Асферические и градиентные элементы для оптического и оптико-электронного приборостроения тема диссертации и автореферата по ВАК РФ 05.11.07, доктор технических наук Сеник, Богдан Николаевич

• Сеник, Богдан Николаевич
• доктор технических наук
• 2007

Оглавление диссертации доктор технических наук Сеник, Богдан Николаевич

ВВЕДЕНИЕ.

Глава 1 .Современные тенденции в расчетах оптических систем.

1.1. Методы расчета оптических систем.

1.2 Применение асферических поверхностей и градиентных элементов в расчетах оптических систем.

Глава 2. Современное состояние разработок в области технологии изготовления прецизионных асферических и градиентных оптических элементов.

2.1. Механические методы изготовления оптических поверхностей.

2.1.1. Аналитический обзор методов шлифования и полирования.

2.1.2. Метод алмазного точения.

2.2.Изготовление полимерных оптических элементов методом литья под давлением.

2.3. Метод ионной обработки оптических поверхностей.

2.4. Метод вакуумной асферизации оптических элементов.

2.5. Методы изготовления градиентных оптических элементов [57].

Глава 3. Теоретические и экспериментальные исследования процессов шлифования-полирования оптических кристаллов.

3.1. Изготовление подложек для оптических покрытий.

3.2. Сульфид цинка ZnS.

3.3 Селенид цинка 2п8е.

3.4.Экспериментальные исследования процесса изготовления подложек из селенида цинка.

3.5.Определение статистической характеристики полированной поверхности гп8е.

Глава 4. Основные принципы формирования градиентно-асферических слоев.

Введение диссертации (часть автореферата) на тему «Асферические и градиентные элементы для оптического и оптико-электронного приборостроения»

Бурное развитие науки и техники в настоящее время предъявляет к оптическим системам очень высокие требования. При построении оптических систем на традиционной элементной базе, основу которой составляют линзы из однородного материала и зеркала со сферическими поверхностями, эти требования часто оказываются противоречивыми и невыполнимыми. Например, высокая коррекция аберраций, необходимая для высокоразрешающих систем, может быть достигнута только за счёт использования большого количества оптических элементов, а это в свою очередь усложняет конструкцию приборов, уменьшает суммарный коэффициент светопропускания, увеличивает весогаба-ритные характеристики и себестоимость их изготовления. Сложной проблемой является также расширение спектральной области использования оптических систем с малым числом оптических элементов, применение которых позволило бы эффективно решать как насущные, так и перспективные задачи оптического приборостроения.

Наметились три основных направления, относящиеся к решению вышеуказанной задачи:

1. Фундаментальное исследование коррекционных свойств сферических поверхностей при больших апертурах и полях зрения - лучшее использование уже имеющихся возможностей;

2. Использование новых марок стекла с большими показателями преломления и оптических кристаллов;

3. Применение нетрадиционных: асферических, киноформных, градиентных оптических элементов.

Применение асферических поверхностей в объективах обеспечивает решение следующих задач: а) повышение качества оптического изображения - функции передачи модуляции, разрешающей способности, контраста изображения и т.д.; оптических системах, работающих на пропускание. Особенно актуальным становится применение АП в тепловизионных приборах, где используются ОЭ из чрезвычайно дорогих материалов. Стоимость некоторых оптических кристаллов колеблется в пределах 10000-60000 рублей за один килограмм. Следовательно, уменьшение количества ОЭ за счет введения АП позволяет снизить цену изготавливаемого изделия. При этом удается повысить технические характеристики оптических приборов - качество изображения, пропускание, светосилу, угловое поле и позволяет проектировать более компактные оптические системы.

Кроме сказанного, актуальной задачей сегодняшнего дня является решение ряда технических задач, связанных с расширением спектральной области применения оптических систем. Уже сейчас необходимы системы, работающие одновременно в широких спектральных диапазонах: видимом (400 - 650 нм), ближнем ИК - диапазоне (700 - 1600 нм), в том числе на рабочих длинах волн лазерных излучателей А,=1064 нм, 1540 нм, дальнем ИК - диапазоне А,=3000-14000 нм).

