Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.17.03, кандидат химических наук Медведева, Наталья Александровна

• Медведева, Наталья Александровна
• кандидат химических наук
• 2011

Оглавление диссертации кандидат химических наук Медведева, Наталья Александровна

Список условных обозначений.

Введение.

Глава 1. Литературный обзор.

1.1. Механизм восстановления никеля из гипофосфитных растворов химического никелирования.

1.2. Структура и процессы роста №-Р покрытий.

1.3. Влияние стабилизирующих добавок.

1.4. Неравновесные процессы в растворах химического никелирования.

1.5. Процессы окисления.водородсодержащих восстановителей на палладиевом электроде.

1.6. Коррозионная стойкость никель-фосфорных покрытий.

Глава 2. Методика эксперимента.

2.1. Химическое осаждение никель-фосфорных покрытий и методы исследования их топографии, микроструктуры, коррозионной-стойкости и электрохимического поведения.

2.1.1. Методика по л учения №-Р покрытий.

2.1.2. Методы исследования топографии, микрошероховатости и микроструктуры №-Р покрытий.

2.1.3. Методы изучения коррозионно-электрохимического поведения №-Р покрытий.

2.1.4. Методы исследования электрохимического поведения №-Р электрода в растворах химического никелирования.

2.2. Методы исследования процессов анодного окисления гипофосфита натрия' на Рс1 электроде.

2.2.1. Подготовка электродов и определение истинной поверхности электродов.

2.2.2. Методика изучения электрохимического окисления гипофосфита натрия! на Рс1-мембране.

2.2.3. Методы изучения электрохимического окисления гипофосфита натрия на гладком Рс1 и Рс1/Р1 электродах.

Глава 3. Изучение процессов формирования М-Р покрытий.

3.1. Изучение процессов роста №-Р покрытий при различных температурах раствора химического никелирования.

3.2. О причинах «разложения» растворов химического никелирования.

3.3. Периодические явления в растворах химического никелирования >.

3.4. Изучение процесса 'химического, осаждения №-Р покрытий методом импедансной спектроскопии.

Глава 4. Анодное окисление гипофосфита натрия на стационарных и вращающемся дисковом палладиевых электродах.

4.1. Поляризационные кривые на гладком Рс1 и РсЬТЧ-электродах

4.2. Анодное окисление гипофосфита натрия на палладиевой мембране.

4.3. Электрохимическое окисление гипофосфита натрия на вращающемся дисковом Рс1/Р1>электроде

Глава 5. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий.

5.1. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий в растворе хлорида натрия.

5.2. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий в сульфатных растворах.

5.2.1-. Коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий в условиях естественной деаэрации.

5.2.2. Определение скорости коррозии №-Р покрытий гравиметрическим методом.

5.3. Коррозионно-электрохимическое поведение Ni-P покрытий в деаэрированных сульфатных растворах.

Выводы.!.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Электрохимические, электрокаталитические и микроструктурные аспекты процесса химического осаждения Ni-P покрытий»

Химическое никелирование находит широкое применения для получения защитно-декоративных и функциональных Ni-P покрытий. Это также перспективный метод формирования различных наноструктур, поскольку в отличие от электроосаждения не требует токоподводов, металл может осаждаться на электрически изолированные участки нанометровых размеров, что обеспечивает однородность и точность наноструктур. Процессы химического осаждения находят применение в микроэлектронике и наноэлектронике, а> также при создании различных микроэлектромеханических систем (MEMS), где • используются' для осаждения барьерных слоев, тонких металлических пленок, играющих роль проводников, магнитных пленок.

В настоящее время целый ряд аспектов, касающихся механизма процесса химического, никелирования остается до конца не выясненным, что затрудняет использование системного (а не эмпирического) подхода для совершенствования' процессов осаждения покрытий. В частности, не установлен механизм' роста Ni-P покрытий, окончательно не выяснен механизм парциальной^ анодной- реакции- процесса - окисления NaH2P02 , которая является движущей силой процесса и во многом определяет самоорганизующийся характер, рассматриваемой системы. Недостаточно однозначно установлена взаимосвязь между условиями получения, составом, структурой и свойствами Ni-P покрытий.

Целью работы явилось установление закономерностей роста Ni-P покрытий, механизма анодного окисления гипофосфита натрия и оценка коррозионно-электрохимических свойств Ni-P покрытий.

В рамках работы решались следующие задачи:

1. Установление механизма роста Ni-P покрытий и выявление причин, вызывающих «разложение» раствора химического никелирования.

2. Выявление элементов самоорганизации процесса химического никелирования посредством анализа топографии и микроструктуры покрытий, а также анализа спектров колебаний потенциала химического никелирования. Установление природы этих колебаний.

3. Изучение кинетики парциальной анодной реакции процесса - окисления МаН2Р02 на РЙ, выбранном в качестве модельного электрода, а именно, на Рс1-мембране, гладком Ра- и Рс1/РЬ-электродах и вращающемся дисковом РсЗ/Р^-электроде (ВДЭ) и установление механизма окисления ЫаН2Р02.

4. Установление взаимосвязи между условиями получения, составом, структурой и коррозионно-электрохимическими свойствами N1-? покрытий в хлоридных и сульфатных коррозионных средах. Изучение механизма анодного растворения N1-? покрытий в данных средах и- механизма реакции катодного выделения водорода (РВВ).

Научная новизна

1) Установлено, что рост №-Р покрытий- в зависимости от условий может осуществляться, как по механизму слоистого, так и нормального роста. Переход от первого механизма ко второму обусловлен диффузионными затруднениями по доставке ионов никеля к растущей поверхности и увеличением ее каталитической активности. Предельный вариант реализации-механизма нормального роста -образование глобулярных дендритов с последующим «разложением» раствора химического никелирования.

