Фотохимические реакции органических азидов в средах с ограниченной подвижностью тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 02.00.06, доктор химических наук Зеленцов, Сергей Васильевич

• Зеленцов, Сергей Васильевич
• доктор химических наук
• 1998

Оглавление диссертации доктор химических наук Зеленцов, Сергей Васильевич

Содержание

стр.

Введение

Актуальность работы

Цель работы

Научная новизна

Практическая значимость работы

Апробация работы

Публикации 14 Глава 1. Физические и химические свойства органических

азидов и нитренов

1.1. Органические азиды, их физические и химические свойства

1.1.1. Физические свойства азидов

1.1.2. Основные химические реакции органических азидов

1.1.2.1. Термическое разложение органических азидов

1.1.2.2. Циклоприсоединение по кратным связям

1.1.2.3. Полярографическое восстановление азидов

1.2. Фотофизические свойства азидов и механизмы их первичных фотохимических процессов

1.2.1. Фотофизические свойства органических азидов

1.2.2. Первичные фотохимические процессы в молекулах азидов

1.2.2.1. Роль триплетных состояний в фотолизе азидов

1.2.2.2. Образование азидонитренов при фотолизе диазидов

1.2.2.3. Промежуточное образование ароилнитренов

1.3. Нитрены и их свойства

1.3.1. Физические свойства нитренов 3

1.3.2. Фотофизические свойства нитренов

1.3.3. Применение квантовой химии для исследования

свойств нитренов

1.4. Ненитренные механизмы фотолиза органических азидов

1.4.1. Дидегидроазепины в качестве промежуточных частиц

1.4.2. Карбены в качестве промежуточных частиц

1.4.3. Согласованные механизмы фотолиза 49 Глава 2. Фотохимические реакции органических азидов в

средах с ограниченной подвижностью

2.1. Взаимодействие нитренов с водородсодержащими соединениями

2.1.1. Механизмы реакций в растворах

2.1.2. Особенности реакций в средах с ограниченной подвижностью

2.1.3. Влияние межмолекулярных водородных связей

2.2. Взаимодействие нитренов с ненасыщенными соединениями

2.2.1. Механизм реакций в растворах

2.2.2. Реакции в твёрдой фазе

2.3. Фотоокисление органических азидов

2.3.1. Фотоокисление органических азидов в растворах

и в газовой фазе

2.3.2. Фотоокисление азидов в средах с ограниченной

подвижностью

2.3.2.1. Изучение природы парамагнитных продуктов методом ЭПР

2.3.2.1.1. Определение компонент g-фактора и тензора сверхтонкого взаимодействия

2.3.2.1.2. Определение времён спин-решёточной релаксации

2.3.3.2. Качественный состав продуктов фотоокисления

2.3.3.3. Применение метода конкурирующих реакций

2.3.3.4. Зависимость выхода парамагнитных продуктов фотоокисления от объёма нитрена и характеристик полимера

2.3.3.5. Механизм фотоокисления органических азидов

в условиях ограниченной подвижности

2.4. Взаимодействие нитрена с молекулой азида

2.4.1. Реакция нитрена с азидом в растворах

2.4.2. Квантовохимическое моделирование реакций

нитренов с азидами

2.4.3. Изучение химической природы продуктов фотолиза азидов в кристаллическом состоянии

2.4.4. Механизм фотолиза диазидов в кристаллах

2.4.5. Расчёт упаковок молекул органических азидов

в кристаллах как метод предсказания механизмов их реакций и выхода их продуктов

2.4.5.1. Расчет упаковки 4,4'-диазидодифенила

2.4.5.2. Расчет упаковок 4,4"-диазидо-п.-терфенила

2.4.5.3. Расчет упаковки 4,4'-диазидодифенилового эфира

2.4.5.4. Расчет упаковки молекул 4,4'-диазидобензофенона 154 Глава 3. Роль структурных факторов в фотохимических

реакциях азидов в средах с ограниченной

подвижностью

3.1. Влияние ограничения трансляционной подвижности

на механизм и реакционную способность реагентов

3.2. Роль доли свободного объёма среды и объёма реагентов

3.3. Топохимический принцип и роль упаковки

3.4. Доступность реакционного центра

3.5. Кинетические особенности фотохимических реакций

в средах с ограниченной подвижностью

Глава 4. Фотохимия органических азидов в организованных средах как научная основа разработки современных резистов

4.1. Резисты на основе органических азидов и их смесей, наносимых и проявляемых термическим испарением в вакууме

4.1.1. Термически проявляемые слои из 4,4'-диазидо-дифенила и 4,4'-диазидобензофенона

4.1.2. Проявление резистного изображения химической возгонкой в озон-кислородной смеси

4.2. Новые фотолитографические процессы на основе привитой полимеризации

Глава 5. Теоретические методы исследования структуры

твёрдых тел

5.1. Методы моделирования упаковок в кристаллах

5.2. Расчёт объёмов молекул азидов и нитренов 189 Выводы 195 Список использованных литературных источников 197 Список использованных обозначений и сокращений

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Фотохимические реакции органических азидов в средах с ограниченной подвижностью»

1. Введение

Актуальность работы Химические реакции в условиях ограниченной подвижности реагентов в последнее время стали объектом пристального внимания химиков. Возросший интерес к подобным реакциям обусловлен рядом причин. Во-первых, благодаря ограничению подвижности из многообразия возможных путей реакции реализуются лишь те, которые включают в себя минимальные трансляционные перемещения и кон-формационные перестройки реагентов. Во-вторых, поскольку на начальной стадии механизм таких реакций определяется структурой ближайшего окружения реакционного центра, появляется возможность управлять реакцией, изменяя упаковку молекул реагентов. Появилось новое направление в химии, получившее название "химической инженерии". В-третьих, подобные реакции имеют большое значение для химии высокомолекулярных соединений, в частности, для синтеза новых полимерных покрытий, стабилизации полимеров, создания новых резистных материалов и т.п.

Приведенные выше причины позволяют говорить об актуальности исследования химических реакций в средах с ограниченной подвижностью. Наиболее подходят для этой цели фотохимические реакции, поскольку при их инициировании не происходит разрушения или модификации сред с ограниченной подвижностью. Однако, чтобы использовать их для сформулированной цели, они должны удовлетворять ряду требований:

- исходные соединения должны иметь высокие коэффициенты экстинкции, чтобы фотохимические реакции протекали с приемлемой скоростью, и исключалась или

существенно уменьшалась конкуренция реакций, инициированных не фотохимическими способом;

- желательно, чтобы под действием света в молекулах протекал лишь один первичный фотохимический процесс.

Таким требованиям удовлетворяют фотохимические реакции органических азидов. Поэтому они являются уникальными объектами для изучения химических реакций в условиях ограниченной подвижности реагентов.

Механизмы фотохимических реакций в средах с ограниченной подвижностью предлагают, исходя, чаще всего, из механизмов соответствующих реакций в газовой и жидкой фазах. Методологически такой подход не может считаться полностью корректным, поскольку он не учитывает структурно-химические особенности твердой матрицы, как среды протекания химической реакции. Для исследования механизмов реакций в средах с ограниченной подвижностью необходимо привлечь информацию об особенностях взаимного расположения реагентов до начала реакции, их структуре и объеме, о возможных способах сближения реакционных центров, о подвижности реагентов и т.п. Такие сведения для твердофазных фотохимических реакций органических азидов практически отсутствуют. Поэтому получение их актуально.

Изучение фотохимических реакций органических азидов имеет и самостоятельное значение, поскольку азиды находят широкое применение в качестве объектов физико-химических, синтетических и прикладных исследований. В частности, исследование фотохимических реакций органических азидов в твердых полимерных матрицах и кристаллах имеет большое значение для создания теоретических основ разработки нового поколения фоторезистов, находящих применение в микроэлек-

тронике при формировании структур сверхбольших интегральных схем. Без проведения исследований механизмов фотохимических реакций азидов в средах с ограниченной подвижностью невозможна разработка фоторезистов нового поколения, в частности, с проявлением резистного изображения без использования обработок в жидкостях.

Таким образом, изучение фотохимических реакций органических азидов в средах с ограниченной подвижностью является перспективным и актуальным.

Цель работы Целью настоящей работы является:

- изучение влияния ограничения подвижности реагентов на механизмы и реакционную способность их на примере фотохимических реакций органических азидов, а именно, фотоокисления их в полимерных матрицах и на поверхности кристаллов; фотохимической полимеризации в кристаллическом состоянии; образования химических связей между макромолекулами, вызванного нитренами, генерированными при фотолизе азидов;

- создание научных основ разработки принципиально нового класса светочувствительных материалов, в которых нанесение чувствительного слоя и проявление в нем рельефного изображения осуществляются в вакууме или в газовой плазме.

Научная новизна

Впервые определены компоненты фактора и главные значения тензора сверхтонкого взаимодействия, а также времена спин-решеточной релаксации в спектре ЭПР парамагнитных продуктов фотоокисления органических азидов в полимерных

матрицах и на поверхности кристаллов; показана их идентичность с величинами, типичными для иминоксильных радикалов. Обоснован вывод о том, что парамагнитными продуктами фотоокисления в средах с ограниченной подвижностью являются иминоксильные радикалы, присоединённые к полимерной цепи или локализованные на поверхности кристаллов.