Для создания подобных систем необходим синтез и промышленное освоение изготовления оптических сред, обеспечивающих функционирование синтезированных систем в указанных спектральных диапазонах. Одной из таких сред является селенид цинка. В работе нашла отражение технология получения оптических деталей из этого материала с минимальным разрушенным слоем.

Все сказанное определило круг задач для проведения исследований. Анализ методов получения асферических поверхностей показал, что наименее затратным является метод вакуумной асферизации, который ранее использовался только для получения оптических зеркал. Прогресс в вакуумной технике и технологии для нанесения покрытий за последние 10-15 лет позволил использовать этот метод и для оптических элементов, работающих на пропускание, что позволяет в значительной мере снижать общие затраты на изготовление точных

4. Разработана комплексная технология изготовления оптических элементов, включая асферические, из широкоспектральных оптических кристаллов, работающих в диапазоне от 0,5 до 14 мкм, с целью создания технологической базы для изготовления широкоспектральных оптических приборов и комплексов.

5. С целью практического внедрения теоретических и исследовательских разработок, изложенных в диссертации, проведены работы по модернизации существующего вакуумного оборудования.

6. Теоретические основы получения градиентных слоев успешно адаптированы для решения задачи изготовления сверхдиапазонных ахроматических просветляющих покрытий для спектрального диапазона от 2,0 до 12,5 мкм.

Практическая значимость и реализация результатов работы:

1. Разработан высокопроизводительный технологический процесс, обеспечивающий изготовление в едином технологическом цикле принципиально новых оптических элементов диаметром до 200 мм, сочетающих в себе градиент-ность оптической среды и асферичность формы рабочих поверхностей с высокой точностью и воспроизводимостью.

Возможности предлагаемого технологического процесса обеспечивают получение асферической поверхности, заданной уравнением произвольного порядка и необходимого осевого распределения показателя преломления.

Новизна технических решений подтверждается патентами № 2065192, 2078467, 2078468 (РФ).

2. Разработанная комплексная технология изготовления асферических элементов состоит из целого ряда принципиально новых технологических процессов.

В частности: разработана и внедрена технология прецизионной обработки оптических кристаллов с целью получения требуемых по точности геометрических параметров и степени шероховатости оптических поверхностей.

На защиту выносятся следующие положения:

1) Разработанный технологический процесс вакуумной асферизации обеспечивает изготовление, с высокой точностью и воспроизводимостью, асферических элементов из оптических стекол и кристаллов диаметром до 200 мм.

2) Технология вакуумной градиентной асферизации обеспечивает изготовление в едином технологическом цикле принципиально нового оптического элемента, сочетающего в себе градиентность оптической среды и асферичность рабочих поверхностей произвольных порядков.

3) Высокие точностные возможности предлагаемых технологических процессов обеспечиваются контролем технологических параметров с помощью акустооптического спектрофотометра в реальном масштабе времени.

4) Технологический процесс изготовления подложек из оптических кристаллов для нанесения асферизующих слоев и оптических покрытий обеспечивает высокую степень точности по геометрическим параметрам и минимальную степень шероховатости оптических поверхностей.

5) Математический метод определения площади функциональной маски для вакуумной асферизации оптических поверхностей, обеспечивающий изготовление высокоточных оптических элементов

6) Разработаны теоретические основы технологии формирования градиент-но-асферических слоев вакуумным методом, определены оптимальные технологические условия.

7) Разработана технология нанесения неоднородных ахроматических просветляющих покрытий для германия (2.0 12.5 мкм), селенида цинка (0.5 12.5 мкм).

8) Технология нанесения защитных просветляющих покрытий на оптические элементы из гигроскопических кристаллов (типа ИаС1, КС1) обеспечивает изготовление из них оптических элементов для работы в жестких климатических условиях.

Заключение диссертации по теме «Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы», Сеник, Богдан Николаевич

ЗАКЛЮЧЕНИЕ

В работе проведен комплекс теоретических, экспериментальных и производственных исследований, направленных на создание технологии изготовления точных асферических и градиентных оптических элементов. Применение асферических элементов в тепловизионных оптических и оптико-электронных приборах и комплексах, производимых ФНПЦ ОАО «Красногорский завод им. С.А. Зверева», обеспечила существенное улучшение оптических, весогабарит-ных характеристик, снижение себестоимости их изготовления, тем самым, решив важную научную и государственную задачу.

