Многослойные зеркала для рентгеновской астрономии и проекционной литографии тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.01, кандидат наук Полковников, Владимир Николаевич

• Полковников, Владимир Николаевич
• кандидат наук
• 2013

Оглавление диссертации кандидат наук Полковников, Владимир Николаевич

Оглавление

Введение

Глава 1. Проблемы создания отражающих покрытий, обеспечивающих высокое отражение и пространственное разрешение

1.1. Многослойная оптика рентгеновского и ЭУФ диапазонов

1.1.1. Особенности рентгеновского и ЭУФ диапазонов

1.1.2. Методики расчета зеркал. Принципы отбора материалов

1.1.3. Причины несоответствия расчетных и экспериментальных характеристик

1.1.4. Внутренние напряжения в многослойных зеркалах

1.2. Многослойные зеркала для рентгеновской астрономии (обзор)

1.3. Многослойные зеркала для ЭУФ литографии

Глава 2. Многослойные зеркала для рентгеновской астрономии

2.1. Аппаратура для нанесения МСС и методики измерения их характеристик

2.1.1. Установка магнетронного напыления

2.1.2. Методики измерения характеристик МСС

2.2. Эксперимент ТЕСИС

2.3. Свойства многослойных зеркал на основе алюминия

2.4. Свойства многослойных зеркал на основе магния

2.4.1. Свойства многослойных зеркал Mg/Cr

2.4.2. Свойства многослойных зеркал Mg2Si/Si

2.4.3. Многослойные зеркала Si/Mg с антидиффузионными слоями

2.4.4. Свойства многослойных зеркал B4C/Mg

2.5. Зеркала для оптических схем аппаратуры ТЕСИС

2.5.1. Пленочная асферизация подложек

2.5.2. Отражательные характеристики МЗ для ТЕСИС

Глава 3. Границы раздела и внутренние напряжения в Mo/Si-зеркалах

3.1. Влияние антидиффузионных слоев В4С на отражательные характеристики МЗ Mo/Si

3.2. Компенсация упругих деформаций подложек с МЗ Mo/Si

3.2.1. Методы измерения внутренних напряжений

3.2.2. Компенсация упругих деформаций подложек с МЗ Mo/Si

Глава 4. Многослойные зеркала для литографии с рабочей длиной волны короче 10 им

2

4.1. Многослойные зеркала для работы на длине волны 9,34 нм

4.1.1. Зеркала на основе У

4.2. Многослойные зеркала для длины волны 6,7 нм

4.2.1. Многослойные структуры ЬаЛ^С и Ьа/В9С

Основные результаты

Литература

Список публикаций автора

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Многослойные зеркала для рентгеновской астрономии и проекционной литографии»

Введение

Актуальность темы

Развитие работ в различных областях физики тесным образом связано с прогрессом в технологии синтеза многослойных зеркал (МЗ). Этот класс оптических элементов с 80-х годов XX века в силу ряда своих свойств выступает универсальным инструментом для построения оптических схем, предназначенных для работы во всем рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом диапазонах длин волн (0,01-60 нм).

В простейшем случае МЗ представляют собой осажденную на сверхгладкую поверхность (подложку) периодическую структуру из чередующихся пленок двух материалов с различной величиной диэлектрической проницаемости. Принцип действия МЗ основан на интерференции волн, отраженных от границ раздела слоев структуры. Условие сложения волн в фазе аналогично выражению Вульфа-Брега для случая кристаллов:

2(Ып0=пА, п= 1,2,3... (1)

где й - период структуры, 0 - угол скольжения излучения, А. - длина волны излучения.

Оптимизируемый для каждого отдельного поддиапазона длин волн подбор материалов пленок и их толщин обеспечивает даже при нормальном падении излучения высокий суммарный коэффициент отражения от структуры, достигающий нескольких десятков процентов (до 80%) в зависимости от рабочего диапазона. При этом форма поверхности подложки может быть произвольной: плоской, сферической, асферической, вогнутой, выпуклой - в зависимости от задачи, которую должно решать МЗ.

Как следует из формулы (I), для зеркал нормального падения (0=90°) при п=1 (первый порядок отражения) период зеркала имеет порядок величины А/2. Если физического ограничения сверху для толщин индивидуальных слоев МЗ нормального падения нет, то принципиальным ограничением снизу является невозможность осаждения сплошного слоя толщииой, ниже некоторого порогового значения, соответствующего величине порядка 0,4-0,5 нм (для некоторых

материалов). То есть в случае двухкомпонентной структуры: £1т,п ~ 0,8-1 им, Хт\п ~ 1,6-2 им.

Для работы в диапазоне длин волн, меньших 2 им, традиционно применяются кристаллы [1]. Отражательные характеристики кристалла определяются особенностями его строения и не поддаются управлению в широких пределах. Поэтому, как правило, могут применяться лишь в строго определенном наборе задач, например, требующих сочетания высокого пикового коэффициента отражения и высокой спектральной селективности. В случае же требования большого потока фотонов высокая спектральная селективность кристаллов служит помехой. Кроме того, спектральный диапазон, доступный для применения традиционно используемых кристаллов, ограничен сверху величиной межплоскостного расстояния. А внутри доступного диапазона представляет дискретный набор рабочих длин волн, также определяемых межплоскостными расстояниями конкретных кристаллов. Еще один их недостаток связан с необходимостью спектральных исследований плазменных объектов, обладающих относительно низким энергосодержанием. Для этого предпочтительны фокусирующие схемы, имеющие высокую светосилу. При использовании фокусирующих схем с кристаллами возникает ряд технических сложностей, связанных, прежде всего, с созданием на основе кристаллов соответствующих поверхностей.

Применение же в качестве отражательных элементов многослойных зеркал снимает некоторые технические сложности и дает возможность существенно расширить спектральный диапазон. Принципиальное ограничение межплоскостного расстояния для кристаллов не имеет никакого значения в случае использования МЗ, период которых может принимать любые значения, превышающие нижний порог. Вариацией параметров зеркала практически всегда можно добиться широкого диапазона его отражательных свойств фактически для любой заданной длины волны.

Следует различать понятие МЗ как отражающего покрытия без привязки к конкретной подложке и МЗ как элемента оптической схемы, то есть уже как систему подложка+покрытие. В зависимости от подхода изменяется приоритетность характеристик элемента.

Зеркало как отражающее покрытие характеризуется, прежде всего, коэффициентом отражения. В широком смысле: его зависимостью от длины волны или угла падения излучения в довольно широких пределах. Или более узко: пиковым коэффициентом отражения на рабочей длине волны при заданном угле падения и шириной кривой отражения на половине ее высоты. Как правило, этот последний параметр определяется в виде ХУДА, где А соответствует положению максимума отражения, а ДА - ширине кривой. Этот параметр носит название спектральной селективности и имеет смысл количества когерентно отражающих периодов.

А/ДАя^/Дс1=ЫсП- (2)

Наряду с оптическими свойствами материалов на эти характеристики оказывает влияние и качество структуры, которое зачастую зависит от условий синтеза МЗ. Для периодических структур, прежде всего, речь идет о постоянстве периода вглубь структуры. Из выражения (2) можно оценить допустимое отклонение периодичности как Д<3=сШсгг . Если рассматривать МЗ с ё=3 нм и числом эффективно работающих слоев N,^150, то Дё=0,02 нм. Эта величина накладывает жесткие условия на постоянство параметров технологического процесса синтеза МЗ. В противном случае произойдет уширение кривой отражения, сопровождаемое снижением пикового коэффициента отражения.

Для зеркала как системы подложка+покрытие, то есть как элемента оптической схемы, кроме вышеупомянутых, важными характеристиками становятся форма поверхности, степень ее соответствия заданной, распределение периода вдоль по поверхности. Развитие прецизионной изображающей оптики в настоящее время предъявляет высокие требования к форме поверхности зеркал и к аберрациям оптических схем в целом. В частности, для решения задач проекционной ианолитографии и рентгеновской микроскопии отклонение формы от заданной не должно превышать десятых долей нанометра [2]. Однако возникающие в ходе роста структур внутренние напряжения неизбежно приводят к деформациям системы подложка+покрытие. Оценки показывают, что для типичных подложек, используемых в оптике (материал кварцевое стекло, гегоёиг, толщина порядка 10 мм, диаметр порядка 100 мм), средние напряжения стандартных покрытий в несколько сотен МПа приводят к отклонениям формы до

20-30 им, что почти на два порядка хуже требований к оптике дифракционного качества.

Другой аспект связан с распределением периода покрытия по площади подложки. Сложная форма поверхности зеркал не должна препятствовать выполнению условия Вульфа-Брега по всей апертуре МЗ даже при вариациях угла падения излучения. Для этого необходимо выдерживать заданное распределение периода по площади подложки. От точности соблюдения этого распределения зависит суммарный сигнал, проходящий через оптическую схему, поскольку рассогласование (по резонансной длине волны или углу падения) пиков отражения многозеркальной схемы снижает эффективность многократного отражения. В конечном счете критерий точности должен быть связан с шириной кривой отражения покрытия. Чем уже спектральная ширина, тел: жестче требования. Па практике принято считать приемлемым отклонение, не превышающее 0,5% от величины периода.

К вопросам формы зеркал относится и методика пленочной асферизации. Зачастую для минимизации эффектов аберрации зеркала оптических схем должны иметь асферическую форму поверхности. Изготовление подложек такой формы сопровождается большими затратами средств и времени. В этом случае более дешевым и быстрым является нанесение многослойной пленки с заданным распределением толщины по площади подложки непосредственно перед нанесением основного зеркала. Эта пленка не является интерференционной структурой. Наличие не одного сплошного, а многих слоев связано с проблемами развития поверхностной шероховатости и внутренних напряжений для сплошных пленок значительной толщины. Методика осаждения асферизующего многослойного покрытия, включая соблюдение точности распределения его толщины, полностью аналогичны процедуре синтеза МЗ.

При необходимости всегда есть возможность выбора приоритета - пиковый коэффициент отражения или спектральная селективность. Возможно и сочетание оптимальных характеристик для максимизации потока фотонов. МЗ с изменяющимся по определенному закону периодом по глубине структуры (апериодические зеркала) обеспечивают заданное распределение коэффициента отражения как по спектру, так и по углу. Для каждого конкретного спектрального

диапазона возможен выбор наиболее оптимального с точки зрения отражательной способности и спектральной селективности состава многослойного зеркала. И, как уже отмечалось выше, не представляет особых технических трудностей создание зеркал практически с любой формой поверхности, что важно для фокусирующих или изображающих оптических схем.