Фотоокисление органических азидов в средах с ограниченной подвижностью в отличие от аналогичных процессов в жидкой фазе приводит к образованию нитро-зосоединений и азоксисоединений, причём при малых степенях превращения нит-росоединения не образуются.

Методами конкурентных реакций определена относительная реакционная способность органических азидов в реакциях фотоокисления в средах с ограниченной подвижностью. Показано, что с увеличением размеров молекул азидов их способность к фотоокислению увеличивается.

Впервые исследован фотолиз органических азидов в кристаллическом состоянии. Определена природа продуктов этой реакции. Показано, что в основе механизма фотолиза органических азидов в кристаллах лежит реакция между фотохимически генерированной молекулой нитрена и ближайшей к ней молекулой азида. Методами квантовой химии установлено, что энергетически наиболее выгодна атака нитреном молекулы азида по атому азота азидной группы, присоединенному к атому углерода ароматического кольца. Обоснована возможность разложения азида за счёт переноса электронной плотности между молекулами нитрена и азида.

Полимер, образующийся при фотолизе органических диазидов в кристаллах, содержит азогруппы в основной цепи, причем для эффективного протекания реакции образования азополимеров упаковка молекул диазидов в кристаллическом со-

стоянии должна быть слоисто-стопочной с параллельно-ориентированными соседними молекулами, расстояние между нитренными атомами которых близко к 0.30 нм.

Исследован механизм фотохимического сшивания винилсодержащих полиси-локсанов линейного и циклолинейного строения органическими азидами. Установлено существенное влияние на этот процесс температуры стеклования полимеров. Показано, что для таких полимеров отсутствует эффект нивелировки относительной реакционной способности нитренов при переходе от жидких систем к твердым. Высокая фотохимическая реакционная способность твёрдых олиговинилтетрацик-лосилоксанов циклолинейного строения объясняется формированием областей с коррелированным расположением винильных и азидных групп.

Установлено, что в основе механизма старения растворов циклолинейных по-лисилоксанов в присутствии органических азидов лежит образование 1,2,3-А2-три-азолинов благодаря циклоприсоединению азидных групп к винильным.

Прочность водородных связей в ароматических полиамидах влияет на эффективность фотохимического образования межмолекулярных связей (сшивок). Введение сульфогрупп в ароматические кольца полиамидов увеличивает эффективность их фотохимического сшивания ароматическими диазидами. Причиной этого является ослабление межмолекулярных водородных связей.

Для характеристики относительной реакционной способности, как генерированного из азида нитрена, так и среды с ограниченной подвижностью предложено использовать объём молекулы азида и величину, обратную свободному объему, приходящемуся на одну кинетическую единицу среды (мономерное звено для полимера).

Разработан алгоритм расчёта упаковок молекул органических соединений в кристаллах методом Монте-Карло. Впервые рассчитаны упаковки в кристалле и объёмы более 50 молекул органических азидов и нитренов.

Практическая значимость работы

Полученные в работе результаты фундаментальных исследований механизмов фотохимических реакций органических азидов в средах с ограниченной подвижностью реагентов использованы для разработки научных основ создания светочувствительных и электроночувствительных материалов.

Впервые предложено использовать слои органических азидов в качестве рези-стов с сухими способами проявления в них рельефных изображений (химической обработкой в вакууме, в озон-кислородной смеси, травлением в газовой фазе). Предложены новые технологические схемы литографии с сухим проявлением на основе органических азидов. Обоснована целесообразность создания двухслойных резистов с сухим проявлением, изображение в которых формируется благодаря привитой полимеризации металлсодержащих мономеров на поверхности радика-лобразующих слоев (в том числе и на основе органических азидов).

Полученные в работе результаты легли в основу 12 авторских свидетельств. Предложены критерии отбора азидов в качестве составной части резистов.

Работа выполнялась в Нижегородском государственном университете им. Н.И.Лобачевского и составила часть результатов по НИР "Исследование и отработка литографических процессов с использованием вакуумного электронного рези-ста" (1982-1984 гг.), "Разработка резиста на основе ароматических азидов для " сухой " электронно-лучевой литографии" (1985 г., № гос. per. 02.870.048880), " Разра-

ботка ароматических бисазидов для резистов " (1986 г., № гос. per. 02.870.079825), "Разработка резистов, наносимых и проявляемых в вакууме термическим испарением" (1987 г.), "Программа работ по созданию материалов, технологии и оборудования для "сухой" вакуумной литографии" (1985-1987 гг., пункты 1.1 и 1.4), " Исследование новых азидсодержащих фоторезистных материалов " в рамках МНТП "Материалы электронной техники" (1992-1995 гг., № гос.рег. 01.960. 006004), по разделу "Фотохимия" МНТП "Химия" Госкомитета РФ по высшему образованию, Гранта Российского фонда фундаментальных исследований (проект № 95-0309525).

Апробация работы

Результаты работы докладывались на IV и Y Всесоюзных конференциях по "Бессеребряным и необычным фотографическим процессам" (Суздаль, 1984, 1989 годы); III и VI Всесоюзных совещаниях по фотохимии (Ростов-на-Дону 1977; Новосибирск, 1989); Всесоюзной конференции "Радикальная полимеризация" (Горький, 1989); V Всесоюзной конференции по химии карбенов (Москва, 1987); VI Конференции по химии карбенов (Москва, 1992); Школе-семинаре "Проектирование и технология изготовления БИС, БМК и ПЛИС" (Гурзуф, 1990); Всесоюзном совещании по фоторезистам (Звенигород, 1990); VI Международной школе-симпозиуме по химической физике (Туапсе, 1994); Первой Российской конференции по микроэлектронике "Микроэлектроника-94" (Звенигород, 1994);.VI Международной конференции по химии и физикохимии олигомеров (Казань 1997); I Международной научно-технической конференции « Актуальные проблемы химии и химической технологии » «Химия-97» (Иваново-97).

Публикации

По материалам диссертации опубликовано 43 печатных работ и получено 12 авторских свидетельств.

Заключение диссертации по теме «Высокомолекулярные соединения», Зеленцов, Сергей Васильевич

Выводы

1. Изучено влияние ограничения подвижности реагентов на механизмы и реакционную способность их на примере фотохимических реакций органических азидов в полимерных матрицах и в кристаллическом состоянии.

2. Предложен и экспериментально доказан механизм фотоокисления органических азидов в средах с ограниченной подвижностью.

3. Предложен и экспериментально доказан механизм фотохимической полимеризации органических азидов в кристаллическом состоянии.

4. Предложен и экспериментально доказан механизм образования химических связей между макромолекулами полиамидов, вызванного нитренами, генерированными при фотолизе азидов.

5. Предложен и экспериментально доказан механизм образования химических связей между макромолекулами полисилоксанов линейного и циклолинейного строения, вызванного нитренами, генерированными при фотолизе азидов.

6. Химический механизм и реакционная способность нитренов при реакциях их в кристаллах определяются расстояниями между ними и азидными группами соседних молекул азида, а также плотностью упаковки молекул азида в кристалле.

7. Химический механизм и реакционная способность нитренов при реакциях их в полимерных матрицах определяются объемом молекул нитренов, величиной свободного объема, приходящегося на одно мономерное звено полимера, количеством водородных связей между макромолекулами, наличием областей с коррелированным расположением винильных групп, величиной температуры стеклования полимера.

8. Поликристаллические слои органических азидов можно применять в качестве резистных материалов в нанесением в вакууме и проявлением в вакууме или при химической возгонке в озон-кислородной смеси формируемых из них рельефных изображений.

9. Органические азиды и полимерные слои, содержащие азиды, можно применять в качестве радикалообразующих слоев в фотолитографических способах, изображение в которых формируется в результате привитой полимеризации кремний-и металлсодержащих мономеров.

Список литературы диссертационного исследования доктор химических наук Зеленцов, Сергей Васильевич, 1998 год

Список использованных литературных источников

1. Treinin A. General and theoretical aspects// The chemistry of the azido group /Ed. by S.Patai. London-New York-Sydney-Toronto: Interscience Publishers. 1971.P. 1-55.

2. Choi C.S., Boutin H.P. Neutron diffraction study of a-Pb(N3)4// Acta crystallogr. 1969.V.B25.N0.5.P.982-987.

3. Hargittai M., Molnar J., Klapotke T.M., Tornieporth-Oetting 1С., Kolonits M., Hargittai I. Iodine azide. Molecular structure from gas-phase electron diffraction.//J.Phys. Chem. 1994.V.98.No.40.P. 10095-10097.

4. Mautner F.A., Krischner H. Verfeinerung der Kristallstruktur des Dicaesiumtetra-azido-Zinkates Cs2Zn(N3)4 und die Kristallstrukturen Komplexer Zinkazide.//Monatsh. Chem. 1990.Bd. 121.No.2-3.S.91-97.

5. Almeningen A., Bäk В., Jansen P., Strand T.G. Molecular structure of gaseous cyanogen azide and azidocarbonitrile//Acta Chem.Scand. 1973.V.27. P. 1531-1540.

6. Murdoch J.D., Rankin D.W.H. Gas phase structures of three germil pseudo-halides// J. Chem. Soc, Chem. Comm. 1972.P.748-750.

7. Landolt-Bornstein. Molecular constants from microvave spectroscopy. Berlin. Springer-Verlag.Vol.4.-Ll,ht. по [1].

8. Олейник A.B., Померанцева JI.JI., Смирнова Г.А. О поворотной изомерии в фенилендиазидах//Ж. физической химии. 1972.Т.46.№4.С.982-983.

