Исследование механизмов спада УФ излучения и ресурса работы источников УФ излучения с ртутной дугой низкого давления тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 01.04.08, кандидат физико-математических наук Печеркин, Владимир Яковлевич

• Печеркин, Владимир Яковлевич
• кандидат физико-математических наук
• 2007

Оглавление диссертации кандидат физико-математических наук Печеркин, Владимир Яковлевич

ВВЕДЕНИЕ.

ГЛАВА 1. ОБЗОР ЛИТЕРАТУРЫ.

1.1. Обеззараживание УФ излучением.

1.2. Характеристики источников бактерицидного УФ излучения.

1.2.1. Газоразрядные источники низкого давления.

1.2.2. Газоразрядные источники высокого давления.

1.2.3. Газоразрядные импульсные источники.

1.2.4. Газоразрядные безэлектродные источники.

1.2.5. Полупроводниковые диоды.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Исследование механизмов спада УФ излучения и ресурса работы источников УФ излучения с ртутной дугой низкого давления»

Широкое внедрение метода УФ обеззараживания для промышленного применения, а также ужесточение экологических требований и неспособность традиционных технологий, таких как хлорирование и озонирование, удовлетворить им сделали актуальной задачу разработку новых более мощных, высокоэффективных, долговечных и экологически безопасных источников бактерицидного УФ излучения.

Решение этих задач требует детального исследования вклада энергии в разрядный промежуток и ее распределения по различным каналам в электрическом разряде в газе, влияния воздействия плазмы на разрядную оболочку и катоды ламп, новых экологически безопасных материалов для обеспечения оптимального давления паров излучающего вещества в разрядной оболочке.

Эффективность разряда низкого давления стимулировала исследования по увеличению энерговклада в разряд и его преобразованию в бактерицидное УФ излучение, а также по увеличению полезного срока службы. При этом наибольший интерес в научном и практическом плане представляют исследования ртутного разряда низкого давления при пониженном давлении буферного газа.

В настоящее время отсутствуют полные данные о зависимости энерговклада в ртутный разряд низкого давления при больших плотностях тока и пониженных давлениях смесей буферных газов. Предыдущие исследования включали в себя в основном исследования в инертных газах одного типа и были направлены на увеличение энерговклада в разряд при питании током промышленной частоты. Применение ЭПРА с частотой разрядного тока несколько десятков килогерц приводит к повышению мощности УФ излучения, и увеличению КПД разряда. Однако, мало статей посвящено исследованию влияния высокочастотного разрядного тока на ресурс работы и спад УФ излучения кварцевых источников. Мало исследовано влияние увеличения мощности разряда на время горения и спад УФ излучения мощных кварцевых источников УФ излучения низкого давления. Практически отсутствуют данные о влиянии защитного слоя на внутренней поверхности кварца на физический ресурс горения и спад УФ излучения.

Целью настоящей работы является исследование механизмов, определяющих длительность горения и спад интенсивности УФ излучения дугового разряда низкого давления в смесях инертных газов и паров ртути, и разработка источника УФ излучения с повышенной мощностью, высоким КПД и повышенным ресурсом работы.

Автор выносит на защиту следующие положения:

1. Экспериментальные результаты исследования дугового разряда переменного тока высокой частоты 25-50 кГц при пониженных давлениях смесей инертных газов аргон-неон 0,3-3 торр с погонной мощностью 1,5-3

Вт/см с применением амальгам с различным изотопным составом в качестве источника паров ртути.

2. Основные причины погасания дугового разряда при низких давлениях в смесях инертных газов и инертных газов с парами ртути.

3. Механизмы спада УФ излучения дугового разряда в парах ртути низкого давления.

4. Влияние защитного слоя из окислов редкоземельных металлов на время горения и спад УФ излучения дугового разряда в парах ртути низкого давления.

5. Обоснование выбора состава газа, давления, типа амальгамы и плотности тока. Разработка кварцевой амальгамной лампы с длиной дугового разряда 1440 мм, мощностью УФ излучения более 90 Вт, электрической мощностью 240 Вт с КПД 38%, спадом УФ излучения не более 20% после 12 ООО часов работы.

Структура и объем диссертации.

