Исследование высокочастотного емкостного разряда низкого давления в инертном газе тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.08, кандидат физико-математических наук Орлов, Константин Евгеньевич

• Орлов, Константин Евгеньевич
• кандидат физико-математических наук
• 1998

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Орлов, Константин Евгеньевич

1. ВВЕДЕНИЕ.

2. ФОРМИРОВАНИЕ СЛОЕВ ПРОСТРАНСТВЕННОГО ЗАРЯДА В ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ ЕМКОСТНЫХ РАЗРЯДАХ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ (ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ).

2.1. Классификация высокочастотных разрядов.

2.2. Перенос гоков и причины возникновения слоев пространственного заряда в ВЧЕ разрядах.

2.3. Эквивалентная схема разряда.

2.4. Динамика приэлектродного слоя пространственного заряда.

2.5. Особенности формирования ВЧ разряда при нелокальном нагреве электронов.

2.6. Исследования гамма-электронов в ВЧ разрядах низкого давления

2.7. Выводы из обзора литературы и постановка задачи.

3. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ ИССЛЕДОВАНИЯ СПЕКТРОВ ВТОРИЧНЫХ ЭЛЕКТРОНОВ.

3.1. Разрядная камера и система поддержания ВЧЕ разряда.

3.2. Модулятор и анализатор энергии электронов.

3.3. Синхронизация сигналов при измерениях с временным разрешением.

3.4. Времяпролетные характеристики модулятора электронов.

3.5. Связь функции пропускания модулятора и экспериментального спектра.

4. КИНЕТИКА ГАММА-ЭЛЕКТРОНОВ В ВЧЕ РАЗРЯДЕ НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ.

4.1. Измерения с временным разрешением спектров электронов, бомбардирующих электрод в ВЧЕ разряде.

4.2. Ускорение гамма-электронов в слое пространственного заряда.

4.3. Восстановление формы напряжения на слое пространственного заряда.

4.4. Фокусировка электронов при пролете разрядного промежутка.

4.5. Формирование пиков на функции распределения гамма-электронов

4.6. Выводы.

5. РАСЧЕТ ПАРАМЕТРОВ СЛОЕВ И ПЛАЗМЫ ВЧЕ РАЗРЯДА НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ.

5.1. Основные предположения модели.

5.2. Поток ионов из плазмы разряда.

5.3. Электроны в плазме и ионизация в разряде низкого давления.

5.4. Электронная кинетика.

5.5. Учет стохастического нагрева электронов.

5.6. Асимптотические решения и скейлинги.

5.7. Результаты расчетов.

5.8. Выводы.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Исследование высокочастотного емкостного разряда низкого давления в инертном газе»

Актуальность проблемы. Работа посвящена теоретическому и экспериментальному исследованию высокочастотных разрядов низкого давления (р-ТОМ Тор). Такие разряды нашли широкое применение в плазменных техно л оги ч еских установках для травления и нанесения пленок в микроэлектронике. В плазме разряда происходит диссоциация молекул исходного газа с образованием атомов или радикалов, активно взаимодействующих с поверхностью твердого тела. Взаимодействие радикалов с поверхностью подложки происходит в присутствии ионной и электронной бомбардировки, которая оказывает существенное влияние на характеристики процесса и свойства пленки. В частности, ионная бомбардировка приводит к тому, что травление в плазме высокочастотного разряда, в отличие от химического, является анизотропным и позволяет получать структуры глубина (высота) которых значительно превышает ширину. Это является исключительно важным для создания микросхем с высокой степенью интеграции. Кроме того, ионная бомбардировка может приводить к образованию или, наоборот, отжигу дефектов в полупроводнике. Очевидно, что процесс травления или нанесения пленок, а также их свойства существенно зависят как от свойств плазмы разряда так и от структуры приэлектродных слоев. В разрядах низкого давления длина энергетической релаксации электронов плазмы превышает характерные размеры разрядной камеры. В этих условиях нагрев плазменных электронов определяется распределением электрических полей по всей длине межэлектродного промежутка и на формирование функции распределения электронов по энергиям существенное влияние оказывает нагрев электронов в приэлектродных слоях. Гамма-электроны высоких энергий, образующиеся за счет эмиссии с электрода и ускоряющиеся в приэлектродных слоях, проходят через межэлектродный зазор практически без столкновений. Это приводит к интенсивной бомбардировке электродов электронами высоких энергий, что может существенно влиять на процессы происходящие на поверхностях электродов. Таким образом, процессы происходящие на поверхностях электродов и в объеме плазмы существенно зависят от параметров и динамики приэлектродных слоев пространственного заряда. Следовательно, оптимизация существующих технологических процессов и разработка новых невозможна без глубокого понимания физических процессов формирования слоев и плазмы положительного столба в высокочастотном разряде низкого давления.