10. Треушников В.М., Калашников Б.П., Олейник А.В. О подвижности азидной группы в ароматических азидах// Ж. прикладной спектроскопии. 1976.Т.24.В.1. С.112-115.

11. Осипов О.А., Минкин В.И. Справочник по дипольным моментам. М.Высшая школа. 1965.264с.

12. Шотт-Львова Е.А., Сыркин Я. К. Дипольные моменты производных симметричного тринитробензола// Изв.АН СССР.Отд.хим.наук.1952.Т.87.№1.С.639.

13. Favini G. Struttura elettronica della fenilazide e di alcuni suoi derivati.// Gazz. Chim.Ital. 1961 .V. 91 .No.3 .P.270-279.

14. Finch A., Gardner P.J., Head A.J., Xiaoping Wu. The standard enthalpies of formation of the aqueous tetramethylammonium ion and tetraethyl-ammonium ion.//J. Chem. Thermodynam. 1993.V.25.No.3.P.435-444.

15. Jenkins H., Donald Brooke. Thermochemistry of the azide anion. Assignment of AfH°(N3~ g) using viscosity B-coefficient data// J.Phys.Chem. 1993.V.97.No.30. P.7876-7879.

16. Finch A., Gardner P. J., Head A. J., Xiaoping Wu. Thermochemistry of azides. I. The standard enthalpy of formation of ammonium azide and of the azide ion// J.Chem. Thermodynam. 1990. V.22.No.3 .P.301-3 05.

17. Пепекин В.И., Эрлих Р.Д., Матюшин Ю.Н., Лебедев Ю.А. Энергия разрыва связи С-N3-связи в трифенилазидометане, бензил- и фенилазидах. Энтальпия образования трифенилметильного радикала // Докл. АН СССР. 1974.Т.214. №4. С.865-867.

19. Пепекин В.И., Матюшин Ю.Н., Хисамулитдинов Г.Х., Словецкий В.И., Фай-зилъберг A.A.II Химическая физика. 1993.Т.12.№10.С.1399-1403.

20. Fagley T.F., Klein Е., Albrecht J.F., Jr. The heats of combustion of diazoamino-benzene, benzotriazole and 2-triazoethanol.//J.Amer.Chem.Soc.l953.V.75.No.l3.P.3104-3106.

21. Roth W.A., MullerF.ilBer.l929.Bd.62.S.1188.- Цит. no [19].

22. Abramovitch R.A., Kyba E.P. Decomposition of organic azides// The chemistry of the azido group/ Ed. by S.Patai. London - New York-Sydney-Toronto. Interscience Publishers. 1971.P.221-329.

23. L'Abbe G. Decomposition and addition reactions of organic azides// Chem.Rev.

1969. V.69.No.3.P.345-363.

24. Введение в фотохимию органических соединений/ Под ред.проф.Б.-О.Бек-кера и проф.А.В.Ельцова. Пер. с нем.Л.Химия. 1876.С. 163-166.

25. Leermakes J.A//J.Amer.Chem.Soc.l933.V.55.P.3098. - Цит. по [22].

26. Leermakes J.A//J.Amer.Chem.Soc.l933.V.55.P.2719. - Цит. по [22].

27. Abramovitch R.A. //Essays on Free-radical Chemistry.Chemical Soc.London.

1970.P.323.

28. Huisgen R., Vossins D., Appl M. Die Thermolyse des Phenylazide in primären Aminen; die Konstitution des Dibenzamils.//Chem.Ber.l958.B.91.No.l.S.l-12.

29. Huisgen R, Appl M. Der Chemismus Ringrweiterung beim Zerfall des Phenyl-azids in Anilin //Chem.Ber. 1958.B.91.No. l.S. 12-21

31. Abramovitch RA., Davis В.A. Preparation and properties of imido intermediates (imidogens)//Chem.Rev. 1964. V.64.No.2.P. 149-185.

32. Cadogan J.LG., Todd M.J.Reduction of nitro- and nitroso-compounds by terva-lent phosphorus reagents. Part IV. Mechanistic aspects of the reduction of 2,4,6-trimethyl-2'-nitrobiphenyl, 2-nitrobiphenyl, and nitrobenzene.//!Chem.Soc.C. 1962. No. 19.P.2808-2812.

33. Abramovitch ÄA//Chem.Soc.Special Publ.1970.No.24. Ch.l3.P.323. - Цит. no [22].

34. Crow W.D., Wentrup С. Reactions of excited molecules. II. Thermal and electron impact generation of phenylnitrenes - a facile ring contraction.//Tetrahedron Letters. 1967. No.44.P.4379-4384.

35. Smith P.A.S., Hall J.H. Kinetic evidence for the formation of azene (electron-dificient nitrogen) intermediates from aryl azides.//J.Amer.Chem.Soc.l962.V.84.No.3. P.480-485.

36. Alder K„ Stein G.//Aim.Chem. 1931.V.485.P.211-223. - Цит. no [22].

37. Huisgen R, Möbius L., Muller G., Stangl H., Szeimies G., Vernon J.M. 1,3- dipolare Cycloadditiontn. XXII. Zur Anlagerung organischer Azide an Winkelgespannte Dop-pelbindungen.//Chem.Ber,1965.Bd.98.No. 12.S.3992-4013.

38. Юрре Т.А., Кононенко JI.B., Эфрос Л.С., Безуглый В.Д. Полярографическое изучение реакции ароматических азидов с непредельными соединениями. II// Ж. общей химии. 1970.Т.40.В.6.С. 1362-1365.

40. Кононенко Л.В., Юрре Т.А., Дмитриева В.Н., Эфрос Л.С., Безуглый В.Д. Полярографическое восстановление ароматических моно- и бисазидов.1.// Ж. об-щей химии. 1970.Т.40.В.6.С. 1359-1362.

41. Малюгина Н.И., Гусарская Н.Л., Олейник А.В. Полярографическое восстановление галогенфенилазидов//Ж. общей химии. 1975.Т.45. С. 1837-1841.

42. Малюгина Н.И., Вертюлина Л.Н., Корытцев КЗ., Олейник А.В. Полярографическое восстановление азидонафталинов и азидохинолинов// Ж. общей химии. 1974.Т.44.С.497-501.

43. Closson W.D., Gray Н.В. The electronic structures and spectra of the azide ion and alkyl azides //J.Am.Chem.Soc. 1963. V.85.No.3.P.290-294.

44. Reiser A., Bowes G., Home R.J. Photolysis of aromatic azides.Part 1. Electronic spectra of aromatic nitrenes and their parent azides//Trans.Faraday Soc.l966.V.62. Pt.ll. No.527.P.3162-3169.

45. Reiser A., Wagner H.M., Bowes G. The nitrene intermediate in the photoformation of carbazole from 2-azodobiphenyl// Tetrahedron Letters. 1966.No.22. P.2635-2541.

46. Reiser A., Wagner H.M., Marley R, Bowes G. Photolysis of aromatic azides.Part 2.Formation and spectra of dinitrenes//Trans.Faraday Soc. 1967.V.63. Part 10. No.538. P.2403-2410.

47. Reiser A., Marley R. Photolysis of aromatic azides.Part 3. Quantum yield and mechanism//Trans.Faraday Soc. 1968.V.64. Part 7. No.547. P.1806-1815.

49. Треушников В.М., Померанцева JI.JI., Фролова Н.В., Зеленцов C.B., Олейник A.B. О механизме фотолиза ароматических азидов// Ж. прикладной спектроскопии. 1978.Т.28.В.3.С.484-488.

50. Олейник A.B., Треушников В.М, Померанцева Л.Л., Зеленцов C.B., Фролова Н.В. О механизме фотолиза ароматических азидов// Тез.докл. III Всесоюзн. совещ. по фотохимии. 1977. Ростов-на-Дону. Изд-во РГУ. 1977. С. 105.

51. Кокорев В.Н., Зеленцов C.B., Олейник A.B. Квантовохимическое исследование реакции нитренов с азидами// Тез. докл. V конф. по химии карбенов.М. Наука. 1992.С. 160-161.

52. Pople J.A., Beveridge D.L. Approximate molecular orbital theory. New York. McGraw Hill. 1980.

53. Haider K., Platz M.S. EPR spectroscopy of 2,4,6-trifluoro-1,3-dinitreno-benzene and its related dianalino biradicals//197th ACS Nat. Meet., Dallas,Tex., Apr.9-14,1989: Abstr.Pap.[Washington,D.C.],1989.P.873.

54. Buchwitz W., Bendig J., Schuster C., Kreysig D. Zur Photolyse von З.З'-Diazido-diphenylsulfon in Photoresistschich//Z.Chem.l987.B.27. No.5. S. 173-174.

55. Треушников B.M., Руббах Ц.Н., Зеленцова H.B., Олейник A.B. О механизме фотолиза диазидов// Химия высоких энергий. 1983.T. 17.№3. С.441-444.

56. Зеленцов C.B., Кокорев В.Н., Олейник A.B. Квантово-химическое исследование стабильности ароматических азидонитренов// Тез.докл. IV Всесоюзн. конф. по химии карбенов.М.Наука. 1987.С.52-53.

57. Справочник химика. Т.1. М.-Л.Химия.1966.С.352-373.