Заключение диссертации по теме «Физика плазмы», Печеркин, Владимир Яковлевич

Основные результаты работы:

1. Обнаружено, что основным механизмом, определяющим время горения разряда при давлениях инертного газа 0.1-1.0 торр, является необратимое изменение параметров разрядной плазмы, которое обусловлено взаимодействием разрядной плазмы с внутренней поверхностью кварца. При добавлении паров ртути определяющим механизмом погасания разряда является повышение работы выхода электронов из оксидного катода вследствие взаимодействия выделяющихся из кварца водорода и кислорода с окислами щелочноземельных металлов, что приводит к повышению температуры и повышенному расходу эмиттирующего электроны вещества. Время горения разряда определяется запасом эмиттирующего вещества оксидных электродов. Параметры разрядной плазмы в этом случае практически не изменяются за счет связывания выделяющихся из кварца атомов с атомами ртути и осаждения образовавшихся соединений на стенку кварца.

2. Обнаружено, что применение защитного слоя из окислов редкоземельных металлов, который препятствует взаимодействию плазмы с кварцем, увеличивает время горения разряда в смесях инертных газов почти на три порядка при одинаковых давлениях и составах инертного газа, а в инертных газах с парами ртути почти в 1.5 раза. Время горения разряда определяется повышение работы выхода электронов из оксидного катода и полным расходом эмиттирующего вещества оксидного электрода.

3. Установлено, что спад УФ излучения в процессе горения разряда определяется изменением коэффициента пропускания УФ излучения приповерхностного слоя кварца толщиной менее 50 мкм, контактирующего с разрядной плазмой. Показано, что кривая спада УФ излучения имеет два участка, отличающихся наклоном, начальный участок с большим наклоном, который заканчивается через 100-500 часов работы исследуемых источников, и участок с малой величиной наклона при длительной работе. Определено, что спад УФ излучения на начальном этапе, в основном, определяется процессами связывания атомов ртути с кислородом и атомами ЩЗМ, выделяющимися при разложении карбонатов ЩЗМ, из которых получают оксиды ЩЗМ на вольфрамовых электродах. Связанные атомы ртути в виде закиси или окиси, а также амальгамы с ЩЗМ осаждаются на внутреннюю поверхность кварца и уменьшают коэффициент пропускания УФ излучения кварца. При длительном горении разряда основной причиной спада УФ излучения является накопление атомов ртути в приповерхностном слое кварца за счет образования химических связей атомов ртути с молекулами кислорода, входящими в состав кварца.

4. Предложено наносить на внутреннюю поверхность кварцевой разрядной трубки защитный слой из окислов редкоземельных металлов для уменьшения спада УФ излучения и увеличения полезный ресурс работы источников УФ излучения. Результаты исследований показали, что спад УФ излучения без защитного слоя на поверхности кварца составляет 40 -55% после 6 000 часов, а с защитным слоем - 20% после 12 000 часов при непрерывном режиме работы.

5. На основе проведенных исследований определены оптимальные давления и состав смеси инертных газов и состав амальгамы. Разработана амальгамная лампа с мощностью бактерицидного УФ излучения 91.7 Вт, мощностью 240 Вт, с КПД преобразования электрической энергии в УФ излучение 38,6%, с полезным ресурсом работы 12 000 часов и спадом УФ излучения не более 20%. Разработанная лампа внедрена в производство в НПО «ЛИТ» и применяется в широком спектре оборудования для обеззараживания воды и воздуха в промышленных объемах.

В заключение автор считает своим долгом выразить искреннюю признательность научному руководителю С.В. Костюченко за предложенную тему исследований, научное руководство и всестороннюю помощь и поддержку. Автор благодарен сотрудникам НПО "Лаборатория импульсной техники" Л.М. Василяку, А.И. Васильеву, М.Е. Кузьменко, Ю.П. Петренко, В.М. Бутину, A.B. Красночубу, Л.А. Дроздову, A.A. Польяникову за обсуждения и помощь при совместном проведении экспериментов. Автор выражает искреннюю признательность A.B. Рыбакову за помощь при создании экспериментальных установок. Автор также благодарен всему коллективу НПО "Лаборатория импульсной техники", который оказывал поддержку при проведении этой работы.

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В настоящей работе представлены результаты экспериментальных исследований разряда низкого давления в смесях паров ртути и инертного газа в широком диапазоне разрядных условий. Получены вольтамперные характеристики и мощность УФ излучения при пониженных давлениях инертного газа при высокочастотном разрядном токе. Обнаружено, что разрядная плазма, ограниченная кварцевой разрядной трубкой, изменяет свои свойства в течение короткого промежутка времени при низких давлениях инертных газов, что приводит к необратимому погасанию разряда. Показано, что применение защитного слоя приводит к существенному увеличению времени горения разряда в инертных газах, а также приводит к уменьшению величины спада УФ излучения амальгамных ламп. Полученные результаты позволили разработать источники с мощностью бактерицидного УФ излучения 91.7 Вт, КПД преобразования электрической энергии в УФ излучение 38.6%, длительным ресурсом горения и спадом УФ излучения не более 20%.