2) Впервые установлена природа колебаний потенциала химического никелирования. Наиболее низкочастотные колебания (период >100 с) связаны с формированием слоистой структуры покрытий и изменением каталитической активности поверхности к реакции окисления ИаН2Р02. Колебания с меньшими периодами вызваны, преимущественно, протеканием катодных реакций выделения никеля и I водорода.

3) Показано, что процесс окисления МаН2Р02 на Рс1 может быть описан механизмом диссоциативной хемосорбции, в рамках которого получены кинетические уравнения, описывающие окисление НаН2Р02 на Рс1-мембране, гладком Рс1- и Рс1/И-электродах, вращающемся дисковом РсЗ/И- электроде.

4) Получены и систематизированы результаты по коррозионно-электрохимическому поведению №-Р покрытий в хлоридных и сульфатных средах. Установлено, что наибольшей коррозионной стойкостью характеризуются аморфные покрытия с максимальным содержанием фосфора (13,4 мас.%). Покрытия с наименьшим содержанием фосфора (8,0 мас.%) обладают наибольшей каталитической активностью в РВВ. Процесс анодного растворения №-Р покрытий может протекать по механизму нестационарной диффузии атомов никеля.

Практическая значимость

На основании установленных закономерностей роста покрытий можно сформулировать рекомендации по получению покрытий с заданными микрорельефом и шероховатостью, а также по увеличению срока службы растворов химического никелирования.

Спектр колебаний потенциала в каждом' растворе индивидуален и может использоваться для мониторинга осаждения качественных покрытий.

Высокая, каталитическая активность №-Р покрытий с низким содержанием фосфора в РВВ по сравнению, с чистым никелем позволяет рекомендовать их в качестве эффективных катодных материалов в кислых сульфатных средах.

Полученные результаты могут быть использованы- как для формирования, теоретических представлений о процессах анодного окисления1 водородсодержащих восстановителей на металлах платиновой группы, так и для создания электродных материалов с высокой каталитической активностью.

Положения, выносимые на защиту:

Экспериментальные результаты и теоретический анализ процессов роста №-Р покрытий. Механизм «разложения» растворов химического никелирования.

Явления самоорганизации при осаждении №-Р покрытий и природа колебаний потенциала химического никелирования.

Экспериментальные результаты и теоретический анализ процесса электроокисления МаНгР02 на палладии.

Результаты, касающиеся коррозионно-электрохимического поведения №-Р покрытий с содержанием фосфора 8-13 мас.% в хлоридных и сульфатных средах. Оценка каталитической активности №-Р покрытий в РВВ и ее механизм.

Апробация работы. Основные положения диссертации докладывались и обсуждались на XIV Российской студенческой научной конференции "Проблемы теоретической и экспериментальной химии" (Екатеринбург, 2004); Международной научной конференции''Инновационный потенциал естественных наук" (Пермь, 2006); Всероссийской конференции "Исследования и достижения в области теоретической и прикладной химии" (Барнаул, 2008); Международной конференции 'Техническая химия. От теории к практике" (Пермь, 2008); Ш - IV Всероссийской конференции «Физико-химические процессы в конденсированных средах и на межфазных границах ФАГРАН-2008 (Воронеж, 2006,2008).

Публикации. Содержание диссертации отражено в 10 печатных работах, в том числе в 5 статьях в журналах, рекомендованных ВАК РФ.

Заключение диссертации по теме «Технология электрохимических процессов и защита от коррозии», Медведева, Наталья Александровна

выводы

1. В процессе роста №-Р покрытий на их поверхности формируются сфероиды, которые обычно вытянуты в плоскости подложки. С увеличением температуры раствора заметно увеличивается высота сфероидов, тогда как их радиус слабо изменяется с ростом температуры из-за перекрывания растущих сфероидов, что подтверждается соответствующими расчетами.

2. В^ зависимости от условий осаждения рост покрытий может, осуществляется, как по механизму слоистого, так и по механизму нормального роста. Переход от первого механизма ко второму обусловлен снижением концентрации ионов никеля у фронта роста и увеличением каталитической активности поверхности покрытия к анодной реакции окисления Н2Р02. Предельный вариант реализации механизма нормального роста - образование глобулярных дендритов с последующим «разложением» раствора химического никелирования.

3. Одной из основных причин* «разложения» раствора химического никелирования является рост дендритных частиц, инициируемый локальным снижением концентрации ионов никеля, плохо сцепленных с покрываемой поверхностью из-за чего металлические частицы попадают в раствор. Для увеличения срока службы растворов химического никелирования следует поддерживать достаточной концентрацию ионов никеля у растущей поверхности посредством корректировки и перемешивания раствора, не осаждать покрытия при высокой плотности загрузки и удалять из раствора уже образовавшиеся частицы.

4. В процессе осаждения покрытий происходят колебания потенциала химического никелирования. Анализ спектров колебаний потенциала" в растворах с различной концентрацией компонентов, в том числе, содержащих стабилизирующие добавки, позволил установить природу колебаний. Наиболее низкочастотные колебания (период >100 с) связаны с формированием слоистой структуры покрытий и изменением каталитической активности поверхности к реакции окисления МаН2Р02. Колебания с меньшими периодами (10-100 с) вызваны, преимущественно, протеканием катодных реакций выделения никеля и водорода.

