Методы и средства интерферометрии высокого разрешения для обеспечения единства измерений геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.11.15, кандидат технических наук Золотаревский, Сергей Юрьевич

• Золотаревский, Сергей Юрьевич
• кандидат технических наук
• 2010

Оглавление диссертации кандидат технических наук Золотаревский, Сергей Юрьевич

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1 АНАЛИТИЧЕСКИЙ ОБЗОР МЕТОДИК И СРЕДСТВ ИЗМЕРЕНИЙ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ:.

1.1 Анализ состояния ЗО-метрии шероховатости и рельефа поверхностей в нанометровом диапазоне.

1;1.1 Анализ зависимостей, характеризующих рельеф и шероховатость поверхности

1.Г.2 Состояние приборно-инструментального обеспечения-ЗО*— метрии> шероховатости в нанометровом диапазоне.

1.2 Состояние нормативно-методической базы ЗБ - метрии геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхности.

1.3 Отечественная система обеспечения единства измерений параметров шероховатости поверхностии Я.

1.4 Зарубежная стандартизация в области измерений параметров шероховатости поверхности.

1.5 Постановка задач диссертации.

Выводы к главе 1.

ГЛАВА 2 ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ ИССЛЕДОВАНИЯ И ОБОСНОВАНИЕ ВЫБОРА МЕТОДИК ИЗМЕРЕНИЙ И АЛГОРИТМОВ ОБРАБОТКИ ИЗМЕРИТЕЛЬНОЙ ИНФОРМАЦИИ О ПАРАМЕТРАХ РЕЛЬЕФА И ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТИ В НАНОМЕТРОВОМ ДИАПАЗОНЕ.

2.1 Моделирование процессов рассеяния оптического излучения наноразмерными структурами.

2.1.1. Модели и методы решения задачи рассеяния световой волны на нанообъектах при формировании интерферограмм.

2.1.2. Решение задачи рассеяния ¡методом конечных элементов.39'

2.2 Численное моделирование процедуры восстановления рельефа поверхности с учетом рассеяния оптического излучения на наноструктурах

2.3 Фазовая микроскопия и особенности алгоритмов обработки интерферометрической информации о шероховатости поверхностей фазовых объектов в нанометровом диапазоне.

2.3.1 Фазовая микроскопия поверхностей фазовых объектов в нанометровом диапазоне.

2.3.2 Классификация методов и алгоритмов вычисления фазы.

2.3.3 Вычисление фазы методом наименьших квадратов.

2.3.4 Методы анализа чувствительности алгоритмов МФШ к влиянию некоторых источников неопределенности типа В.

2.3.5 Анализ источников неопределенности типа А вычисления фазы, обусловленной флуктуациями интенсивности.

2.4 Результаты проверки эффективности методов калибровки на модельных и реальных интерферограммах.

2.4.1 Экспериментальная проверка корректности результатов теоретического исследования точностных характеристик алгоритмов МФШ.

ГЛАВА 3 РАЗРАБОТКА ИЗМЕРИТЕЛЬНО-КАЛИБРОВОЧНОГО КОМПЛЕКСА ДЛЯ ОБЕСПЕЧЕНИЯ ЕДИНСТВА ИЗМЕРЕНИЙ ШЕРОХОВАТОСТИ ПОВЕРХНОСТЕЙ В НАНОМЕТРОВОМ ДИАПАЗОНЕ.

3.1 постановка задачи и выбор структуры комплекса.

3.2 Модернизация лазерного интерференционного микроскопа.

3.3 Интерференционный 3D - профилометр New View 6200.

3.4 Мультимодальный сканирующий зондовый микроскоп фирмы VEECO.

3.5 Лазерный автоматизированный интерферометр.

3.6 Набор рельефных мер высоты ступеньки.

3.6.1 Мера рельефная высоты ступеньки SHS-180 QC.

3.6.2. Мера рельефная высоты ступеньки SHS-1800 QC.

3.6.3 Мера рельефная высоты ступеньки SHS-1.8 QC.

Выводы к главе 3.

ГЛАВА 4 ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ НА БАЗЕ

РАЗРАБОТАННОГО ИЗМЕРИТЕЛЬНО-КАЛИБРОВОЧНОГО КОМПЛЕКСА И НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКАЯ РЕАЛИЗАЦИЯ РЕЗУЛЬТАТОВ ИССЛЕДОВАНИЙ .114 4.1 Проведение экспериментальных исследований на модернизированном лазерном интерференционном микроскопе АИМ и интерференционном микроскопе ZYGO NEW VIEW 6200,, работающем в белом свете».

4.2 Исследование параметров рельефных мер шероховатости на установках измерительно-калибровочного комплекса.

4.2.1 Исследование параметров специальной меры МШПС-2.0К на интерференционном микроскопе типа ZYGO NEW VIEW 6200.

4.2.2 Сравнительные измерения параметров рельефных мер высот ступенек SHS-1800 QC, SHS-180 QC и SHS-1.8 QC на установках измерительно-калибровочного комплекса.

4.3 Сличения калибровочных возможностей ФГУП ВНИИМС (Россия) с

РТВ (Германия).