1. Предложен, теоретически обоснован, экспериментально проверен и подготовлен для промышленного освоения технологический процесс изготовления принципиально новых оптических элементов с градиентно-асферическими слоями. Новизна и полезность метода подтверждена патентами на изобретение.

2. Предложенный высокопроизводительный метод позволяет в едином технологическом цикле наносить коррекционные слои с осевым распределением показателя преломления произвольного порядка и уравнение асферической поверхности произвольного порядка с диапазоном диаметров до 200 мм, асферичностью до 30 мкм, перепадом показателя преломления вдоль оптической оси до 0,5. Погрешность отклонения нормали асферической поверхности от номинального значения не превышает 5 угловых секунд.

3. Комплексная технология изготовления оптических элементов, включая асферические, из гиперспектральных оптических кристаллов, работающих в диапазоне от 0,5 до 14,0 мкм, обеспечивает изготовление оптических систем для гиперспектральных приборов и комплексов.

4. Проведена работа по модернизации существующего вакуумного оборудования, с целью практического внедрения разработок, изложенных в диссертации.

5. Выполнение конструкторских и экспериментальных работ по модернизации существующего отечественного вакуумного оборудования (ВУ-1А, ВУ-2М)

207 позволило резко повысить их функциональные возможности. Результаты произведенных работ в этой области могут быть использованы на всех оптических предприятиях и в научных организациях, в частности: ФГУП «НПК ГОИ им. С.И. Вавилова» (Санкт-Петербург), КОМЗ, ФГУП «НПО ГИПО» (Казань), ЛЗОС (Лыткарино), ФГУП «НИИ «Полюс» им. М.Ф. Стельмаха» (Москва).

Таким образом, выполненный объем работ, является решением крупной научно-технической проблемы в области технологии изготовления оптических элементов и покрытий, имеющий важное народно-хозяйственное значение.

Автор выражает искреннюю благодарность докторам физико-математических наук Несмеловой Ирине Михайловне и Несмелову Евгению Андреевичу, сотрудникам ФГУП «НПО ГИПО» (г. Казань), а также Горелику Борису Давыдовичу, Крючкову Виктору Геннадьевичу, сотрудникам ФГУП ОАО «Красногорский завод им. С.А. Зверева» за оказанную помощь и содействие в создании диссертационной работы.

208

Список литературы диссертационного исследования доктор технических наук Сеник, Богдан Николаевич, 2007 год

1. Волосов, Д. С. Фотографическая оптика / Д. С. Волосов. - М.: Искусство, 1971.-634 с.

2. Слюсарев, Г. Г. Расчет оптических систем / Г. Г. Слюсарев. Л.: Машиностроение, 1975. - 639 с.

3. Русинов, M. М. Техническая оптика / M. М. Русинов. Л.: Машиностроение, 1979.-488 с.

4. Русинов, M. М. Несферические поверхности в оптике / M. М. Русинов. -М.: Недра, 1973.-326 с.

5. Ган, М. А. Асферические поверхности в оптических приборах / М. А. Ган, H. H Куликовская // ОМП. 1990. -№11.- С.3-11.

6. Кравцов, Ю. А. Геометрическая оптика неоднородных сред / Ю. А. Кравцов, Ю.И.Орлов. М.: Наука, 1980. - 304 с.

7. Patent N 4655556 (US), G02 13/08. Lens system for optical disks. -07.07.1985.

8. Patent N 63067114 (IP), G02 B29C33/12. Mold assembly for ruleanizing tire. -25.03.1988.

9. Винокуров, В. M. Исследование процесса полировки стекла / В. М. Винокуров. -М.: Машиностроение, 1967. 196 с.

10. Бочкин, О. И. Механическая обработка полупроводниковых материалов / О. И. Бочкин, В. А. Брук, С. Н. Никифорова-Денисова. М.: Высшая школа, 1983.- 110 с.

11. Качалов, Н. И. Технология шлифовки и полировки листового стекла / Н. И. Качалов. М.; Л., 1958. - 372 с.