5. Выявлены элементы самоорганизации исследуемой системы, которые заключаются в изменении механизма роста покрытий в зависимости от условий осаждения и саморегуляции скоростей парциальных процессов, что выражается в колебаниях потенциала химического никелирования.

6. С использованием метода импедансной спектроскопии уточнен маршрут парциальной катодной реакции - восстановления никеля. Для анодной реакции подтверждено наличие гетерогенной химической стадии и рассчитаны ее константы.

7. Парциальная анодная реакция процесса - окисление КаН2РОг на палладии протекает по механизму диссоциативной хемосорбции:

1) Н2РО2" —> НРОг'адс + Надс

2) НР02 адс + Н20 -> Н2Р03" + Н* + е

3) Надс <-> Н+ + е

Это подтверждено исследованиями на гладком Рс1- и РбЯЧ-электродах, палладиевой мембране и вращающемся дисковом электроде. Замедленной 1 стадией является гетерогенная химическая реакция - отщепление атома водорода.

I 1

8. Спад анодного тока с ростом скорости вращения вращающегося дискового электрода обусловлен отравлением поверхности фосфором и его соединениями, образующимися-при окислении

9. Исследовано коррозионно-электрохимическое поведение №-Р покрытий различного состава и структуры в сульфатных и хлоридных средах и установлено, что в нейтральных растворах скорость коррозии слабо зависит от содержания фосфора и обычно несколько увеличивается, если при осаждении покрытий использовали стабилизирующие добавки (РЬС12 и ТМ), близким является анодное поведение покрытий.

Ю.Скорость коррозии №-Р покрытий в 0,5 М сульфатных растворах возрастает при изменении рН раствора от 5,9 до 0,5. Сравнительно слабая зависимость скорости коррозии и анодного поведения покрытий от состава коррозионной среды (рН 0,5-3,0) обусловлена тем, что на поверхности в ходе коррозионного процесса, а также при небольшой анодной поляризации формируется обогащенная фосфором и его соединениями пленка, I растворение никеля через которую, идет по механизму нестационарной твердофазной диффузии. С ростом анодной поляризации начинается окисление фосфора, поверхностный слой разрушается, что вызывает снижение наклонов Е,^-кривых (появляется второй линейный участок). Н.Наиболыную коррозионную стойкость в исследованных средах имеют аморфные покрытия с максимальным содержанием фосфора (13,4 мас.%). Влияние состава и структуры покрытий проявляется с ростом анодной поляризации. Покрытия с наименьшим содержанием фосфора (8,0 мас.%) обладают наибольшей каталитической активностью в РВВ (значительно превышающую активность N1), которая протекает по маршруту разряд-электрохимическая десорбция. Вторая стадия маршрута является лимитирующей.

Список литературы диссертационного исследования кандидат химических наук Медведева, Наталья Александровна, 2011 год

1. Brenner A. Nickel plating on steel by chemical reducation / A. Brenner, G.E. Riddel //

2. J.Res.Natt.Bur.Stand. 1946. V.37, №7. P. 315-346.

3. Brenner A. Deposition of nickel and cobalt by chemical reducation / A. Brenner, G.E.

4. Riddel//J.Res.Natt.Bur.Stand: 1947. V.39; №10; P. 385-395.

5. Горбунова K.M. Физико-химические основы процесса химического никелирования /

6. К.М: Горбунова, А.А. Никифорова; М.: изд-во АН СССР, I960; 207с.

7. Горбунова К.М. Осаящение металлических покрьггий химическим восстановлением /

8. К.М: Горбунова//ЖВХО им.Д.И .Менделеева. 1980. Т.25, №2; С.175-188: 5: Шалкаускас М; Химическая металлизация; пластмасс / М. Шалкаускас, А. Вашкялис. JL: изд-во "Химия", 1985.144 с.

9. Homma Т. Maskless and electroless fabrication of patterned metal nanostructures on siliconvwafers by controlling local: surface 'activities / T. Homma* N. Kubo, T. Osaka // Electrochimica Acta: 2003. V.48i №20-22: Pi' 3115-3122: ^

10. Shacham-Diamand Y. Electroless process for micro- and nanoelectronics / Y. Shacham

11. Diamand, A. Inberg, Y. Sverdlov, V. Bogush, N. Croitoiii, H.: Moscovich, A; Freeman et a/.;//Electrochimica Acta. 2ШЗ:.У.48; №20122:Р:2987-^^ !

12. Горбунова К.М. Современное'состояние проблемы нанесения покрытий методомвосстановления металлов птофосфитом / К.М. Горбунова, А.А. Никифорова,. Г.А. Садаков//Итоги науки. Электрохимия. 1966. М.: ВИНИТИ, 1968. С.5-51.

13. Горбунова К.М: Физико-химические основы процесса химического кобал ьтирования

14. К.М: Горбунова; А. А. Никифорова, Г. А. Садаков; В Л. Моисеев, М.В. Иванов. М.: изд-во "Наука", 1974.220 с.

15. Вишенков С. А. Химические и электрохимические способы осажденияметаллопокрытий / С.А. Вишенков. М.: изд-во "Машиностроение", 1975:312 с.

16. Gawrilov G.G. Chemical (electroless) nickel-plating / G.G. Gawrilov. Redhill: Portcullis Press. 1974.190 p.

17. Ивановская T.B. К вопросу о механизме каталитического восстановления металловгипофосфитом / Т.В. Ивановская, K.M. Горбунова // Защита металлов. 1966. Т.2, №4. С.477-481.

18. Никифорова A.A. Рассмотрение механизма, реакций, протекающих в процессехимического никелирования / A.A. Никифорова, Г.А. Садаков // Электрохимия. 1967. Т.З, №10. С.1207-1211.

