.1. Расчёт стационарных и нестационарных электрических полей в плазме тлеющего разряда с учётом параметров источников питания.

2.2. Модель расчета ВЧЕР.

2.3. Расчет скоростей элементарных процессов в плазме тлеющего разряда.

2.4. Закон сохранения энергии.

2.5. Решение системы кинетических уравнений.

2.6. Математическая модель газоразрядного С02-лазера.

2.6.1. Основные допущения, использованные при построении модели лазера. Взаимосвязь отдельных параметров.

2.6.2. Адекватность предложенной модели реальным физическим процессам.

2.7. Выводы.

Глава 3. Высокочастотный ёмкостной разряд.

3.1. Экспериментальные исследования процессов зажигания

ВЧЕР, для различных частот, составов и давлений газа.

3.2. Модель расчета ВЧЕР.

3.3. Результаты численного моделирования ВЧЕР.

3.4. Анализ устойчивости и модуляция энерговклада во ВЧЕР.

3.4.1. Механизм возникновения неустойчивостей ВЧЕР при зажигании разряда.

3.4.2. Модуляция энерговклада во ВЧЕР, требующая перехода между различными его формами.

3.4.3. Модуляция энерговклада во ВЧЕР в рамках его слаботочной формы.

3.5. Выводы.

Глава 4. Газоразрядные С02-лазеры с диффузионным охлаждением смеси.

4.1. Основные допущения, использованные при построении модели лазера. Взаимосвязь отдельных параметров. Математическая модель ГР СЮ2-лазера с диффузионным охлаждением рабочей смеси.

4.2. Способы управления мощностью излучения в С02-лазерах с диффузионным охлаждением рабочей смеси.

4.3. Исследование нестационарных процессов в Л ДО.

4.3.1. Процесс зажигания разряда в длинной газоразрядной трубке с металлическим кожухом.

4.3.2. Описание экспериментальной установки.

4.3.3. Результаты экспериментов.

4.4. Особенности математической модели ГР С02-лазера с диффузионным охлаждением рабочей смеси.

4.5. Результаты численного моделирования зажигания разряда в длинной экранированной трубке.

4.5.1. Пути получения модулированного энерговклада в плазму мощных С02 -лазеров с диффузионным охлаждением рабочей смеси.

4.5.2. Исследование особенностей питания током повышенной частоты ГРК С02-лазера с диффузионным охлаждением рабочей смеси.

4.5.3. Теоретико-экспериментальное исследование комбинированных методов питания ГРК С02-лазера с диффузионным охлаждением рабочей смеси.

4.5.4. Системы питания ГРК мощного С02-лазера, позволяющие наиболее эффективно организовать МРЭ.

4.6. Получение модулированного излучения от ГР С02-лазеров с диффузионным охлаждением с помощью источника питания.

4.6.1. Адекватность численной модели.

4.6.2. Границы области управления параметрами модулированного с помощью источника питания лазерного излучения.

4.6.3. Алгоритм работы системы, реализующей оптимальное управление модулируемым излучением.

4.7. Щелевые лазеры с высокочастотной накачкой и диффузионным охлаждением смеси.

4.7.1. Режим работы с постоянной мощностью излучения.

4.7.2. Основные возможности получения модулированных режимов работы в лазерных системах с поперечной ВЧ накачкой.

4.7.3. Принципы определения параметров модулированных режимов работы в лазерных системах с поперечной ВЧ накачкой.

4.8. Выводы.

Глава 5. Исследование возможностей получения модулированного лазерного излучения от С02-лазеров с быстрой прокачкой смеси.

5.1. Особенности численного моделирования лазеров с быстрой прокачкой смеси.

5.2. Исследование процессов в ГРК с электродной системой ножевой катод - плоский анод".

5.3. Численное моделирование газоразрядных лазерных систем с секционированным катодом.

5.4. Численное моделирование ГР С02-лазеров с несекционированным катодом.

5.4.1. Параметры рассматриваемой камеры.

5.4.2. Особенности протекания тока в ГРК.

5.5. Выводы.

Глава 6. Магнетронные распылительные системы.

6.1. Исследование возможных путей повышения адгезии металлических плёнок на материалах подверженных деструкции.

6.1.1. Экспериментальное изучение возможностей повышения адгезии металлических плёнок на материалах, подверженных деструкции путём активации их поверхности.

6.1.2. Экспериментальное изучение возможностей повышения адгезии металлических плёнок на материалах, подверженных деструкции с помощью параметров магнетронного разряда.

6.2. Теоретические исследования процессов в MPC.

6.2.1. Математическая модель магнетронного разряда.

6.2.2. Результаты численного моделирования зажигания магнетронного разряда.

6.2.3. Две формы существования модулированного магнетронного разряда.

6.3. Обоснование и выбор схемы ИП.