12. Цеснек, Л. С. Механика и микрофизика истирания поверхностей / Л.С. Цеснек. М.: Машиностроение, 1979. - 263 с.

13. Джонсон, К. Механика контактного взаимодействия / К. Джонсон М.: Мир, 1989.-509 с.

14. Концевой, Ю. А. Пластичность и прочность полупроводниковых материалов и структур / Ю. А. Концевой, Ю. М. Литвинов, Э. А. Фаттахов. М.: Радио и связь, 1982.-239 с.

15. Крагельский, И. В. Основы расчетов на трение и износ / И. В. Крагель-ский, M. Н. Добычин, В. С. Комбалов. М.: Машиностроение, 1977. - 526 с.

16. Методы контроля нарушенных слоев при механической обработке монокристаллов / А. И. Татаренков, К. JI. Енишерлова, Т. Ф. Русак, В. Н. Гриднев. -М.: Энергия, 1978.-65 с.

17. Кащеев, В. Н. Процессы в зоне фрикционного контакта металлов / В. Н. Кащеев. М.: Машиностроение, 1978. - 213 с.

18. Черепанов, Г. П. Механика разрушения композиционных материалов / Г. П. Черепанов. М.: Наука, 1983. - 296 с.

19. Попов, В. JI. Динамическая модель формирования поверхностного слоя при трении / В. Л. Попов, H. Н. Сошнянина // Изв. вузов; Физика. 1993 - № 12.-С.27-29.

20. Beilby, G.T. Surface Flow in Crystalline Solids under Mechanical Disturbance / G. T. Beilby // Proc. Roy. Soc. 1903. - 72a. - P. 218-225.

21. Кулаков, A.B. Введение в физику нелинейных процессов / А. В. Кулаков, А. А. Румянцев. М.: Наука, 1988. - 159 с.

22. Алиев, И. Н. К вопросу о неустойчивости структурно-модифицированной поверхности твердого тела / И. Н. Алиев, П. П. Полуэктов // Поверхность. Физика, химия, механика. -1994. -№3. С.104-108.

23. Карлин, О. Г. Получение оптических деталей с асферическими поверхностями посредством упругого инструмента / О. Г. Карлин, В. Г. Куке // ОМП. -1966. -№ 12. С.57-61.

24. Горшков, А. А. Автоматизированное формообразование высокоточных асферических поверхностей / А. А. Горшков, А. Ю. Папаев, А. В. Подобрян-ский // Оптический журнал. 2004. - Т. 71, №12. - С.5-10.

25. Цеснек, JI. С. Металлические зеркала / Л. С. Цеснек, О. В. Сорокин, А. А. Золотухин. -М.: Машиностроение, 1983. -231 с.

26. Алмазное точение в производстве оптических деталей / Л. В. Попов, С. В. Любарский, В. Г. Соболев, С. Е. Шевцов // ОМП. 1990. -№11. - С. 12-17.

27. Исследование процесса химико-механического полирования кремниевых подложек / Орлов П. Н. и др. // Электронная техника. Сер.6. Материалы М.: ЦНИИ «Электроника». - 1980. - вып. 1(138). - С.61-65.

28. Оптический полимер с самым высоким преломлением // Воронежские полимеры. -2004. №145. - С.9.

29. Modern trends in industrial technology of fabricating polymeric optical components for night vision devices / A. I. Goev, V. G. Krjuchkov, V. V. Potelov, B. N. Senik // Proceeding of SPIE (USA). 2005. - V.5834. - P.370-376.

30. Изделия из пластмасс: Справочное руководство по выбору, применению и переработке / Балянский и др. под ред. Малкина А.Я. и Кербера М.Л. -М.:НПКП «Радиапласт». 1992. -201 с.40. "DIAKON" Technical manual, United Kingdom. 1985. - 101 с.

31. Обзор мирового рынка поликарбоната // The Chemical journal: химический журнал. 2004. -№2. - С.80-81.

32. Каталог продукции: Высокоэффективные материалы для инновационных применений. Франкфурт-на-Майне: Ticona. - 2000. - 26 с.