59. Татаевский В.М. Строение молекул.М.Наука. 1977.

60. Clementi Е. Electronic structure in aromatic compounds. //Chem.Rev. 1968. V.68.No.3,P.341-373.

61. Вышинский H.H., Кокорев B.H., Куликова Г.П., Абронин И.А., Александров Ю.А., Жидомиров Г.М., Масленников В.П. Расчёты энергий диссоциации гомонук-леарных связей методом CNDO/2 //Ж. Структурной химии. 1980. Т.21. №3,С.183-187.

62. Будруев А.В., Зелемрв С.В., Олейник А.В. Особенности фотохимического разложения диазидов фталевых кислот// Химия высоких энергий. 1997. Т.31. №1. С.64.

63. Будруев А.В., Игнатов С.К., Зеленцов С.В. Изучение разложения диазида те-рефталевой кислоты квантово-химическими методами// Материалы VI Международной школы-симпозиума по химической физике. Туапсе 21 сент.-2 окт.1994 г. М. 1994.С.341-347.

64. Smolinsky G., Wasserman Е., Yager W.A. The e.p.r. of ground state triplet nitrenes//J.Am.Chem.Soc. 1962.V.84.NO.16.P.3220-3221.

65 Massey S.T., Mans our В., McElwee-White L. Reaction of (CO)5W(THF) with triphenylmethyl azide and triptycyl azide// J.Organomet.Chem. 1995.V.485.No.l-2.P. 123126.

66. Dixon R.N. The 0-0 and 0-1 bands of the А(3Щ)-Х(3Г) system of N-H. //Canad. J.Phys. 1959.V.37.NO. 10.P. 1171-1186.

68. Мак-Глинн С., Адзуми Т., Киносита М. Молекулярная спектроскопия три-плетного состояния.М.Мир.1972.С. 115-121.

69. Wasserman Е., Murray R.W., Yager W.A., Trozzolo A.M., Smolinsky G. Quinten ground states of m-dicarbene and m-dinitrene compounds. //J.Amer.Chem.Soc. 1967. V. 89. No. 19.P.5076-5078.

70. Moriarty R.M., Rahman M., King G.J. Organic nitrenes in single crystals. Observation of hyperfine structure in the electron spin resonance. //J.Amer .Chem. Soc. 1966. V.88.No.4.P.842-843.

71. Wasserman E. Electron spin resonance of nitrenes// Prog.Phys.Org.Chem. 1971. V.8.New York e.a. P.319.

72. Kuck V.J., Wasserman E., Yager W.A. Electron spin resonance of triplet nitrenes from isocyanates//J.Phys.Chem. 1972.V.76. No.24.P.3570-3571.

73. Hall J.H., Fargher J.M., GislerM.R. Substituent effects on spin derealization in triplet phenylnitrenes.I.Para-substituted phenylnitrenes.// J.Amer.Chem.Soc. 1978. V. 100. No.7.P.2029-2034.

74. Brinen J.S., Singh B. Electron spin resonance and luminescence studies of the reaction of photochemically generated nitrenes with oxygen. Phosphorescence of nitro-benzenes //J.Amer.Chem.Soc. 197l.V.93.No.24. P.6623-6629.

75. PlatzM.S., Carrol G., PierratF. et «///Tetrahedron. 1982.V.38.P.777.

76. Alvarado R, Crivet J.-Ph, Igier C., Barcelo J., Rigaudy J. Spectroscopic studies of azides and nitrenes derived from anthracene.//J.Chem Soc..Faraday Trans. 1977.Part 2. V.73.No.6.P.844-857.

78. McDonald R.N., Chowdhury A.K. Hypovalent radicals.7.Gas-phase generation of phenylnitrene anion radical and its reaction wuth phenylazide// J.Am.Chem.Soc. 1980. V.102.NO.12.P.5118-5119.

79. Bartmess J.E., Mclver Д. TV/Gas Phase Ion Chem. 1979.V.2.P.87-121.

80. McDonald R.N., Davidson S.J. Electron photo detachment of the phenyl-nitrene anion radical: EA, AH°f, and the singlet-triplet splitting//J.Amer.Chem.Soc.l993.V.115. No.23.P. 10857-10862.

81. Drzaic P.S., Brauman J.J. Electron photodetachment from phenylnitrene, aniline, and benzyl anions. Electron affinities of the anilino, and benzyl radicals, and phenylnit-renes //J.Phys.Chem. 1984.V.88.No.22.P.5285-5290.

82. Drzaic P.S., Brauman J.J. A determination of the triplet-singlet splitting in phenylnitrene via photodetachment spectroscopy.//J.Amer.Chem.Soc. 1984.V.106.No.l2.P. 3443 -3446.

83. Engelking P.C., Lineberger W.C. Laser photoelectron spectometry of NH~: electron affinity and intercombination energy difference in NH.//J.Chem.Phys. 1976. V.65. No. 10.P.4323-4324.

84. Бричкин С.Б., Смирнов В.А., АлфимовM.В., Найденова Т.П., Авраменко Л.Ф. Фотолиз азидов в твёрдых растворах. Спектральные и фотохимические свойства нитренов.//Химия высоких энергий. 1980.Т. 14. №1.С.23-27.

85. Reiser A., Terry G.C., Willets F. W. Observation of the nitrene in the flash photolysis of 1-azidoanthracene.// Nature(London). 1966.V.21 l.No.5047. P.410.

87. Reiser A., Leyshon L.J. A correlation between negative charge and the reactivity of aromatic nitrenes// J.Amer.Chem.Soc.l970.V.92.No.25.P.7487.

88. Hages L.J., Billingsley F.P.JL, Trindle C. INDO MO studies of o-heteronitrenes //J. Org. Chem. 1972.V.37.No.24.P.3924-3929.

89. Беспалов В.Я., Карпова JL.A., Барановский В.И., Иоффе Б.В. Электронная структура аминонитренов и их аналогов//Докл.АН СССР. 1971. Т.200.№1.С.99-102.

90. Белое В.Н., Кузнецов М.А. Новые тенденции в химии аминонитренов//Тез. докл. IV Всесоюзн. конф. по химии карбенов.М.Наука.1987.С.41.

91. Gleiter R, Hoffmann R The stabilization of centers with six valence electrons through electron-rich three center bonding//Tetrahedron,1968.V.24.No.l7. P.5899-5911.

92. Жидомиров Г.М., Багатуръянц A.A., Абронин И.А. Прикладная квантовая химия. Расчёты реакционной способности и механизмов химических реакций. М. Химия. 1979.296с.

93. Chapman O.L., LeRoux J.-P. Aza-l,2,4,6-cycloheptatetraene//J.Amer. Chem. Soc. 1978.V.100.No.l. P.282-285.

94. Chapman O.L., Sheridan RS., LeRoux J.-P. Photochemical intercon-version of phenyl nitrene and the isomeric pyridylmethylenes//J.Amer.Chem.Soc. 1978.V. 100. N.19. P.6245-6247.

95. Chapman O.L., Sheridan RS. 3-Pyridylmethylene: Infrared spectrum and photochemistry //J.Amer.Chem.Soc. 1979. V. 101 .No. 13. P.3690-3692.

96. Chapman O.L., Sheridan R.S., LeRoux J.-P. Photochemical transformations of the C6HSN energy surface//Rec.Trav.Chim,1979.V.98.No.5.P.334-337.

98. Dunkin I.R., Thomson P.C.P. Infrared evidence for tricyclic azirines and didehydrobenzazepines in the matrix photolysis of azidonaphthalenes// J.Chem.Soc., Chem.Comm.1980.No.ll. P.499-501.

99. Dunkin I.R., Donelly T., Lockhart T.S. 2,6-Dimethylphenylnitrene in low-temperature matrices. //Tetrahedron Lett. 1985.y.26. No.3. P.359-362.

100. Smith P.A.S.//Azides and Nitrenes.Reactivity and Utility/ Ed. by E.F.V.Scriven. N. J.Acad.Press. 1984.P.95-204.

101. Doering W.E., Odum R.A. Ring enlargement in the photolysis of phenyl azide.//Tetrahedron. 1966. V.22.No. l.P.81-93.

102. Splitter J.S., Calvin M. Irradiation of 3-substituted-2-phenyloxaziridines ~ direct evidence for phenylnitrene. //Tetrahedron Letters. 1968.No. 12.P. 1445-1448.

103. Sundberg R.J., Sutter S.R., Brenner M. Photolysis of ortho-substituted aryl azides in diethylamine. Formation and autoxidation of 2-diethylamino-lH-azepine intermediates.// J.Amer.Chem.Soc. 1972.V.94.No.2.P.513-520.

104. LeyvaE., Platz M.S.// Tetrahedron Letters. 1985.V.26.P.2147.

105. Leyva E., Platz M.S., Persy G., Wirz J. Photochemistry of phenyl azide: the role of singlet and triplet phenyl nitrenes as transient intermediates// J.Amer. Chem. Soc. 1986. V. 108.No. 13.P.3783-3790.

106. Hayes J.S., Sheridan R.S.H J.Amer.Chem.Soc. 1990.V. 112. P.5879.

107. Li Y.-Z., Kirby J. P., George M.W., PoliakoffM., Schuster G.B. 1,2-Didehydro-azepines from the photolysis of substituted aryl azides: Analysis of their chemical and physical properties by time-resolved spectroscopic methods.// J.Amer.Chem.Soc. 1988. V.110.No.24.P.8092-8098.