Кроме того, в случае применения зеркал достижимо и высокое пространственное разрешение, так как многослойные структуры возможно наносить с заданным распределением периода на поверхность подложек произвольной формы. В случае умеренных радиусов кривизны поверхностей оптических элементов МЗ наносится непосредственно на подложку в процессе синтеза. При значительных кривизнах, когда становится технологически проблемным осаждение отражающего покрытия непосредственно на подложку, применяется технология переноса МЗ с исходной плоской поверхности па заданную.

Эта относительная легкость создания зеркал произвольной формы, а также значительная вариативность их отражательных характеристик, являющаяся следствием гибкости параметров зеркал, выгодно отличают МЗ от кристаллов.

Значительный прогресс последних десятилетий в создании эффективно отражающих зеркал нормального падения для диапазона длин волн 1-30 им обеспечил продвижение в таких областях исследований как рентгеновская астрономия и рентгеновская проекционная литография.

Солнце излучает в очень широком диапазоне длин волн. Однако солнечная атмосфера (хромосфера, переходная область и корона), вещество которой находится при температурах, достигающих десятков миллионов градусов, излучает преимущественно в рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом диапазонах [3]. Именно изображения Солнца, получаемые в указанном диапазоне, могут служить основным источником информации о солнечной короне, ее структуре, процессах, протекающих в ней, и о динамике сложных явлений, например, вспышек.

Прорыв в этом направлении наметился в конце 1980-х годов и напрямую связан с усовершенствованием технологии изготовления многослойных зеркал нормального падения, имевших пиковые коэффициенты отражения в десятки

процентов. С применением МЗ был реализован принципиально новый метод получения научной информации о солнечной короне - метод изображающей спектроскопии. Впервые он был реализован в 1988 году в эксперименте ТЕРЕК на межпланетной станции ФОБОС-1 [4]. Многослойные зеркала нормального падения обеспечили построение изображений солнечной короны двух типов - на 17,5 и 30,4 нм. При диаметрах зеркал 30 мм и радиусах кривизны 1600 мм угловое разрешение телескопа составило 15 .

Увеличение размеров МЗ до 100 мм и асферичность поверхностей со временем позволило достичь углового разрешения на уровне единиц угловой секунды (3"-5" для телескопов ТЕРЕК-К и СРТ-К) [5]. Дальнейший рост углового разрешения может быть связан с еще большим увеличением апертуры зеркал и с прецизионным контролем формы поверхности сферических и асферических зеркал, позволяющим достичь соответствия расчетной форме на нанометровом уровне.

Наряду с угловым разрешением прибора важное значение придается таким характеристикам как временное и спектральное разрешение. Эти характеристики во многом определяются оптическими свойствами отражающих покрытий. Большие коэффициенты отражения МЗ приводят к большему уровню сигнала на детекторе, что снижает время, необходимое для накопления сигнала. Увеличение спектральной селективности МЗ исключает из отраженного излучения значительную часть сопутствующего изучаемой длине волны фона, что облегчает анализ полученных изображений.

Применявшиеся в XX веке зеркала на основе Mo/Si достигали на длинах волн 17,5 и 30,4 нм 44% и 23% соответственно при величинах спектральной селективности Х/АХ 20 и 9 единиц [6]. В настоящее время для построения изображений солнечной короны в наиболее узких спектральных полосах такие отражательные характеристики следует признать недостаточными. Возникает задача создания МЗ с величинами спектральной селективности, в разы превосходящими прежние аналоги, и с коэффициентами отражения не ниже указанных.

Одним из актуальных направлений современной рентгеновской оптики является проблема создания оборудования для проекционной литографии с пространственным разрешением лучше 40 нм. Успехи последнего времени связаны

с технологией, основанной на применении АгР эксимерного лазера с рабочей длиной волны 193 нм [7]. Однако данная технология достигла своего предела, и дальнейший прогресс на ее основе становится невозможным.

Возможности оптических систем принципиально ограничены дифракционным пределом, и минимальный размер элемента микросхем не может быть существенно меньшим рабочей длины волны. Согласно критерию Рэлея минимально разрешаемая полоса имеет размер:

где к - коэффициент пропорциональности (порядка единицы), NA - числовая апертура объектива, X - длина волны излучения. Оперирование параметрами к и NA и позволило достичь предела технологии 193 нм amin=22 им [7].

Наиболее перспективный путь дальнейшего уменьшения ami„ может быть связан именно с переходом к меньшим длинам воли, с уходом в область экстремального ультрафиолетового или мягкого рентгеновского диапазонов длин волн. Достигнутый на сегодняшний день прогресс в изготовлении МЗ для этих диапазонов позволяет строить высокоэффективные оптические схемы.

В диапазоне длин воли, больших 10 нм, интерес представляет окрестность 13,5 нм [8], для которой, во-первых, возможно создание эффективных источников излучения, во-вторых, именно для этой окрестности существуют зеркала на основе Mo/Si, обладающие рекордными коэффициентами отражения, достигающими почти 70% [9-11]. В настоящее время именно этому направлению исследований отдается предпочтение как российскими, так и зарубежными научными центрами.

С точки зрения создания МЗ для проекционной литографии на длине волны 13,5 нм можно выделить две проблемы. Первое - максимизация пикового коэффициента отражения па рабочей длине волны. При наличии в оптической схеме 10 отражающих зеркал разница в 1% по абсолютной величине коэффициента отражения для МЗ двух схем приводит к существенному (порядка 15 относительных процентов) различию выходного сигнала. Соответствующим образом такая потеря приводит к значительному сокращению производительности прибора. Поэтому проблеме повышения пикового коэффициента отражения МЗ Mo/Si придается большое значение.

Второй проблемой является создание оптических элементов дифракционного качества. Согласно критерию Марешаля среднеквадратичные аберрации волнового фронта не должны превышать величину: W=4/14 (4)

Это предъявляет жесткие требования к качеству поверхности зеркал. При длине волны 13,5 нм форма зеркал должна соответствовать расчетной с субнанометровой точностью. Как уже отмечалось выше, возникающие в Mo/Si внутренние напряжения величиной несколько сотен МПа приводят к искажению формы на несколько нанометров, что почти на порядок хуже требований в соответствии с критерием Марешаля. Изучение внутренних напряжений в Mo/Si структурах, их минимизация или полная компенсация является важнейшей задачей рентгеновской оптики.

Фактически достигнутое на данный момент пространственное разрешение оборудования (размер элемента) составляет 22 нм [7]. В рамках технологии 13,5 им без усложнения процесса (однократная засветка, маска без фазовых корректоров и т.п. факторы, изменяющие параметры к и NA) просматриваются пути достижения в пределе 16 нм. Дальнейшее снижение размера элемента может быть связано либо с дорогостоящей и не всегда возможной процедурой коррекции к и NA, либо с уменьшением рабочей длины волны. Более дешевым и эффективным вариантом на данный момент видится именно второй путь.

Таким образом, дальнейшая миниатюризация требует еще большего снижения рабочей длины волны и уводит разработчиков литографического оборудования в область мягкого рентгеновского излучения А,<10 нм. В этом диапазоне наиболее перспективными представляются спектральные области вблизи краев поглощения иттрия Y А.=9,34 нм и бора В А=6,67 нм. Теоретический расчет предсказывает для зеркал, оптимизированных на 9,34 нм коэффициенты отражения, превышающие 60%, а для зеркал на 6,67 нм - достигающие 80%. Однако практического достижения подобных значений к настоящему времени не произошло [12,13].

Таким образом, в любом приложении важнейшими характеристиками МЗ являются его отражательные характеристики (коэффициент отражения, спектральная селективность). Кроме того, в ряде задач следует учитывать

механические напряжения в многослойной структуре. Важно отметить, что вне зависимости от конкретного применения МЗ на его оптические и механические свойства влияют одни и те же параметры, являющиеся, в конечном счете, следствием условий роста и химического состава покрытия. Поэтому при разработке, синтезе и изучении свойств МЗ, предназначенных для работы в различных диапазонах длин воли, применимы общие подходы.

Среди факторов, определяющих качество МЗ, можно выделить следующие. Прежде всего, макроскопические факторы, такие как степень периодичности или соответствия закону изменения периода по глубине структуры. Это важно для оптимальной интерференции волн. Для тонких, порядка единиц нанометра, пленок необходимо учитывать несоответствие реальных плотностей материалов табличным. Как правило, для тонких пленок этот параметр оказывается на 10-20% ниже, чем для объемного материала.

Важнейшее влияние на оптические и механические свойства оказывают наличие и характер переходных границ между материалами, формирующими многослойную структуру. Уширению переходной области содействуют взаимодиффузия материалов, их химическое взаимодействие, имплантация атомов одного материала в слои другого в процессе роста.

И плотность пленок, и ширины переходных областей тесным образом связаны с условиями роста, с параметрами технологического процесса, определяющими как энергию поступающего на подложку конденсата, так и скорость его поступления. Кроме того, на стадии роста определяется и наличие посторонних примесей в структуре, источниками которых могут служить остаточные газы в ростовой камере, атомы рабочего газа, примеси в мишенях, служащих источником материалов пленок.

Во всех случаях работа сводится к общим принципам. Спектральная область использования МЗ определяет круг допустимых материалов. Стандартный метод расчета отражательных характеристик выделяет ряд наиболее перспективных пар элементов. После чего синтезируется сама структура. Она аттестуется стандартными же методами. По результатам измерений восстанавливаются параметры синтезированного МЗ и при необходимости (в случае значительного несоответствия теории и эксперимента) определяется возможность их коррекции.

Цель диссертационной работы

Целыо работы является разработка, синтез и изучение свойств многослойных зеркал для рентгеновской астрономии и проекционной рентгеновской и ЭУФ литографии.