19. Вашкялис А.Ю. О стехиометрии реакции восстановления никеля гипофосфитом в щелочных растворах / А.Ю. Вашкялис, А.В: Ягминене, А.Ю. Прокопчик // Электрохимия. 1979. Т.15, №12. С. 1855-1857.

20. Горбунова K.M. К вопросу о механизме восстановления фосфора4 при образованииникель-фосфорных покрытий, / K.M. Горбунова, A.A. Никифорова // Защита металлов. 1969. Т.5,№2. С. 195-198.

21. Юсис 3.3. О реакции образования.фосфора1 в процессе химического никелирования / 3.3. Юсис, Ю.Ю. Ляуконис, Ю.И. Лянкайтене, A.M. Луняцкас // Защита металлов. 1988. Т.24, №5. С.843-844. '

22. Юсис 3.3. Стехиометрия образования фосфора при восстановлении никеля (П) J гипофосфитом / 3.3. Юсис, Ю.Ю. Ляуконис // Журн. неорган, химии. 1989. Т.34,2. С. 337-341.

23. Abrantes L.M. A probe beam deflection study of the hypophosphite oxidation on a nickelelectrode / L.M. Abrantes, M.C Oliveira, E. Vieil // Electrochimica acta. 1996. V.41, №9. P.1515-1524.

24. Touhami M. E. Electrochemical investigation of Ni-P autocatalitic deposition in ammoniacal solutions / M.E.' Touhami, M. Cherkaoui, A. Srhiri, A. Ben Bachir, Chassaing E. //J: Appl. Electrochem. 1996. V.26, №5. P.487-491.

25. Zong Y. In situ UV-Vis spectroscopic study of the electrocatalytic oxidation hypophosphite on a nickel electrode / Y. Zong, S. Zhou // Electrochemistry Communication. 1999. V.l, №6. P. 217-222.

26. Abrantes L.M. Progress in the understanding of' the hypophosphite oxidation on a. nickebelectrode / L.M. Abrantes, M.C. Oliveira // Electrochimica acta. 1996. V.41, №10. P. 1703-1711.

27. Zeng Y. An ESR Study of the Electrocatalytic Oxidation of Hyposphite on a Nickel Electrode / Y. Zeng, Y. Zheng, S. Yu, K. Chen, S. Zhou // Electrochem. Commun. 2002. V.4, №4. P. 293-295.

28. Nakai H. Ab Initio Molecular Orbital Study of the Oxidation Mechanism of Hypophosphite Ion as a Reductant for an Electroless Deposition Process / H. Nakai, T. Homma, I. Komatsu, T. Osaka//J. Phys. Chem. 2001. V.105, №9. P.1701-1704.

29. Zeng Y. Density functional study of hypophosphite adsorption on Ni (111) and Cu (111) surfaces / Y. Zeng, S. Liu, L. Ou, J. Yi, S. Yu, Wang H., Xiao X. // Appl: Surf. Sei. 2006. V.252, №8. P. 2692-2701.

30. Van der Meerakker J.E. A.M .//J. Appl. Electrochem. 1981. V.ll. P.397.32.0hno J. Anodic oxidation of reductants in electroless plating / J. Ohno, J. Wakabayashi, S. Haruyama//J. Electrochem. Soc. 1985. V.132, №10. P. 2323-2330.

31. Садаков Г.А. Об электрохимическом механизме химического восстановленияметаллов / Г.А. Садаков, К.М. Горбунова // Электрохимия. 1980. Т. 16, №2. С. 230235.

32. Ebn Touhami М. Modelation of Ni-P electroless deposition in ammoniacal solutions / M. Ebn Touhami, E. Chassaing, M. Cherkaoui // Electrochemical Acta. 2003. V.48, №24. P. 3651-3658:

33. Лянкайтене Ю.И. Действие глицина в процессе химического осаждения Ni-P покрытий гипофосфитом / Ю.ИЬ Лянкайтене, Ю.П. Буткявичюс, A.M. Луняцкас // Электрохимия: 1987. Т.23, №7. С. 995-997.

34. Sigita К. Composition and ciystallinity of electroless nickel / K. Sigita, N. Ueno // J.

35. Electrochem. Soc. 1984. V.131, №1. P. 111-114. 37.0gburn F. Banded structure of electroless nickel / F. Ogburn, C.E. Johnson // Plating. 1973. V.60, №10. P. 1043-1044.

36. Goldstein A.W. Structure of chemically deposited nickel / A.W. Goldstein, W. Rostoker, F.

37. Schossberger//J. Electrochem.Soc. 1957. V.104. №2. P.104-108.

38. Моисеев В.П. Структура и- фазовые' превращения в осадках химически восстановленного никеля. Дисс.канд. физ.-мат.наук. М., 1964.

39. Allen R. The structure of electroless Ni-P films as function of. composition / R. Allen; J.B.

40. Vandersande // Scripta Metallurgica. 1982. V.16,№10.P. 1161-1164.

41. Gorbunova K.M. The early stage of electroless nickel formation / K.M. Gorbunova, V.V.

42. Kuznetsov, I.V. Petukhov, E.V. Kuznetsova, V.N. Chernikov // Ext. abstracts of 37th meeting ISE. Vilnius. 1986. V.2. P. 98-100.

43. Pitterman U. Crystallization behavior of thin Ni-P alloy films / U. Pitterman, S. Ripper // Phys. Stat. Solidi. 1986. V.93, №1. P. 131-142.