108. Vancik H., Raabe G., Michalczyk M.J., West R, Michl J. Dimethylsilylene: a trisilane and a geminal diazide as new photochemical precursors. Evidence for an absorption maximum near 450 nm // J.Amer.Chem.Soc. 1985.V. 107.No.l3.P.4097-4098.

109. Hayasi Y., Swern D. Generation, reactions and multiplicity of benzoylnitrene// J.Amer.Chem.Soc. 1973.V.95 .No. 16.P.5205-5210.

110. Porter G. and Ward B. The photolytic preparation of cyclopentadienyl and phenyl nitrene from benzene derivatives.//Proc.Roy.Soc.l968.V.303.A.No,1473.P.139-156.

111. Lwowski W., de Mauriac R.A., Thompson M. Curtis and Lossen rearrangement. III. Photolysis of certain carbamoyl azides //J.Org.Chem.l975.V.40.No.l8. P.2608.

112. Будыка М.Ф., Кантор M.M., Алфимов M.В. Фотохимия фенилазида.// Успехи химии. 1992.Т.61 .В. 1.С.48-74.

113. Lorencak P., Raabe G., Radziszewski J.J., Wentrup С. Iminoacetonitrile and HCN dimer: IR identification in an argon matrix// J.Chem.Soc.,Chem.Comm.l986. N.12.P.916-918.

114. ГерцбергГ. Спектры и строение двухатомных молекул/Пер. с англ. М. Изд. Иностранной Литературы. 1949.

115. Фотохимические реакции в елоях/Елъцов А.В., Батека И.Г., Беккер Г., Бётхлер X., Кузнецов B.C., Студзинский О.П., Холмогоров В.Е., Шиллер К, Юрре Т.А. Под ред. А.В.Ельцова.Л.Химия. 1978.

116. TakebayashiM., Shingaki Т.//Kagaku(Kyoto).1971.V.26.P.602. - Цит. по [129].

117. Nitrenes/Ed. by W.Lwowski.New York-London.Wiley-Interscience. 1970.P.201.

119. Lwowski W., Maricich T.J. Carbethoxynitrene. Selectivity of the C-H insertion// J.Amer.Chem.Soc. 1964.V.86.No. 15.P.3164-3165.

120. Lwowski W., Maricich T.J., Mattingly T.M., Jr. Carbethoxynitrene // J.Amer. Chem.Soc. 1963. V.85.No.8.P. 1200-1202.

121. Sloan M.F., Prosser T.J., Newburg N.R., Breslow D.S. The relative reactivities of azidoformates and sulfonyl azides with certain hydrocarbons// Tetrahedron Letters. 1964. No.40.P.2945-2949.

122. Alewood P.F., Kazmaier P.M., RaukA. Electronic structure of carbonyl nitrenes. Mechanism of insertion and abstraction reactions//J.Amer.Chem.Soc. 1973.V.95.No.l7. P.5466-5475.

123. Hack W., Rathmann K. Elementary reactions of NH(a1A) with saturated hydrocarbons in the gas phase// Ber.Bunsenges.phys.Chem. 1990. V.94.No.ll. P. 13041307.

124. Rohrig M., Wagner H.G. A kinetic study about the reactions of NH(X3Z") with hydrocarbons. Part 1.Saturated hydrocarbons and acetaldehyde// Ber. Bunsenges. phys. Chem. 1994.V.98.No.6.P. 858-863.

125. Platz M.S., Burns J.R. Heteroatomic biradicals. Electron spin resonance spectroscopy of a nitrogen analogue of l,8-naphthoquinodimethane.//J.Amer.Chem.Soc. 1979. V. 10 l.No. 15.P.4425-4426.

126. Иоффе Б.В., Семёнов В.П., Оглоблин К.А. Нитрены и их роль в химических реакциях/ Ж. Всесоюзн. хим. общ. им. Д.И.Менделеева. 1974.Т.19.№3.С.314-322.

128. Odum R.A., Wolf G. Effect of wavelength on the photolysis of p-cyanophenyl azide in dimethylamine.// J. Chem.Soc.Chem.Communs. 1973.No. 11.P.360-361.

129. Reiser A., Willets W., Terry G.C., Williams V., Marley R. Photolysis of aromatic azides. Part 4. Lifetimes of aromatic nitrenes and absolute rates of some of their reactions //Trans.Faraday Soc. 1968.V.64.No. 12.P.3265-3275.

130. Reiser A., Leyshon L.J. Spin state of photogenerated phenyl nitrene// J.Amer. Chem. Soc. 1971.V.93.No. 16.p.4051-4052.

131. Morita H., Uchino N., Nakamura Y., Yamaoha T. Magnetic field effect on sensitized photocrosslinking reaction of azidomethylated polystyrene //J.Appl. Polym.Sci. 1989.V.38.NO. l.P. 1997-2007.

132. BendigJ., Buchwitz W., Schuster C., Meissner R. Zur Photochemie des Negativ-UV-Photoresistes NUKI-l.//J.Inf.Rec.Mater. 1990. B. 18.No.2.S. 127-142.

133. Зеленцов С.В. Роль структурного фактора в реакциях нитренов в полимерных и кристаллических матрицах// Тез.докл. V конф. по химии карбенов. М. Наука. 1992.С. 132-133.

134. Зеленцова Н.В., Зеленцов С.В., Олейник А.В., Кирш Ю.Э., Смирнов С.А. Взаимодействие нитренов с полиамидными матрицами//Тез.докл. V конф. по химии кар-бенов.М.Наука. 1992.С. 164.

135. Наканиси К. Инфракрасные спектры и строение органических соединений. М.Мир.1965.С.58.

136. КиршЮ.Э.ПВысокомолекулярные соединения.Б.1993. Т.35.№2.С.98.

138. Зеленцов С.В., Ерютов А.В., Ежевский А.А., Олейник А.В. Исследование параметров ЭПР -спектров парамагнитных продуктов фотоокисления ароматических азидов в полимерных матрицах и кристаллическом состоянии// Химия высоких энергий. 1997.Т.31.№3. С.229-231.

139. Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В., Карякина JI.H., Олейник А.В. Сравнение реакций ароматических нитренов в кристаллических и полимерных матрицах// Тез. докл.IV Всесоюзн. конф. по химиии карбенов.М.Наука.1987. С.53-54.

140. Shell P.S., Woodworth R.C. Structure of carbene, CH2.//J.Amer.Chem.Soc. 1956. V.78.No. 17.P.4496-4497.

141. Нефёдов O.M., Иоффе A.M., Мечников Л.Г. Химия карбенов. M. Химия. 1990.С.70-72.

142. Hafner К, Kaiser W., Puttner R. Zur Stereosselektivitat der Addition der Alk-oxycarbonylnitrene an Olefine.//Tetrahedron Letters. 1964.No.5.P.3953-3956.

143. Lwowski W., McConaghy J.S, Jr. Carbethoxynitrene. Control of stereoselectivity of an addition to olefins //J.Amer.Chem.Soc.l965.V.87.No.23. P.5490-5491.

144. Lwowski W., McConaghy J.S. //J.Amer.Chem.Soc. 1967. V.89.No. 10. P.2357.

145. McConaghy J.S., Jr., Lwowski W. Singlet and triplet nitrenes.I.Carbethoxynitrene generated by a-elimination.//J.Amer.Chem.Soc.l967.V.89.No.l0. P.2357-2364.

146. Hayashi Y., Swern D. Generation, reactions and multiplicity of benzoylnitrene// J.Amer.Chem.Soc. 1973.V.95.No. 16. P.5205-5210.

148. Abramovitch R.A., Challand S.R., Scriven E.F.V. On the mechanism of intermolecular aromatic substitution of arylnitrenes//J.Amer.Chem.Soc. 1972.V.94. P. 13741376.

149. Lwowski W., Woerner F.P.Carbethoxynitrene. Control of chemical reactivity. //J.Amer.Chem.Soc.l965.V.87.No.23. P.5491-5492.

150. MishraA., Rice S.N., Lwowski W. Singlet and triplet nitrenes.III. The addition of carbethoxynitrene to 1,3-dienes.//J. Organ. Chem. 1968.V.33.No.2.P.481-486.

151. RohrigM., Wagner E.G. A kinetic study of reactions of NH(X3E~) with hydro-carbons.Part 2. Ethylene, propene, and 2,3-dimethyl-2-butene// Ber. Bunsenges. phys.-Chem. 1994.B. 98.N. 6.S. 864-868.

152. Abramovitch R.A., ChallandS.R., JamadaJ. Addition of aryl nitrenes to olefins// J.Org.Chem. 1975. V.40.No. 1 l.P. 1541-1547.

153. Моро У. Микролитография.Ч. 1 и 2./ Пер. с англ.М.Мир.1990.

154. Yamaoka Т., Osobe Y., Tsunoda Т.//Modification of polymers. Amer. Chem.Soc. Symp.Ser. 1980.V. 121.P.185. - Цит. no [156], 4.1, C.239-241.

155. Зеленцов С.В., Аверичкин П.А., Олейник А.В., Макареева Е.Н., Фагин А.А., Семёнов В. В. Изучение факторов, влияющих на светочувствительность систем кремнийсодержащий полимер - ароматический азид// Вестник Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского. Материалы, процессы и технология электронной техники/ Под ред. А.В. Олейника. Н.Новгород. Изд-во ННГУ. 1994.С.223-226.