4.4 Разработка и внедрение стандартов в области интерферометрии высокого разрешения, гармонизированных с требованиями ISO/TR14999 -1,2, 3.

4.4.1 Измерения и методики оценки их результатов (ISO/TR 14999-2)

4.4.2 Калибровка и аттестация интерферометров и методики измерений оптических волновых фронтов (ISO/TR 14999-3).

Выводы к главе 4.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Методы и средства интерферометрии высокого разрешения для обеспечения единства измерений геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне»

В настоящее время в практике ведущих стран мира с развитой инновационной экономикой нанотехнологии и нанотехнологическая продукция начинают занимать все более значимое место в рамках таких высокотехнологичных отраслей, как авиационно-космическая промышленность и двигателестроение; судостроительная и автомобильная промышленности; атомный энергопромышленный комплекс и энергосберегающие технологии; радиоэлектронная промышленность и информационно-телекоммуникационные технологии; производство медицинской диагностической аппаратуры, биочипов и имплантатов; фармацевтическая промышленность и защита окружающей среды.

Указанные сектора являются участниками жесткой глобальной конкуренции. Их модернизация требует соответствующего научно-технологического развития, применения нанотехнологий как основы повышения их конкурентоспособности. В России па развитие указанных секторов также направлен ряд стратегий, долгосрочных федеральных государственных программ и комплексов мер, в соответствии с которыми развитие ианоиндустрии в стране осуществляется по таким направлениям, как наноэлектроника, паноинженерия, нанобиотехнологии, высокочистые вещества, конструкционные и композитные функциональные наноматериалы для энергетики, космической техники, а также для систем безопасности.

При реализации практически всех перечисленных направлений возникают измерительные задачи, связанные с оценкой параметров и качественных характеристик рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне, а также отклонений формы и взаимного расположения поверхностей деталей, измеряемых с паноразмерной точностью. Например, требования, предъявляемые к форме и шероховатости групповых кремниевых подложек для выращивания микрочипов, ограничивают диапазон размеров в пределах единиц нанометров и менее. Точность измерений пространственных и угловых координат летательных аппаратов с помощью лазерных гироскопов зависит от добротности резонаторов кольцевых лазеров, входящих в их состав. Для лазерных зеркал необходимы измерения параметров шероховатости и формы с неопределенностью порядка 5 ангстрем. Измерение шероховатости и формы оптических деталей лазерных систем как военного, так и гражданского назначения с субнанометровым разрешением требуется для создания зеркал с высоким коэффициентом отражения. Добротность и мощность лазеров определяется в первую очередь коэффициентом отражения зеркал резонаторов, существенно зависящим от их формы и параметров шероховатости.

Контроль качества нанорельефа поверхности и измерение шероховатости поверхностей требуются на различных стадиях производства изделий микроэлектроники. Плоскостность и разнотолщинность кремниевых пластин, качество полировки их поверхности, наличие и глубина царапин, сколов и т.п. - все это необходимо контролировать на начальной стадии производства, а толщину напыленного слоя и форму отдельного микроэлемента измерять на всех последующих стадиях. Линейки и матрицы фотоприемников ближнего и дальнего ИК излучения, например, германиевые или КРТ, входят в состав большого числа оптических приборов военного и гражданского назначения. При их производстве большое значение имеют плоскостность и одинаковая толщина заготовок в виде пластин. Причем контроль и измерение этих параметров с погрешностью в несколько ангстрем необходимы на всех стадиях технологической обработки.

Из приведенных примеров очевидна актуальность проблемы метрологического обеспечения измерений геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхностей в нанометровом диапазоне размеров для различных отраслей промышленности. Решение задачи развития серийного производства в области нанотехнологий требует принципиально новых решений в совершенствовании методик и средств измерений этих параметров, без чего не могут быть достигнуты максимальная стабилизация технологии, воспроизводимость предельно минимальных размеров, минимизация привносимых дефектов. Сложность создания стройной системы обеспечения единства измерений параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне (в диапазоне менее 30 нм) обусловлена с одной стороны -отсутствием достаточного количества исследований и публикаций в данной области, с другой стороны - недостаточной изученностью специфики измерительных задач, связанных с учетом квантоворазмерных эффектов и отличий атомарно - чистых от реально измеряемых поверхностей.

Как известно из квантовой механики, системы изображения пространственной структуры твердых тел, полученные с атомарным разрешением в сканирующих микроскопах, являются изображениями атомарно-чистых поверхностей. В обычных условиях поверхность твердого тела всегда покрыта слоем окислов. Кроме того, на ней имеются адсорбированные атомы, которые тоже создают поверхностные электронные уровии энергии. Эти атомы могут обмениваться электронами с объемом кристалла, изменяя электрофизические свойства приповерхностных слоев. Аналогичную роль могут играть и различные «собственные» структурные дефекты поверхности: дислокации микротрещин, сколов, включения инородных атомов и т.п. Таким образом, реальная поверхность обладает сложным профилем, обусловленным как неконтролируемыми факторами, о которых говорилось выше, так и специальной обработкой поверхности, при этом структурные образования на реальной поверхности могут быть самыми разными. Особый интерес представляют структурные особенности поверхности, обусловленные ее обработкой. Соответствующие структурные образования могут быть одиночными, регулярными и носить случайный характер. Из сказанного следует, что реальная структура поверхности твердого тела является сложным динамическим образованием, в общем случае меняющим свою структуру и свойства с течением времени. При этом структура и свойства могут характеризоваться широким набором характеристик и параметров. В данной работе рассматриваются только такие величины и параметры твердых тел, которые будут иметь прямое отношение к 3D - измерениям параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне.