6.4. Экспериментальные исследования модулированных режимов работы магнетронных распылительных систем.

6.5. Выводы.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Модулированные газовые разряды в электротехнологии»

Среди технологических использований источников электрической энергии одно из основных мест занимают процессы и установки, в которых в том или ином виде используется тлеющий разряд. Достаточно глубоко разработанная теория газового разряда воплотилась в реальные технологические системы, такие как:

- газоразрядные (ГР) С02 - лазеры [1,2,3];

- магнетронные распылительные устройства [4];

- системы, в которых тлеющий разряд используется для нужд микроэлектроники [5,6,7];

- системы, в которых тлеющий разряд используется для нужд плазмохимии [8,9].

Особенно сильный всплеск интереса к вопросам теории и практики тлеющего разряда наблюдается с 60"хгодов. Он связан с применением этого типа разряда в молекулярных газовых лазерах и плазмохимии, а затем и в микроэлектронике.

В разработке теории и практики применения тлеющего разряда особо следует отметить вклад следующих организаций и учёных:

1. Института общей физики АН РСФСР и акад. А.М.Прохорова;

2. Физический институт АН РСФСР им. П.Н.Лебедева и акад. Н.Г.Басова;

3. Институт атомной энергии им. И.В.Курчатова и акад. Е.П.Велихова;

4. Научно-исследовательского центра по технологическим лазерам АН РСФСР;

10

5. Научно-исследовательского института электрофизической аппаратуры;

6. Института проблем механики АН РСФСР и Ю.П.Райзера;

7. Института теоретической и прикладной механики Сибирского отделения АН РСФСР.

На отечественном и мировом рынке реализуется большое количество технологических систем, использующих тлеющий разряд. Кроме вышеперечисленных организаций созданием подобного оборудования занимаются многие иностранные фирмы, такие как: Rofin Sinar и Trumpf (ФРГ), Spectra-Physics, PRC Corp. и Coherent General (США), Ferranti (Великобритания), Matsushita и Toshiba Corp. (Япония) - в области лазерной техники; Alcatel (Франция), Materials Research Corp. и Applied Materials (США) - области использования тлеющего разряда при пониженных давлениях для нужд микроэлектроники.

Практически все выпускаемые сегодня системы реализуют режимы либо с постоянной мощностью воздействия на обрабатываемый объект [1,5,7], либо - импульсно-периодические режимы с длительностью импульса, не превышающей Юмкс [10,11]. Однако в большинстве приложений подобной техники для организации наиболее эффективных технологических процессов требуются ИПР с длительностями импульсов порядка 1мс [12,13,14].

Возможности получения оптимальной для технологии временной эволюции энергетического воздействия на изделие либо с помощью существующего оборудования, либо с помощью направленного изменения его конструкции, в литературе практически не освещались, и подобное оборудование не только не изготавливается, но и даже не проектируется. В редких случаях в экспериментальных целях временную эволюцию энергетического воздействия на изделие получают, вырезая её тем или

11 иным способом из постоянного воздействия [15,16,17]. Применение тлеющего разряда в технологии сдерживается отсутствием необходимого оборудования, создание которого должно опираться на проведение всесторонних исследований нестационарного тлеющего разряда в реальных устройствах.

В течение ряда лет на кафедре электротехнологической и преобразовательной техники (ЭТПТ) и в Отраслевой лаборатории высокочастотной электротермии (ОЛВЧЭТ) СПГЭТУ "ЛЭТИ" автором проводились работы в области применения плазмы газового разряда для электротехнологии. В частности - это работы, связанные с использованием плазмы тлеющего разряда в таких устройствах, как газоразрядные (ГР) С02 - лазеры, магнетронные распылительные устройства, устройства, использующие высокочастотный ёмкостной разряд (ВЧЕР). Проведённые исследования показали, что применение модулированного режима энерговклада позволяет значительно интенсифицировать технологические процессы.

Основным отличием модулированного режима энерговклада (МРЭ) от хорошо известных и применяемых в технике импульсно-периодических режимов [11,18] является то, что разряд в паузах между импульсами не гаснет, то есть, нет необходимости в его повторном зажигании.

Режим зажигания тлеющего разряда связан с резким увеличением вероятности возникновения и развития разного рода неустойчивостей. Особенно это относится к режимам повторного зажигания, которые существенно отличаются от первоначального пуска, и зажиганию разряда при повышенных давлениях, без применения которых не удаётся увеличить мгновенное значение мощности. Избежать появления неустойчивостей при повышении давления возможно, только существенно ограничив длительность мощного энерговклада (поэтому практически всё

12 импульсно-периодическое оборудование работает с длительностями импульсов менее 10 мкс). Такое уменьшение длительности энергетического воздействия не приемлемо для технологии.