44. Luo W.K., Ma E. EXAFS measurement and Monte Carlo modeling of atomic structure in amorphous Ni8oP2o alloys / W.K. Luo, E. Ma // J. N.-Ciyst. Sol. 2008. V.354, №10-11. P. 945-955.

45. Maiton J.P. The nucleation, growth and structure of thin Ni-P films / J.P. Marton, M.

46. Schlesinger//J; Electrochem. Soc. 1968. Y.l 15, №1. P.16-21.

47. Kuo L.-Ch. The activation effect of Pd nanoparticles on electroless nickel-phosphorousdeposition / L.-Gh. Kuo, Y.-Ch. Huang, Ch.-L. Lee, Y.-W. Yen // Electrochim. Acta. 2006. V.52, №1. P. 353-360.

48. Zhang X., Ren F.,Goorsky M; S., Tu K. N. Study of the initial stage of clectroless. Ni deposition on Si (100) substrates in aqueous alkaline solution// J. Surface and-Coatings Technology. 2006. V.201, №6.' P. 2724-2732.

49. Петухов^ И.В; Влияние хлорида свинца на процесс химического осаждения Ni-Pпокрытий / И.В: Петухов, M.F. Щербань // Защита металлов. 1999. Т.35, №6. С. 613-618■

50. Huang Y.S. Effect of complexing agent on the тофЬо^у and microstructure of electrolessdeposited Ni-P alloy / Y.S. Huang, F.Z. Cui // Surface and coatings technology. 2007. V.201, №9-11. P. 5416-5418.! '■■.-. . 174.

51. Elansezhian R. The influence ofSDS and СТАВ surfactants on the surface morphology and surface topography of electroless Ni-P deposits / R. Elansezhian В., Ramamoorthy, P.K. Nair // J-. Mater. Process. 2009. V. 209, №1. P. 233-240.

52. Ying ELG. Effects of NH4F on the deposition rate and1 buffering capability of electroless Ni

53. P plating solution / H.G. Ying, M. Yan, T.Y. Ma, J.M. Wu, L.Q. Yu // Surf. Coat. Techn. 2007; V.202, №2. P. 217-221. !

54. Горбунова K.Ml Причины возникновения индукционного периода и особенности роста тонких пленок химически восстановленного никеля5/ К.М. Горбунова, И.В.

55. Петухов; Е.В-.-Ю.М. Кузнецова, Палей II Электрохимия. 1991. Т.27, №10. C.1261-1266. ; ■■'":.'.■

56. Oliveira. // Appb Catalysis A: General: 2007. V.329: P.7-15. 62. Fundo A. Mi The electrocatalytic behaviour of electroless Ni-P alloys / A. M: Eundo, L.M.

57. Петухов И.В: О механизме роста Ni-P покрытий, получаемых методом химическогоосаждения / И.В. Петухов // Электрохимия. 2007. Т.43, №1. С. 36-43.

58. Петухов И.В; Влияние концентрации компонентов раствора химическогоникелирования; на процесс формирования на топографию и микрорельеф Ni-P покрытий/ И.В. Петухов//Электрохимия. 2008. Т.44, №2. С.110-118.175

59. Malecki A. Bespradove wytwarzanie powlok niklowych na metalach / A. Malecki, A. Podgorecka // Zesz. nauk. AGN im. Stanislawa Staszica. Ceram. 1989: V.52. P.73-82.

60. Соцкая H.B. Исследование стабилизирующего действия некоторых микродобавок напроцесс химического никелирования / Н.В. Соцкая, О.В. Слепцова, С.В. Садов, Т.А. Кравченко, Х.С. Шихалиев // Журнал прикладной химии. 1983. Т.66, №7. С.1639.

61. Лататуев В.И. Сравнительные исследования; с некоторыми, стабилизаторами процесса химического никелирования / В.И. Лататуев, В В. Скворцов«// Журнал прикладной химии. 1988. Т.61, №7. С,1608-1609. .

62. Юдина-Т.Ф.;: Строгая Г.М., Кривцов А.К. Химическое, никелирование из аммиачногораствора с поверхностно-активными веществами; Иваново. 1988; 12с. Деп. ВШ-1ИТИ Х«5024-М-88

63. Ажогин Ф Ф;, Беленький- М;А., Галль И.Е. и др. Гальванотехника: Справочное издание. М.: Металлургия, 1987.736 с.

64. Розенблюм Р.Г. © применениистабилизаторов при химическом никелировании / Р.Г.

65. Oberflache. 1984. V.38; №1. P.2G; 74: Gugau M. Wirkungsmechanismen von -Stabilisatoren in Chemisch-Niekel-Elektrolyten der dritten; Generation / Mi Gugau; H:H; Urbleger, H: Speckhardtr// Materialwissenschaften unci Werkstofftechnik. 1993. V.24. P. 271.

66. Решетников C.M; Ингибиторы.кислотной ¡коррозии металлов / С.М: Решетников. Л.:изд-во "Химия", 1986.144с.

67. Hajbi A; Complexation and adsorption of thiourea in sulfate medium on electrochemicallyroughened silver electrodes / A. Hajbi, P. Chartier, G. Gatz-Grandmont, M.J.F. Leroy // J. Electroanal. chem; 1987. У221, №1-2. P/159.