Это подтверждает необходимость тщательного анализа специфики взаимодействия зондирующего излучения с измеряемой поверхностью и учета этой специфики при разработке программно-алгоритмического комплекса обработки измерительной информации и методик выполнения измерений, а также калибровки и поверки средств измерений параметров рельефа и шероховатости в нанометровом диапазоне.

В этой связи особую актуальность приобретают бесконтактные методы профилометрии, базирующиеся на принципах лазерной интерферометрии высокого разрешения (порядка Х/800). Следует отметить, что интенсификация исследований и разработок в различных направлениях нанотехнологий, физической и коллоидной химии, биомедицины потребовала разработки методик выполнения и средств измерений различных свойств, характеристик, параметров прозрачных (фазовых) и не прозрачных для видимого излучения нанообъектов. К первым следует отнести ряд изделий оптической промышленности (линзы, призмы, зеркала и т.п.), а также живые клеточные структуры различных биотканей, ко вторым — шероховатые поверхности высокой чистоты обработки, неровности которых могут иметь размеры в нанометровом и субнанометровом диапазонах. При этом важно, что исследования фазовых объектов желательно проводить бесконтактными, неинвазивными способами и средствами (in vivo), не вмешиваясь в процессы жизнедеятельности клеток введением окрашивающих реактивов. Поскольку увеличение и разрешающая способность оптического микроскопа при всех прочих его преимуществах недостаточны, выход из положения следует искать в сочетании оптического микроскопа с современным автоматизированным лазерным интерферометром и разработке алгоритмов автоматической обработки интерферограмм, позволяющих перейти от амплитудных к более помехоустойчивым и чувствительным методам извлечения из интерферограммы фазовой информации о 3D - нанообъектах, то есть к методам и средствам интерференционной профилометрии параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне.

Работы в области интерференционной микроскопии шероховатости базируются на разработках фирм «Taylor Hobson» (CCI) и «Zygo corporation», a также их адаптации в качестве средств калибровки, проводимой в NPL и РТВ. Работы в области прецизионной интерферометрии рельефа базируются на разработках итальянского института метрологии и оптики, американской фирмы Zygo corporation, а также их адаптации в качестве средств калибровки, проводимой в NIST и РТВ. Работы в области контактной профилометрии шероховатости и рельефа базируются на разработках фирмы Taylor Hobson, а также их адаптации в качестве средств калибровки, проводимых в NIST и РТВ. Работы в области сканирующей зондовой микроскопии базируются на основе разработок фирм ТИСНУМ ( г. Троицк) и МИЭТ (г. Зеленоград) , а также NPL и РТВ.

Реализация основных положений концепции 3D - измерений шероховатости и рельефа поверхностей нанометрового диапазона обеспечит успешное выполнение работы в целом.

Очевидно, что должным образом модернизированный интерференционный микроскоп для отраженного видимого излучения (например, на основе широко распространенного в свое время интерференционного микроскопа акад. В.П.Линника), оснащенный современным программным обеспечением, также позволяет получать фазовую измерительную информацию о параметрах рельефа и шероховатости отражающей поверхности в нанометровом диапазоне. При этом значительный интерес представляют методы (алгоритмы) вычисления фазы по интерферограмме и в особенности весьма перспективный метод фазовых шагов.

В настоящее время в России нет серийных приборов, которые смогли бы решить перечисленные выше задачи. В первую очередь — это измерение параметров рельефа и шероховатости поверхности, а также её формы с субнанометровым разрешением. Только две фирмы VEECO и ZYGO, США производят интерференционные профилометры, которые обеспечивают такое разрешение по глубине. Необходимо отметить, что все измерительные приборы с разрешением порядка единиц ангстрем относятся к приборам, запрещенным к экспорту в нашу страну. Вместе с тем, и другие прецизионные интерферометры для бесконтактных оптических измерений трехмерной поверхности с разрешением по глубине до нескольких ангстрем, выполненные по схемам Линника, Физо, Майкельсона, Тваймана-Грина, Фабри-Перо и других, в сочетании с оптико-электронными устройствами, обеспечивающими измерение дробной части интерференционной полосы, после существенной модернизации оптико-электронной и программно-алгоритмической компонент интерференционных профилометров могут позволить решить задачи высокоточных измерений параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне.

Следует отметить, что во многих зарубежных метрологических центрах, например, РТВ (Германия), №БТ (США), ЫРЬ (Великобритания) созданы системы обеспечения единства измерений геометрических величин в нанометровом диапазоне. В связи с этим возникает необходимость участия российских метрологических институтов в международных сличениях, например, в области прецизионных измерений шероховатости и формы поверхности в нанометровом диапазоне с целью подтверждения измерительных и калибровочных возможностей России и их международного признания.