Целью настоящей работы является теоретическое и экспериментальное исследование физических процессов в плазме и приэлектродных слоях высокочастотного разряда. Исследования были направлены на решение следующих задач:

1. Экспериментальное исследование динамики гамма-электронов в ВЧЕ разряде низкого давления. Выяснение механизмов формирования потока гамма-электронов на заземленный электрод разряда. Разработка методов диагностики слоев высокочастотного разряда.

2. Разработка простых аналитических моделей, позволяющих качественно описать параметры высокочастотного разряда низкого давления, а также проводить расчет параметров разряда с минимальными затратами.

Практическая ценность проведенных исследований определяется прежде всего широким использованием высокочастотных разрядов низкого давления в микроэлектронной технологии. В результате проведенных исследований создана простая модель, позволяющая рассчитать параметры приэлектродных слоев и плазмы ВЧЕ разряда низкого давления. Получены простые скейлинги для различных режимов горения разряда, которые могут быть широко использованы для оценки параметров плазмы в технологических установках. Получена аналитическая оценка для параметров перехода ВЧЕ разряда в сильноточный режим, характеризующийся большим количеством "холодных" электронов.

В результате работы была разработана методика измерений с временным разрешением энергетических спектров гамма-электронов, бомбардирующих электроды ВЧЕ разряда, позволяющая восстанавливать форму напряжения на приэлектродных слоях. Методика может быть использована в экспериментальных исследованиях высокочастотных разрядов. Показана также принципиальная возможность диагностики колебаний плазмы по энергетическим спектрам гамма-электронов.

Научная новизна состоит в следующем:

1. Впервые проведены измерения с временным разрешением спектров гамма-электронов, бомбардирующих заземленный электрод в емкостном разряде низкого давления при частоте ВЧ напряжения 13.56 МГц.

2. Показано, что энергетический спектр гамма-электронов и распределение потока гамма-электронов в течение периода ВЧ тока определяются формой ВЧ напряжения на приэлектродном слое пространственного заряда. Впервые показана возможность восстановления формы ВЧ напряжения на слое по экспериментальным спектрам гамма-электронов.

3. Продемонстрировано влияние высокочастотных колебаний напряжения на спектры гамма-электронов.

4. Впервые разработана простая самосогласованная аналитическая модель ВЧЕ разряда низкого давления, позволяющая с достаточной точностью оценить основные параметры плазмы и приэлектродных слоев разряда.

5. Получен критерий перехода ВЧЕ разряда низкого давления к сильноточному режиму с "холодными" электронами и формулы для оценки параметров плазмьг в различных режимах разряда.

На защиту выносятся следующие основные положения:

1. Экспериментальная методика измерения формы напряжения на слое пространственного заряда по разрешенным во времени энергетическим спектрам вторичных электронов.

2. Демонстрация различия формы напряжения на слое при столкновительном и бесстолкновительном движении ионов в слое.

3. Демонстрация связи между пиками на энергетических спектрах вторичных электронов и высокочастотными колебаниями напряжения на плазме разряда.

4. Скейлинги для оценки параметров высокочастотного емкостного разряда низкого давления в различных режимах.

5. Критерий перехода между двумя режимами горения ВЧЕ разряда низкого давления.