68. Jamaguchi A. Infi-ared adsorption spectra of inorganic coordination complexes. Infrared studies of somemetal thiourea complexes / A. Jamaguchi, R.B. Penland, S. Muzushima,

69. TJ. Lane, С. Columba, J.V. Quagliano // J. Amer. Chem. Soc.1958. V.80, №3. P. 527529.

70. Sallo J.S. Radiochemical studies of thiourea in electroless deposition process / J.S. Sallo, J.

71. Kivel,F.Si Albers//J. Electrochem. Soc. 1963. V.110,№ 8. P.40-44.

72. Kivel J. The effect of thiourea on alkaline electroless deposition / J. Kivel, J.S. Sallo // J.i

73. Electrochem. Soc. 1965. V.112^ № 12. P.1201-1203.

74. Щербань M: Г. Анодное окисление гипофосфита натрия и механизм действия стабилизирующих добавок в растворах химического никелирования. Дис. . канд. хим. наук. Пермь, 2000.203с.

75. Петухов И.В. Адсорбция тиомочевины на никелевом, электроде / И.В. Петухов, М.Г.

76. Щербань, В.И. Кичигин // Защита металлов. 1999. Т.35, №1. С.92-94.

77. Соцкая Н.В. Роль органических добавок в электролите химического осаждения* никеля / Н.В. Соцкая, Е.И. Рябинина, Т.А. Кравченко, Х.С. Шихалиев // Зашита металлов. 2003. Т.39, №3. С.276-280.

78. Соцкая ИВ. Кинетика химического осаждения Ni-P сплава в присутствии некоторыхорганических добавок с фрагментом -S-S- / Н.В. Соцкая, Е.И. Рябинина, Т.А. Кравченко, Х.С. Шихалиев //Защита металлов. 2003. Т.39, №3: С.281-285.

79. Соцкая Н.В. Анодное окисление гипофосфита натрия на1 Ni-P электроде вприсутствии ряда органических веществ»/ Н.В. Соцкая, Т.А. Кравченко, Е.И. Рябинина, О.В. Бочарова // Электрохимия. 2003. Т.39; №9. С.1074-1081.

80. Chen Ch.-H. Role of Cu2+ as an Additive in an Electroless Nickel-Phosphorus Plating

81. System: A Stabilizer or a Codeposit? / Ch.-H. Chen, B.-H. Chen, L. Hong // Chem. Mater. 2006. V.18, №.13. P.2959-2968.

82. Тарозайте P.K., Луняцкас A.M. Раствор химического никелирования: А.с. №1110818, СССР

83. Xu Н. Mechanism of Stabilizer Acceleration in Electroless Nickel at Wirebond Substrates /

84. H: Xu, J. Brito, O.A. Sadik//J. Electrochem. Soc. 2003. V.150, №.11. P. 816-822.

85. Wang К. Investigation into the Roles of Sulfur-Containing Amino Acids in Electroless

86. Nickel Plating Bath / K. Wang, L. Hong, Zh.-L. Liu // Ind. Eng. Chem. Res. 2008. V.47, №.17. P.6517-6524.

87. Yin X. Role of a Pb2+ Stabilizer in the Electroless Nickel Plating System: A Theoretical

88. Exploration / X. Yin, L. Hong, B-N. Chen // J. Phys. Chem. B. 2004. V.108, №.30. P. 10919-10929.

89. Нечипорук B.B. Самоорганизация в электрохимических системах / В.В. Нечипорук, И.Л. Эльгурт. М.: изд-во "Наука", 1992.167 с.

90. Ваграмян А.Т. Элекгроосаждение металлов / А.Т. Ваграмян. М.: изд-во АН СССР, 1950.158-169 с.

91. Вахидов P.C. Периодические явления при осаждении никель-фосфорных сплавов /

92. P.C. Вахидов, В.И. Попов, А.А. Старченко // Электрохимия. 1970. Т.6, №Г1. С. 17201722.

93. Tian M. Phenomenology of oscillatory electro-oxidation of formic acid at Pd: role of surface oxide films studied by voltammetry, impedance spectroscopy and nanogravimetry / M. Tian, Conway E. Brain //J. Electroanal. Chem. 2005. V. 581, №2 P.176-189.

94. Tian Min. Electrocatalysis in oscillatory kinetics of anodic oxidation of formic acid: At Pt; nanogravimetry and voltammetry studies on the role of reactive surface oxide / Min Tian, Conway E. Brain//J. Electroanal. Chem. 2008. V.616, №1-2. P. 45-56.

95. Swamy B.E.K. Potential oscillations in formic acid in electrolyte mixtures: Efficiency andstability / B.E.K. Swamy et al\// J. Electroanal. Chem. 2009. V.625, №1. P. 69-74.t i

96. Johannes C. Spatiotemporal self-organization in the oscillatory HCOOH oxidation on a Pt ribbon electrode Theory and experiments / C. Johannes // Surface Science.104: Inzelt G. Enhanced frequency oscillations accompanying galvanostatic potentiali

97. Mukouyama Y. Appearance of new potential oscillation during hydrogen evolution reaction by addition of Na2S04 and K2S04 / Y. Mukouyama, M. Kikuchi, H. Okamoto // J. Electroanal. Chem. 2008. V.617, №2. P. 179-184.

98. Bertier F. On the nature of the spontaneous observed for- the Koper-Sluyters electrocatalytic reaction / F. Bertier, J.-P. Diard, S Nugues // J. Electroanal. Chem. 1997. V.436, № P.35-42.

99. Коровин H.B. Коррозионные и электрохимические свойства палладия / Н.В. Коровин. М.: изд-во "Металлургия", 1976.240 с.

100. Сокольский Д.В. Адсорбция и катализ на металлах VIII группы в растворах / Д.В. Сокольский, Г.Д. Закумбаева. Алма-Ата: изд-во "Наука", 1973.279 с.