Исходя из изложенного, в данной диссертационной работе ставится цель: разработка и исследование методов и средств интерферометрии высокого разрешения для обеспечения единства измерений параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне.

Для достижения поставленной цели необходимо решить следующие задачи:

• провести теоретические исследования особенностей процессов взаимодействия зондирующего электромагнитного излучения с исследуемыми наноразмерными объектами при формировании интерферограмм и обосновать подходы к решению задачи моделирования рассеяния оптического излучения на проводящих и диэлектрических наноразмерных структурах;

• провести теоретические исследования метода фазовых шагов в целях адаптации его для автоматического получения и обработки интерферограмм при измерении параметров рельефа и шероховатости поверхностей в нанометровом диапазоне методами интерферометрии высокого разрешения;

• разработать калибровочную установку на базе автоматизированного лазерного интерференционного микропрофилометра (АИМ) с повышением его чувствительности до ХУ800 и провести соответствующие метрологические исследования;

• провести испытания мер, разработать и аттестовать методики измерений и калибровки средств измерений параметров шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне, гармонизированных с международными требованиями и рекомендациями.

Заключение диссертации по теме «Метрология и метрологическое обеспечение», Золотаревский, Сергей Юрьевич

Выводы к главе 4

1. Всесторонний анализ существующих мер длины в нано- и микрометровом диапазонах предопределил выбор набора из трех мер для градуировки вертикальной шкалы интерференционного микроскопа, которые в сочетании с модернизированным лазерным интерференционным микроскопом, интерференционным микроскопом ZYGO NEW VIEW 6200 и мультимодальным атомно-силовым микроскопом Innova фирмы VEECO обеспечивают формирование калибровочных возможностей в области измерения параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне.

2. Разработаны и апробированы методики первичной и периодических поверок мер, утвержденных в качестве вторичных эталонов единицы длины в нанометровом диапазоне размеров, а также — порядок обращения с мерой.

3. Экспериментальные исследования измерительно-калибровочного комплекса показали, что сочетание мер для градуировки вертикальной шкалы интерференционного микроскопа с атомно-силовым микроскопом, самим интерференционным микроскопом, работающим в «белом свете» и модернизированным лазерным микроскопом обеспечивает не только возможность, но и единство измерений в нанометровом диапазоне параметров шероховатости и рельефа поверхности твердых тел и оптически прозрачных фазовых объектов.

4. Проведенные сличения между ФГУП «ВНИИМС» и РТВ (Германия) эталонов сравнения в виде тест-объектов из набора ЗБ-наноструктур показали возможность использования их для калибровки средств измерений геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне.

5. Обоснована необходимость разработки и запланировано на ближайшее время внедрение стандартов в области интерферометрии высокого разрешения, гармонизированных с требованиями ISO/TR 14999-1,2,3.

Заключение

1. Теоретическими и экспериментальными исследованиями установлено, что при оценке параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне: - для малых значений высоты профиля (меньше Юнм) необходимо учитывать эффект рассеяния зондирующего электромагнитного излучения наноструктурами исследуемой поверхности, поскольку удельный вес (вклад) этого фактора может составлять от 15% до 30% от неопределенности, обусловленной собственными шумами лазерного интерференционного микроскопа. При этом целесообразно учитывать в совокупности источники неопределенности, вызываемые рассеянием зондирующего излучения, шумами интенсивности в фотоприемнике и алгоритмом реконструкции профиля рельефа исследуемой поверхности;

- применительно к лазерному автоматизированному интерферометру построены математические модели и выполнено численное моделирование процедуры восстановления рельефа поверхности с учетом рассеяния излучения на изолированных наноразмерных неоднородностях поверхности, а также поверхностях периодического профиля. Результаты моделирования и реальных измерений находятся в хорошем согласии с паспортными данными па аттестованную меру, использованную при экспериментах.

2. При исследовании особенностей алгоритмов обработки интерферограмм, получаемых на лазерном автоматизированном интерферометре методом фазовых шагов, и анализе их чувствительности к влиянию некоторых наиболее значимых источников неопределенности измерений параметров рельефа поверхности установлено, что: стандартная неопределенность типа А вычисления фазы, обусловленная флуктуациями интенсивности излучения, зависит от числа шагов и убывает с ростом числа шагов пропорционально

- неопределенность типа В может быть уменьшена за счет подавления высших гармоник и юстировки фазосдвигающего устройства;

- проведенная модернизация оптико-электронной и программно-алгоритмической компонент лазерного интерферометра на основе использования методов фазовых шагов позволила добиться оценки геометрических параметров рельефа поверхности наблюдаемых наноструктур по данным оптической микроскопии с разрешением до Х/800.

3. Сформированный состав измерительно-калибровочного комплекса на основе интерферометров высокого разрешения, сканирующего зопдового микроскопа и набора мер в ранге рабочих эталонов позволяет проводить внутрилабораторные сличения результатов измерений параметров рельефа и шероховатостей в нанометровом поверхностей диапазоне, полученных с использованием различных физических принципов, что позволяет в значительной степени уменьшить неопределенность по типу В.