Наличие подобной, практически не разрешимой с физической точки зрения проблемы, позволяет сделать вывод о том, что для технологических устройств, использующих тлеющий разряд, более естественной формой организации является МРЭ.

Восполнить дефицит знаний в области нестационарных режимов горения тлеющего разряда, выяснить возможности применения модулированных режимов работы различных форм тлеющего разряда в электротехнологии была призвана эта работа.

Научная новизна представленной работы:

1. Проведены исследования технологических процессов с использованием тлеющего разряда. Анализ полученных результатов свидетельствует, что применение модуляции энерговклада позволяет значительно интенсифицировать данные процессы.

2. Созданы теоретические основы физики модулированного тлеющего разряда.

3. Изучены приложения созданных теоретических основ к конкретным технологическим системам: лазерным технологическим установкам, магнетронным распылительным устройствам, высокочастотному емкостному разряду. В рамках данного изучения:

1). Создана самосопряженная математическая модель С02-лазеров с диффузионным и конвективным охлаждением рабочей смеси.

2). Подробно исследованы параметры второго минимума на кривой зажигания ВЧЕР в разных диапазонах давлений и показано, что:

- в рассматриваемом диапазоне параметров ГРК существует три области давлений, в которых кривые зажигания ведут себя по-разному;

13

- в области относительно высоких давлений (р>5 торр) расположение дополнительного минимума напряжения зажигания определяется произведением частоты питающего напряжения на межэлектродное расстояние (Рс1). Этот параметр является величиной постоянной для данного газа;

- в области низких давлений (р<10~2 торр) расположение этого минимума определяется отношением частоты и давления (Ср), которое также является величиной постоянной для данного газа;

- в промежуточной области расположение минимума напряжения зажигания зависит как от давления, так и от межэлектродного расстояния; в области низких давлений на напряжение зажигания оказывает влияние поперечные размеры электродов;

- параметры дополнительного минимума на кривой зажигания в области относительно высоких давлений являются также параметрами приэлектродных слоев в слаботочной форме ВЧЕР.

3) На основе предложенных допущений, которые справедливы в основных областях работы высокочастотного емкостного разряда (ВЧЕР) в лазерной технике и плазмохимии, впервые разработана двухмерная математическая модель процессов, происходящих в ВЧЕР.

4). Впервые получены двухмерные распределения напряженности электрического поля и плотности тока в газоразрядной камере при питании ВЧЕР. Что позволило:

- объяснить механизм образования постоянной плотности тока на электродах в случае слаботочного и сильноточного ВЧЕР,

- определить условия и границы областей существования различных форм ВЧЕР для различных газовых смесей, объяснить механизм перехода между этими формами;

14

- определить распределение суммарного энерговклада для реальных газоразрядных камер в двухмерной геометрии.

5). Создана двухмерная математическая модель MPC. На её основе продемонстрированы возможности получения двух различных модулированных режимов работы MPC. Экспериментально исследованы области их возможного технологического применения.

Практическая ценность работы заключается в том, что

1) предложенные и исследованные нетрадиционные методы питания газового разряда позволяют значительно расширить возможности уже существующих технологических применений плазмы, а в ряде случаев получить принципиально новые технологические результаты;

2) понимание происходящих в плазме процессов и их правильное количественное описание, возможное только на основе, по крайней мере, двухмерного приближения, позволяет значительно упростить проектирование технологических процессов, надежнее управлять ими;

3) разработаны и внедрены в опытно-промышленную эксплуатацию следующие технологии:

- модулированного магнетронного распыления;

- модулированной лазерной резки изделий из кварцевого стекла. Полученные результаты и методы исследований используются в учебном процессе при выполнении лабораторных и дипломных работ.

15

Заключение диссертации по теме «Электротехнология», Гончаров, Вадим Дмитриевич

6.5. Выводы.

1. Предложена математическая модель нестационарных процессов в магнетронных распылительных устройствах. Данная модель основана на совместном численном решении уравнений электрического и магнитного поля в плазме разряда, уравнений движения заряженных частиц и уравнения теплопроводности для определения температурного поля в распыляемой мишени.

2. Реализация предложенной модели:

- показала, что в зависимости от индукции магнитного поля может существовать две формы горения модулированного магнетронного разряда: высоковольтная и низковольтная;

- позволила определить предельно допустимые энерговклады в обе формы разряда; позволила определить параметры ИП MPC.

1. Полученные с помощью численного моделирования данные позволили создать макет магнетронного распылительного устройства и его источника питания.

2. Результаты экспериментов, проведённых с помощью созданного макета, свидетельствуют о перспективности его применения для решения следующих задач:

- повышение адгезии металлических плёнок на материалах подверженных деструкции;

- уменьшения тепловой нагрузки на обрабатываемых изделиях;

- увеличения скорости роста металлических плёнок;

- увеличение скорости реактивного распыления;

- увеличение области давлений реактивного газа, в границах которой удаётся получить покрытие стехиометрического состава.