Задачи диссертационной работы

Основные задачи диссертационной работы, которые необходимо решить для достижения поставленной цели в области создания отражающих покрытий для рентгеновской астрофизики и проекционной определяются следующим образом:

1. Разработка и синтез многослойных зеркал для астрофизического эксперимента ТЕСИС. Обеспечение отражательных характеристик МЗ, удовлетворяющих требованиям временного и спектрального разрешения эксперимента. Асферизация ряда зеркал для обеспечения требуемого пространственного разрешения телескопов. Изготовление комплектов зеркал для оптических схем телескопов обсерватории ТЕСИС.

2. Изучение оптических и механических свойств многослойных зеркал Mo/Si, предназначенных для создания оптических элементов схем проекционной литографии с рабочей длиной 13,5 им. Минимизация ширины переходных областей на границах раздела материалов с целыо увеличения пикового коэффициента отражения зеркал. Компенсация упругих деформаций зеркал, вызываемых внутренними напряжениями в покрытиях Mo/Si.

3. Разработка, синтез и изучение свойств зеркал нормального падения, оптимизированных на \=9,3 нм и А=6,7 нм. Определение возможности создания высокоотражающих многослойных покрытий для оптических схем проекционной литографии с рабочей длиной волны меньше 10 нм.

Научная новизна работы

1. Впервые предложены и синтезированы многослойные зеркала на основе Al/Zr и Al/Si, предназначенные для работы в диапазоне длин волн больших 17,1 нм. Первые обладают рекордным коэффициентом отражения, вторые - рекордной спектральной селективностью в этой области длин волн.

2. Впервые предложен и изучен ряд магнийсодержащих зеркал: Mg/Cr, Mg/Si и Mg/Si e антидиффузионными слоями на основе карбида бора и хрома. Основными проблемами, препятствующими получению высоких и стабильных во времени коэффициентов отражения, являются значительная величина межслоевой шероховатости и окисление слоев магния. Показано, что четырехкомпонентная структура Si/B4C/Mg/Cr обладает относительно стабильными во времени отражательными характеристиками и одновременно рекордной величиной спектральной селективности в диапазоне длин волн в окрестности 30,4 нм.

3. Изучены внутренние напряжения многослойных структур Mo/Si и Cr/Sc. Предложена методика компенсации упругих деформаций зеркал на основе Mo/Si с помощью антистрессового покрытия на основе Cr/Sc. В тестовом эксперименте продемонстрирована остаточная деформация на уровне единиц процента от исходной.

4. Для синтезированных многослойных зеркал Ru/Y получено рекордное значение пикового коэффициента отражения на длине волны 9,34 нм.

5. Изучены свойства многослойных зеркал на основе La/B4C, предназначенных для создания оптических элементов схем проекционной литографии следующего поколения с рабочей длиной волны около А,=6,7 нм. Показано, что основной причиной низкого коэффициента отражения являются уширенные переходные области между материалами структуры. Предложен ряд антидиффузионных слоев на основе Sn, Mo, С. Показано, что осаждение топких слоев углерода обеспечивает снижение ширины переходных областей в зеркалах La/B4C. Это позволило достичь рекордного коэффициента отражения R=58,3% на длине волны Х=6,663 нм.

Практическая значимость работы

1. IIa основе многослойных структур Mo/Si, Al/Zr и Si/B4C/Mg/Cr изготовлены комплекты многослойных зеркал как с асферизующим покрытием, так и без него для оптических схем телескопов обсерватории ТЕСИС. В ходе эксперимента ТЕСИС получены изображения солнечной короны в нескольких спектральных линиях с рекордным угловым (1,7") и хорошим временным разрешением (1 с).

2. Изучено влияние антидиффузионных слоев карбида бора на оптические свойства многослойных зеркал Mo/Si, оптимизированных на длину волны Х=13,5 нм. Продемонстрирована возможность увеличение коэффициента отражения на 1,7 абсолютных процента.

3. Получение относительно высоких коэффициентов отражения в окрестности \=6,7 нм обеспечивает принципиальную возможность перехода к технологии проекционной литографии с соответствующей рабочей длиной волны.

Основные положения, выносимые на защиту

Основные положения, выносимые на защиту формулируются следующим образом:

1. Созданы многослойные зеркала Al/Zr и Al/Si, обладающие рекордными коэффициентами отражения и величинами спектральной селективности в области длин воли, больших 17,1 нм.

2. Получена четырехкомпонеитная структура Si/B4C/Mg/Cr, обладающая наиболее стабильными во времени отражательными характеристиками и рекордной величиной спектральной селективности в окрестности длины волны 30,4 нм.

3. Введение барьерных слоев карбида бора позволит увеличить коэффициент отражения на многослойных зеркал Mo/Si, оптимизированных на А=13,5 нм, на 2,5 процента.

4. Осаждение на подложку антистрессовой структуры Cr/Sc позволит компенсировать упругие деформации зеркал Mo/Si.

5. Применение антидиффузионных слоев углерода и карбида бора позволит достичь рекордных коэффициентов отражения зеркал Mo/Y и Ru/Y в окрестности 1=9,5 нм.

6. Применение антидиффузионных слоев углерода позволит достичь рекордных коэффициентов отражения для многослойных зеркал нормального падения ЬаЛ^С.

Публикации по теме

По представленным на защиту материалам автором опубликована 60 работ. Опубликовано 23 статьи в научных журналах [А1-А23] и 37 статей в сборниках

конференций и тезисов докладов [Т1-Т37]. Неоднократно результаты докладывались автором на заседаниях научных конференций.

Личное участие автора

В исследованиях, вошедших в диссертацию, автором выполнялись следующие работы: участие в постановке научных задач, изготовление и исследование образцов, анализ и обобщение полученных результатов. Работы по изучению свойств многослойных зеркал на основе Al/Zr и Ьа/В4С проходило в тесном сотрудничестве с С.С. Андреевым. Анализ внутренней структуры МСС Ьа/В4С как с барьерными слоями, так и без них, распределение материалов в периоде осуществлялось при участии автора М.М. Барышевой и МЛ. Дроздовым. Исследование внутренних напряжений в структурах Mo/Si и Cr/Sc и компенсация упругих деформаций проводились совместно с JI.A. Сусловым. Автором предложена и изучена многослойная структура Al/Si, предназначенная для работы в области длин волн, больших 17,1 им и обладающая рекордной спектральной селективностью в указанном диапазоне. Его вклад в изготовление многослойных зеркал для оптических схем обсерватории ТЕСИС является определяющим.

Список литературы диссертационного исследования кандидат наук Полковников, Владимир Николаевич, 2013 год

Литература

1. Shevelko, А.Р. X-ray spectroscopy of laser-produced plasmas using a von Ilarnos spectrograph / A.P. Shevelko//Proc. SPIE.- 1998.-Vol. 3406. - P. 91-108.

2. Барышева, M.M. Прецизионная изображающая многослойная оптика для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового диапазонов / М.М. Барышева, А.Е. Пестов, Н.Н. Салащенко, М.Н. Торопов, Н.И. Чхало // УФН.-2012.-Т. 182.-с. 727-747.

3. Шкловский, И.С. Физика солнечной короны / И.С. Шкловский // М.: Физматгиз, 1962.

4. Собельман, И.И. Эксперимент ТЕРЕК по исследованию рентгеновского излучения Солнца на космическом аппарате «ФОБОС» / И.И. Собельман, И.А. Житник, Б. Вальничек и др. //Препринт ФИАН 241. - 1988.

5. Андреев, С.С. Изготовление асферической рентгеновской оптики с многослойным покрытием для исследований Солнца по проекту «КОРОНАС-Ф» / С.С. Андреев, С.Ю. Зуев, В.И. Позднякова, Н.Н. Салащенко, В.А. Слемзин, И.Л. Струля, И.А. Шерешевский, И.А. Житник // Поверхность. - 2003. - №1. - с. 6-11.

6. Слемзин, В.А. Исследование временной стабильности характеристик многослойных рентгеновских зеркал для солнечного рентгеновского телескопа СРТ-К и спектрометра РЕС-К / В.А. Слемзин, И.А. Житник, С.Ю. Зуев, С.В. Кузин, А.В. Митрофанов // Поверхность. - 2002. - №1. - с. 84-86.

7. Ilaran, В. 22nm technology compatible fully functional 0.1 pm2 6T-SRAM cell / B. Haran, L. Kumar, L. Adam, J. Chang, S. Basker Kanakasbapathy, D. Horak, S. Fan, J. Chen // IEDM Proc. - 2008. - p. 625.

8. Hawryluk, A.M. Wavelength considerations in soft xray projection lithography / A.M. Hawryluk, N.M. Ceglio // Appl. Optics. - 1993. - V. 32. - № 34. - P. 7062.

9. Barbee, T. W. Molybdenum-silicon multilayer mirrors for the extreme ultraviolet / Troy W. Barbee, Jr., Stanley Mrowka, and Michael C. Hettrick // Applied Optics. - 1985. - V. 24. - №6. - p. 883-886.

10.Andreev, S.S. The microstructure and X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers /

S.S. Andreev, S.V. Gaponov, S.A. Gusev, M.N. Haidl, E.B. Kluenkov, K.A.

135

Prokhorov, N.I. Polushkin, E.N. Sadova, N.N. Salashchenko, L.A. Suslov, S.Yu. Zuev // Thin Solid Films. - 2002. - V. 415. - p. 123-132.

11. Braun, S. Mo/Si Multilayers with Different Barrier Layers for Applications as Extreme Ultraviolet Mirrors / Stefan Braun, Hermann Mai, Matthew Moss, Roland Scholz and Andreas Leson // Jpn. J. Appl. Phys. - 2002. - V. 41- p. 4074-4081.

12. Windt, D.L. EUV Multilayers for Solar Physics / D. L. Windt, S. Donguy, J. Seely, B. Kjornrattanawanich, E. M. Gullikson, С. C. Walton, L. Golub, and E. DeLuca//Proc. SPIE. - 2004. - Vol. 5168.

13.Platonov, Y. Multilayers for next generation EUVL at 6.Xnm / Yuriy Platonov, Jim Rodriguez, Michael Kriese, Eric Gullikson, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita // Proc. SPIE. - 2011. - Vol. 8076. - p. 80760N-1.

14. Spiller, E. Low-loss reflection coatings using absorbing material / E. Spiller // Appl. Phys. Lett. - 1972. - V.20.No9. - P.365-367.