Список литературы диссертационного исследования кандидат физико-математических наук Печеркин, Владимир Яковлевич, 2007 год

1. Справочная книга по светотехнике // Под ред. Айзенберга Ю.Б. М.: Знак. 2006.972 с.

2. Бутин В.М., Волков C.B., Костюченко C.B., Кудрявцев H.H., Якименко A.B. Обеззараживание питьевой воды ультрафиолетовым излучением // Водоснабжение и санитарная техника. 1996. №12. С. 7-10.

3. Васильев С.А., Волков C.B., Костюченко C.B. Обеззараживание воды ультрафиолетовым излучением. Особенности применения // Водоснабжение и санитарная техника. 1998. № 1. С. 2-8.

4. Альшин В.М., Волков С.В, Гильбух А.Я., Гречухин А.И., Костюченко C.B., Кудрявцев H.H., Якименко A.B. Достоинства и недостатки промышленных методов обеззараживания воды // Водоснабжение и санитарная техника. 1996. № 12.С. 2-7.

5. Bosh A. Comparative resistance of bacteriophages active against Bacteroides fragilis to inactivation by chlorination or ultraviolet radiation // Water Science and Technology. 1989. V. 21. № 3. P. 21-27.

6. Загорский M.A., Козлов M.H., Данилович B.A. Методы обеззараживания сточных вод // Водоснабжение и санитарная техника. 1998. № 2. С. 1-5.

7. Санитарный надзор за применением ультрафиолетового излучения в технологии подготовки питьевой воды // Методические указания МУ 2.1.4.719-98.

8. Plants for the disinfection of water using ultraviolet radiation. Requirements and testing // ONORM M5873-1. Österreichisches. Normungsinstitut. A-1021. Wien. 2003.

9. Рохлин Г.Н. Дуговым источникам 200 лет // М. ВИГМА. 2001. С. 72.

10. Уэймаус Д. Газоразрядные лампы // М. Энергия. 1977. С 344.

11. Фабрикант В.А. Механизм излучения газового разряда, в кн: Электронные и ионные приборы, под редакцией П.В. Тимофеева. Госэнергоиздат. 1941. С. 322.

12. Райзер Ю.П. Физика газового разряда // М. Наука. 1987. С. 592.

13. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света // М. Энергоатомиздат. 1991. С. 720.

14. Справочник Физические величины под редакцией Григорьева И.С., Мейлихова Е.З. // М. Энергоатомиздат. 1991. С. 677.

15. Клярфельд Б.Н. Положительный столб газового разряда и его использование для получения света, в кн: Электронные и ионные приборы, под редакцией П.В. Тимофеева//Госэнергоиздат. 1941. С. 322.

16. Vriens L., Keijser R.A. and Ligthart F.A.S. Ionization processes in the positive column of the low-pressure Hg-Ar discharge // J.Appl.Phys. V.49. N7. 1978. P. 3807-3813.

17. Tingsheng Lin. Toshio Goto. Accounts of ionization mechanism in low-pressure Ar-Hg discharges // J. Applied Physics. 1991. V1. 69. P. 8.

18. Сепман В.Ю., Шеверов В.А., Вуйнович В. Ассоциативная ионизация при парных столкновениях 63Р0 возбужденных атомов ртути // Оптика и Спектроскопия. 1984. Т. 56. Вып. 4. С. 591-595.

19. Клярфельд Б.Н. Положительный столб газового разряда и его использование для получения света // Тр Всесоюзного электротехнического института. Электронные и ионные приборы, под редакцией Тимофеева П.В. М. Госэнергоиздат. 1940. Вып. 41. С. 165-235.

20. Пенкин Н.П., Редько Т.П. Сечение возбуждения и перемешивания уровней 63Р0.1.2 атома ртути электронным ударом // Оптика и спектроскопия. 1974. Т. 36. Вып. 3. С. 360.

21. Уваров Ф.А., Фабрикант В. А. Экспериментальное определение эффективной вероятности испускания фотонов атомами плазмы // Оптика и спектроскопия. 1965. Т. 18. Вып. 4. С. 562.

22. Пенкин Н.П., Редько Т.П., Крюков А.Н. Коэффициент диффузии метастабильных атомов ртути в аргоне // Оптика и спектроскопия. 1974. Т. 37. Вып. 4. С. 446.