4. Проведены экспериментальные исследования комплекса с помощью тщательно отобранных мер высоты ступеньки SHS-1,8QC, SHS-1800QC, SHS-180QC, подтвердившие, с одной стороны, готовность комплекса к реализации возложенных на него функций, а с другой — высокую точность трех исследованных мер высоты ступеньки, позволившую аттестовать их в качестве рабочих эталонов единицы длины в диапазоне от —7 до -800 нм, в свою очередь обеспечивших градуировку линейных вертикальных шкал в наноразмерном диапазоне.

5. Результаты сличений российских и немецких (РТВ) калибровочных возможностей на базе тест-объектов в виде 3D-наноструктур, состоявших из различных конфигураций трех разных высот, подтвердили возможность использования принадлежащих каждой стране интерференционных микроскопов в качестве исходных средств калибровки в диапазоне высот от -7 до —800 нм.

6. Результаты исследований и разработанные методические рекомендации были использованы при выполнении проекта по созданию современного метрологического комплекса и гармонизированной с требованиями международных стандартов нормативно-методической базы для измерений геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне. Проект выполняется в рамках реализации мероприятия 3.1 Методической составляющей Федеральной целевой программы «Развитие инфраструктуры наноиндустрии в Российской Федерации на 2008201 Orr» и предусматривает создание и ввод в эксплуатацию измерительно — калибровачного комплекса для параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне, а также комплекса отечественных стандартов в области интерферометрии высокого разрешения, гармонизированных с международными требованиями (ISO/TR 14999-1,2,3).

Таким образом, в диссертационной работе содержится решение задачи, имеющей существенное значение для разработки системы метрологического обеспечения геометрических параметров рельефа и шероховатости поверхности в нанометровом диапазоне методами интерферометрии высокого разрешения применительно к производству прецизионных деталей в наукоемких высокотехнологичных отраслях промышленности, реального сектора экономики и обороны страны.

Список литературы диссертационного исследования кандидат технических наук Золотаревский, Сергей Юрьевич, 2010 год

1. Арутюнов П.А., Толстихина A.J1. Атомно-силовая микроскопия в задачах проектирования приборов микро и наноэлектроники. Часть 1 // Микроэлектроника. 1999.Т. 28, № 6. С. 405^14.

2. Андровский P.A., Хачаян A.B. Послесловие в сборнике Нанотехнология в ближайшем десятилетии. Москва, «Мир», 2002 г.

3. В.Я. Бараш, A.J1. Резников. Применение образцовых вибраторов для метрологической аттестации контактных средств измерений шероховатости поверхности. // Измерительная техника. 1983 №8. С. 43-45.

4. Бонч Бруевич B.JL, С.Г. Калашников С.Г. Физика полупроводников. - М.; Наука, 1977, 672 стр.

5. Борн М., Вольф Э. Основы оптики. М.: Наука, 1970.-856 с.

6. П.Бухараев A.A., Овчинников Д.В., Бухараева А.А, Диагностика поверхности с помощью сканирующей силовой микроскопии // Заводская лаборатория, -1997, -№ 5,-сс. 10-27.

7. Васильев В. Н., Гуров И. П., Компьютерная обработка сигналов в приложении к интерференционным системам. — BHV, Москва, 1998. -243с.

8. Вест Ч. Голографическая интерферометрия. : Мир, 1982. -504с.

9. Виноградова М.Б., Руденко О.В., Сухоруков А.П. Теория волн. М.: Наука, 1990.

10. Вишняков Г.Н., Левин Г.Г., Минаев В.Л. Томографическая микроскопия трехмерных фазовых объектов в пространственно-некогерентном свете// Оптика и спектроскопия. 2003.- том 95.- №1. - С. 131-135.

11. Вишняков Г.Н., Левин Г.Г. Томографический микроскоп Линника для исследования оптически прозрачных объектов // Изм. техника. — 1998. —№10. С. 18-22.

12. Вишняков Г.Н., Левин Г.Г., Лощилов К.Е., Сухоруков К.А. Фурье-синтез трехмерной поверхности по методу многоракурсной проекции полос // Оптика и спектроскопия. 2005. - Т. 99. - Вып. 4. - С.680-684.

13. Вишняков Г.Н. Закарян К.С., Левин Г.Г., Стрелецкая Е.А. Исследование оптически прозрачных объектов при помощи томографического микроскопа Линника. // Измерительная техника. 1999.- №1.- С.46-49.

14. Вишняков Г.Н., Золотаревский С.Ю., Ломакин А.Г., Левин Г.Г. Методы автоматизации обработки интерферограмм фазовых объектов // Метрология, №4 2008,стр. 15-25

15. Волк Ч.П., Новиков Ю.А., Раков A.B. Калибровка РЭМ с помощью периодической линейной меры микрометрового и субмикрометрового диапазонов // Измерительная техника. 2000. № 4. С. 48-52.