157. Зеленцов C.B., Олейник A.B., Зеленцова Н.В., Будруев A.B., Фагин A.A. Отчёт о научно-исследовательской работе за 1995-1996 годы по проекту "Исследование новых азидсодержащих фоторезистных материалов" в рамках МНТП "Материалы электронной техники". №гос. per. 01.960.06004. Н.Новгород. 1996.47с.

158. Аверичкин П.А., Великое Я.В., Кузнецов И.А., Маслаков А.И. Кремний-органические резисты на основе олигоорганосилсесквиоксанов// Препринт №5. Фи-зико-техническийинститут.М.Изд-во ИАЭ им. И.В. Курчатова. 1990.

159. Зеленцов C.B., Олейник A.B., Треушников В.М., Зеленцова Н.В. О влиянии второго азида на фотосшивание полимеров азидами в присутствии воздуха// Ж. научной и прикладной фотографии и кинематографии. 1983. Т.28.№5.С.359-363.

160. Зеленцов C.B., Олейник A.B. О светочувствительности плёнок полимер-смесь азидов с нанесённой поверх них плёнкой поливинилового спирта//Ж. научной и прикладной фотографии и кинематографии. 1983.Т.28. №4.С.298-300.

161. Треушников В.М., Фролова Н.В., Олейник A.B. О механизме фотоокисления азидов в полимерных матрицах //Химия высоких энергий. 1979. Т. 13.№4.С.338-343.

162. Зуева Т.А., Треушников В.М., Олейник A.B. // Ж.научной и прикладной фотографии и кинематографии. 1983.Т.28.№.5.С.359.

163. Reiser A., Leyshon L.J., Johnston L. Effect of matrix rigidity on the reactions of aromatic nitrenes in polymers//Trans. Faraday Soc.l971.V.67.No.8. P.2389-2396.

164. YabeA., TsudaM., TanakaH. Photosensitive composition comprising cinnamoyl and azido groups//naT.CIIIA № 3817757, igi.96/115R, G03C 170. Заявл.02.07.71, № 159419, [Agency of Industrial Science and Technology], Опубл. 18.06.74. Приоритет Японии от 17.12.70.

165. Abramovitch R.A., Azogu СЛ., Sutterland R.G. Ferrocenyl radical and nitrenes: formation of nitroferrocene with oxygen//Chem.Comm. 1971. P. 134-135.

166. Abramovitch R.A., Challand S.R. Reaction of triplet aryl nitrenes and azides with molecular oxygen //J.Chem.Soc.,Chem.Comm.l972.No.l6.P.964-966.

167. Lee Go C., Waddell W.H. Evolution of photooxidation products upon irradiation of phenyl azide in the absence of molecular oxygen// J.Org. Chem. 1983. V.48.No.l7. .P.2897-2900.

168. Singh В., Brinen J.S. Low-temperature photochemistry of p-diazidobenzene and 4,4'-diazidoazobenzene//J.Amer.Chem.Soc. 1971.V.93.No. P.540-542.

169. Pritchina E.A., Gritsan N.P. Mechanism of p-azidoaniline photolysis in the presence of oxygen// J.Photochem. and Photobiol.A.:Chemistry. 1988.V.43. P.165-182.

170. Притчина E.A., Грицая Н.П., Бажин НМ. Исследование фотолиза р-азидо-нафталина в аиротонных растворителях// Изв. АН СССР. Сер.хим.1986.№8. С. 17491753.

171. Притчина Е.А., Грицан Н.П., Бажин Н.М. Исследование реакций ароматических нитренов и аддуктов нитренов с кислородом методом импульсного фотолиза//Тез.докл. IV Всесоюзн. конф. по химии карбенов. М.Наука.1987.С. 107-108.

172. Yasuhiro Suwaki, Shinji Ishikawa, Hiizu Iwamura. Reactivity of nitroso oxides. Oxygen transefer as an electrophilic peroxy radical//J.Amer.Chem. Soc. 1987. V.109. No.2. P.584-585.

174. Треушников В.М., Померанцева JI.JI., Фролова Н.В., Олейник A.B. Фотоокисление азидов в полимерных матрицах.// Ж. прикладной спектроскопии. 1979. Т.30.В.5.С.929-934.

175. Треушников В.М., Фролова Н.В. Об образовании квазиустойчивых пар радикалов, обменивающихся молекулой кислорода, в слоях полимера// Высокомолекулярные соединения. 1983.Т.25. №7.С. 1400-1405.

176. Треушников В.М., Фролова Н.В., Гусарская H.H., Олейник A.B. О фотоокислении 2,6-ди-(4'-азидобензаль)циклогексанона в слоях полистирола// Высокомолекулярные соединения.А.1982.Т.24.№8.С. 1623-1629.

177. Треушников В.М., Телепнева Т.В., Олейник A.B. О механизме реакций нит-ренов, образующихся при фотолизе ароматических азидов в полимерных матрицах, с молекулярным кислородом//Химия высоких энергий. 1983.Т. 17. №1. С.76-80.

178. Треушников В.М., Фролова Н.В., Карякин Н.В., Олейник A.B. О возможности фотохимического сшивания полифенилхиноксалинов диазидами// Высокомолекулярные соединения. 1980.Т.22. №7.С. 1443-1449.

179. Зеленцов C.B. Механизм взаимодействия кислорода с ароматическими нит-ренамиУ/ Тез. докл. 1УВсесоюзн. конф. по химии карбенов. М. Наука. 1987.С.49-50.

180. Милинчук В.К, Клиншпонт Э.Р., Пшежецкий С.Я. Макрорадикалы. М. Химия. 1980.

181. Вассерман A.M., Коварский A.JI. Спиновые метки и зонды в физикохимии полимеров. М.Наука. 1986.

183. Бучаченко A.A., Вассерман A.M. Стабильные радикалы. M. Химия. 1973.

184. Фрид Дж.П Метод спиновых меток. М.Мир.1979.С.88. [ Spin labeling. Theory and applications/ Ed. by L.J.Berlinger.Academic Press.New York. San Francisco, London. 1976].

185. Hwang J.S. et ö///J.Phys.Chem.l975.V.79.P.489-511.

186. Зеленцов C.B., Быкова E.A., Ежевский A.A., Олейник A.B. Исследование фотоокисления ароматических азидов в полимерных матрицах и кристаллическом состоянии методом насыщения ЭПР спектров//Химия высоких энергий. 1987.Т.31. №6.С.460-462.

187. Portis A.M. Electronic structure of F-centers: Saturation of the Electron Spin Resonance//Phys. Rev. 1953 .V. 91 .P. 1071.

188. АбрагамА. Ядерный магнетизм/ Пер. с англ. - М.Изд-во ИЛ. 1963.

189. Пул Ч. Техника ЭПР-спектроскопии.М.Мир. 1970.

190. Жезлов А.Б., Зеленцов C.B., Олейник A.B. Фотоокисление органических азидов в полимерах// Тез. докл. I Международной научно- технической конференции "Актуальные проблемы химии и химической технологии""Химия-97" Иваново, 1525 сент.1997 г. Секция 2. «Фундаментальные исследования в области порфиринов и родственных макроциклических соединений». Иваново.Изд-во ИГХТА.1997. С. 106107.

191. Общая органическая химия. Т.З.М. Химия.1982. С.385

193. Треушников В.М., Фролова Н.В., Олейник А.В., Семчиков Ю.Д. Светочувствительность негативных фоторезистов// Ж. научн. и прикл. фотографии и кинематографии. 1979.Т.24.№5.С.388-396.

194. Треушников В.М., Фролова Н.В., Олейник А.В., Семчиков Ю.Д. О светочувствительности полимерных плёнок на основе системы полимер-бисазид// Высокомолекулярные соединения. А. 1977.Т. 19. №2.С.385-391

195. РэнбиБ., РабекЯ. Фото деструкция, фотоокисление, фотостабилизация по-лимеров.М.Мир. 1978.С.55-57.

196. Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В., Олейник А.В. Влияние объёма молекул нит-рена на эффективность их реакций в полимерной матрице// Химия высоких энергий. 1989.Т.23.№4.С.358-360.

197. Зеленцов С.В. О механизме фотоокисления ароматических азидов в полимерных матрицах// Тез.докл.УВсесоюзн.конф."Бессербебряные и необычные фотографические процессы". Т.2. Черноголовка.Изд.ОИХФ.1988.С.128.

198. Зеленцов С. В. Механизм фотоокисления ароматических азидов в твёрдом состоянии// Тез. докл. VI Всесоюзн. совещ. по фотохимии.Ч. 1. Новосибирск.Изд-во ИГиК СО АН СССР1989.С. 168.

199. Rohrer F., Stuhl F. Collision-induced intersystem crossing NH(C1II) -» NH(A3n)// J.Chem.Phys.l987.V.86.No.l.P.226-233.

201. Horner L., Christmann A., Gross A. Uber Lichtreaktionen. XIV.Bildung und chemische Eigenschaften photolytisch erzengter arylimene.//Chem.Ber. 1963. B.96.N.2. S.399-406.

202. Зеленцов С.В., Олейник А.В., Корякина JI.H. О механизме фотолиза ароматических диазидов в кристаллическом состоянии// Химия высоких энергий. 1986. Т.20.№1.С.339-342.