292

Список литературы диссертационного исследования доктор технических наук Гончаров, Вадим Дмитриевич, 2000 год

1. Велихов Е.П., Ковалев А.С., Рахимов А.Т. Физические явления в газоразрядной плазме. - М.: Наука, 1967. - 160с.

2. Абильсиитов Г.А., Голубев B.C. Разработка технологических лазеров и комплексов НИЦТЛ АН СССР // Лазерная технология. Вильнюс, 1988.- № 6,- С. 3-4.

3. Мощные газоразрядные С02 лазеры и их применение в технологии / Г.А. Абильсиитов, А.П.Велихов, В.С.Голубев и др. - М.: Наука,1984. -105 с.

4. Мозгрин Д.В., Фетисов И.К., Ходаченко Г.В. Экспериментальное исследование сильноточных форм квазистационарного разряда низкого давления в магнитном поле. // ФП 1995. - Т.21, №5. - С.422-433.

5. Kelkar U.M., Gordon Н.Н. The impotance of electron-molecule discharge CVD // Plasma Chem. and Plasma Process. 1997. -V. 17, №3. -P.315-329.

6. High current ion implontation by plasma immersion technique. / Thomae R.W., Seiler В., Bender H. And so on. // Nucl. Jnstr. And Meth. Phys. Res. B.- 1995. V.99, № 1-4. - P. 569-572.

7. Данилин B.C., Кирев В.Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М.:Энергоатомиздат.1987. - 264с.

8. Combette С., Hivert D., Maucourt J. Cold plasma treatment of elastometric silicon surface. // Eur. Conf., Mulhouse, Sept. 12-15, 1994.:EURADH 94. -1994. -P.416-419.

9. Плазмохимические процессы и установки/ Под ред. Л.С.Полака. -М.: Наука, 1979.-286 с.

10. Осипов В.В., Иванов М.Г., Лисиков В.В. Импульсно-периодический С02-лазер, накачиваемый комбинированным разрядом.// Оптика атмосф. и океана. 1997. - Т.10,№11. - С.1266-1270.293

11. Моделирование теплофизических процессов импульсного лазерного воздействия на металлы / А.А.Углов, И.Ю.Смуров, А.Г.Гуськов и др. М.: Наука, 1991. - 286с.

12. Pulsing a low pressure radio frequency discharge / Smith H.B., Charles C., Boswell R.W., Kuwahara H. // JSME Int. J.B. 1998. - v.41, № 2 - pp. 424428.

13. Углов A.A., Селищев C.B. Автоколебательные процессы при воздействии концентрированных потоков энергии. М.: Наука, 1987. -147с.

14. Сиднеев В.И., Исхакова Г. А. Особенности формирования поверхностного слоя детали при лазерном и ультрозвуковом воздействии // X. и Ф. Обработ. Мат. 1988. - №2. - С.59-64.

15. Использование импульсного С02-лазера в хирургической стоматологии./ Н.Н.Бажанов, Р.И.Баграмов, В.П.Беляев и др.// Стоматология. 1988,- №4. - С.32-35.

16. Нгуен В.Д., Черниговский В.В. Исследование возможности медицинского применения отпаянных С02-лазеров, работающих в импульсном режиме.// Изв. ГЭТУ. 1995. - Вып. 477. - С. 17-20.

17. Сидоров А.И. Особенности управления генерацией С02-лазера с помощью модулятора на основе двуокиси ванадия.// Оптич. Журнал. -1997.-Т. 64, №1. С.25-28.

18. Jshigaki Y. Generation of pulse-modulated induction thermal plasma at atmospheric pressure // Appl. Phys. Lett. 1997. - V.71, №26. - pp. 3787-3789.294

19. Фискин Е.М. Разработка систем электропитания для резки изделий из кварцевого стекла. Дис. Канд. Техн. наук, 05.09.03, 05.09.10 JI.,1987. -199с.

20. Пространственно-временная структура плазменного факела, образующегося в зоне действия излучения С02-лазера на металлы. / Ж.В.Васильченко, В.В.Ажаронок, И.И.Филатова и др. // X. и Ф. Обработ. Мат. 1996. - №6.- С.27-33.

21. Гуреев Д.М., Медников С.И., Ямщиков B.C. Лазерно-ультразвуковое легирование поверхности серого чугуна титаном. // X. и Ф. Обработ. Мат. — 1993. №3. - С. 109-116.

22. Зайкин А.Е., Левин A.B., Петров А. Л. Динамика плазмы приповерхностного оптического разряда в парах металла в луче непрерывного С02-лазера. // КЭ (Москва) 1995. - Т.22,№2. - С. 145-149.