101. Брунерс Р.У. Определение концентрации и коэффициента диффузии водорода в а-фазе Pd (Н) методом нестационарной диффузии в потенциостатических условиях / Р.У. Брунерс, Ю.М. Максимов, Б.И. Подловченко // Электрохимия. 1986. Т.22, №2. С. 264-267.

102. Коровин Н.В. О сорбции водорода металлами при анодных процессах / Н.В. Коровин // Электрохимия. 1972. Т.8, №2. С.172-179.

103. Халдеев Г.В. Электроокисление Н2Р02 на Pd-электроде / Г.В. Халдеев, И.В. Петухов, М.Г. Щербань //Электрохимия. 2000. Т.36, №9. С. 1062-1069.

104. Подловченко Б.И. Исследование электролитических осадков палладия, полученных при различных потенциалах / Б.И. Подловченко, Р.П. Петухова, Е.А. Колядко, А.Д. Лифшиц // Электрохимия. 1976. Т. 12, №5. С. 813-816:

105. Закарина H.A. Адсорбция и растворение водорода монодисперснымиi ' ■ '•.■■ палладиевыми катализаторами / H.A. Закарина, Г.Д. Закумбаева, Н.Ф. Токтабаева» //

106. Электрохимия. 1983. Т. 19. С.938., ;• 1

107. Смолин A.B. Электроокисление муравьршной кислота в сернокислом электролите . на:электролитических осадках палладия^/ A.B. Смолин, Б;И. Подловченко, Ю.М.

108. Кулиев С.А. Механизм адсорбции- и электроокислсния: формальдегида и муравьиной кислоты,на палладиевом.электроде / G.Ä; Кулиев; Bi'H. .Андреев, Н;В: Осетрова, B.C. Багоцкий, Ю.Б. Васильев // Электрохимия: 1982. Т. 18, №6. С. 787791 •■■•:• ; ; ,

109. Duncan R.N. Corrosion resistance: of high-phosphorus electroless nickel; coating / R;N. Duncan//Plat, and Surface Finish. 1986. V.73,№7. P.52-57.

110. Поляков В .И. Использование химического! никелирования? для- защиты от сероводородной» и -угаекислотной-коррозии / В-Иг Поляков^ ВШ{ Каришн; ЛК Гордиенко//Физ^хим.':мех.матфиапов.'Д986.^.22^Хйг€.1^

111. Lo Р.-Н. Stress conosion cracking of electioless nickel-plated low-carbon steel in hot concentrated NaOH solutions / P.-H. Lo, W.-T. Tsai, J.-T. Lee H J: Elecrtochem. Soc. 1990. V. 137, №4. P. 1056-1062.

112. Takacs D. Effects of pre-tretments on the corrosion properties of electroless Ni-P layers deposited on AlMg2 alloy / D.! Takacs, L. Sziraki, T.I. Torok, J. Solyom, Z. Gacsi,.K. Gal-Solumos // Surface & Coatings Technology. 2007. V. 201. P. 4526-4535.

113. Doong J.C. Corrosin Behaviour of EN Plating Modified TiN coating / J.C. Doong, J.G. Duh, S.Y. Tsai // Surface and Coatings Technology. 1993.V.58, №3, P. 157-161.

114. Song Y.W. Corrosion behavior of electroless plating Ni-P coatings depositied on magnesium alloys in artificial sweat solution / Y.W. Song, D.Y. Shan, E.H. Han // Electrochimica Acta. 2007. V.53, №. P.2009-2015.

115. Gu C. High corrosion-resistant Ni-P/Ni/Ni-P multilayer coating on steel / C. Gu, J. Lian, G. Li, L. Niu, Z. Juang // Surface & Coatings Technology. 2005. V.197. P.' 61-67.

116. Krolikowski A. Chemical stability of Ni-P alloys effects of structure and composition / A. Krolikowski, B: Pokrywa // Metalurgia i odlewnictwo. 1990. V.l, №1. P: 111-117.

117. Петухов И.В. Коррозионно-электрохимическое поведение Ni-P покрытий в 0,5 М H2S04 / И.В. Петухов, М.Г. Щербань, Н.Е. Скрябина, JI.H. Малинина // Защита металлов. 2002. Т.38; №4. С. 419-425.I

118. Krolikowski A. Anodic dissolution of amorphous Ni-P alloys I A. Krolikowski,. В. Karbownicka, O. Jaklewsciz//Electrochimica Acta. 2006. V. 51, №27. P. 6120-6127.

119. Salvago G. Corrosion behaviour of electroless Ni-P coating in, chlorade-contaning enviroments/ G. Salvago, G. Fumagalli, F. Brunella // Surface and" coating tecnology. 1989. V.37, №4. P. 449-460.

120. Pedro de Lima-Neto P. Estudos de corrosao de ligas Ni-P e Co-P amorfas e cristalizadas / Pedro de Lima-Neto, F.J.B. Rabelo, A.M.M.M: A.E.R. Gonzalez, L.A. Avaca // Quim Nova. 1996. V.19, №4. P.345-349.

121. Singh D.D.N. Electroless nikel-phosphorus coatings to protect steel reinforcement barsfrom chloride induced corrosion / D.D.N. Singh, R. Ghosh // Surface & Coatingsi

122. Technology. 2006. V. 201, №1.;P. 90-101.182.

123. Colaruotolo T.R.P.J. Corrosión; And? Economics of Electroless Nickel Coatings in Chemical; Process Environments / T.R.P.J. Colaruotolo, A. Misereóla; B.R Chuba // Materials Perfon-nance. 1986.V.25,№8; P. 21-29;

124. Bai A; The corrosion behaviorof Ni-P deposits with high phosphorous contents in-brine media/ A; Bai; P;-Y. Ghuang;.C.rG Hii^// Mater. Gheim Phys. 2003; V.82: P. 93-100;

125. Sallo J.S., Kivel J., Albers F.S.Radichemicals todies of thiourea in electroless deposition process//J: Electrochem.Soc. 1963; V. 110; №8: P.40.