15. Borrmann, G. Uber extinktionsdiagramme von quarz // Physikal Z. - 1942. - V.42. - P.157—162.

16. Виноградов, A.B. О многослойных зеркалах для рентгеновского и далекого ультрафиолетового диапазона / A.B. Виноградов, Б.Я. Зельдович // Оптика и спектроскопия. - 1977. - Т.42.№4. - С.709-714.

17. Vinogradov, A.V. X-ray and far UV multilayer mirrors: principles and possibilities / A.V. Vinogradov, B.Ya. Zeldovich // Appl. Opt. - 1977. -V.I6.N0.I. - P.89-93.

18.Виноградов, A.B. Зеркальная рентгеновская оптика / A.B. Виноградов, И.А. Брытов, Ф.Я. Грудский, М.Т. Коган, И.В. Кожевников, В.А. Слемзин; под общей ред. A.B. Виноградова // JL: Машиностроение. Ленинградское отд-ние. - 1989.

19.Henke, B.L. X-ray interactions: photoabsorption, scattering, transmission, and reflection at E=50-30000 eV, Z=l-92 / B.L. Henke, E.M. Gullikson, J.C. Davis. // Atomic Data and Nuclear Data Tables - 1993. - V. 54.No.2. - P. 181-342.

20.Parrat, L.G. Surface studies of solids by total reflection of X-rays / L.G. Parrat // Phys. Rev. - 1954. - V.95.No.4 - P.359-369.

21.Гапонов, С.В. Рассеяние мягкого рентгеновского излучения и холодных нейтронов на многослойных структурах с шероховатыми границами / С.В. Гапонов, В.М. Генкин, Н.Н. Салащенко, А.А. Фраерман // ЖТФ. - 1986. -Т.56. - С.708-714.

22. Гапонов, С.В. Рассеяние нейтронного и рентгеновского излучения в диапазоне 10-300 А на периодических структурах с шероховатыми границами / С.В. Гапонов, В.М. Генкин, Н.Н. Салащенко, А.А. Фраерман // Письма в ЖЭТФ. - 1985. - Т.41.№2. - С.53-55.

23.Andreev, A.V. Reflectivity and roughness of X-ray multilayer mirrors, specular reflection and angular spectrum of scattered radiation / A.V. Andreev, A.G. Michette, A. Renwick // Journal of Modern Optics. - 1988. - V.35. - P.1667-1987.

24.Elson, J.M. Relationship of the total integrated scattering from multilayer-coated optics to angle of incidence, polarization, correlation length and roughness crosscorelation properties / J.M. Elson, J.P. Rahn, J.M. Bennett // Appl. Opt. -1983.- V.22.№ 20. - P.3207-3219.

25.Revesz, A.G. On the structure of noncrystalline Si and Sil-xHx films // Phys. Stat. Sol. A. - 1980. - V.60.No.2. - P.619-629.

26. Виноградов, A.B. О влиянии плотности вещества в пленках на отражающую способность многослойных зеркал рентгеновского диапазона / А.В. Виноградов, В.М. Елинсон, Н.Н. Зореви // Оптика и спектроскопия. - 1985. -Т.59.№3. - С.703-704.

27. Nix, W.D. Mechanical properties of thin films / William D. Nix // Metallurgical and Materials Transactions A-physical Metallurgy and Materials Sciencc -METALL MATER TRANS A. - 1989. - V.20.№11. - P.2217-2245.

28. Гофман, Р.У., Физика тонких пленок. — М.: Мир, 1968. — Т. 3.

29.Майссел, JI. Технология тонких пленок. Справочник. - М.: Советское радио, 1977.

30. Vink, J. Stress, strain, and microstructure in thin films deposited by dc magnetron sputtering / J. Vink, W. Walrave, J. L. C. Daams, A. G. Dirks, M. A. J. Somers, and K. J. A. van den Aker // J. Appl. Phys. - 1993. - V.74. - P.988-995.

31. Willcock, J.D. The internal stress in evaporated silver and gold films / J.D. Wilcock, D.S. Campbell, J.C. Anderson // Thin Solid Films. - 1969. - V.3.№1. -P.13-34.

32.Ennos, A.E. Stresses developed in optical film coatings / A.E. Ennos // Appl. Opt. - 1966. - V.5.№l.-P.51-61.

33. David, T. Dependence of Zinc Oxide Thin Films Properties on Filtered Vacuum Arc Deposition Parameters / T. David, S. Goldsmith, R.L. Boxman // J. Phys. D: Appl. Phys. - 2005. - V.38.№.14. - P. 2407.

34. Priest, J. Mechanical stresses in silicon oxide films / J. Priest, H.L. Caswell, Y. Budo // Vacuum. - 1962. - V.12.№.6. - P.301-306.

35.Windt, D.L. Variation in stress with background pressure in sputtered Mo/Si multilayer films / D. L. Windt, W. L. Brown, C. A. Volkert, W. K. Waskiewicz // J. Appl. Phys. - 1995. - V.78.№.4. - P.2423.

36.Torri, P. Mechanical properties, stress evolution and high-temperature thermal stability of nanolayered Mo-Si-N/SiC thin films / P. Torri, J.-P. Hirvonen, H. Kung, Y.-C. Lu, M. Nastasi, P. N. Gibson // J. Vac. Sci. Technol. B. - 1999. -V.17.№.4. - P.1329-1335.

37. Windt, D. L. Stress, microstructure and stability of Mo/Si, W/Si and Mo/C multilayer films / D. L. Windt // J. Vac. Sci. Technol. A. - 2000. - V.18.№.3. -P.980-991.

38. Montcalm, C. Reduction of residual stress in extreme ultraviolet Mo/Si multilayer mirrors with postdeposition thermal treatments / Claud Montcalm // Opt. Eng. -2001. - V.40.№.3. - P.469-477.

39. Stoney, G.G. The Tension of Metallic Films Deposited by Electrolysis / G.G. Stoney // Proc. R. Soc. Lond. A. - 1909. - V.82. - P.172-175.

40. Brenner, A. Calculation of stress in electrodeposits from the curvature of a plated strip / A. Brenner, S. Senderoff//J. Res. Nat'l. Bur. Stand. - 1949. - V.42. - P.105-123.

41. Добрынин, А. В. О применимости формулы Стони для расчета механических напряжений в толстых пленках и покрытиях / А.В. Добрынин // Письма в ЖТФ. - 1997. - Т.23.№18. - С.32-36.

42. Шкловский, И.С. Физика солнечной короны, Государственное изд-во физ.-

мат. Литературы, Москва, 1962. 43.Sobelman, I.I. X-Ray Spectroscopy of the Sun in the 0.84-30.4 nm Band in the TEREK-K and RES-K Experiments on the Koronas Satellite / I. I. Sobel'man, I. A. Zhitnik, A. P. Ignat'ev, V. V. Korneev, V. Yu. Klcpikov, V. V. Krutov, S. V. Kuzin, A. V. Mitrofanov, S. N. Oparin, A. A. Pertsov, N. N. Salashchenko, V. A. Slemzin, A. I. Stepanov, I. P. Tindo, E. A. Avetisyan, V. M. Lomkova, V. F. Sukhanov, and Yu. N. Fotin // Astronomy Letter. - 1996. - V.22.№4. - P.539-554. 44.1gnatiev, A. Manufacture and testing of X-ray optical elements for the TEREK-C and RES-C instruments (the CORONAS-I mission) / A. Ignatiev, N. Kolachevsky, V. Korneev, V. Krutov, S. Kuzin, A. Mitrofanov, A. Pertsov, E. Ragozin, V. Slemzin, I. Tindo, I. Zhitnik // Proc. SPIE. - 1998. - V.3406. - P.20-34.

45.Житник, И.А. Спектральный анализ солнечных изображений в области 180210 А с помощью спектрогелиографа РЕС-К на орбитальном спутнике КОРОНАС-И / И.А. Житник, С.В. Кузин, Логинов, Д.Б и др. // Письма в Астрономический Журнал. 1998. Т. 24. С. 819.

46.Delaboudiniere, J.-P. Imaging the solar corona in the EUV / J.-P. Delaboudiniere, R.A. Stern, A. Maucherat, F. Portier-Fozzani, W.M. Neupert, J.B. Gurman, R.C. Catura, J.R. Lemen, L. Shing, G.E. Artzner, J. Brunaud, A.M. Gabriel, D.J. Michels, J.D. Moses, B. Au, K.P. Dere, R.A. Howard, R. Kreplin, J.M. Defise, C. Jamar, P. Rochus, J.P. Chauvineau, J.P. Marioge, F. Clette, P. Cugnon, E.L. van Dessel // Adv. Space Res. (UK), Advances in Space Research. - 1997. -V.20.№. 12. - P.2231 -7.

47.Golub, L. A new View of the Solar Corona from the Transition Region and Coronal Explorer (TRACE) / L. Golub, J. Bookbinder, E. DeLuca, M. Karovska, II. Warren, C.J. Schrijver, R. Shine, T. Tarbell, A. Title, J. Wolfson, B. Handy, C. Kankelborg // Physics of Plasmas. - 1999. - V.6.№.5. - P.2205.

48. Ораевский, B.H. Комплексные исследования Солнца со спутника КОРОНАС-Ф: новые результаты / В.Н.Ораевский, И.И.Собельмап, И.А.Житник, В.Д.Кузнецов // УФН. - 2002. - Т.172.№8. - С.949-959.

49. Кузин, С.В. Эксперимент ТЕСИС по исследованию солнечной атмосферы в мягком рентгеновском диапазоне спектра (проект- КОРОНАС-ФОТОН) / С.В.

Кузин, И.А. Житник, О.И. Бугаенко, А.П. Игнатьев, А.В. Митрофанов, С.Н. Опарин, А.А. Перцов // Известия Российской академии наук. Серия физическая. - 2005. - Т.69.№.2. - С.191-195.

50.Bugaenko, O.I. The TESIS experiment on EUV imaging spectroscopy of the Sun / O.I. Bugaenko, S.V. Kuzin, S.A. Bogachev, I.A. Zhitnik, A.A. Perzov, A.P. Ignatiev, A.M. Mitrofanov, V.A. Slemzin, S.V. Shestov, N.K. Sukhodrev // Advances in Space Research. - 2009. - V.43.№.6. - P.1001-1006.