Апробация работы. Материалы, изложенные в диссертации докладывались на IV Международной конференции "Thermal Plasma Processes" (ТРР-4), Афины 1996; II Международной конференции "Физика плазмы и плазменные технологии" (ФППТ-2), Минск, 1997; XVIII Международном симпозиуме "Plasma Physics and Plasma Technology" (SPPT-18), Прага, 1997; Международном симпозиуме NATO "Electron Kinetics and Application of Glow Discharges", С.Петербург, 1997; а также на семинарах в ФТИ им.А.Ф.Иоффе, и кафедры "Физика плазмы" Санкт Петербургского Государственного Технического Университета.

Основные результаты работы опубликованы в семи печатных трудах

1-7].

Структура диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и списка литературы.

Заключение диссертации по теме «Физика плазмы», Орлов, Константин Евгеньевич

Основные результаты работы состоят в следующем:

1. Разработана экспериментальная установка и методика измерений с временным разрешением спектров гамма-электронов, бомбардирующих заземленный электрод в емкостном разряде низкого давления при частоте ВЧ напряжения 13.56 МГц.

2. Показано, что энергетический спектр гамма-электронов определяются формой ВЧ напряжения на приэлектродном слое пространственного заряда.

3. Анализ спектров гамма-электронов, снятых с временным разрешением позволяет восстановить форму ВЧ напряжения на слое. Показано, что форма напряжения зависит от характера (столкновительный или бесстолкновительный) движения ионов через слой. Экспериментально наблюдаемое различие в формах ВЧ напряжения соответствует выводам аналитических теорий слоя пространственного заряда.

4. Энергетические спектры гамма-электронов чувствительны к высокочастотным колебаниям напряжения на плазме разряда. Наличие модуляции спектров может быть связано с развитием колебаний потенциала плазмы на частоте, соответствующей частоте резонанса между слоем пространственного заряда и плазменными электронами. В этом случае оказывается возможным определить концентрацию электронов плазмы по частоте модуляции

5. Проанализированы процессы в плазме и приэлектродных слоях высокочастотного разряда низкого давления, когда длина энергетической релаксации электронов превышает размеры слоя. Сформулирована простая аналитическая модель ВЧЕ разряда низкого давления, позволяющая с достаточной точностью оценить основные параметры плазмы и приэлектродных слоев разряда.

6. Получен критерий перехода ВЧЕ разряда низкого давления к режиму с "холодными" электронами и формулы для оценки параметров плазмы в различных режимах разряда.

В заключение приношу свою глубокую благодарность А.С.Смирнову по инициативе и под непосредственным руководством которого проводились исследования. Я искренне признателен Л.Д.Цендину за интерес к работе и ценные обсуждения. Считаю своим приятным долгом поблагодарить Т .В .Черноизюмскую, А.П.Умова а также всех сотрудников кафедры Физики плазмы за помощь в работе.

Работа выполнена при поддержке Российского Фонда Фундаментальных Исследований (грант № 96-02-16918, № 98-02-16000), IN TAS (грант № 96-0235) и International Atomic Energy Agency (грант № 9238/R1).

6. ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В работе проведено экспериментальное и теоретическое исследование ВЧЕ разряда низкого давления. Экспериментальные исследования были направлены на изучение потоков гамма-электронов, бомбардирующих заземленный электрод ВЧЕ разряда низкого давления. С целью получения наиболее детальной информации о динамике потока была разработана экспериментальная методика измерений с временным разрешением относительно фазы приложенного к разряду ВЧ напряжения. Достигнуто временное разрешение не хуже 7нс. Получены экспериментальные данные о энергетических спектрах гамма-электронов для разряда в Аргоне в широком диапазоне давлений. Проведен количественный анализ полученных спектров, продемонстрирована связь параметров слоев и плазмы разряда на структуру энергетических спектров гамма-электронов.

Проанализированы процессы формирования функции распределения электронов плазмы разряда при нелокальном режиме нагрева. В работе разработана простая модель для оценки параметров емкостного высокочастотного разряда низкого давления, которая дает хорошее согласие с экспериментом. Модель основана на грубой замене реального профиля концентрации и потенциала в плазме ступенчатым, однако учитывает основные физические процессы в разряде. Для определения концентрации в положительном столбе и потенциала на его границе используется условие непрерывности потока электронов в пространстве энергий. Это условие существенно кинетическое и не может быть получено из гидродинамического рассмотрения.