126. CheongW.Protective TOatingónMgAZ91D-Theeffectofelectroless nickel (EN) bath? stabilizers on? conosiom behaviour*; o£ Ni-P deposit; / W. Cheong; B:E. Euan, D;W:: Shoesmitli//Corrosion Science; 2007. V.49,№4. P.1777-1798.

127. Дымов A.M. Технический анализ; руд и минералов. / A.M. Дымов. М.: Металлургиздат. 1949/ 270 с.

128. Петухов И.В. Закономерности формирования химически восстановленных никелевых-покрытий: Дис. канд. хим. наук. Пермь, 1993:196 с.

129. Breiter М.В. Dissolution and- adsorption of hydrogen at smooth Pd : wires at potential of alpha phase in sulfuric acid solution / M.B. Breiter// J: Electroanal. Chem. 1977. V.81. P. 275-284.

130. Кузьминская Г.Е. Комплексообразование в системе никель (П)- ацетат-вода / F.E. Кузьминская, А.И; Кублановская, B.C. Кублановский // Укр. хим. журнал. 1979. Т.45, №10. С. 941-944.

131. Гамбург Ю.Д. Электрохимическая кристаллизация металлов и сплавов / Ю.Д. Гамбург. М;: изд-во "Янус-К", 1997. 384 с.

132. Бокрис Д. Современные аспекты электрохимии / Д. Бокрис, Б. Конвей. М.: изд-во "Мир", 1967.512 с.

133. Ахназарова C.JI. Оптимизация эксперимента в химии и химической технологии / СЛ. Ахназарова, В.В. Кафаров. М.: изд-во "Высш. шк.", 1978.319 с.

134. Вашкялис А.Ю. О термодинамических аспектах стабильности растворов химического осаждения металлов / А.Ю. Вашкялис // Электрохимия. 1978. Т.14, № 11. С.1770.

135. Мурашова И.Б. Электроосаждение металлов в виде дендритов / И.Б. Мурашова, А.В. Помосов // Итоги науки и техники. Электрохимия. 1989. Т.ЗО. С. 55-117.

136. Дьяконов В. MATLAB 6 Учебный курс / В. Дьяконов. С.-П.: изд-во "Питер", 2001. 592 с.

137. Ляуконис Ю.Ю. Исследование анодной поляризации никель-фосфорного электрода в ацетатном растворе химического никелирования / Ю.Ю. Ляуконис, 3.3. Юсис // Исследования в области осаждения металлов. Вильнюс, Минтис: 1986. С. 156-161.

138. Жаботинский А.М. Концентрационные автоколебания / A.M. Жаботинский. М.: Изд-во "Наука". 1974.179 с.

139. Epelboin I. The study of the passivation process-by the electrode impedance analysis /1. Epelboin, C. Gabrielli, M. Keddam, H. Takenouti // Comprehensive Treatise on Electrochemistry. New York: Plenum Press, 1981.V.4. P.151-192.

140. Кичигин В.И. Импеданс электрохимических и коррозионных систем / В.И. Кичигин, И.Н. Шерстобитова, А.Б. Шеин. Пермь. 2009.239 с.

141. Nicholson R.S. Theory of Stationary Electrode Polarography. Single Scan and Cyclic Methods Applied to Reversible, Irreversible, and Kinetic Systems / R.S. Nicholson, I. Shain// Anal. Chem. 1964. V.36, №4. P. 706-723.

142. Иванов М.В. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия химически осажденных Ni-B покрытий / М.В. Иванов, Е.Н. Лубнин, А.Б. Дровосеков // Защита металлов. 2003. Т.39. С. 155. '

143. Маршаков И.К. Анодное растворение и селективная коррозия сплавов / И.К. Маршаков, А.В. Введенский, В.Ю. Кондрашин, Г.А. Боков. Воронеж: Изд-во "ВГУ", 1988.288 с.

144. Habazaki Н. The effects of structural relaxation and crystallization on the corrosion behavior of electrodeposited amorphous Ni-P alloys / H. Habazaki, Y.-P. Lu, A. Kawashima, K. Hashimoto // Corrosion Science. 1991. V.32. P. 1227.

145. Cheong W. Protective coating on Mg AZ91D The effect of electroless nickel (EN) bath stabilizers on corrosion behaviour of Ni-P deposit / W. Cheong, B.L. Luan, D.W. Shoesmith// Corrosion Science. 2007. V.49, №4, P. 1777-1798.

146. Дамаскин Б.Б. Электрохимия / Б.Б. Дамаскин, O.A. Петрий, Г.А. Цирлина. М.: изд-во «Химия», «КолосС-Химия», 2006 г.

147. Brug G.J. The kinetics of the reduction of protons at polycrystalline and monocpystalline gold electrodes / G.J. Brug, M. Sluyters-Rehbach, J.H. Sluyters // J. Electroanal. Chem. 1984. V. 181, №1-2. P. 245-266.

148. B.B. Кузнецов, Г. В. Халдеев, В. И. Кичигин Наводороживание металлов в электролитах / В.В. Кузнецов, Г. В. Халдеев, В. И. Кичигин. М.: изд-во «Машиностроение» 1993. с.5.