23. О некоторых механизмах раскачки колебаний в глубоком парогазовом канале при сварке излучением непрерывного С02-лазера./ В.С.Голубев,

24. B.И.Леденёв, Ф.Х.Мирзоев, В.А.Николо // Изв. АН Сер. Физ. (Россия). -1993. Т.57, №12. - С. 119-122.

25. Особенности плазменной экранировки при абляционном формировании глубоких каналов высокоинтенсивным лазерным излучением. / С.В.Гарнов,

26. C.М.Климентов, В.И.Конов и др.// КЭ. 1998. - Т.25, №1. - С. 45-48.295

27. Теплофизические проблеммы лазерной резки диэлектрических материалов./Вологдина С.Г., Ганюченко В.М., Нестеров В.А., Смирнов Н.В.// Электротехника. 1988,- №11.- С.13-16.

28. Райзер Ю.П., Шнайдер М.Н., Яценко Н.А. Высокочастотный ёмкостной разряд: Физика. Техника эксперимента. Приложения. М.: МФТИ, 1995. -310с.

29. Нагрев С3Г8-плазмы ВЧЕ-разряда при плазмохимическом травлении кремния и его оксидов. / Филатова И.И., Ажаронок В.В., Чубрик Н.И., Шиманович В .Д.// Физ. И Химия обраб. Матер. 1995. - №2. - С.66-72.

30. Choi S.K., Yoo C.D., Kim Y.-S. The dynamic analysis of metal transfer in pulsed current gas metal arc welding // J. Phys. D.: Appl. Phys. 1998. - V.31, №2.-P. 207-215.

31. Дьюли У. Лазерная технология и анализ материалов. М., Мир, 1986. -501 с.

32. Каюков С.В., Гусев А.А. Динамические характеристики роста парогазового канала при плавлении металлов импульсным лазерным излучением миллисекундной длительности.// КЭ (Москва).-1995.-Т.22,№8. С.811-814.

33. Опре В.М. Генераторы мощных импульсов тока регулируемой длительности и формы. Дис.Докт.Техн.Наук, 05.09.03. С-Пб., 1993. — 363с.

34. Кошелев П. А. Тиристорные преобразователи для электротехнологических установок. Дис. Докт. Техн. Наук, 05.09.03. СПб., 1996.-348с.

35. Engelhart A.G., Phelps A.V., Risk C.G. Detemination of momentum transfer and inealastic collision cross sections for electrons in nitrogen using transport confidents // Phys. Rev. 1964. - V. 136, №6A. -PA 1566-1574.296

36. Константы скорости и баланс энергии электронов в плазме газоразрядных СО -лазеров / Н.В.Карпов, Ю.Б.Конев, И.В.Кочетов, В.Г.Пегов. М.: 1976. - 32 с. - ( Препринт / ФИАН; № 91).

37. Биберман JI.M., Воробьёв B.C., Якубов И.Т. Кинетика неравновесной низкотемпературной плазмы. М.: Наука. 1982. - 376 с.

38. Baker С.J., Hall D.R., Davies A.R. Electron distribution, Transport coefficient and electron exitation rates for RF excited C02 lasers // J. Phys. D.: Appl. Phys. 1984,-V. 17, №88.- P. 1597-1605.

39. Electron enegy distribution functions of radio-frequency collision dominated nitrogen discharges / M.Capitelli, R.Celiberto, C.Gorse and s. o. // J. Phys. D.: Appl. Phys. 1988. - V.21, № 3. - P. 691-699.

40. Напартович А.П., Старостин A.H. Механизмы неустойчивости тлеющего разряда повышенного давления / Химия плазмы. Под ред. Б.М.Смирнова. 1979.-Вып. 6. - С. 153 - 209.

41. Котеров В.Н., Сидоров H.H., Шипилин A.B. Двумерная модель рабочего объма непрерывного электроионизационного лазера. Методы расчета. Реализация. М.: 1986. - 40 с. - (ВЦ АН СССР. Сообщение по прикладной математике).

42. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987. - 592 с.

43. Браун С. Элементарные процессы в плазме газового разряда. М.: Атомиздат, 1961. - 216 с.

44. Гадияк Г.В., Насыров К.А. Численное моделирование газоразрядных проточных лазеров. Новосибирск, 1986. - 26 с. - (Препринт / ИТПМ СО АН СССР; № 2).

45. Смит К., Томпсон Р. Численное моделирование газовых лазеров. М.: Мир, 1981.-515 с.

46. Баранов И.Я., Гончаров В.Д., Тимощук И.В. Модель расчёта СО-лазера с высокочастотным разрядом в сверхзвуковом потоке продуктов сгорания. // Квант.Электр. 1994. - Т.21, № 2. - С. 111-119.

47. Велихов Е.П., Голубев B.C., Пашкин С.В. Тлеющий разряд в потоке газа // УФН. 1982. -Т.137, вып. I. - С.117 - 150.