33. CAD/CAM/CAE: Технологии, материалы, оборудование. М.: «Инженерная фирма АБ Универсал». -2001. -48 с.

34. Анализ впрыска и выдержки под давлением: Отчет №50. М.: «Инженерная фирма АБ Универсал».- 1997. - 47 с.

35. Гвоздева, Н. П. Прикладная оптика и оптические измерения / Н. П. Гвоздева, К. И. Коркина. М.: Машиностроение, 1976. - С.257-260.

36. Growe W.R. On some anomalous cases of electrical decomposition // Phil. Mag.- 1853.-V. 5.-P. 203.

37. Патент №2078468 (РФ). Способ коррекции оптической системы. / В.Г. Крючков, В.В. Некрасов, С.Н. Бездидько, В.Е. Ефремов, В.В. Потелов, Б.Н. Се-ник // Открытия, изобретения,. 1997. - №27.

38. Патент №2078467 (РФ). Способ получения коррекционных слоев на оптическом элементе. / В.Г. Крючков, С.Н. Бездидько, В.В. Потелов, Н.П. Заказнов, Б.Н. Сеник // Открытия, изобретения,. 1997. -№12.

39. Хаук, Т. Взгляд на осветленный полипропилен / Т. Хаук // Пластике. -2007.-№5(51).-С. 29-32.

40. Архипов, С.А. Асферизация высокоточных оптических элементов методом вакуумного напыления / С. А. Архипов, В. В. Потелов, Б. Н. Сеник // Оптический журнал. 2004. - Т. 71, № 12.-С. 14-19.

41. Сеник, Б.Н. Технологические процессы изготовления точных градиентных и асферических оптических элементов: диссертация кандидата технических наук: 05.11.07 / Б. Н. Сеник. М., 2002. - 127 с.

42. Применение градиентно-асферических элементов в оптических системах / А. И. Гоев, В. И. Казаков, В. В. Потелов, Б. Н. Сеник // Прикладная физика. -2006.-№6.-С. 144-146.

43. Основы технологии формирования градиентно-асферических слоев вакуумным методом / А. И. Гоев, В. Г. Крючков, В. В. Потелов, Б. Н. Сеник, А. К. Герасюк // Прикладная физика. 2006. - №4 - С.131-135.

44. Казаков, В. И. Технология изготовления градиентных сред оптических элементов: аналитический обзор за 1985-1990 г.г. / В. И. Казаков, Б. Н. Сеник // Информтехника. №5436. - М., 1991. - 65 с.

45. Moore, D. Т. Gradient-index optics: a review / D. Т. Moore // Applied Optics. -1980. Vol.19, No.7. - P.1035-1038.

46. Baak, Tr. Silicon oxynitride, a material for GRIN optics / Tr. Baak // Applied Optics. 1982. - Vol.21, No.6. - P. 1069-1072.

47. Howard, J. W. Optical design of thermal imaging systems utilizing gradientindex optical materials / J. W. Howard, D. P. Ryan-Howard // Optical Engineering. -1985. Vol.24, No.2. - P.263-266.

48. Pickering, M.A. Gradient infrared optical material prepared by a chemical vapor deposition process / M. A. Pickering, R. L. Taylor D. T. Moore // Applied Optics. 1986.-Vol.25,No. 19.-P. 3364^-3372.

49. Красюк, Б.А. Оптические системы связи и световодные датчики / Б. А. Красюк, Г. И. Корнеев М.: Радио и связь. - 1985. - 192 с.

50. Koike, Y. Plastic axial gradient-index lens / Y. Koike, H.Hidaka, Y. Ohtsuka // Applied Optics. 1985. - Vol.24, No. 24. - P. 4321^1325.

51. Koike, Y. Studies on the light-focusing plastic rod. 12: The GRIN fiber lens of methyl metacrylate-vinyl phenylacetate copolymer / Y. Koike, Y. Kimoto, Y. Ohtsuka // Applied Optics. 1982. - Vol.21, No.61. -P. 1057-1062.

52. Gradient-index plastic optical fiber composed of methyl methacrylate and vinyl phenylacetate copolymers / Y. Koike, E. Nihei, N. Tanio, Y. Ohtsuka // Applied Optics. -1990. Vol.29, No. 18. - P.2686-2691.