51. Житник, И.А. Исследования рентгеновского излучения Солнца в ФИАНе / И.А. Житник, И.П. Тиндо, A.M. Урнов // Труды ФИАН. - 1989. - Т. 195. - С. 3.

52. Житник, И.Л. Многослойная и кристаллическая рентгеновская оптика для солнечной рентгеновской астрономии / И. Л. Житник, С. В. Кузин, В. А. Слемзин // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 1999. - №1. - С. 19-27.

53.Delaboudinière, J. -P. EIT: Extreme-ultraviolet Imaging Telescope for the SOHO mission / J. -P. Delaboudinière, G. E. Artzner, J. Brunaud, A. II. Gabriel, J. F. I-Iochedez, F. Millier, X. Y. Song, В. Au, К. P. Dere, R. A. Howard, R. Kreplin, D. J. Michels, J. D. Moses, J. M. Defïse, C. Jamar, P. Rochus, J. P. Chauvineau, J. P. Marioge, R. C. Catura, J. R. Lemen, L. Shing, R. A. Stem, J. B. Gurman, W. M. Neupert, A. Maucherat, F. Clette, P. Cugnon, E. L. Van Dessel // Solar Physics. -1995. - V.162.№l-2. - P.291-312.

54. Windt, D.L. Multilayer Films for figured x-ray optics / D.L. Windt // Proc. SPIE. -1998.- V.3448. - P.280-290.

55. Windt, D.L. Performance, structure, and stability of SiC/Al multilayer films for extreme ultraviolet applications / D.L. Windt, J.A. Bellotti // Appl. Opt. - 2009. -V.48.№.26. - P.4932-4941.

56.Jonnard, P. Optical, chemical and depth characterization of Al/SiC periodic multilayers / P. Jonnard , K. Le Guen, M.-II. IIu, J.-M. André, E. Meltchakov, C. I-Iecquet, F. Delmotte, A. Galtayries // Proc. SPIE. - 2009. - V.7360. - P.736000-1-736000-9.

57. Meltchakov, E. Development of Al-based multilayer optics for EUV / E. Meltchakov, C. Hecquet, M. Roulliay, S. De Rossi, Y. Menesguen, A. Jérôme, F.

Bridou, F. Varniere, M.-F. Ravet-Krill, F. Delmottc // Appl. Phys. A. - 2010. -V.98. - P.l 11-117.

58.Galtayries, A. Nanometer-designed Al/SiC periodic multilayers: characterization by a multi-technique approach / A. Galtayries, M.-II. IIu, K. Le Guen, J.-M. André, P. Jonnard, E. Meltchakov, C. Hecquet, F. Delmotte // Surface and Interface Analysis. - 2010. - V.42.№.6-7. - P.653-657.

59.Nii, H. Fabrication of Mo/Al multilayer films for a wavelength of 18.5 nm / FI. Nii, M. Niibe, Ii. Kinoshita, Y. Sugie // J. Synchrotron Radiat. - 1998. - V.5. -P.702-4.

60. Nii, Hajime. Control of Roughness in Mo/Al Multilayer Film Fabricated by DC Magnetron Sputtering / Hajime NII, Makoto MIYAGAWA, Yoshiaki MATSUO, Yosohiro SUGIE, Masato NIIBE and Hiroo KINOSHITA // Jpn. J. Appl. Phys. -2002. - V.41. - P.5338-5341.

61.Барышева, M.M. Интерференционный эффект увеличения коэффициента отражения трехкомпонентных рентгеновских зеркал / М.М. Барышева, A.M. Сатанин // Письма в ЖТФ. - 2008. - Т.34.№.10. - С.73-78.

62. Meltchakov, Е. EUV reflectivity and stability of tri-component Al-based multilayers / E. Meltchakova, A. Ziani, F. Auchere, X. Zhang, M. Roulliay, S. De Rossi, Ch. Bourassin-Bouchet, A. Jérôme, F. Bridou, F. Varniere and F. Delmotte // Proc. SPIE. - 2011. - V.8168. - P.816819-1-816819-9.

63. Hu MN. Structural properties of Al/Mo/SiC multilayers with high reflectivity for extreme ultraviolet light / MPI Hu, K. Le Guen, J.M. André, P. Jonnard, E. Meltchakov, F. Delmotte, A. Galtayries // Opt. Express. - 2010. - V.18.№.19. -P.20019-20028.

64. Windt, D.L. EUV Multilayers for Solar Physics / D. L. Windt, S. Donguy, J. Seely, B. Kjornrattanawanich, E. M. Gullikson, С. C. Walton, L. Golub, and E. DeLuca // Proc. SPIE. - 2004. - V.5168. - P. 1-11.

65. Li, I-Iaochuan. Mg/B4C EUV multilayer by introducing Co as barrier layer / Haochuan Li, Sika Zhou, Qiushi Huang, Moyan Tan, Li Jiang, Jingtao Zhu, Xiaoqiang Wang, Fengli Wang, Zhong Zhang, Zhanshan Wang, Lingyan Chen // Proc. SPIE. - 2011. - V.7995. - P.79951E-1-79951E-4.

66. Zhu, Jingtao. Comparison of Mg-based multilayers for solar Ile II radiation at 30:4nm wavelength / Jingtao Zhu, Sika Zhou, Ilaochuan Li, Qiushi Huang, Zhanshan Wang, Karine Le Guen, Min-Hui Hu, Jean-Michel André, and Philippe Jonnard // Appl.Opt. - 2010. - V.49.№.20. - P.3922-3925.

67. Maury, II. Thermal cycles, interface chemistry and optical performance of Mg/SiC multilayers / II. Maury, P. Jonnard, K. Le Guen, J. -M. André, Z. Wang, J. Zhu, J. Dong, Z. Zhang, F. Bridou, F. Delmotte, C. I-Iecquet, N. Mahne, A. Giglia, S. Nannarone // The European Physical Journal B. - 2008. - V.64.№.2. - P. 193-199.

68. Zhu, Jingtao. SiC/Mg multilayer reflective mirror for Ile-II radiation at 30.4 nm and its thermal stability / Jingtao ZHU, Da XU, Shumin ZHANG, Wenjuan WU, Zhong ZHANG, Fengli WANG, Bei WANG, Cunxia LI, Yao XU, Zhanshan WANG, Lingyan CHEN, Hongjun ZHOU, Tonglin HUO // Front. Optoelectron. -2008. - V. 1.№.3-4. -P.305-308.

69.Zuppella, Paola. Innovative multilayer coatings for space solar physics: performances and stability over time / Paola Zuppella, Alain J. Corso, Piergiorgio Nicolosi, David L. Windt, Maria G. Pelizzo // Proc. SPIE. - 2011. - V.8076. -P.807608-1-807608-8.

70.Aquila, A. Tri-material multilayer coatings with high reflectivity and wide bandwidth for 25 to 50 nm extreme ultraviolet light / A. Aquila, F. Salmassi, Yanwei Liu, and E.M. Gullikson // Optics Express. - 2009. - V.17.№.24. -P.22102-22107.

71.1-Iawryluk, A.M. Wavelength considerations in soft-x-ray projection lithography / Andrew M. Hawryluk and Natale M. Ceglio // Appl.Opt. - 1993. - V.32.№.34. -P.7062-7067.

72.Borisov, V.M. EUV sources using Xe and Sn discharge plasmas / Vladimir M Borisov, Aleksander V Eltsov, Aleksander S Ivanov, Yuriy B Kiryukhin, Oleg B Khristoforov, Valentin A Mishchenko, Aleksander V Prokofiev, Aleksander Yu Vinokhodov and Vladimir A Vodchits // J. Phys. D: Appl. Phys. - 2004. - V.37. -P.3254-3265.

73.Banine, V.Y. Physical processes in EUV sources for microlithography / V Y Banine, K N Koshelev and G.II.P.M. Swinkels // J. Phys. D: Appl. Phys. - 2011. -V.44. - P.253001.

74.Barbee, T.W. Molybdenum-silicon multilayer mirrors for the extreme ultraviolet / Troy W. Barbee, Jr., Stanley Mrovvka, and Michael C. Hettrick // Appl.Opt. -1985. - V.24.№.6. - P.883-886.

75.Petford-Long, A.K. High-resolution electron microscopy study of xgray multilayer structures / Amanda K. PetfordLong, Mary Beth Stearns, C.H. Chang, S. R. Nutt, D. G. Stearns, N. M. Cegiio, and A. M. Hawryluk // J. Appl. Phys. - 1987. -V.61.№.4. -P.1422-1428.

76. Rosen, R.S. Silicide layer growth rates in Mo/Si multilayers / Robert S. Rosen, Daniel Stephen P. Vernon, and G. Stearns, Michael A. Viliardos, Michael E. Kassner, Yuanda Cheng // Appl.Opt. - 1993. - V.32.№.34. - P.6975-6980.

77. Slaughter, J.M. Interfaces in Mo/Si Multilayers / J. M. Slaughter, Patrick A. Kearney, Dean W. Schulze and Charles M. Falco, C. R. Hills, E. B. Saloman and R. N. Watts // Proc.SPIE. - 1990. - V.1343. - P.73-82.

78. Slaughter, J.M. Structure and performance of Si/Mo multilayer mirrors for the extreme ultraviolet / J. M. Slaughter, Dean W. Schulze, C. R. Hills, A. Mirone, R. Stalio, R. N. Watts, C. Tarrio, and T. B. Lucatorto, M. Krumrey and P. Mueller, Charles M. Falco // J. Appl. Phys. - 1994. - V.76.№.4. - P.2144-2156.

79. Stearns, D. G. Multilayer mirror technology for soft-x-ray projection lithography / D. G. Stearns, R. S. Rosen, and S. P. Vernon // Appl.Opt. - 1993. - V.32.№.34. -P.6952-6960.

80.Andreev, S.S. The microstructure and X-ray reflectivity of MoySi multilayers / S.S. Andreev, S.V. Gaponova, S.A. Gusev, M.N. Haidl, E.B. Kluenkov, K.A. Prokhorov, N.I. Polushkin, E.N. Sadova, N.N. Salashchenko, L.A. Suslov, S.Yu. Zuev // Thin Solid Films. - 2002. - V.415. - P. 123-132.