48. Источники питания для технологических лазеров с накачкой разрядом переменного тока частотой 20 кГц / В.Б.Ганеев, Н.Н.Гришаев, В.Г.Казанцев, П.Г.Леонов // Электротехника. 1987. - №11. - С.54 - 57.

49. Kortshagen U. Electron and ion distribution function in RF and microwave plasmas.// Plasma sources Sei. And Technol. 1995. - V.4, № 2. - P. 172-182.

50. Тищенко B.H. Кинетические коэффициенты накачки активной среды С02-лазера электрическим полем // КЭ. 1988. - Т. 15, № 12. - С. 24972501.

51. Грановский В.Л. Электрический ток в газе. Установившийся ток. -М.,Наука, 1972. -242с.

52. Френсис Г. Ионизационные явления в газах. М.: Атомиздат, 1966. -216с.

53. Басыров Р.Ш., Тимеркаев Б.А. Модель разряда в поперечном потоке электроотрицательного газа // ТВТ. 1989. - Т. 27, №1. - С. 30 - 34.298

54. Хаксли Л., Кромптон Р. Диффузия и дрейф электронов в газах. М.: Мир, 1977.-673 с.

55. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н. Без электродный емкостной разряд, поддерживаемый повторяющимися высоковольтными импульсами // ТВТ. 1989. - № 3. - С. 431 -438.

56. Численный алгоритм для моделирования тлеющего разряда в двумерной геометрии / А.И.Лобойко, А.М.Лушикова, М.Д.Тарен и др. М., 1986. - 22 с.-( Препринт / ИПМ; №65).

57. Смирнов A.C., Орлов К.Е. Простой самосогласованный расчёт параметров ВЧЕ-разряда низкого давления. // Физ. плазмы и плазм, технолог.: Матер. Конф. ФППТ-2, Минск, 1997. -т.1 с.146-149.

58. Яценко H.A. Газовые лазеры с высокочастотным возбуждением. — М.: — 34 с. (Препринт / ИПМ; № 381).

59. Вега К., Farouk В., Lee Y. Modeling of two-dimensional radio frequency methane glow discharge in cylindrical geometry. // JSME Int. J.B. 1998. -v.41, № 2 -pp. 429-435.

60. Самарский A.A. Теория разностных схем: Учебн.пособие. М.: Наука, 1983.-616 с.

61. Хокни Р., Иствуд Д. Численное моделирование методом частиц. М.: Мир, 1987.-640 с.

62. Ильин В.П. Численное решение задач электрофизики. М.,Наука,1985. -336 с.

63. Гойхман В.Х., Гончаров В.Д., Смирнов А.Б. Особенности структуры активной среды С02-лазеров с поперечной прокачкой рабочей смеси газов // Электротехника. 1988. - №10. - С. 15-17.

64. Шимони К. Теоретическая электротехника. М.: Мир, 1964. -6774 с.

65. Установка для индукционного нагрева: Учебн. Пособие для вузов / А.Е.Слухоцкий, B.C. Немков, Н.А.Павлов, А.В.Бамунэр: Под. ред.

66. A.Е.Слухоцкого. Л.: Энергоиздат, 1981. - 328 с.

67. Бессонов Л.А. Теоретические основы электротехники. Электромагнитное поле. М. : Высш. шк., 1986. - 263 с.

68. Исследование усиления в самостоятельном разряде с поперечным потоком газа / Г.А.Баранов ,Ю.Б.Бутаев, В.И.Град, А.К.Зинченко // КЭ.1987. Т.14.№10. - С.1963-1973.

69. Физические принципы и техническая реализация эффективных систем накачки газоразрядного лазера / Г.А.Абильсиитов, О.Г.Булатов,

70. B.С.Иванов и др. // Электротехника. 1988. - № 11. - С. 2-5.

71. Райзер Ю.П., Шнейдер М.Н. Структура приэлектродных слоев ВЧ разряда и переход между двумя его формами // ФП. 1987. - Т. 13, вып. 4. -С. 471-480.

72. Мелехин A.A., Наумов И.Ю., Ткаченко Н.П. Влияние внешней цепи на характеристики перехода от таунсендовского к нормальному тлеющему разряду // ЖТФ. 1987. - Т.57, № 3. - С. 454 - 462.

73. Райзер Ю.П,. Суржиков С.Т. Двумерная структура нормального тлеющего разряда и роль диффузии в формировании катодного и анодного токовых пятен // ТВТ. 1988. - Т.26, № 3. - С. 428-434.

74. Баранов И.Я. Влияние диэлектрического покрытия электродов ВЧ-разряда на параметры приэлектродного слоя // ФП. 1995. - Т.21, №5. - С. 456-460.