23. Каланов В.П., Костенко В.А, Тимофеев Н.А. Исследование процессов заселения высоковозбужденных состояний атома ртути в плазме импульсно-периодического разряда в смеси паров ртути с аргоном // Оптика и спектроскопия. 1987.Т. 63. Вып. 6. С. 1202.

24. Ландау Л.Д., Лифшиц Е.М. Квантовая механика. Нерелятивистская теория //Т.З М. Наука. 1989.С.768.

25. Holstein Т. Imprisonment of Resonance Radiation in Gases // Physical review. 1947. V. 72. P. 12.

26. Holstein T. Imprisonment of Resonance Radiation in Gases. II // Physical Review. 1951. V. 83. 6. P. 122.

27. Биберман Л.М. К теории диффузионного резонансного излучения // ЖЭТФ. 1947. Т. 17. С. 623.

28. Post Н.А. The Effective Radiative Decay Rate of Hg 6.Р] ( 1984.9 nm) // Escampig 84. Seventh European sectional conference on the atomic and molecular physics of ionized gases. 1984. V. 8E. P. 150.

29. Post. H.A, P. van der Weijer, Cremers R.M.M. Radiative transport at the 184.9 nm Hg resonance line. II. Extensive experiments // Physical Review A. 1986. V. 33.3. P. 2017.

30. Справочник констант элементарных процессов с участием атомов, ионов, электронов, фотонов под ред. проф. А.Г. Жиглинского // С.-П. Издательство С.-П. университета. 1994. С. 786.

31. Миленин В.М., Тимофеев Н.А Плазма газоразрядных источников света низкого давления // Ленинград. Издательство Ленинградского Университета. 1991. С. 240.

32. Безуглов Н.Н. Распад резонансных состояний атомов в цилиндрическом объеме газа конечных размеров. I // Оптика и спектроскопия. 1982. Т. 52. 5. С. 805.

33. Химическая энциклопедия // Москва. Большая российская энциклопедия. 1995. Т. 4. С. 2783.

34. Grossman M.W., Lagushenko R., Maya J. Isotope effects in low-pressure Hg-rare-gas discharges // Physical Review A. 1986. V. 34. 5. P. 4094.

35. Каланов В.П., Миленин B.M., Тимофеев H.A. Исследование заселенности резонансных уровней 63Pj и 6!Pi атома ртути в плазме разряда в смеси паров ртути с аргоном // Оптика и спектроскопия. 1986. Т. 60.4. С. 711.

36. Eliasson В., Kogelschatz U., Stin HJ. New Trends in High Intensity UV Generation // EPA newsletter. 1988. №32. P. 29-40.

37. Lankhorst M.H.R., Niemann U. Amalgams for fluorescent lamps Part I: Thermodynamic design rules and limitations // Journal of Alloys and Compounds. 2000. V. 308. P. 280-289.

38. Козин Л.Ф., Нигметова Р.Ш., Дергачева М.Б. Термодинамика бинарных амальгамных систем // Алма-Ата: Наука. 1977. С. 231.

39. Lankhorst M.H.R., Keur W., van Hal H.A.M. Amalgams for fluorescent lamps Part II: The systems Bi-Pb-Hg and Bi-Pb-Au-Hg // Journal of Alloys and Compounds. 2000. V. 309. P. 188-196.

40. Godyak V., Shaffer J. Endura: a new high output electrodeless fluorescent light source // Symposium Proceedings of the 8th internatioal Symposium on the Science and Technology of Light Sources (LS-8). Germany. 1998. P. 14-23.

41. Микаева C.A. Разработка и исследование технологии производства компактных люминесцентных ламп информационно-измерительных приборов и систем // Диссертация на соискание уч. ст. д.т.н. М. 2007. С. 292.

42. Кузьменко М.Е. Экспериментальные исследования разряда в парах ртути и инертных газов и разработка мощного источника УФ излучения // Диссертация на соискание уч. ст. к.ф.м.н. М. 2000. С. 142.

43. Охонская Е.В., Пантелеев A.B., Самородов В.К. Характеристики разряда в тонких и супертонких люминесцентных лампах // Светотехника. 2000. №5. С. 21-22.

44. Drop P.C., Polman J. Calculation on the effect of supply frequency on the positive column of a low pressure Hg-Ar AC discharge // J. Phys. D: Apll. Phys. 1972. V. 5. P. 562-568.