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Орлов, Константин Евгеньевич, 1998 год

1. A.C. Смирнов, K.E. Орлов. Самосогласованная модель высокочастотного емкостного разряда низкого давления. Письма в ЖТФ, 1997, том 23, №1, с. 39.

2. A.S. Smirnov, K.E. Orlov. The dynamics of the fast electrons in the low pressure rf-discharge. in the proceedings of the 18 th Symposium on Plasma Physics and Technology (SPPT-18), Prague, June 17-20, 1997, p. 206.

3. K.E. Orlov, A.S. Smirnov. Simple modeling of the low pressure rf-diseharges. in the proceedings of the 18 th Symposium on Plasma Physics and Technology (SPPT-18), Prague, June 17-20, 1997, p. 200.

4. A.C. Смирнов, K.E. Орлов. Простой самосогласованный расчет параметров ВЧЕ-разряда низкого давления, материалы международной конференции Физика Плазмы и Плазменные Технологии (ФППТ-2), Минск, 15-19 сентября 1997, с. 146.

5. К.Е. Орлов, А.С. Смирнов. Кинетика быстрых гамма-электронов в ВЧЕ-разряде. материалы международной конференции Физика Плазмы и Плазменные Технологии (ФППТ-2), Минск, 15-19 сентября 1997, с. 142.

6. Г.А. Абильсиитов, Е.П. Велихов, B.C. Голубев, Ф.В. Лебедев. Перспективные схемы и методы накачки мощных СОг-лазеров для технологии. Квантовая электроника, 1981, т. 8, №12, с. 2517.

7. В.В. Блинков, В.М. Вакуленко, И.Б. Ковш, Ю.Я. Усанов. Мощные лазеры для технологических применений и лазерные технологические установки для машиностроения. Итоги науки и техники. Серия Электроника, т. 28, Москва, ВИНИТИ, 1991

8. R.L. Abrams, W.B. Bridges. Characteristics of sealed-off waveguide CO2 lasers. IEEE J. Quant. Electron., 1973, V. QE-9, №9, p. 940.

9. P.W.Smith, O.R.Wood II, PJ.Maloney, C.R.Adams. Transversely excited waveguide gas lasers. IEEE J. Quantum Electronics, 1981, v. QE-17, №7, p. 1116

10. Хочули, Холдеман. Долговечность маломощных волноводных СОг-лазеров непрерывного излучения с возбуждением постоянным током и с ВЧ-возбуждением. Приборы для научных исследований, 1986, №9, с.39.

11. Б.С.Данилин, В.Ю.Киреев. Применение низкотемпературной плазмы ля травления и очистки материалов. М.: Энергоатомиздат 1987

12. Плазменная технология в производстве СБИС. Ред. Н.Айнспрук, Д.Браун. М.: Мир 1987.

13. B.N. Chapman. Glow Discharge Processes. 1980, Willey, New York.

14. M.A. Liberman, A.J. Lichtenberg. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing. 1994, Willey, New York.

15. C.M. Левитский. Исследование потенциала зажигания высокочастотного разряда в газе в переходной области частот и давлений. ЖТФ, 1957, т.27, №5, с.970.

16. С.М. Левитский. Потенциал пространства и распыление электродов в высокочастотном разряде. ЖТФ, 1957, т.27, №5, с. 1002.

17. Ю.П.Райзер. Физика Газового Разряда. 1987, Москва, "Наука".

18. M. Weiler, S. Sattel, Т. Giessen, К. Jung, H. Ehrhardt, V.S. Veerasamy, J. Robertson. Preparation and properties of highly tetrahedral hydrogenated amrphous carbon. Phys. Rev. B, 1996, V. 53, №3, p. 1594.

19. Ю.П.Райзер, М.Н.Шнейдер, Н.А.Яценко. Высокочастотный Емкостный Разряд, 1995, Москва, "Наука".