75. Яценко И.А. Механизм формирования пространственной структуры высокочастотного емкостного разряда // ЖТФ. 1988. - Т.58, № 2300

76. Применение звена повышенной частоты для питания технологическихлазеров / В.М.Ганюченко, В.Д.Гончаров, А.Б.Смирнов и др. // Сб. науч.

77. Трудов МЭИ. М., 1986.-Вып. 51,-С. 94-100.

78. И.Д.Каганович, Л.Д.Цендин, Н.А.Яценко. Двумерный высокочастотный разряд при средних давлениях // ЖТФ. 1994. - Т.64, № 12. - С.25 - 46.

79. Mantzaris N.V., Boudouvis A., Gogolides Е. Radio-frequency plasmas in CF4: Selt-consistent modeling of the plasma physics and chemistry // J. Appl. Phys. -1995.-V.77, №12.-pp. 6169-6180.

80. Васильев A.C., Гуревич С.Г., Иоффе Ю.С. Источники питания электротермических установок . -М.: Энергоатомиздат, 1985. 246 с.

81. Ohmori Y., Shimozuma M., Tagoshira H. Boltzmann equiation analysis of electron swarm behaviour in nitrogen // J. Phys. D.: Appl. Phys. 1988. - V.21, №3.-P. 724-729.

82. Лисовский В.А. Определение коэффициентов переноса электронов в аргоне из кривых зажигания ВЧ и комбинированных разрядов низкого давления // Письма в ЖТФ. 1998. - Т.24, № 8. - С. 49 - 55.

83. Kieffer L.J.A. A compilation of electron collision cross section data for modeling gas discharge lasers // Colorado, 1973. 139 p. - (HLA Jnf. Centre Rep.:, № 13).

84. Гончаров В.Д., Смирнов А.Б. Нестационарные процессы в газоразрядной плазме установок технологического назначения. Л., 1986. - С. 71-76. - ( Изв. Ленингр.электротехн. ин-та; вып. 329).

85. Cherrington B.E. Gaseous electronics and gas laser. Oxford; N.Y.: Pergamon Press, 1982. - 426p.

86. Kortshagen U. Electron and ion distribution functions in RF and microwave plasmas. // Plasma Source Sci. and Technol. 1995. -V.4, №2. - P. 172-182.

87. Эффективность колебательного возбуждения молекул СО при накачке ВЧ емкостным разрядом / Г.А.Баранов, Ю.В,Ефремов, А.С.Смирнов и др. // КЭ. -Т.16, № 2. С. 261-265.

88. Tsendin L.D. Electron kinetics in nonuniform glow discharge plasmas.// Plasma Source Sci. And Technol. 1995. - V.4,№2. -P.200-211.

89. Armandillo E.,Kayc A.S. Modeling of transverse flow CW C02 lasers: theory and experient.// J.Phys.D.: Appl. Phys. -1980. №3. -P.321-328.

90. Выбор параметров газодинамического канала для электроразрядных быстропроточных лазеров / А.И.Иванченко, В.В.Крашенинников, А.Г.Пономоренко, А.А.Шепеленко // Журнал ПМ и ТФ. -1986. №6. - С.З-8.

91. Лойцянский Л.Г. Механика жидкости и газа. М.: Наука, 1987. - 840с.

92. Гончаров В. Д. Разработка инженерных методов расчёта и проектирования технологических газоразрядных С02-лазеров. Дис. Канд. Техн. Наук, 05.09.10 и 05.03.07. Ленинград, 1989. - 281с.

93. Гончаров В.Д., Смирнов А.Б. Нестационарные процессы в газоразрядной плазме установок технологического назначения. Л., 1986. - С. 71-76. -(Изв. Ленинградского электротехн. ин-та; вып. 329).

94. Баранов В.Ю., Введёнов А.А., Низовьев В.Г. Разряд в потоке газа //ТВТ. 1972.-Т.1, №6.-С.1156-1159.

95. Вольт-амперные характеристики тлеющего разряда в потоке газа/ А.А.Введенов, Г.Г.Гладуш, Л.Г.Грюканова, А.А.Самохин// ФП. 1980. -Т.6, вып.4. - С.910-917.302

96. Андрианов В.А., Воронин А.Ю., Пашкин C.B. Влияние газовых компонент С02 и СО-лазеров на динамику плотности тока анода квазистационарного тлеющего разряда повышенного давления. М., 1987.- 16с. (Препринт ИАЭ, № 4442/6).

97. Эффективность колебательного возбуждения молекул С02 при накачке ВЧ ёмкостным разрядом/ Г.А.Баранов, Ю.В.Ефремов, А.С.Смирнов и др.// КЭ. 1989. Т. 16,№2. - С.261-265.

98. Hügel H. RF excited C02 flow lasers //Gas flow and chem. lasers. Proc.6th Int, Simp/ Jerusalem, Sept/ 8- 12, 1986/ New-York, 1987. - p. 258 - 260.