45. Литвинов B.C., Троицкий A.M., Холопов Г.К. Характеристики отечественных люминесцентных ламп при работе на повышенных частотах // Светотехника. 1961.1. С. 5-10.

46. Каланов В.П., Костенко В;А, Тимофеев H.A. Исследование процессов заселения высоковозбужденных состояний атома ртути в плазме импульсно-периодического разряда в смеси паров ртути с аргоном // Оптика и спектроскопия. 1987.Т. 63. 6. С. 1202.

47. Ломов A.A., Миленин В.М., Тимофеев H.A. Исследование положительного столба разряда в смеси ртуть-аргон в условиях импульсной модуляции тока // ЖТФ. 1978. Т. 48. В.10. С. 2054-2059.

48. Миленин В.М., Тимофеев H.A. Радиальные зависимости электронных параметров плазмы положительного столба ртутного разряда . низкого давления в условиях импульсной модуляции тока // ЖТФ. 1978. Т. 48. В.10. С. 2060-2061.

49. Миленин В.М., Тимофеев H.A. О возможности повышения световой отдачи газоразрядных источников света низкого давления // Светотехника. 1981.4. С. 6-7.

50. Красночуб A.B. Исследование излучательных характеристик импульсно-периодического разряда в виде высокоскоростной волны ионизации // Диссертация на соискание уч. ст. к.ф.м.н. М. 1998. С. 148.

51. Охонская Е.В., Решенов С.П., Рохлин Г.Н. Электроды газоразрядных источников излучения // Саранск. Издательство Мордовского Университета. 1978. С. 234.

52. Иориш А.Е., Кацман Я.А., Птицын С.В., Шейнгауз A.A. Основы технологии производства электровакуумных приборов // Л. Энергия. 1971. С. 312.

53. Охонская Е.В., Федоренко A.C. Расчет и конструирование люминесцентных ламп // Саранск. Издательство Мордовского университета. 1997. С. 184.

54. Мойжес Б.Я. Физические явления в оксидном катоде // М. Физматгиз. 1968. С. 570.

55. Федоренко A.C. Экспериментальное исследование и расчетное моделирование ПС ЛЛ низкого давления // Диссертация на соискание уч. ст. д.т.н. М., МЭИ. 1989.

56. Литвинов B.C. Оптимизация источников света массового применения // М. Энергоатомиздат. 1999. С. 432.

57. UK Patent Application GB 2124019 А.

58. Литвинов B.C. методы расчета и оптимизация параметров источников света широкого применения // Диссертация на соискание уч. ст. д.т.н. М., МЭИ. 1983.

59. V.D. Hildenbrand, C.J.M. Denissen, L.M. Geerdings and others. Interactions of thin oxide films with a low-pressure mercury discharge // Thin solid films. 2000. 371. P. 295-302.

60. Elenbaas W. The High Pressure Mercury Vapor Discharge // Amsterdam. North Holland Publishing Company. 1951.

61. Ртутные лампы высокого давления под редакций И.М. Весельницкого // М. Энергия. 1971. С. 328.

62. Lambrecht М. Untersuchungen an Quecksilberhochdrucklampen zur effizienten Erzeugung ultravioletter Strahlung // Dissertation. Karlsruhe. 1998.

63. Schwarz-Kiene P. Betriebsgeräte und Verfahren zur effizienten Erzeugung ultravioletter Strahlung. Dissertation. Karlsruhe. 2000.

64. Dr. Heering W. Doped UV Arc Lamps Performances and Limits of Operation // December Session Basel Papers. 2002. P. 121-127.

65. Page R. В. A search for an improved ultraviolet radiation source // Lighting Research & Technology. 1986.18. P. 75-78.

66. Beying A. Technical information from eta plus electronic. Nürtingen. 2001.

67. Stormberg H.P., et al. Excitation of acoustic instabilities in discharge lamps with pulsed supply voltage // Lighting Research & Technology. 1983. V. 15. P. 127132.

68. Ishigami T. Thermodynamic considerations of chemical reaction phenomena in HID lamps //J. Light & Vis. Env. 1998. V. 22. P. 16-26.

69. Маршак И.С. Импульсные источники света. // М. Энергия. 1978. С. 472.

70. Рохлин Г.Н. Разрядные источники света // М. Энергия. 1966. 360 с.

71. Басов Ю.Г. Источники накачки микросекундных лазеров // М. Энергоатомиздат. 1990.240 с.

72. Дойников A.C. /Исследование основных характеристик излучения прямых трубчатых ксеноновых импульсных ламп.х // Автореф. дис. М., ФИАН СССР, 1972, С.24.