81. Kaiser, N. High-performance EUV multilayer optics / Norbert Kaiser, Sergiy Yulin, Marco Perske, Torsten Feigl // Proc.SPIE. - 2008. - V.7101. - P.71010Z-1-71010Z-13.

82.Braun, S. Mo/Si Multilayers with Different Barrier Layers for Applications as Extreme Ultraviolet Mirrors / Stefan BRAUN, Hermann MAI, Matthew MOSS, Roland SCI-IOLZl and Andreas LESON // Jpn. J. Appl. Phys. - 2002. - V.41. -P.4074-4081.

83.Thornton, J.A. Internal stresses in titanium, nickel, molybdenum, and tantalum films deposited by cylindrical magnetron sputtering / John A. Thornton and David W. Hoffman // J. Vac. Sci. Technol. - 1977. - V.14.№.1. - P. 164.

84. Thornton, J.A. Internal stresses in Cr, Mo, Та, and Pt films deposited by sputtering from a planar magnetron source / John A. Thornton and David W. Hoffman // J. Vac. Sci. Technol. - 1982. - V.20.№.3. - P.355.

85. Thornton, J.A. The influence of discharge current on the intrinsic stress in Mo films deposited using cylindrical and planar magnetron sputtering sources / John A. Thornton, D.W. Hoffman // J. Vac. Sci. Technol. - 1985. - V.3.№.3. - P.576.

86. Vink, T.J. Stress in sputtered Mo thin films: The effect of the discharge voltage / T. J. Vink and J. B. A. D. van Zon // J. Vac. Sci. Technol. - 1991. - V.9.№.1. -P.124.

87.Freitag, J.M. Stress evolution in Mo/Si multilayers for high-reflectivity extreme ultraviolet mirrors / J.M. Freitag, B.M. Clemens // Appl. Phys. Lett. - 1998. - V. 73.№. 1 - P.43-45.

88.Windt, D.L. Stress, microstructure, and stability of Mo/Si, W/Si, and Mo/C multilayer films / D.L. Windt // J. Vac. Sci. Technol. - 2000. - V.18.№.3. - P.980-991.

89. Windt, D.L. Variation in stress with background pressure in sputtered Mo/Si multilayer films / D.L. Windt, W.L. Brown, C.A. Volkert, W.K. Waskiewicz // J. Appl. Phys. - 1995. - V.78.№.4. - P.2423-2430.

90. Montcalm, C. Reduction of residual stress in extreme ultraviolet Mo/Si multilayer mirrors with postdeposition thermal treatments / C. Montcalm // Opt. Eng. - 2001. - V.40.№.3.-P.469-477.

91.Mirkarimi, P.B. Stress, reflectance, and temporal stability of sputter-deposited Mo/Si and Mo/Be multilayer films for extreme ultraviolet lithography / P.B. Mirkarimi // Opt. Eng. - 1999. - V.38.№.7. - P. 1246-1259.

92.Патент WO 10091907 Al. MULTILAYER MIRROR AND LITHOGRAPHIC APPARATUS. Denis GLUSHKOV, Vadim Yevgenyevich BANINE, Leonid Aizikovitch SJMAENOK, Nikolay Nikolaevitch SALASIICHENKO, Nikolay Ivanovich CI-IKHALO. 19.08.2010.

93. Зуев, С.Ю. Многослойные дисперсионные элементы на основе В4С для спектральной области 1=6,7-8 нм / Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2002. - №1. - С.32.

94.Platonov, Yu. // The 6-th Intern. Conf. On the Physics of x-ray multilayer structures, Chamonix, France. - 2002. - P. 18.

95. Салащенко, Н.Н. Коротковолновая проекционная литография / H.H. Салащенко, Н.И. Чхало // Вестник Российской Академии Наук. - 2008. -Т.78.№5. - С. 13-20.

96.Tsarfati, Т. Improved contrast and reflectivity of multilayer reflective optics for wavelengths beyond the Extreme UV / T. Tsarfati, E. Zoethout, E. Louis, R.W.E. van de Kruijs, A. Yakshin, S. Mullender, F. Bijkerk // Proc. of SPIE. - 2009. -V.7271. - P.72713V-1-72713V-8.

97. Tsarfati, T. Reflective multilayer optics for 6.7 nm wavelength radiation sources and next generation lithography / T. Tsarfati, E. Zoethout, E. Louis, F. Bijkerk // Thin Solid Films. - 2009. - V.518. - P.1365-1368.

98. Montcalm, C. Survey of Ti-, B-, and Y-based soft x-ray-extreme ultraviolet multilayer mirrors for the 2- to 12-nm wavelength region / Claude Montcalm, Patrick A. Kearney, J. M. Slaughter, Brian T. Sullivan, M. Chaker, Henri Pe' pin, and Charles M. Falco//Appl.Opt. - 1996. - V.35.№.25. - P.5134-5147.

99.Sae-Lao, B. Performance of normal-incidence molybdenum-yttrium multilayer-coated diffraction grating at a wavelength of 9 nm / Benjawan Sae-Lao, Sas" a Bajt, Claude Montcalm, and John F. Seely // Appl.Opt. - 2002. - V.41.№.13. -P.2394-2400.

100. Платонов, Ю.Я. Рентгенооптические исследования характеристик многослойных структур / Платонов Ю.Я., Полушкин Н.И., Салащенко Н.Н., Фраерман А.А.// ЖТФ -1987 T.-57-c. 2192.

101. Бибишкин, М.С. Рефлектометрия в мягком рентгеновском и экстремальном ультрафиолетовом диапазонах / М.С. Бибишкин, И.Г. Забродин, С.Ю. Зуев, Е.Б. Клюенков, Н.Н. Салащенко, Д.П. Чехонадских, Н.И. Чхало, J1.A. Шмаепок // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2003. — №1. - С.70-77.

102. Андреев, С.С. Изготовление асферической рентгеновской оптики с многослойным покрытием для исследований Солнца по проекту "КОРОНАС-Ф" / С.С. Андреев, С.Ю. Зуев, В.И. Позднякова, Н.Н. Салащенко, В.А. Слемзин, И.Л. Струля, И.А. Шерешевский, И.А. Житник // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. -2003. -№1. - С.6-11.

103. Soufli, R. Spontaneously intermixed Al-Mg barriers enable corrosion-resistant Mg/SiC multilayer coatings / Regina Soufli, Mo'nica Ferna'ndez-Perea, Sherry L. Baker, Jeff C. Robinson, Jennifer Alameda, and Christopher C. Walton //Appl. Phys. Lett. - 2012. - V. 101. - P.043111-1-043111-5.

104. Fernández-Perea, M. Triple-wavelength, narrowband Mg/SiC multilayers with corrosion barriers and high peak reflectance in the 25-80 nra wavelength region / Mónica Fernández-Perea, Regina Soufli, Jeff C. Robinson, Luis Rodríguez-De Marcos, Jose A. Méndez, Juan I. Larruquert, and Eric M. Gullikson // Optics Express. - 2012. - V.20.№.21. - P.24018-24029.

105. Андреев С.С. Оптимизация технологии изготовления многослойных Mo/Si зеркал /С.С. Андреев, С.В. Гапонов, С.А. Гусев, С.Ю. Зуев, Е.Б. Клюенков, К.А.Прохоров, Н.И. Полушкин, Е.Н. Садова, Н.Н. Салащенко, Л.А. Суслов, M.N. Haidl // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2001. - №16. - С.66-73.

106. Бибишкин, М.С. Двухзеркальпый рефлектометр для относительных измерений коэффициентов отражения многослойных зеркал на длине волны 13.5 нм / М.С. Бибишкин, И.Г. Забродин, И.А. Каськов, Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, Н.Н. Салащенко, Д.П. Чехонадских, Н.И. Чхало, Л.А. Шмаенок // Известия академии наук. Серия физическая. - 2004. - Т.68.№ 4. - С.560-564.

107. Патент 2085840 РФ. Оптический профилометр. Кожевагов И.Е.; Куликова Е.Х.; Черагин Н.П.

108. Andreev, S.S. Stress reduction of Mo/Si multilayer structures / S. S. Andreev, N. N. Salashchenko, L. A. Suslov, A. N. Yablonsky, S. Y. Zuev // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A. - 2001. -V.470.№.l-2. - P.162-167.

109. Mirkarimi, P.B. Stress, reflectance, and temporal stability of sputter-deposited Mo/Si and Mo/Be multilayer films for extreme ultraviolet litography / Paul B. Mirkarimi // Opt.Eng. - 1999. - V.38.№.7. - P.1246-1259.

110. Wang, Z. Extreme ultraviolet broadband Mo/Y multilayer analyzers / Zhanshan Wang, Hongchang Wang, Jingtao Zhu, Yao Xu, Shumin Zhang, Cunxia Li, Fengli Wang, Zhong Zhang, Yongrong Wu, Xinbin Cheng, Lingyan Chen, Alan G. Michette, Slawka J. Pfauntsch, A. Keith Powell, Franz Schäfers, Andreas Gaupp, Mike MacDonald // Appl.Phys.Lett. - 2006. - V.89. - P.241120.

111. Gupta, P. Interface smoothing of soft x-ray Mo/Y multilayer mirror by thermal treatment / P Gupta, T P Tenka, S Rai, M Nayak and G S Lodha // J. Phys. D: Appl. Phys. - 2007. - V.40. - P.6684-6689.

112. Sae-Lao, B. Performance of normal-incidence molybdenum-yttrium multilayer-coated diffraction grating at a wavelength of 9 nm / Benjawan Sae-Lao, Sas" a Bajt, Claude Montcalm, and John F. Seely // Appl.Opt. - 2002. -V.41.№.13. - P.2394-2400.

113. Montcalm, C. Survey of Ti-, B-, and Y-based soft x-ray-extreme ultraviolet multilayer mirrors for the 2- to 12-nm wavelength region / Claude Montcalm, Patrick A. Kearney, J. M. Slaughter, Brian T. Sullivan, M. Chaker, Henri Pe' pin, and Charles M. Falco // Appl.Opt. - 1996. - V.35.№.25. - P.5134-5147.

114. Schäfers, F. Soft-X-Ray Polarimeter with Multilayer Optics: Complete Analysis of the Polarization State of Light / Schäfers F., Mertins H.-Ch., Gaupp A., Gudat W., Mertin M., Packe I., Schmolla F., DiFonzo S., Soullie G., Jark W., Walker R.P., Le Cann X., Nyholm R., Eriksson M. // Appl. Opt. - 1999. -V.38.№.19. - P.4074-4088.