16. Гоголинский К. В., Кудрявцева В. И., Новиков С. В., Решетов В. Н. Применение атомно-силовой микроскопии для исследования микроструктуры твердых сплавов на основе карбида вольфрама. Препринт/002-96. Москва: МИФИ (1996)

17. Голубев С.С. Разработка и исследование методов и средств метрологического обслуживания сканирующих зондовых микроскопов. Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук, Москва, 2008 г.

18. ГОСТ 2789-73. Шероховатость поверхности. Параметры и характеристики.

19. ГОСТ 9378-93. Образцы шероховатости поверхности (сравнения). Технические требования.

20. ГОСТ 8.296-78. Государственный специальный эталон и Государственная1. R Rповерочная схема для средств измерений параметров шероховатости тах и в диапазоне 0,025-^-1600 мкм.

21. ГОСТ 25142-82. Шероховатость поверхности. Термины и определения.

22. ГОСТ Р 8.631 2007 ГСИ. Микроскопы электронные растровые измерительные. Методы поверки.

23. ГОСТ Р 8.596 — 2002. Метрологическое обеспечение измерительных систем. Основные положения.

24. ГОСТ Р 8.628-2007 (Государственная система обеспечения единства измерений. Меры рельефные нанометрового диапазона с трапецеидальным профилем элементов. Требования к геометрическим формам, линейным размерам и выбору материала для изготовления)

25. ГОСТ Р 8.629-2007 (Государственная система обеспечения единства измерений. Меры рельефные нанометрового диапазона с трапецеидальным профилем элементов. Методика поверки)

26. Дунин-Барковский И.В., Карташова А.Н. "Измерения и анализ шероховатости поверхности, волнистости и пекруглости поверхности", "Машиностроение", М., 1978, стр. 230.

27. В.П. Каранкевич, В.А. Ханов «Современные лазерные интерферометры», Новосибирск, «Наука», 1985.

28. Кононогов С.А. Метрология и фундаментальные физические константы, Москва, ФГУП «Стандартинформ», 2008 г., 272 стр.

29. Кононогов С.А., Лысенко В.Г. Методика измерений геометрических параметров трехмерной шероховатости поверхности, Международная научно-техническая конференция «Метрология и метрологическое обеспечение», г. Минск, Республика Беларусь 26-27 апреля 2007 г.

30. Кононогов С.А., Лысенко В.Г., Золотаревский С.Ю. Неопределенность трехмерных измерений геометрических параметров шероховатости поверхности, Москва, Приборы №5 2008 г. стр. 3-5

31. Кононогов С.А., Голубев С.С., Лысенко В.Г. Исследование измерительных и калибровочных возможностей средств измерений нанометрового диапазона. Законодательная и прикладная метрология. № 3, 2008 г.

32. Левин Г.Г., Золотаревский С.Ю. Количественная фазовая микроскопия на основе принципов интерференционной рефрактометрии // Метрология, №3 2008, стр. 15-21

33. Линпик В.П. Прибор для интерференционного исследования отражающих объектов под микроскопом ("микроинтерферометр"). ДАН СССР, 1933, №1, с. 18-23.

34. В.Г. Лысенко В.Г., Голубев С.С. и др. «Методы и средства обеспечения единства измерений в нанотехнологиях», Москва, Журнал «Мир измерений», № 8.2005 г.

35. Ляпунов A.M., Новиков Ю.А., Раков A.B., Тодуа П.А. Метрология линейных измерений наноматериалов, нанообъектов и наносистем // Интеграл. 2005. № 1(21). С. 14-16.

36. МИ 41-75. Методика выполнения измерений параметров шероховатости поверхности по ГОСТ 2789-73 при помощи приборов профильного метода.

37. Моисеев Ю. H., Мостепаненко В. М., Панов В. И., Соколов И. Ю. Экспериментальное и теоретическое исследование сил и пространственного разрешения в атомно-силовом микроскопе. ЖТФ, 60 (1990), №1, 141-148.

38. Ю.А. Новиков, A.B. Раков, П.А. Тодуа. Точность измерения линейных размеров на растровых электронных микроскопах в микро- и нанотехпологиях. Измерительная техника, № 6, 2008, 15-18.

39. Новиков Ю.А., Озерин Ю.В., Плотников Ю.И., Раков A.B., Тодуа П.А., Нанометрология линейных измерений в атомно-силовой микроскопии // Труды института общей физики им. A.M. Прохорова 2006 т. 62. С. 121-144.

40. Оптические приборы в машиностроении. Справочник. М.; «Машиностроение», 1974.-238 с.

41. Практическая растровая электронная микроскопия. Под ред. Дж. Гоулдстейна и X. Яковица: пер. с англ. М.; Мир, 1978 стр.315

42. М.К. Роко, P.C. Уильяме, П. Аливисатос. Введение в научно-технический сборник по нанотехнологии. В сборнике Нанотехнология в ближайшем десятилетии. Москва, «Мир», 2002 год.

43. Суслов А. А., Чижик С. А. Сканирующие зондовые микроскопы (обзор) // Материалы, Технологии, Инструменты Т.2 (1997), №3, С. 78-89.