73. Игнатьев В.Г., Подгаецкий В.М., Токарева А.Н., Чибис В.Н. Сопоставление характеристик излучения ламп накачки и лазера на ИАГ: Nd3+ // В кн.: Импульсная фотометрия. Л. «Машиностроение». 1973. Вып. 3. С. 99105.

74. Luis R. Panico Instantaneous Surface Sanitization With Pulsed UV // Hygienic Coatings Global Conference Brussels. Belgium. 8 -9 July 2002.

75. Вассерман AJL, Шандала М.Г., Юзбашев В.Г. Ультрафиолетовое излучение в профилактике инфекционных заболеваний // М. Медицина. 2003. С. 208.

76. Сарычев Г.С. Облучательные светотехнические установки // М: Энергоатомиздат. 1992. С. 240.

77. Jinno М., Motomura Н., Ikeda Y., and Aono М. Fundamental Research on Xenon and Xenon-Rare Gas Pulsed Dielectric Barrier Discharge Fluorescent Lamps // Proc. of the XXVIICPIG 2003. Greifswald. Germany. July 2003. P. 320-321.

78. Рыбка Д.В., Бакшт E.X., Ломаев М.И., Тарасенко В.Ф., Кришнан М., Томпсон Дж. Характеристики излучения импульсного разряда в ксеноне // Журнал технической физики. Т. 75. Вып. 2. 2005. С. 131-134.

79. Obara М. Recent progress of excimer radiation research, development and application // Proc. of the 7th Intern. Symposium on the Science and Technology of Light Sources. Kyoto-Japan. 1995. P. 149 - 159.

80. Jun-Ying Zhang J.Y., Ian W. Boyd I. W. Lifetime investigation of excimer UV sources // Applied Surface Science. V. 168.2000. P. 296 299.

81. Bergonzo P., Patel P., Boyd I.W., Kogelschatz U. Development of a novel large area excimer lamp for direct photo deposition of thin films // Applied Surface Science. 1992. 54. P. 424-429.

82. Eliasson В., Gellert B. Investigation of resonance and eximer radiation from a dielectric barrier discharge in mixtures of mercury and the rare gases // J. Appl. Phys. 1990. 68 (5). P. 2026-2037.

83. Gellet В., Kogelschatz U. . Generation of Excimer Emission in Dielectric Barrier Discharges // Appl. Phys. B. 1991. V. 52. P.14-21.

84. Kogelschatz U. Silent Discharges and Their Applications // Proceedings of the X-th international conf. on Gas discharges and their applications. 1992. V. II. P. 972-980.

85. Oppelender Т., Baum G. Wasserauf bereitung mit Vakuum-UV/VUV-Eximer-Durchflussphotoreactors // Wasser-Abwasser. 1996. V. 137(6). P. 321-325.

86. Соснин Э.А., Захарова Э.А., Баталова B.H. Применение эксиламп в аналитической химии // Заводская лаборатория. 2005. Т. 71. №8. С. 18 24.

87. Batalova V.N., Byatskaya О.А., Sosnin Е.А. Biological objects pretreatment optimization using XeBr-excilamp for mercury concentration control by ASVA method // Proc. SPIE. 2004. V. 5483. P. 323-327.

88. Kogelschatz U., Boid I. W., Zhang J.Y. Development and applications of UV eximer lamps // (in Book "Photo-Exited Posseses, Diagnostic and Applications" Kluwer Academic Publishers, 2003. P. 161-199.

89. Sosnin E.A., Tarasenko V.F. VUV. and UV excilamps and their applications // Proc. SPIE. 2006. V. 6261. P.626-636.

90. Tarasenko V.F., Kagadei V.A., Lomaev M.I., Panchenko A.N., Proskurovsky D.I. Application of CrCl exilamp for cleaning GaAr surfaces using atomic hydrogen //Proc. SPIE. 1998. V. 3274. P. 323-330.

91. Escher KrF Laser Induced Color Centers in Commercial Fused Silicas // Proc. SPIE. Excimer Beam Applications. 1988. V. 998. P. 30-37.

92. Araujo , et al. Method of forming high purity fused silica having high resistance to optical damage // United States Patent N 5616159. 1997.

93. Ломаев М.И., Панченко A.H, Соснин Э.А., Тарасенко В.Ф. Цилиндрические эксилампы с накачкой тлеющим разрядом // Журнал технической физики. 1998. Т. 68. Вып. 2. С. 64-68.