Список публикаций автора

Публикации в журналах

Al. Андреев, С.С. Компенсация упругих деформаций многослойных Mo/Si-структур, нанесенных на подложки из кварца и зеродура, посредством буферных Cr/Sc-слоев / С.С. Андреев, Е.Б. Клюенков, AJI. Мизинов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, JI.A. Суслов, В.В. Чернов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронпые и нейтронные исследования. - 2005. - №.2. - С.45-48. А2. Андреев, С.С. Многослойные дисперсионные отражательные элементы на основе Mg, предназначенные для работы на длине волны 30,4 им / С.С. Андреев, С.Ю. Зуев, A.JI. Мизинов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко // Поверхность. Рентгеновские, синхротронпые и нейтронные исследования. - 2005. - №.8. - С.9-12. A3. Климов, АЛО. Экспериментальные исследования возможностей интерферометра с дифракционной волной сравнения для контроля формы оптических элементов / А.Ю. Климов, Е.Б. Клюенков, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, Е.Д. Чхало, НИ. Чхало, Н.Б. Вознесенский // Поверхность. Рентгеновские, синхротронпые и нейтронные исследования. - 2007. - №.6. - С.99-103.

A4. Клюенков, Е.Б. Измерение и коррекция формы оптических элементов с субнанометровой точностью / Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, Д.Г. Раскин, М.Н. Торопов, H.H. Салащенко, Н.И. Чхало // Российские нанотехнологии. - 2008. - Т.З.№9-10. - С.116-124.

А5. Клюенков, Е.Б. Коррекция формы оптических поверхностей с субнанометровой точностью. Проблемы, статус, перспективы / Е.Б. Клюенков, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, Н.И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. -2008. - Т.72.№.2. - С. 205-208.

А6. Chkhalo, N.I. Manufacturing of XEUV mirrors with subnanometer surface shape accuracy / N.I. Chkalo, E.B. Kluenkov, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, D.G. Raskin, N.N. Salashchenko, L.A. Suslov, M.N. Toropov // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A. - 2009. - V.603.№.1 - 2. - P. 62-65.

А7. Andreev, S.S. Multilayered mirrors based on La/B4C(B9C) for x-ray range near anomalous dispersion of boron ( 1 near 6.7 nm) / S.S. Andreev, M.M. Barysheva, N.I. Chkhalo, S.A. Gusev, A.E. Pestov, V.N. Polkovnikov, N.N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, Yu.A. Vainer, S.Yu. Zuev // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A. - 2009. - V.603.№.l-2. - P. 80-82.

A8. Зуев, C.IO. Элементы отражающей оптики для решения задач рентгеновской астрофизики в рамках эксперимента ТЕСИС / С.Ю. Зуев, C.B. Кузин, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко // Известия РАН. Серия физическая. - 2010. -Т.74.№.1. - С. 58-61.

А9. Андреев, С.С. Многослойные зеркала на основе La/B4C и La/B9C для спектральной области аномальной дисперсии бора (длин волны 6.7 им) / С.С. Андреев, М.М. Барышева, Н.И. Чхало, С.А. Гусев, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, Д.Н. Рогачев, H.H. Салащенко, Ю.А. Вайнер, С.Ю.Зуев // Журнал технической физики. - 2010. - Т.80.№.8. - С.93-100.

А10. Дроздов, М.Н. Использование кластерных вторичных ионов для минимизации матричных эффектов при послойном анализе многослойных наноструктур La/B4C методом ВИМС / М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, М.М. Барышева, В.Н.Полковников, Н.И.Чхало // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2010. - №.10. - С. 14-18.

All. Пестов, А.Е. Система освещения маски ЭУФ нанолнтографа / А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, A.C. Скрыль, И.Л. Струля, М.Н. Торопов, Н.И. Чхало // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. -2010.-№.10.-С.10-13.

А12. Дроздов, М.Н. Послойный анализ многослойных металлических структур Pd/B4C, Ni/C, Cr/Sc методом ВИМС с использованием кластерных вторичных ионов: проблема повышения разрешения по глубине / М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, М.М. Барышева, В.Н. Полковников, Н.И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т.75.№.1. - С. 106-111.

А13. Зуев, С.Ю. Технологический комплекс для изготовления прецизионной изображающей оптики / С.Ю. Зуев, Е.Б. Юпоенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, М.Н. Торопов, H.H. Салащенко, Л.А. Суслов, Н.И. Чхало. // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т.75.№.1. - С.57-60.

А14. Волгунов, Д.Г. Стенд проекционного ЭУФ-нанолитографа-мультипликатора с расчётным разрешением 30 нм / Д.Г. Волгунов, И.Г. Забродин, Б.А. Закалов, С.Ю. Зуев, И.А. Каськов, Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, JI.A. Суслов, М.Н. Торопов, H.H. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т.75.№.1. - С.54-56.

А15. Кузин, C.B. Выбор материалов оптики для диагностики атмосферы Солнца в диапазоне длин волн 6-60 нм / С. В. Кузин, В. Н. Полковников, H. Н. Салащенко. // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т.75.№.1. - С.88-91. А16. Слемзин, В.А. Эксперимент ТЕСИС космического аппарата «Коронас-Фотон» / Слемзин В.А., Суходрев Н.К., Иванов Ю.С., Гончаров A.JL, Митрофанов A.B., Попова С.Г., Шергина Т.А., Соловьев В.А., Опарин С.Н., Лучин В.И., Полковников В.Н., Салащенко H.H., Цыбин H.H., Кузин C.B., Житник И.А., Шестов C.B., Богачев С.А., Бугаепко О.И., Игнатьев А.П., Перцов A.A. // Механика, управление и информатика. - 2012. - № 7. - С. 41-60.

А17. Дроздов, М.Н. Новая альтернатива вторичным ионам CsM+ для послойного анализа многослойных металлических структур методом вторично-ионной масс-спекгрометрии / М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, В.Н. Полковников, С.Д. Стариков, П.А. Юнин // Письма в ЖТФ. - 2012. - Т.38№.24 - С.75.

А18. Аруев, П.Н. Кремниевый фотодиод для экстремального ультрафиолетового диапазона спектра с селективным Zr/Si-покрытием / П.Н. Аруев, М.М. Барышева, Б.Я. Бер, Н.В. Забродская, В.В. Забродский, А.Я. Лопатин, А.Е. Пестов, М.В. Петренко, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, В.Л. Суханов, И.И. Чхало // Квантовая Электроника. - 2012. - т.42. - №10. - с.943-948.

Al9. Гусев, С.А. Отражательная маска для проекционной литографии на длине волны 13.5 нм / С.А. Гусев, С.Ю. Зуев, А.Ю. Климов, А.Е. Пестов, B.II. Полковников, В.В. Рогов, H.PI. Салащенко, Е.В. Скороходов, М.Н. Торопов, НИ. Чхало // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. - 2012. - №6. - С.20.

А20. Chkhalo, N.I. High performance La/B4C multilayer mirrors with barrier layers for the next generation lithography / N. I. Chkhalo, S. Kunstner, V. N. Polkovnikov, N. N. Salashchenko, F. Schafers, S. D. Starikov. // Appl. Phys. Lett. - 2013. - V.102. -P.011602-1.

А21. Барышева, М.М. Многослойные зеркала La/B4C для спектральной области вблизи 6,7 нм. / М.М. Барышева, Ю.А. Вайнер, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, С.Д. Стариков // Известия РАН. Серия физическая. - 2013. - Т.75. №1 -С. 88-91.

А22. Забродин, И.Г. Установка магнетронпого и ионно-пучкового напыления многослойных структур / И.Г. Забродин, Б.А. Закалов, И.А. Каськов, Е.Б. Клюенков, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, С.Д. Стариков, JT.A. Суслов // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. — 2013. — №7. - С.1.

А23. Вег, В. Sputter depth profiling of Mo/B4C/Si and Mo/Si multilayer nanostructures: A round-robin characterization by different techniques / B. Ber, P. Bábor, P.N. Brunkov, P. Chapon, M.N. Drozdov, R. Duda, D. Kazantsev, V.N. Polkovnikov, P. Yunin, A. Tolstogouzov. // Thin Solid Films. - 2013. - V.540. - P. 96-105.

Материалы конференций н тезисы докладов с участием автора

Т1. Андреев, С.С. Компенсация упругих деформаций многослойных Mo/Si-структур, нанесенных на подложки из кварца и зеродура, посредством буферных Cr/Sc-слоев / С.С. Андреев, Е.Б. Клюенков, AJI. Мизинов, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, JI.A. Суслов, В.В. Чернов // Материалы совещания «Рентгеновская оптика-2003». ИФМ РАН. Нижний Новгород. - 2003. - С. 182. Т2. Андреев, С.С. Компенсация упругих деформаций многослойных Mo/Si-структур, нанесенных на подложки из кварца и зеродура, посредством буферных Cr/Sc-слоев / С.С. Андреев, Е.Б. Клюенков, A.JI. Мизинов, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко, JI.A. Суслов, В.В. Чернов // Тезисы докладов IV Национальной конференции по применению рентгеновского, синхротронного излучений, нейтронов и электронов для исследования материалов (РСНЭ-2003). ИК РАН. Москва.-2003.-С.466.

ТЗ. Андреев, С.С. Многослойные дисперсионные отражательные элементы на основе Mg, предназначенные для работы на 1=30,4 нм / С.С. Андреев, С.Ю. Зуев, A.JT. Мизинов, В.Н. Полковников, Н.Н. Салащенко // Материалы совещания «Рентгеновская оптика-2004». ИФМ РАН. Нижний Новгород. - 2004. - С.208.

Т4. Бибишкин, М.С. Многослойные поляризаторы для мягкого рентгеновского диапазона длин волн / М.С. Бибишкин, Ю.А. Вайнер, А.Я. Лопатин, В.И. Лучин, А.Е. Пестов, В.II. Полковников, H.H. Салащенко, В.В. Чернов, Н.И. Чхало // Материалы IX симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2005 г. - С.493.