53. Оптимальные условия диффузии для получения полимерных светофоку-сирующих элементов / А. Ш. Тухватулин, Б.П. Берковский и др. // ЖТФ. М., 1980. - Т.50, Вып.6. - С.1345-1347.

54. Ohtsuka, Y. Studies on the light-focusing plastic rod. 11: Preparation of a light-defocusing plastic rod / Y. Ohtsuka, K. Maeda // Applied Optics. 1981. - Vol.20, No.13. -P.3562-3565.

55. Ohtsuka, Y. Studies on the light-focusing plastic rod. 14: GRIN rod of CR-39-trifluoroehtyl metacrilate copolimer by a vapor-phase transfer process / Y. Ohtsuka, T. Sugano // Applied Optics. 1983. - Vol.22, No.3. - P.413-^17.

56. Patent 4799761 (US), G02B 6/18. Plastic optical transmission medium, process for producing the same and array of lenses using the same. 24.09.89.

57. Simmons, J.H. Optical properties of waveguides made by porous glass process / J. H. Simmons// Applied Optics. 1979. - Vol.18, No. 16. -P.2732-2733.

58. Gradient index rod lens made by a double ion-exchange process / S. Ohmi, H. Sakai, Y. Asahara at all // Applied Optics. 1988. - Vol.27, No.3. -P.496-499.

59. Patent 4758071 (US), G02B 9/02. Collimator lens. 19.07.88.

60. Simmons, J.H. Optical properties of waveguides made by porous glass process / J. H. Simmons // Applied Optics. 1979. - Vol.18, No. 16. - P. 2732-2733.

61. Gradient-index wide-angle photographic objective design / G. Leland, J. Alkin-son, G. D. Downie, D. Moore, J. M. Stagaman, L.L. Voci // Applied Optics. 1984. -Vol.23, No.lL-P.1735-1741.

62. Miceli, J. J. Model for gradient dormation in polycrystalline germanium-silicon alloy, GRIN crystal via Czochralski crystal growing / J. J. Miceli, D. P. Naughton // Applied Optics. 1988. - Vol.27, No.3. - P.500-504.

63. Митькин, В. M. О выборе температуры работы лазера на неодимовом стекле / В. М. Митькин, О. С. Шавилев, Н. Н. Бункина // ЖПС. М, 1975. - Т.23, Вып.2.-С.218-223.

64. Горбунов, А. Ф. Получение оптических слоев с заданным показателем преломления методом испарения двух веществ / А. Ф. Горбунов, Н. Р. Сулей-манов // ОМП. 1985. - №8. -С.29-31.

65. Patent 3631660 A1 (DE), G02B 3/00. Kollimatorlense und fahren zu deren Herstellung. 19.03.1987.

66. Якобсон, P. Неоднородные и совместно напыленные однородные пленки для оптических применений / Р. Якобсон // Физика тонких пленок. М.: Мир, 1978.-Т.8.-303 с.

67. Несмелова, И. М. Оптические свойства узкощелевых полупроводников / И. М. Несмелова. Новосибирск: Наука, 1992. - 157 с.

68. Гоев, В. В. Потелов, Б. Н. Сеник и др. //Прикладная физика. 2007. - №1. -С.146-151.

69. Крючков, В. Г. Вакуумная асферизация высокоточных элементов инфракрасной техники / В. Г. Крючков, В. В. Потелов, Б. Н. Сеник // Прикладная физика. 2004. - №1. - С. 85-89.

70. Крючков, В.Г. Вакуумная асферизация. Современные достижения. Проблемы и перспективы развития: аналитический обзор по отечественным и зарубежным материалам за 1980-1990 г.г. №5396 // Информтехника.-М.,1991 г. 62 с.

71. Очистка поверхности перед нанесением покрытия / В. В. Потелов, Б. Н. Сеник, А. Б. Сухачев, Е. А. Несмелов // Прикладная физика. 2006. - № 6, С. 146-148.

72. Технология тонких пленок: Справ. / Под ред. JI. Майссела и Р. Елэнга. -М.: Советское радио, 1977. Т.1. - 325 с.