20. A.S.Smirnov, L.D.Tsendin. The space-time-averaging procedure and modeling of the rf discharge. IEEE Trans, on Plasma Science, 1991, V. 19, №2, p.130.

21. B.A. Годяк, А.А. Кузовников. О вентильных свойствах вч-разрядов. Физика плазмы, 1975, т. 1, №3, с. 496.

22. В. А.Годяк. Стационарный высокочастотный разряд низкого давления. Физика плазмы, 1976, т.2, №1, с. 141.

23. В.А.Годяк, О.А.Попова, А.Х.Ганна. Об эффективной частоте столкновений электронов в ВЧ -разряде. Физика плазмы, 1976, т. 2, №6, с. 1010.

24. А.С. Смирнов. 11 риэлектродные слои в емкостном ВЧ разряде. ЖТФ, 1984, т. 54, №1, с. 61.

25. V.A.Godyak, R.B.Piejak, B.M. Alexandrevich. Electrical characteristics of parallel-plate rf discharge in argon. IEEE Trans, on Plasma Science, 1991, V. 19, №4, p. 660.

26. В.И. Демидов, Н.Б. Колоколов. А.А. Кудрявцев. Зондовые Методы Исследования Низкотемпературной Плазмы. Энергоатомиздат, Москва, 1996.

27. P.Spantenka. Probe measurements in an rf plasma reactor with planar electrodes. Czech. J. Phys. B. 1988, V.38, p. 996.

28. V.A.Godyak, R.B.Piejak, B.M. Alexandrovich. An experimental system for symmetric capacitive rf discharge studies. Rev. Sci. Instrum. 1990, V.61, №9, p. 2401.

29. G. Neumann, U. Banziger, M. Kammeyer et al. Plasma-density measurements by microwave interferometry and Langmuir probes in an rf discharge. Rev. Sci. Instrum. 1993, V.64, №1, p. 19.

30. L. J. Overzet, M.B. Hopkins. Comparison of electron-density measurements made using a Langmuir probe and microwave interferometer in the Gaseous Electronics Conference reference reactor. J. Appl. Phys. 1993, V.74, №7, p. 4323.

31. B.A. Лисовский. Особенности a-y перехода в ВЧ разряде низкого давления в аргоне. ЖТФ, 1998, т. 68, №5, с. 52.

32. U. Kortshagen. Experimental evidence on the nonlocality of the electron distribution function. Phys. Rev. E. 1994, Y.49, №5, p. 4369.

33. G. Dilecce, M. Capitelli, S. De Benedictis. Electron-energy distribution function measurements in capacitively coupled rf discharges. J. Appl. Phys. 1991, V. 69, №1, p. 121.

34. V.A.Godyak, R.B.Piejak. Paradoxical spatial distribution of the electron temperature in a low pressure rf discharge. Appl. Phys. Lett., 1993, V. 63, p. 3137.

35. V.A.Godyak, R.B.Piejak. Abnormally low electron energy and heating-mode transition in a low pressure argon rf discharge at 13.56 MHz. Phvs. Rev. Lett., 1990, V. 65, №8 p. 996.

36. P.E.Vanderplas. Electron Waves and Resonances in Bounded Plasmas. Willey, London, 1968.

37. M.A. Liberman. Analitycal solution for capacitive RF sheath, IEEE Trans, on Plasma Science, 1988, V. 16, №6, p.638.

38. C.K. Birdsall, A.B. Langdon. Plasma Physics via Computer Simulations. McGraw-Hill, 1985.

39. M.A. Liberman. Dynamics of collisional, for capacitive RF sheath, IEEE Trans, on Plasma Science, 1989, V. 17, №2, p.338.

40. А.Н.Изнар. Электронно-Оптические Приборы. Москва. Машиностроение, 1977.

41. P.W. May, D.F. Klemperer, D. Field. Monte carlo simulations of electron distributions in the sheath region of reactive-ion-etching plasmas. J. Appl. Phys., 1993, V. 73, №4, p. 1634.