203. Currie C.L., de Darwent В. В. The photochemical decomposition of methyl az-ide.//Canad.J.Chem. 1963. V.41.No.6.P. 1552-1559.

204. Lehman P.A., Berry RS. Flash photolytic decomposition of aryl azides: measurement of an intermolecular closure rate //J.Am.Chem.Soc. 1973.V.95. P.8614-8620.

205. Smith P.A.A.//Nitrenes/ Ed. by W.Lwowski.New York. Wiley. 1970. P.99.

206. Shields C.J., Falvey D.E., Shuster G.B. etal/П.Org.Chem. 1988.V.53. P.3501.

207. Gibson H.H., Cast J.R, Henderson J., Jones C.W., Cook B.E., Hunt J.В. The interaction of aryl azides and dichlorocarbenes//Tetrahedron Letters. 1971.No.21.P. 18251828.

208. Leffler J.E., Gibson H.H., Jr. The radical induced decomposition of azides// J.Am.Chem.Soc.l968.V.90.No. 15.P.4117-4121.

209. Зеленцов С.В., Олейник А.В., Корякина Л.Н. Механизм образования изображения с помощью поликристаллических слоёв//Тез. докл. IV Всесоюзн. конф. "Бессеребряные и необычные фотографические процессы".Т.2. Черноголовка. Изд-во ОИХФ. 1984.С.43.

211. Олейник A.B., Зеленцов C.B. Чувствительность к электронному лучу и ультрафиолетовому излучению кристаллических слоев ароматических азидов// Вестник Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского. Материалы, процессы и технология электронной техники/ Под ред. A.B. Олейника. Н.Новгород.Изд-во ННГУ. 1994. С. 189-192.

212. Bossler H.H., Schultz R.C. Versuche zur Darstellung von Azo-Polymeren durch Photochemische Polykondensation//Makromol.Chem. 1972.B. 158.S. 113-121

213. CoxR., ClecakN., Moreau J^//Polym.Eng.Sci.l974.V.14.P.491.

214. Yabe A., Niino H., Moriyama H., Ouchi A. Prepation of polykisazo benzenes by excimer laser photolysis.//Chem.Funct.Dyes: 1st Int. Symp.Osaka, June 5th-9th, 1989. Tokyo. 1989.P.206-209.

215. Yabe A., Ouchi A., Moriyama H., Masuda E.II US Pat. No.4875986. CI. 204/ 157.6. Publ.24.10.89.

216. Kobayashi Т., Miura A., Ohtani O., Yamaoka T. Photochemical reaction of phenyl azide by ultraviolet photoelectron spectroscopy//Conf. Laser and Electro-Opt., OSA/IEEE. San Francisco, Calif, 9-13 June, 1986 Div.Techn.Pap. [Washington D.C.]. 1986.P.36.

217. Harada Y., Takahashi Т., Mutai K. Photochemical reaction of phenyl azide studied by ultraviolet photoelectron spectroscopy.//J.Chem.Phys. 1981.V.75.No.4. P.2014-2016.

219. Ноеаковская Н.Е., Зеленцов С.В., Олейник А.В., Вышинский Н.Н. О структуре полимеров, образующихся при реакциях нитренов с азидами// Тез. докл. V конф. по химии карбенов.М.Наука.1992.С.165.

220. Беллами Л. Инфракрасные спектры сложных молекул.М.ИЛ. 1963. 590с.

221. Зеленцов С.В., Олейник А.В. Разработка резиста на основе ароматических азидов для "сухой" электрон-но-лучевой литографии// Отчёт о научно-исследовательской работе. ВНТИЦ. Инв. №02870048880.Горышй. 1985.85с.

222. Jarvis В.В., Nicholas Р.Е., Midiwo J.О. Thermolysis of a-azido sulfides, sulfoxides and sulfones: Dependence of mechanism on oxidation of sulfur// J.Amer. Chem.Soc. 1981.V.103.NO.13.P.3878-3882.

223. CohenM.D. Solid-state photochemical reactions//Tetrahedron,1987. V.43. No.7. P. 1211-1224.

224. Cohen M.D., Schmidt G.M.J. Topochemistry.Part l.A survey// J.Chem.Soc. 1964.June.P. 1996-2000.

225. Gavezzotti A., Simonetta M. Crystal chemistry in organic solids// Chem. Rev. 1982.V.82.No. l.P. 1-13.

226. Зоркий П.И., Порай-Кошиц М.А.Н Современные проблемы физической хи-мии.М.Изд.МГУ.1968.Т. 1.С.98.

227. Зефиров Ю.В., Зоркий П.М. Сверхстатистические значения ван-дер-вааль-совых радиусов элементов органогенов// Ж.структурной химии. 1974.Т. 15.№1.С. 118-122.

полимерных матрицах// Тез.докл. V Всесоюзн. конф. "Бессеребряные и необычные фотографические процессы". Черноголовка. Изд. ОИ-ХФ. 1988. С. 130.

229. Gurman V.S., Pergushev V.I. Cage effects in the solid state phase. Calculation of quantum yields of stabilized radicals on the basis of a free volume model// Chem. Phys. 198 l.V.55.No.l.P. 131-135.

230. Cohen M.N., Turnbull D. Molecular transport in liquids and glasses// J. Chem. Phys. 1959.V.31.N0.5.P. 1164-1169.

231. Китайгородский А.И. Молекулярные кристаллы.М.Наука. 1971. 424c.

232. Аскадский A.A.. Матвеев Ю.И. Химическое строение и физические свойства полимеров.М.Химия. 1983.248с.

233. Тимофеева Т.В., Чирникова Н.Ю., Зоркий П.М. Расчетно-теоретическое определение пространственного расположения молекул в кристаллах.//Успехи химии. 1980.Т.49.в.6.С.986-997.

234. Треушников В.М., Зеленцова Н.В., Олейник А.В., Семчиков Ю.Д. О связи фоторезистных свойств системы полимер-диазид с надмолекулярной организацией слоя// Высокомолекулярные соединения. А. 1978. Т.20. №11. С.2628-2635.

235. Олейник А.В., Зеленцова Н.В., Треушников В.М., Семчиков Ю.Д. О влиянии подвижности нитренов на выход радикальных центров, образующихся при облучении ароматических азидов в полимерных слоях// Высокомолекулярные соединения. А. 1984. Т26.№4. С. 769-774.

236. Будруев А.В., Зеленцов С.В., Олейник А.В. Кинетические закономерности фотолиза диазидов тере- и изофталевых кислот в растворе и конденсированном со-стоянии//Вестник Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского. Н.Новгород. Изд. ННГУ. 1995.С.32-36.

237. Олейник А.В., Корякина Л.Н., Зеленцов С.В., Уръяш Ф.В. Способ получения негативного фоторезиста// АС СССР №1126109 от 13.02.82.

238. Зеленцов С.В., Олейник А.В. Разработка ароматических бисазидов для рези-стов// Отчёт о научно-исследовательской работе.ВНТИЦ. Инв.№02870079825. Горький. 1986. 59с.

239. Зеленцов С.В., Карякина Л.Н., Олейник А.В., Янин A.M., Ломоносов Д.Б., Шинкаревский Б.Г., Евдокимов В.Д., Огурцов О.Ф. Способ получения рельефного изображения//АС СССР №1371283 от 10.02.86.

240. Зеленцов С.В., Александров Ю.А., Селиверстов Н.Н., Олейник А.В., Селиванов Г.К, Мшенская Т.А., Мозжухин Д.Д. Способ формирования рельефного изображения// АС СССР №1433240 от 8.08.86.

241. Зеленцов С.В., Уръяш Ф.В., Олейник А.В., Янин A.M. Способ получения органического материала на подложке// АС СССР №1332261 от 21.12.85.

242. Thomly R.F.M., Sun Т. Electron beam exposure of photoresists // J.Electrochem. Soc. 1965.V. 112.No. 1 l.P. 1151-1153.

243. Cohen M.H., Turnbull D. Molecular transport in liquids and glasses// J.Chem. Phys. 1959.V.3 l.No.5.P. 1164-1169.

244. Chang N. Free volume and ionic DC conductivity of polymers// J.Appl. Polym. Sci.l982.V.27 .No. 12.P.4889-4891.

245. Цапук А.К, Колотыркин B.M. Полимеризация силиконового масла на твердой поверхности при облучении ее электронами// Высокомолекулярные соединения. 1965. Т.7. №10. С. 1802-1805.

247. Yatsui Y., Nakata Т., Umehara K. Electron beam exposure of silicones //J. Electrochem.Soc. 1969.V. 116. No.l. P.94-97.

248. Method for forming of писгорайегп.Заявка ЕПВ № 0091651, кл. G03F 7/10, 7/26. Заявл.6.04.83, [Nippon Telegraph and Telephone Publ.Corp.]. Опубл. 19.10.83. Приоритет Японии от 14.02.83.

249. Morita М., Imamura S., Tamamura Т., Kogure О., Murase К. Direct pattern fabrication on silicon resin by vapor phase electron beam polymerization// J.Vac.Sci. Techn.B.1981.V.l.No.4.P. 1171-1173.

250. Morita M., Imamura S., Tamamura Т., Kogure O., Murase K. Dry developable multilayer resist using direct formation by electron beam induced vapour phase polymerization//J.Electrochem.Soc. 1984. V. 131.No.3.P.653-654.