73. Справочник оптика-технолога / Бубис И.Я., Вейденбах В.А. и др. JL: Машиностроение, 1983.-401 с.

74. Ландау, Л. Д. Электродинамика сплошных сред / Л. Д. Ландау, Е. М. Лифшиц. — М.: Гос. изд. технико-теоретической литературы, 1957. 532 с.

75. Долгов, В. В. Ю.П. Прибор для измерения адгезии тонких пленок / В. В. Долгов, А. С. Валеев, Ю. П. Дьяков //Обмен опытом в электронной промышленности. 1969. - № 7. - С. 68-70.

76. Мейер, Дж. Ионное легирование полупроводников / Дж. Мейер, Л. Эрик-сон, Дж. Дэвис. М.: Мир, 1973. - 296 с.

77. Экштайн, В. Компьютерное моделирование взаимодействия частиц с поверхностью твердого тела / В. Экштайн. М.: Мир, 1995. - 319 с.

78. Палатник, JI. С. Основы пленочного полупроводникового материаловедения / Л. С. Палатник, В. К. Сорокин. М.: Энергия, 1973. - 295 с.

79. Ройх, И. Л. Нанесение защитных покрытий в вакууме / И. Л. Ройх, Л. Н. Колтунова, С. Н. Федосов. -М.: Машиностроение, 1976. 367 с.

80. Мушкарден, Э. М. Контроль температуры подложки в процессе напыления тонких пленок / Э. М. Мушкарден, А. В. Ирлин, 3. Ю. Готра, В. И. Наши-ванко // Физическая электроника. 1972. - Вып.5. - С. 114-116.

81. Абзалова, Г. И. Моделирование оптических свойств реальных просветляющих покрытий: Автореферат диссертации кандидата технических наук: 05.11.14 / Г. И. Абзалова. Казань, 2005. 19 с.

82. Якобсон Р. Неоднородные и совместно напыленные однородные пленки для оптических применений. В 10 т. Т. 8: Физика тонких пленок / Под редакцией Г. Хасса, М. Франкомба и Р. Гофмана. М.: Мир, 1978, - С. 61-105.

83. Гегузин, Я.Е. Диффузионная зона / Я. Е. Гегузин. М.: Наука, 1979. - 343 с.

84. Палатник, А. С. Материаловедение в микроэлектронике / А. С. Палатник, В. К. Сорокин. М.: Энергия, 1978. -279 с.

85. Браун, М. Реакции твердых тел / М. Браун, Д. Доллимор, А. Галвей. М.: Мир, 1983.-359 с.

86. Hubner, К. Chemical Bond and Related Properties of Si02. VII. Structure and Electronic Properties of the SiOx Region of Si-Si02 Interfaces / K. Hubner // Phys. stat. sol.(a). 1980. - V.61. -No2. - P. 665-673.

87. Сидоренко, Г. В. Исследование пленок SiOx / Г. В. Сидоренко и др. // ЖПС. 1992. - Т.56, вып.З. -С.491-493.

88. Положение линз при фокусном расстоянии 291,69мм 3

89. Плоскость ¡ехническая характеристикаизображения

90. Фокусное расстояние 95,05 291,69 мм

91. Относительное отОерстие 1 ■ 1,29 1:2

92. Углодое поле зрения % °28' 4 "44,5'.

93. Линейное поле зрения 12,8 х 20, Ь8 мм

94. Спектральный интервал (8,66 10,6 - 12,2,1 мкм1. Плоскость изображения

95. Значение ширины ФРЛ для Я= 10,6 мкм, мм не долее

96. Г =291,69 мм Г = 95,05мм

97. Центр Зона 0=1,23' Край 0=2° Центр 0=0° Край 0= 6,5'0,060 0,070 0,100 0,060 0,0801 1 1 Т01-П02 1 1 1 1. 1

98. Одъектиб Схема оптическая пт 1И1 н /т /пльнпя Лит.1. Ш бШ НМЛ №ШЯ М т азрод. 1. Проб.

99. Тконтр. 11иипц и11и<-1> юпилр. /ъ. 1. Нконтр.