44. В. Телец, С. Алфимов и др. Прикладные аспекты нанотехнологий в научно-техническом журнале «Наноиндустрия» № 2, 2007 г.

45. Тодуа П.А. Метрология и стандартизация в нанотехнологиях. Мир измерений, 1, 2008,4- 10.

46. Тодуа П.А. Метрология и стандартизация в нанотехнологиях и наноиндустрии. Измерительная техника, 5, 2008, 5-10.

47. Н.Н. Трунов, А.А. Лобашов «Квантовый эффект Казимира и атомно-силовая микроскопия в нанометрологии». Метрологическая энциклопедия. Изд. Стандартов. Москва, 2004.

48. Berenger, J.P. Three-Dimensional Perfectly Matched Layer for the Absorption of Electromagnetic Waves. Journal of Computational Physics 127, 363-379 (1996)

49. Binnig G., Quate C. F., Gerber Ch. Atomic force microscopy // Phys. Rev. Lett. 56 (9) (1986), 930-933

50. Burnham N. A., Colton R. J. Measuring the nanomechanical properties and surface forces of materials using an atomic force microscope // J. Vac. Sci. Technol. A.7, 4 (1989), 29062913

51. Burnham N. A., Colton R. J. Force Microscopy / Scanning Tunneling Microscopy and Spectroscopy. Chapter 7. New York (1994), 191-249

52. Campbell A. N., Cole E. I. Jr., Dodd B. A., Anderson R. E. Magnetic force microscopy/Current contrast imaging: A new technique for internal current probing of ICs // Microelectronic Engineering 24 (1994), 11-22

53. Creath K. Phase-shifting speckle interferometry // APPLIED OPTICS.- 1985.-Vol. 24.- № 18.-P. 3053-3058. v

54. Dennis A. Swyt, Director. An Assessment of the United States Measurement System: Addressing Measurement Barriers to Accelerate Innovation. NIST Special Publication 1048, 68 pages.

55. T.Dziomba, L. Koenders, G. Wilkening. Lateral and vertical calibration of Scanning Probe Microscopes and their measurement uncertainty. XI. International Colloquium on Surfaces. Chemnitz, Germany, 2004.

56. Efficiencies of a grazing-incidenee off-plane gratings in soft-x-ray region. J.F.Seely, L.I.Goray,. Applied Optics, 2006, Vol.45, No.8, p. 1680

57. V.J.Garcia, L Martinez, J. M. Briceno-Valero, and C. H. Schilling, Dimensional metrology ofnanometric spherical particles using AFM: II, application of model -tapping mode // Probe Microscopy, -1998, v. 1, -No 2, -pp. 117-125.

58. Gomer R. / Rep. Progr. Phys. 1990. - 53. - P. 917 - 1002.

59. Hartmann U. Theory of Noncontact Force Microscopy/Scanning Tunneling Microscopy III; Theory of STM and Related Scanning Techniques / Eds. R. Wiensendanger and J.-H. Guntherodt. Berlin: Springer (1985)

60. Heubrger M., Dietler G., Schlapbach L. Mapping the local Yong's modulus by analysis of the elastic deformations occurring in atomic force microscopy // Nanotechnology, 5 (1994), 12-23

61. Hibino K., Oreb B.F., Farant D.I., Larkin K.G. Phase shifting for nonsinusoidal waveforms with phase-shifting errors. J. Opt. Soc. Am. A./Vol 12, No. 4/April 1995.

62. High fidelity blazed grating replication using nanoimprint lithography. C.Chang, J.C.Montoya,. J.Vac.Sci.Technol 2004, Vol. B22, p.3260

63. Howland R., Benatar L. A practical guide to scanning probe microscopy. Park Scientific Instruments (1996)

64. Ilyushin, Ya.A. Radiative transfer in layered media: application to the radar sounding of Martian polar ices. II. Planetary and Space Science, 2007 Vol. 55/1-2 pp 100-112 doi: 10.1016/j .pss.2006.05.025

65. Kanhert F.M. Numerical methods in electromagnetic scattering theory. // J.Quant.Spectr. and Rad. Transfer. Vol. 79-80. 2003. P. 775-824.

66. S. Kononogov, Dr. V. Lyssenko, ACCURACY OF THE SURFACE ROUGHNESS THREE DIMENSIONAL MEASURING TECHNOLOGY, 6th International Conference "Research and Development in Mechanical Industry" RaDMI 2006, 13 17. September 2006, Budva, Montenegro.

67. Kononogov, S.; Lyssenko, V. & Poroshin, V. THE DIGITAL SURFACE TOPOGRAPHIC PARAMETERS MEASUREMENTS, CADAM 5th International Conference on Computer Aided Design and Manufacturing 2007.

68. V. Koutsos, E. Manias, G. Ten Brinke, and G. Hadziioannou, Atomic force microscopy and real atomic resolution. Simple computer simulations// Europhys.Lett., -1994, -v.26, -No 3, -pp. 103-107.