94. HITTORF W. Ueber die Elekticititatsleitung der Case // Ann. Phys. 1884.21. P. 137-139.

95. THOMSON J.J. On the discharge of electricity through exhausted tubes without electrodes // Phil. Mag. 1891. 32. P. 321-336,445-464.

96. Wharmby D.O. Science, Measurement and Technology // IEE Proceedings A . 1993. V. 140. Issue 6. P. 465 473.

97. Anderson J. M. US Patent N 3500118. 1970.

98. Shaffer J. W., Godyak V. The development of low frequency, high output electrodeless fluorescent lamps // Journal of The Illuminating Engineering Society. 1999.28. P.142.

99. Godyak V., Alexandrovich В., Piejak R, Smolyakov A. Nonlinear radio-frequency potential in an inductive plasma Plasma // Sources Sci. Technol. 2000. N 4. P. 541-544.

100. Piejak R., Godyak V., Alexandrovich B. Electric field in inductively coupled discharge // J. Appl. Phys. 2001. 89. P. 3590.

101. Hiroshi Horiuchi, Keiji Fukuzawa Light source apparatus using coaxial waveguide. United States Patent. US6046545.2000.

102. Kim Hang-Seok, Choi Joon-Sik Coopling structure of waveguide and applicator, and its application to electrodeless lamp. Патент Японии JP2001189197. 2001.

103. Hyung Joo Kang, Yong Seog Jeon Preventing leakage of microwaves,e.g. from ovens and lamps. Патент Великобритании GB2353897. 2001.

104. Beneking С., Anderer P. Radiation efficiency of Hg-Ar surface wave discharge //J.Phys.D: AppLPhys. 1992. V. 25. N10. P. 1470-1482.

105. Al-Shamma'a A.I., Pandithas I., Lucas J., Low-pressure microwave plasma ultraviolet lamp for water purification and ozone applications // J.Phys.D: AppLPhys. 2001. V. 34. N18. P. 2775-2781.

106. Gielen J., Antonis P., Verhaar H. A long life induction lamp with high lumen output // 8th Int.Symp. on the Science and Techn of Light Sources (LS-8) (Greifswald). 1998. P. 142-143.

107. Antonis P.H. Abrahamse G.J., Eggink H.J., Smulders M.H. Electrodeless low-pressure discharge lamp. Патент Европы EP0811240. 1997.

108. Kamimura К. Electrodeless discharge lamp, Electrodeless discharge lamp Device, Ultraviolet ray irradiation device, and fluid treating device. Патент Японии JP10012196.1998.

109. Godyak V., Shaffer J. Endura: a new output electrodeless fluorescent light source // 8th Int. Symp. on the Science and Techn of Light Sources (LS-8) (Greifswald). 1998. P. 14-23.

110. Вохник О. M., Козлов А. Н., Лексина Е. Г., Ляхов Г.А., Мухина Е.А., Павлов Ю.В., Умарходжаев Р. М. Механизм деградации серных ламп // Светотехника. 2001. № 2. С. 2-6.

111. Nakamura S., Fasol G. The Blue Laser Diods (GaN Based Light Emitters and Lasers)//B. Heidelberg. Springer. 1997. P. 320.

112. Ponce F.A., Bour D.P. Nitride-Based Semiconductors for Blue and Green Light-Emitting Divaces // Nature. 1997. Vol. 386. P. 351-359.

113. Никифоров С. В. Проблемы, теория и реальность светодиодов для современных систем отображения информации высшего качества // интернет-журнал о Больших Светодиодных экранах. 2005. № 10. www.screens.ru/rus/atvsy stemsmagazine/2005/10.htm

114. Бахтизин Р.З. Голубые диоды // Соросовский образовательный журнал. 2001. Т. 7. №3. с. 42-47.

115. М. Razeghi and A. Rogalski, Semiconductor Ultraviolet Detectors // Applied Physics Reviews. J. Appl. Phys. 1996.79(10). P. 7433*7473.

116. S. Donati Photodetectors // Prentice Hall. 2000. P. 431.

117. Технические характеристики светодиодов с длиной волны 280 нм // Сайт компании Sensor Electronic Technology Inc. www.s-et.com/datasheet/UVTOP 280 Pdatasheet b.pdf.

118. Новости разработки УФ светодиодов коротковолнового диапазона / http://0ptics.0rg/articles/news/l 0/9/21/1

119. Грушко Н. С., Потанахина JI. Н. Механизмы токопереноса в структурах на основе GaN с квантовой ямой в диапазоне температур 77-297К // Труды 5-ой международной конференции Оптика, Оптоэлектроника и Технологии. Ульяновск. 2003. С. 77.