251. Заявка ЕПВ № 0090615, кл. G03F 7/02. Опубл.5.10.83. Приоритет Японии от 22.09.82.

252. Brault R.G. Graft polymerized Si02 lithographic masks.//Международная заявка № 85/02030, кл. G03F 7/26. Заявл. 16.02.84. [Hugnes Aircraft Co.], Опубл. 9.05.85.

253. Brault KG., Monica S.ll Пат.США № 4596761, кл. 430/296, G03C 5/00. 0публ.24.06.86.

254. Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В., Олейник А.В., Шинкаревский Б.Г. Способ формирования рельефа в подложке// АС СССР № 1566973. Заявл. 4.07.88.

255. Зеленцов С.В., Чесноков В.В., Додонов В.А., Олейник А.В., Шинкаревский Б.Г., Попова М.В. Способ получения рисунка// АС СССР № 1602221. Заявл. 4.07.88.

257. Зеленцов С.В., Александров Ю.А., Селиверстов Н.Н., Шинкаревский Б.Г., Олейник А.В., Шелыхманов Е.Ф., Попова М.В. Способ формирования рельефа на подложке// АС СССР № 1566975. Заявл. 4.07.88.

258. Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В., Селиванов Г.К. Радикальная привитая полимеризация как способ получения резистных рельефов//Тез.докл. Всесоюзн. конф. "Радикальная полимеризация". Май 1989. Горький. Изд.ГГУ.1989.С.152.

259. Зеленцов С.В., Зеленцова Н.В. Ароматические азиды как основа резистов с плазмохимическим проявлением// Тез.докл. Всесоюзн. совещ. по фоторезистам. Звенигород, 20-24 марта 1990. Черноголовка.Изд-во ОИХФ АН СССР.1990.С.39.

260. Вернер В.Д., Зеленцов С.В., Ломоносов Д.Б., Шинкаревский Б.Г. Формирование плёнок методом плазменной полимеризации органических и кремнийорга-нических мономеров// Электронная промышленность. 1988. В.7 (175). С. 16-17.

261. Шинкаревский Б.Г., Галперин В.А., Зеленцов С.В. Способ формирования полимерных слоёв//АС СССР № 1473924. Заявл.26.03.87.

262. Галперин В.А., Шинкаревский Б.Г., Ломоносов ДБ., Волк Ч.П., Зеленцов С.В. Способ формирования резистного рельефа// АС СССР №1441952. Заявл. 4.01. 87.

263. Зеленцов С.В., Шинкаревский Б.Г., Олейник А.В., Зеленцова Н.В. Литографические процессы на слое с плазмохимическим осаждением и проявлением// Тез. докл. Школы-семинара "Проектирование и технология изготовления БИС, БМК и ПЛИС". Пос.Гурзуф, 3-8 мая 1990.М.НИИМЭ.1990. С.90.

265. Методы Монте-Карло в статистической физике/ Под ред. К.Биндер. Пер. с англ.М.Наука. 1982.400с.

266. Мокичев Н.Н., Пахомов Л.Г. Энтальпия образования и равновесная конфигурация вакансии в кристалле нафталина//Ж. Физической Химии. 1982. Т.56. №1. С.223-224.

267. Мокичев Н.Н., Пахомов Л.Г. Расчёт энтальпии активации самодиффузии в кристалле нафталина//Ж.Физической Химии. 1983. Т.57.№2.С.483-485.

268. Дзябченко А.В. Теоретические структуры кристаллического бензола: поиск глобального минимума энергии решётки в четырёх пространственных группах// Ж. Структурной Химии. 1984.Т.25.№З.С.85-90.

269. Дзябченко А.В. Теоретические структуры кристаллического бензола. II. Проверка атом-атомных потенциалов //Ж.Структурной Химии.1984.Т.25.№З.С.85-90.

270. Зеленцов С.В., Олейник А.В.. Компьютерное моделирование фотохимических реакций в слоях органических азидов// Тез.докл. V Всесоюз. конф. "Бессеребряные и необычные фотографические процессы".Т.2. Черноголовка.Изд-во ОИХФ. 1988. С.129.

271. Alexandrowicz Z. Stochastic models for the statistic description of lattice systems // J.Chem.Phys.l971.V.55.No.6.P.2765-2779.

272. Alexandrowicz Z. //J.Statist.Phys.l972.V.5.No.l.P.19. -Цит. no [270].

273. Alexandrowicz Z. Stochastic models for chains with excludied volume// J.Chem.Phys.l971.V.55.No.6.P.2780-2786.

275. Alexandrowicz Z, Mostow M. II J.Statist.Phys.l977.V.16..P.121. - Цит. no [270].

276. Соболь ИМ. Численные методы Монте-Карло.М.Наука. 1973. 311с.

277. Балеску Р. Равновесная и неравновесная статистическая механика.Т.1. М. Мир. 1978.С.300-303,

278. Бережное В.И, Горский Л.К., Королёнок В.К. Алгоритмы получения последовательности псевдослучайных чисел//Алгоритмы и программы случайного поиска. Рига.3инатне.1969.с.335.

279. Barash L., Wasserman Е., Yager W.A.II J.Amer.Chem.Soc. 1967. V.89. N0.15.P.3931.

280. Будруев A.B., Зеленцов C.B., Олейник A.B. Образование иминоксильных радикалов при фотолизе диазидов фталевых кислот в кристаллическом состоянии.// Химия высоких энергий. 1998.Т.32. № 1. С.81-82

281. Зеленцова Н.В., Зеленцов C.B., Олейник A.B., Аверичкин П.А.Особенности фотохимического сшивания низкомолекулярных винилсодержащих полисилокса-нов азидами.//Тез.докл.У1 Междунар.научно-технич. Конф. "Олигомеры-97". Казань, сентябрь 1997. Т.1. Черноголовка. Изд-во ИХФЧ РАН. С.263.

282. Мотл О., Новотный Л. Тонкослойная хроматография//Лабораторное руководство по хроматографии и смежным вопросам./Ред.ОюМикеш. т.2.М.Мир. 1982.С.544

283. Кирхнер Ю. Тонкослойная хроматография./Пер.с англ.т.1.М.Мир.1981. С.275.

Использованные сокращения и обозначения ДАДФ - 4,4'-диазидодифенил; ДАБФ - 4,4'-диазидобензофенон; ДАДФЭ - 4,4'-диазидодифениловый эфир; ДАДСДФ - 4,4' - диазидо дисульфонилдифенил; ААБ - 4-азидоазобензол; МСАБ - 4-метокси-1-азидосульфонилбензол; п.ДАБ - 1,4-диазидобензол;

ДАДБА - 1,3-ди(4'-азидобензилиден)пропан-2-он;

ДЦГ - 2,6-ди(4'-азидобензилиден)циклогексанон;

МеДЦГ - 2,6-ди(4'-азидобензилиден)-4-метилциклогексанон;

ДАТФ - 4,4"-диазидо-«а/?а-терфенил;

ДАСДСК - 4,4'-диазидостильбен-2,2'-дисульфокислота;

ПДМС - полидиметилсилоксан;

ПДМС-4 - полидиметилсилоксан, содержащий 4% винильных групп; ПДМС-7 - полидиметилсилоксан, содержащий 7% винильных групп; ОВТЦС - олиговинилтетрациклосилоксан циклолинейной лестничной структуры;

ОМТЦС - олигометилтетрациклосилоксан циклолинейной лестничной структуры;

ОФТЦС - олигофенилтетрациклосилоксан циклолинейной лестничной структуры;

групп замещено на винильные; ДВК-350 - полидиметнлсилоксан, в котором концевые ОН-группы

заменены на винильные; СКТН-В-2 - полидиметнлсилоксан, в котором 2.3 мольных % метальных

групп заменено на винильные; ПВС - поливиниловый спирт; ПММА - полиметилметакрилат; ПСТ - полистирол; ПС - полисульфон;

ПДФ-1 - сополимер фенолфталеина и изофталевой кислоты;

ПДФ-2 - сополимер фенолфталеина и терефталевой кислоты;

крист. - в кристаллическом состоянии;

РС - реакционная способность;

ИРС - индекс реакционной способности;

- средне-массовая молекулярная масса; Тё - температура стеклования;

Дм - минимальная доза облучения УФ светом, необходимая для потери

полимером растворимости в органическом растворителе; Ме - метильная группа;

- этильная группа; п.-Рг - группа нормального пропила; РЬ - фенильная группа; ПК - инфракрасный;

УФ - ультрафиолетовый; РИТ - реактивное ионное травление; МСМ - металлсодержащий мономер; ФО - фотоокисление;

ЦНК - циклизованный натуральный каучук;

АО - атомная орбиталь;

ГАО - гибридизованная атомная орбиталь;

ТЧ(П) - нитренный атом азота азидной группы;

К(т) - срединный атом азота азидной группы;

N(9 - терминальный атом азота азидной группы;

МО - молекулярная орбиталь;

УФС - ультрафиолетовая спектроскопия;

ДН - дифракция нейтронов;

ДЭ - дифракция электронов;

ДР - дифракция рентгеновских лучей;

МВС - микроволновая спектроскопия;

РСА - рентгеноструктурный анализ;

ЭГ - электронография;

р, - дипольный момент;

ДМФА - диметилформамид;

8 - коэффициент экстинкции; АН - азидонитрен; ДА - диазид;