69. Labardi M., Allegrini M., Salerno M., Fredriani С., Ascoli С. Dynamical friction coefficient map using a scanning force and friction force microscope // Appl. Phys. A59 (1994), 3-10

70. Landman U., Luedtke W. D. Nanomechanics and dynamics of tip-substrate interactions // J. Vac. Sci. Technol. №2 (1991), B9, p.414-423

71. Larkin K. G. A self-calibrating phase-shifting algoritm based on natural demodulation of two-dimensional fringe patterns, -OPTIC EXPRESS/Vol 9, No. 5/2001г, стр. 236-251.

72. Levin G.G., Kozinets G.I., Novoderzhkina I.K., Streletskaya G.A., Vishnyakov G.N. Blood cells research using methods of microinterferometry // Proc. SPIE. — 1997. -V.2982. P. 490-(495).

73. W. Lojkowski, R. Turan, A. Proykova, A. Daniszewska European Nanotechnology Gateway, Eighth Nanoforum Report: Nanometrology, July 2006, 128 pages

74. Luthi R., Meyer E., Howald L., Haefke H., Anselmetti D., Dreier M., Ruetschi M., Bonner Т., Overney R. M., Frommer J., Guntherodt H.- J. Progress in noncontact dynamic force microscopy // J. Vac. Sci. Technol. 3 (1994) В12,1673-1676.

75. K. Meine, Dr. Tshneider. Correlation of Friction and Raughness. Proceeding of International Colloquium on Surfaces. Chemnitz University of Technology. Germany. 2000.

76. Meyer E. Atomic Force Microscopy // Progress in Surface Science, 41/1 (1992), 3-49

77. Michalski, K.A., and D. Zheng. 1990. Electromagnetic Scattering and Radiation by surfaces of arbitrary shape in layered media. Part I. Theory. IEEE Trans. AP-38. NO.3. P.335

78. Nanotechnology. Integrated Processing Systems for Ultra-Precision and Ultra-Fine Products (Ed. N. Taniguchi). Oxford: Oxford Univ. Press, 1996, 406 pp.

79. Numerical analysis of the efficiency of multilayer-coated gratings using integral method. L.I.Goray. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research 2005, Vol.A536, p.211.

80. Richmond, J.H. TE-wave scattering by a dielectric cylinder of arbitrary cross-section shape IEEE Transactions on Antennas and Propagation 1966, AP14, N0.4, PP.460-464.

81. Salmeron M. B. Use of the atomic force microscope to study mechanical properties of lubricant layers // MRS Bulletin (1993), May, 20-25

82. J. Schmit and K. Creath, "Extended averaging technique for derivation of error-compensating algorithms in phase-shifting interferometry," Applied Optics 34, pp. 36103619, July 1995

83. J. Schwider, O. Falkenstoerfer, H. Schreiber, A. Zoeller, and N. Streibl, "New compensating four-phase algorithm for phase-shift interferometry," Optical Engineering 32, pp. 1883-1885, Aug. 1993.

84. Spatz J. P., Sheiko S., Moller M., Winkler R. G., Reineker P., Marti O. Forces affecting the substrate in resonant tapping force microscopy // Nanotechnology, 6 (1995), 40^4

85. Spectral separation of the efficiencies of the inside and outside orders of soft-x-ray-extreme-ultraviolet gratings at near normal incidence. L.I.Goray, J.F.Seely, S.F.Sadov. Journal of Applied Physics 2006, Vol.100, p.094901

86. Su, C. Calculation of electromagnetic scattering from a dielectric cylinder using the conjugate gradient method and FFT. IEEE Transactions on Antennas and Propagation 1987, AP-35, NO. 12, PP. 1418-1425.

87. Surrel Y. Design of algoritm for phase measurements by the use of phase stepping, -Applied Optic, 35, No. 1, CTp 51-60, 1996.

88. Surrel Y, "Phase stepping: a new self-calibrating algorithm," Applied Optics 32, pp. 3598-3600, July 1993.

89. Takeda M., Mutoh K.//Applied Optics. 1983. Vol. 22. № 24. P. 3977-3982.

90. Totzeck M., Tiziani H. J. Interference microscopy of sub-lambda structures: A rigorous computation method and measurements. // Optics Communications. Vol. 136. 1997. P. 6174.

91. Umashnkar K., A.Taflove and S.M.Rao. 1986 Electromagnetic scattering by arbitrary shaped three-dimensional homogeneous lossy dielectric objects. IEEE Trans. AP-34, 758766.

92. A. Weckenmann, Th. Wiendenhoefer. Scanning Probe Microscopy and surface Metrology. XI. International Colloquium on surfaces. Chemnitz, Germany, 2004.

93. Weisendanger R. Scanning Probe Microscopy and Spectroscopy. Cambridge: Cambridge University Press (1994)

94. K. L Westra and D. J. Thomson, Atomic force microscopy tip radius needed for accurate imaging of thin film surfaces IIJ. Vac. Sci. Technol. B, -1994, v. 12, -No 6, -pp. 31763181.

95. K. L Westra, A. W. Mitchell, and D. J. Thomson, Tip artifact in atomic-force microscope imaging of thin film surfaces II J. Appl. Phys., -1993, v. 74, -No 5, -pp. 3608-3610.

96. D. Whitehouse. Handbook of surface metrology University of Warwick RTH Ltd 1994.