99. Фотоакустическая спектроскопия алмазных порошков и поликристаллических плёнок / А.Н.Образцов, Х.Окуши, Х.Ватанабе, И.Ю.Павловский. // ФТТ. 1997. -т.39.-№10.-С. 1787-1793.

100. Актуальные направления в физике конденсированных сред Гос. НТП. Направление "Фуллерены и атомные кластеры". 1996. - Вып.З.

101. Surendra M. Radiofrequency discharge benchmark model comparison. // Plasma Sources Sei. and Technol. 1995. - V.4, №1. - P 56-73.

102. Зорин A.C. Свободно локализованный СВЧ-разряд в воздухе. М.: Наука, 1996.-251с.

103. Яценко H.A. Исследование интегральных характеристик приэлектродных слоев в емкостном ВЧ разряде среднего давления // ТВТ.- 1982. т. 20, № 6. - С. 1044 - 1052.106.

104. Коган Б.В. Исследование и разработка установок с ламповыми генераторами для импульсных высокочастотных технологий. Дис. Канд. Техн. Наук, 05.09.10.- Л., 1991. 229с.

105. Технологические лазеры. Справочник в двух томах. Под ред. Г.А.Абильсиитова М.Машиностроение, 1991. - Т. 1. -432с.303

106. Использование импульсного С02-лазера в хирургической стоматологии./ Н.Н.Бажанов, Р.И.Баграмов, В.П.Беляев и др.// Стоматология. 1988,- №4. - С.32-35.

107. Нгуен В.Д., Черниговский В.В. Исследование возможности медицинского применения отпаянных С02-лазеров, работающих в импульсном режиме.// Изв. ГЭТУ. 1995. - Вып. 477. - С. 17-20.

108. Сидоров А.И. Особенности управления генерацией С02-лазера с помощью модулятора на основе двуокиси ванадия.// Оптич. Журнал. -1997.-Т. 64, №1. С.25-28.

109. Ишанин Г.Г., Польщиков Г.В. Основы теории приёмников на термоупругом эффекте при измерении гармонически модулированных потоков излучения. // Приборостроение. JL, ЛИТМО, 1985. - Т.28. - №8. -С.72-79.

110. Разработка безбалластного источника питания для газовой лазерной технологической установки / А.В.Шпагин, В.М.Опре, Гончаров В.Д. и др. // Отчет по НИР , ЛЭТИ им.В.И,Ульянова /Ленина/, 1982. № гос. Per. 01.83.0010871.

111. A.C. 1486032, СССР, МКИ 4 Н05 В 41/23. Устройство для питания лазерных установок непрерывного действия. / Е.М.Фискин, О.А.Герасёв, В.Д.Гончаров и др. (СССР). №4081050, заявл. 1.07.86; Опубл. 8.02.89. -2с.

112. Виттеман В. С02-лазер. М.: Мир, 1990. - 360 с.

113. A.C. 1366015, СССР, МКИ 4 Н01 S 3/13. Устройство стабилизации выходной мощности газового лазера. / В.М.Ганюченко, В.П.Стрельников, В.Д.Гончаров и др. (СССР). №3937034, заявл. 1.08.85; Опубл. 8.09.87. -2с.

114. Kalayashi S., Murata Т., Terai К. At дХ.П Proc. SPIE. 1997. - У/3092.304

115. Zajdman A., Amishai О. Europen patent EP 0390013 03.10/90/ - Bul. 90/40.

116. Звелто О. Принципы лазеров. М.,Мир,1984. - 400с.

117. Appl. Phys. Lett. 1975,- V.27,№ 1. - P. 15-23.

118. Карнюшин B.H., Солоухин P.И. Макроскопические и молекулярные процессы в газовых лазерах. — М.: Атомиздат, 1981. 200 с.

119. Энергетические возможности самостоятельного объёмного разряда с анизотропно-резистивными электродами / А.А.Великин, М.А.Канатенко, В.А.Пивовар и др.// ТВТ. 1988. - Т.26, №1. - с.37-43.

120. Б.В. Дерягин Адгезия твердых тел. М,"Наука",1973. - 342с.

121. Б.С. Данилин. Магнетронное распыление- универсальный метод получения тонкопленочных структур // Электронная техника Сер.6, Вып.6,1983 -146с. .

122. В.А. Лабунов Н.И. Данилович A.C. Уксусов В.Е. Микайчев и др. Современные магнетронные распылительные устройства.// Зарубежная электронная техника Вып. 10,1982. 162с.

123. Гончаров В. Д. Модулированные газовые разряды для электротехнологии // Исследование электротехнологических устройств. -С-Пб., 1997. С.72-75. - (Известия ТЭТУ; вып.511).