Т5. Чхало, Н.И. Интерферометрия оптических поверхностей с субпанометровой точностью / Н.И. Чхало, A.IO. Климов, Е.Б. Клюенков, А.Л. Мизинов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, М.Н. Торопов, Н.Б. Вознесенский // Материалы X симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2006 г. -С.113.

Т6. Ахсахалян, A.A. Многослойное рентгеновское зеркало в форме эллипсоида вращения / A.A. Ахсахалян, А.Д. Ахсахалян, Е.Б. Клюенков, А.Я. Лопатин, В.А. Муравьев, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, А.И. Харитонов, В.В. Чернов // Материалы X симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2006 г. - С.362.

Т7. Зуев, С.Ю. Влияние антидиффузионных слоев В4С и О на отражательные характеристики многослойных рентгеновских зеркал на основе Mo/Si / С.Ю. Зуев, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко // Материалы X симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2006. - с.391. Т8. Клюенков, Е.Б. Коррекция формы оптических поверхностей с субпанометровой точностью. Проблемы, статус, перспективы / Е.Б. Клюенков, B.II. Полковников, H.H. Салащенко, Н.И. Чхало // Материалы XI симпозиума «Нанофизика и наноэлекгроника», г. Нижний Новгород. - 2007. - С. 107.

Т9. Барышева, М.М. Оптимизация отражательных характеристик трехкомпонентных зеркал / М.М. Барышева, В.Н. Полковников, A.M. Сатанин // Материалы XI симпозиума «Нанофизика и наноэлекгроника», г. Нижний Новгород.-2007.-С.331.

Т10. Зуев, С.Ю. Методы коррекции формы элементов зеркальной оптики с субпанометровой точностью / С.Ю. Зуев, Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, Д.Г. Раскин, H.H. Салащенко, Л.А. Суслов, М.Н. Торопов, Н.И. Чхало // Материалы XII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2008. - С.224.

Til. Зуев, С.Ю. Элементы отражающей оптики на основе Mg и Al для задач рентгеновской астрофизики / С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко // Материалы XII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2008. - С.227.

Т12. Барышева, М.М. Изучение строения и отражательных характеристик в окрестности K-края поглощения бора La/B4C(B9C) многослойных структур / М.М. Барышева, С.С. Андреев, Ю.А. Вайнер, С.Ю. Гусев, С.Ю. Зуев, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, Н.И. Чхало // Материалы совещания «Рентгеновская оптика - 2008», г. Черноголовка. - 2008. - С. 104. Т13. Зуев, С.Ю. Многослойная оптика для рентгеновской астрофизики в рамках эксперимента ТЕСИС / С.Ю. Зуев, C.B. Кузин, А.Я. Лопатин, В.И. Лучин, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, Л.А. Суслов, H.H. Цыбин, C.B. Шестов // Материалы совещания «Рентгеновская оптика - 2008», г. Черноголовка. - 2008. -С.50.

Т14. Зуев, С.Ю. Свойства многослойной оптики для рентгеновской астрофизики / С.Ю. Зуев, C.B. Кузин, А.Я. Лопатин, В.И. Лучин, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, Л.А. Суслов, H.H. Цыбин, C.B. Шестов. // Материалы XIII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2009. - С.62. Т15. Андреев, СС. Изготовление и исследование многослойных структур на основе соединений лантан-карбид бора / С.С. Андреев, М.М. Барышева, Ю.А. Вайнер, С.А. Гусев, М.Н. Дроздов, С.Ю. Зуев, А.Е. Пестов, B.II. Полковников, Д.И. Рогачев, H.H. Салащенко, Н.И. Чхало. // Материалы XIII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2009. - С. 181.

Т16. Дроздов, М.Н. Минимизация матричных эффектов при послойном анализе многослойных металлических наноструктур La/B^C методом ВИМС путём использования кластерных вторичных ионов / М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, М.М. Барышева, В.Н. Полковников, Н.И. Чхало // Материалы XIII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2009. - С. 190. Т17. Полковников, В.Н. Многослойная оптика для рентгеновской астрофизики / В.Н. Полковников // Материалы всероссийской конференции «Проведение научных исследований в области индустрии наносистем и материалов», г. Белгород. - 2009. - С.67.

Т18. Волгунов, Д.Г. Стенд проекционного ЭУФ-нанолитографа-мультипликатора с расчётным разрешением 30 им / Д.Г. Волгунов, И.Г. Забродин, Б.А. Закалов, С.Ю. Зуев, И.А. Каськов, Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, JI.A. Суслов, М.Н. Торопов, Н.И. Чхало // Материалы XIV симпозиума «Наиофизика и папоэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2010. - С. 193. Т19. Зуев, С.Ю. Технологический комплекс для изготовления прецизионной изображающей оптики / С.Ю. Зуев, Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, М.Н. Торопов, H.H. Салащенко, JI.A. Суслов, Н.И. Чхало // Материалы XIV симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2010. -С.197.

Т20. Кузин, C.B. Выбор материалов оптики для диагностики короны Солнца в диапазоне длин волн 6-121 нм / C.B. Кузин, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко // Материалы XIV симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород.-2010,-С.231.

Т21 Дроздов, М.Н. Послойный анализ многослойных металлических структур Pd/B4C, Ni/C, Cr/Sc методом ВИМС с использованием кластерных вторичных ионов: проблема повышения разрешения по глубине / М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, М.М. Барышева, A.A. Беспалов, В.Н. Полковников, Н.И. Чхало // Материалы XIV симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород.-2010.-С.549.

Т22. Пестов, А.Е. Система освещения маски ЭУФ нанолитографа / А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, A.C. Скрыль, И.Л. Струля, М.Н. Торопов, Н.И. Чхало // Материалы XIV симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород.-2010.-С.594.

Т23. Барышева, М.М. Рефлектометр для изучения оптики в ЭУФ-диапазоне / М.М. Барышева, И.Г. Забродин, Б.А. Закалов, С.Ю. Зуев, Е.Б. Клюенков, А.Е. Пестов,

B.Н. Полковников, Д.Н. Рогачёв, H.H. Салащенко, Н.И. Чхало // Материалы XIV симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2010. -

C.602.

Т24. Дроздов, М.Н. Узкополосные многослойные зеркала для диапазона длин воли 25-40 нм / М.Н. Дроздов, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д.

•¿у /

Стариков // Материалы совещания «Рентгеновская оптика - 2010», г. Черноголовка. - 2010. - С.112.

Т25. Алексеев, А.Г. Солнечно-слепые кремниевые детекторы для EUV диапазона /

A.Г. Алексеев, П.Н. Аруев, Б.Я. Бер, Н.В. Забродская, В.В. Забродский, Д.Ю. Казанцев, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, Д.Н. Рогачёв, H.H. Цыбин, H.H. Чхало // Материалы совещания «Рентгеновская оптика - 2010», г. Черноголовка. - 2010. -С.107.

Т26. Вайнер, 10.А. А1-содержашие многослойные зеркала для диапазона длин волн 25-40 им / Ю.А. Вайнер, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков // Материалы XV симпозиума «Напофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2011. - С.612.

Т27. Гусев, С.А. Отражательная маска для проекционной литографии на длине волны 13,5 нм / С.А. Гусев, С.Ю. Зуев, АЛО. Климов, А.Е. Пестов, В.Н. Полковников, В.В. Рогов, H.H. Салащенко, Е.В. Скороходов, М.Н. Торопов, Н.И. Чхало // Материалы XV симпозиума «Напофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород.-2011.-С.630.

Т28. Дроздов, M.II. Послойный элементный анализ многослойных структур Cr/Sc, Cr/Si и Mg2Si/Si методом ВИМС / М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, М.М. Барышева,

B.Н. Полковников, Н.И. Чхало // Материалы XV симпозиума «Напофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2011. - С.87.

Т29. Кузин, C.B. Применение элементов рентгеновской оптики в космических экспериментах / C.B. Кузин, Ю.С. Иванов, C.B. Шестов, А.Я. Лопатин, В.И. Лучин, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, H.H. Цыбин // Материалы XV симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2011. - С. 180. ТЗО. Забродин, И.Г. Установка магнетронного и ионно-пучкового напыления многослойных структур / И.Г. Забродин, Б.А. Закалов, И.А. Каськов, Е.Б. Клюепков, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков, Л.А. Суслов // Материалы XVI симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород.-2012.-С.579.

Т31. Барышева, М.М. Многослойные зеркала La/B4C для спектральной области вблизи 6,7 нм / М.М. Барышева, Ю.А. Вайнер, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, H.H.

Салащенко, С.Д. Стариков // Материалы XVI симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2012. - С.589.

Т32. Вайнер, Ю.А. Применение ионно-пучковых методов распыления для синтеза многослойных зеркал La/B4C / Ю.А. Вайнер, Е.Б. Клюенков, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков // Материалы совещания «Рентгеновская оптика -2012», г. Черноголовка. - 2012. - С.92.

ТЗЗ. Вайнер, Ю.А. Многослойные структуры Cr/Y для компенсации внутренних напряжений и реставрации подложек элементов рентгеновской оптики / Ю.А. Вайнер, Б.А. Грибков, М.В. Зорина, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков, H.H. Цыбин // Материалы совещания «Рентгеновская оптика - 2012», г. Черноголовка. -2012.-С.118.

Т34. Кюнстнер, С. Высокоотражающие многослойные зеркала La/B4C с барьерными слоями углерода / С. Кюнстнер, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков, Н.И. Чхало, Ф. Шафере // Материалы XVII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2013. - С.300. Т35. Вайнер, Ю.А. Применение метода иоппо-пучковой полировки в процессе синтеза многослойных зеркал Ьа/В4С / Ю.А. Вайнер, Е.Б. Клюенков, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков. // Материалы XVII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2013. - С.298. Т36. Полковников, В.Н. Компенсация внутренних напряжений многослойных отражающих покрытий, предназначенных для создания зеркал обсерватории «Арка» / В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков // Материалы XVII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2013. -С.320.

Т37. Вайнер, Ю.А. Многослойные зеркала для диагностики корональной плазмы в проекте «Арка» / Ю.А. Вайнер, С.Ю. Зуев, В.Н. Полковников, H.H. Салащенко, С.Д. Стариков // Материалы XVII симпозиума «Нанофизика и наноэлектроника», г. Нижний Новгород. - 2013. - С.318.