120. Грушко Н.С., Потанахина JI.H., Амброзевич С.А. Эффективность электролюминесценции структуры на основе InGaN // Труды международной конференции Опто-, Наноэлектроника, Нанотехнологии и Микросхемы, Ульяновск. 2006. С. 182.

121. J Zhang et al. Crack-free thick AlGaN grown on sapphire using AIN/AlGaN superlattice for strain management // Appl. Phys. Lett 2002. 80(19). P. 3542.

122. Новости разработки УФ светодиодов коротковолнового диапазона http://0ptics.0rg/articles/feature/9/6/l/l.

123. Шейндлин А.Е. Излучательные свойства твердых материалов / М. Энергия. 1974.

124. Михеева И.М. Теплопередача и тепловое моделирование / М. Издательство АН СССР. 1959. С. 226-238.

125. Исаченко В.П., Осипова В.А., Сукомел А.С. Теплопередача / М. Энергия. 1975.

126. Весельницкий И.М. / Определение оптимальных параметров и некоторые вопросы конструирования мощных люминесцентных ламп // Диссертация кандидата технических наук. М: ВНИИСИ, 1966.

127. Ширчков В.Н. Влияние инертного газа на продолжительность горения люминесцентных ламп // Оптимизация светотехнических изделий и источников света. Межвузовский сб. научн. трудов. Саранск: Изд. Мордов. Ун-та. 1985. С. 32-36.

128. Васильев А.И., Василяк JI.M., Костюченко С.В., Кудрявцев Н.Н., Кузьменко М.Е., Печеркин В .Я. Влияние защитного слоя на длительность горения и излучение кварцевых газоразрядных ламп низкого давления //Письма в ЖТФ. 2006. Том 32. Вып. 1. С. 83-88.

129. Васильев А.И., Красночуб A.B., Кузьменко М.Е., Петренко Ю.П., Печеркин В.Я. Анализ современных промышленных источников бактерицидного ультрафиолетового излучения // Светотехника. 2004. №6. С.42-45.

130. Костюченко C.B., Митичкин О.В., Петренко Ю.П., Печеркин В.Я. Особенности расчета мощных источников УФ излучения низкого давления. // Светотехника. 2000. №5. С.30-31.

131. Кузьменко М.Е., Митичкин О.В., Безлепкин А.И., Костюченко C.B., Кудрявцев H.H., Печеркин В.Я. Экспериментальное исследование амальгамной лампы низкого давления при повышенной мощности разряда // ТВТ. 2000. Т.38. № 3. С. 510-513.

132. Васильев А.И., Костюченко C.B., Красночуб A.B., Кузьменко М.Е., Польяников A.A., Печеркин В.Я., Кожуров В.Н., Урбанович В.А. Пускорегулирующий аппарат для газоразрядных ламп //Патент на изобретение №2275760 РФ. 27 апреля 2006 г.

133. Кудрявцев H.H., Костюченко C.B., Васильев А.И., Кузьменко М.Е., Печеркин В.Я. Способ нанесения защитного покрытия на внутреннюю поверхность колб газоразрядных ламп //Патент на изобретение №2218630 РФ. 10 декабря 2003 г.

134. Безлепкин А.И., Брайловский В.Б., Бутин В.М., Костюченко C.B., Кузьменко М.Е., Митичкин О.В., Куркин Г.А., Петренко Ю.П., Печеркин В.Я. Газоразрядная ртутная лампа низкого давления //Патент на изобретение №2192688 РФ. 10 ноября 2002 г.

135. Кузьменко М.Е., Митичкин О.В., Костюченко C.B., Печеркин В.Я. Применение амальгамы в мощном источнике бактерицидного излучения высокой эффективности // X конференция по физике газового разряда. Тезисы докладов. Часть 2. Рязань. 2000. С. 196-197.

136. Кузьменко М.Е., Печеркин В.Я., Костюченко C.B. Методика измерения УФ излучения трубчатых бактерицидных ламп низкого давления // Тезисы докладов IV международной светотехнической конференции. Вологда. 2000. с.157-158.

137. Излучательная способность оксидных покрытий и ее влияние на измерение температуры электродов пирометрическим методом // Физика низкотемпературной плазмы 2007: Материалы Всероссийской конференции (24-27 июня 2007 г.). Петрозаводск. 2007. Т.2. С. 34-36.