42. A.C. Смирнов, А.Ю. Уставщиков, K.C. Фролов. Распределение по энергиям электронов и ионов, бомбардирующих электрод в высокочастотном разряде. ЖТФ, 1995, т.65, №8, с.38.

43. А.С. Смирнов, А.Ю. Уставщиков, К.С. Фролов. Энергетическое и временное распределение заряженных частиц, бомбардирующих электрод в высокочастотном разряде. Письма в ЖТФ, 1995, т.27, №17, с.56.

44. И.Г. Козлов. Современные Проблемы Электронной Спектроскопии. 1978, Москва, "Атомиздат".

45. Ф.Г.Абрамов, Ю.А.Волков, Н.Н.Вонсовский. Согласованный широкополосный усилитель. ПТЭ, 1984, N2, с. 111-112.

46. Е.А.Мелешко. Наносекундная Электроника в Экспериментальной Физике. 1987, Москва, "Энергоагомиздат".

47. Г. Корн, Т. Корн. Справочник по математике. 1978, Москва, "Наука".

48. К.F. Al-Assadi, P.A.Chatterton, J.A.Rees. Plasma diagnostic studies for reactive ion etching systems. Vacuum, 1988, vol. 38, №8, p. 633.

49. Л.Н. Добрецов, M.B. Гомоюнова. Эмиссионная Электроника. 1966, Москва, "Наука".

50. С. Böhm, J. Perrin. Retarding-field analyzer for measurements of ion energy distributions and secondary electron emission coefficients in low pressure RF discharges . Rev. Sei. Instr. 1993, V.64, №1, p. 31.

51. P.A.Miller. Electrical isolation of radio-frequency plasma discharges. J. Appl. Phys. 1992, V. 71, №3, p. 1171.

52. M.A.Sobolewski. Dynamic model of the radio-frequency plasma sheath in a highly assimetric discharge cell. Phys. Rev. E. 1997, V.56, №1, p. 1001.

53. C.Wild, P. Koidl. Ion and electron dynamics in the sheath of radio-frequency glow discharges. J. Appl. Phys. 1991, V.69, №5, p. 2909.

54. B.Andries, G.Ravel, L.Peccoud. Electrical characterization of radio-frequency parallel-plate capasitively coupled discharges. J. Vac. Sei. Technol. A. 1989, V.7, №4, p. 2774.

55. E.W. McDaniel, E.A.Mason, The Mobility and Diffusion of Ions in Gases, 1973, Willey, New York.

56. R. Geoffrey et al. Quenching rates of Ar metastables in radio-frequency glow discharges. 1988, J. Appl. Phys. V 64, № 2, p. 598.

57. R.A. Gottscho et al, 1984, J. Appl. Phys. V 55, p. 2707.

58. V.M. Donelly, D.L. Flamm, R.H. Bruce, 1985, J. Appl. Phys. V 58, p. 2135.

59. V.A. Godvak, R.B. Piejak. Probe measurements of the space potential in a radio frequency discharge. J. Appl. Phys. 1990, V. 68, №7, p. 3157.

60. G.A. Hebner, M.J. Kushner. Phase and energy distribution of ions icident on electrodes in radio-frequency discharges. 1987, J. Appl. Phys. V 62, p. 2256.

61. P.M. Meijer, W.J. Goendheer, J.D. Passchier. Calculation of the ionization rate and electron transport coefficients in an argon rf discharge. Physical Review A, 1992, V. 45, №2, p. 1099.

62. Z. Wang, A.J. Lichtenberg, R.H. Cohen. Kinetic theory of stochastically heated rf capacitive discharge. IEEE Trans, on Plasma Science, 1998, V. 26, p. 59.

63. B.P. Wood, M.A. Lieberman, A.J. Lichtenberg. Stochastic electron heating in a capacitive rf discharge with non-Maxwellian and time-varying distributions. IEEE Trans, on Plasma Science, 1995, V. 23, p. 89.

64. M. Surendra, D.B. Graves, I.J. Morey. Electron heating in low-pressure rf glow discharges. Appl. Phys. Lett., 1990, V. 56, №11, p. 1022.

65. M. Surendra, D.B. Graves. Particle simulations of radio-frequency glow discharges. IEEE Trans, on Plasma Science, 1991, V. 19, №2, p. 144.

66. Т.Н. Chung, H.S. Yoon, J.K. Lee. Scaling laws verification for capacitive rf-discharge Ar plasma using paricle-in-cell simulations. J. Appl. Phys., 1995, V.78, №11, p. 6441.

67. B.B. Иванов, A.M. Попов, Т.В. Рахимова. Новый подход к использованию метода частиц в ячейках для моделирования ВЧ-разрядов низкого давления. Физика плазмы. 1995, том 21, №8, с. 731.

68. В.В. Иванов, A.M. Попов, Т.В. Рахимова. Пространственная структура ВЧ-разряда в Аргоне низкого давления. Физика плазмы. 1995, том 21, №6, с. 584.

69. G.P. Misuim, A.J. Lichtenberg, M.A. Liberman. Macroscopic modeling of radio-frequency plasma discharges. J. Vac. Sci. Technol. A. 1989, V. 7, №3. p. 1007.

70. G.G. Lister. Low-pressure gas discharge modelling. J. Phys. D: Appl. Phys., 1992, Y. 25, p. 1049.

71. A.E. Dul'kin, S.A. Moshkalev, A.S. Smirnov, K.S. Frolov. Investigation of a low-pressure rf capacitative discharge. Technical Physics, 1993, V. 38, №7, p.564.

72. Z.Lj. Petrovic', A.V. Phelps. Temporal and constiction behavoir of low-pressure, cathode-dominated argon discharges. 1997, Phys. Rev. E., V. 56, №5, p. 5920.

73. H. Nishimura, K. Yano. Total electron scattering cross sections for Ar, N2, H20 and D2O. J. of Phys. Society of Japan, 1988, V. 57, №6, p. 1951.

74. F. J. de Heer, R. H. J. Jansen, W. van der Kaay. Total cross sections for electron scattering by Ne, Ar, Kr and Xe. J. Phys. B: Atom. Molec. Phys. 1979, V. 12, №6, p. 979.

75. И. Мак-Даниель. Процессы Столкновений в Ионизованных Газах. 1967, Москва, "Мир".

76. Л. Хаксли, Р. Кромптон. Диффузия и Дрейф Электронов в Газах. 1977, Москва, "Мир".

77. V. Godyak, R. Piejak. Private Communications. 1990, GTE Labs.

78. G.G. Lister, Y.-M. Li, V.A. Godyak. Electrical conductivity in high-frequency plasmas. J. Appl. Phys. 1996, V. 79, №12, p. 8993.

79. A.C. Смирнов, А.Ю. Уставщиков, K.C. Фролов. Определение концентрации электронов в емкостном высокочастотном разряде с использованием резонатора Фабри-Перо. ПТЭ, 1994, №3, с. 129.

80. B.M.Annaratone, V.P.T.Ku, J.E.Allen. Identefication of plasma-sheath resonances in a parallel-plate plasma reactor. J. Appl. Phys. 1995, V.77, №10, p. 5455.

81. B.M.Annaratone, V.P.T.Ku, J.E.Allen. The current waveform of a capacitively coupled rf discharge. Proc. XXI ICPIG, 1993, Ruhr, p. 31.

82. B.N . Chapman, D. Downer, L.J.M. Guimaraes. Electron effects in sputtering and cosputtering. J. Appl. Phys., 1974, V.45, №5, p. 2115.

83. H.R. Koenig, L.I. Maissel. IBM J. of R&D, 14, 2, 168, 1970.

84. M.A. Sobolevski. Electrical characterization of radio-frequency discharges in the Gaseous Conference Reference Cell. J. Vac. Sci. Techn. A. 1992, V. 10, №6, p. 3550.

85. T.E. Sheridan, M.J. Goeckner. Collisional Sheath dynamics. J. Appl. Phys. 1995, V.77, №10, p. 4967.

86. Y. Okuno, H. Fujita. Potential formation near powered electrode in radio-frequency-driven discharge. J. Appl. Phys. 1991, V.70, №2, p. 642.